TW201516199A - 紗製造裝置 - Google Patents

Abstract

本發明之課題係在提供可謀求奈米碳管紗製造之高速化的紗製造裝置。 紗製造裝置(1)，具備使行進中之奈米碳管纖維群(F)聚集的紗製造部(5)，紗製造部(5)，具有：噴嘴本體部(10)；設置於噴嘴本體部(10)，在垂直相交於奈米碳管纖維群(F)行進方向中之方向上以壓縮空氣發生第1迴旋流的第1噴嘴部(20)；以及設置於噴嘴本體部(10)，在垂直相交於奈米碳管纖維群(F)行進方向中之方向上以壓縮空氣發生與第1迴旋流為相反方向之第2迴旋流的第2噴嘴部(30)；第1噴嘴部(20)與第2噴嘴部(30)，係配置於噴嘴本體部(10)之在奈米碳管纖維群(F)的行進方向中的不同位置。

Description

紗製造裝置

本發明，係與用以製造奈米碳管紗之紗製造裝置相關。

傳統之奈米碳管紗的紗製造裝置，例如，國際公開第2008/22129號簡介手冊所記載者為大家所熟知。國際公開第2008/22129號簡介手冊所記載之紗製造裝置，係於設置在奈米碳管纖維群之行進方向之上游側的打轉區域，對奈米碳管纖維群實施一方向的撚轉，而且，於設置在上述打轉區域下游側的其他打轉區域實施與一方向相反方向之其他方向的撚轉。

從奈米碳管纖維群來製造奈米碳管紗之紗製造裝置，被要求可更快速地製造奈米碳管紗。

本發明之目的，係在提供可以謀求奈米碳管紗製造之高速化的紗製造裝置。

本發明之一實施方式的紗製造裝置，係使奈 米碳管纖維群持續保持行進並以該奈米碳管纖維群來製造奈米碳管紗的紗製造裝置，其特徵為，具備使行進中之奈米碳管纖維群聚集的紗製造部，紗製造部，具有：供奈米碳管纖維群插通之噴嘴本體部；設置於噴嘴本體部，在垂直相交於奈米碳管纖維群之行進方向的方向上，以壓縮空氣發生第1迴旋流的第1噴嘴部；以及設置於噴嘴本體部，在垂直相交於奈米碳管纖維群之行進方向且與第1迴旋流為相反的方向上，以壓縮空氣發生第2迴旋流的第2噴嘴部；第1噴嘴部與第2噴嘴部，於噴嘴本體部中，係設置於奈米碳管纖維群之行進方向中的不同位置。而且，上述垂直相交之方向的迴旋流，係包含含有垂直相交於奈米碳管纖維群行進方向中之方向之迴旋成份的迴旋流在內。亦即，即使是發生朝向奈米碳管纖維群行進方向之壓縮空氣，而含有垂直相交於奈米碳管纖維群行進方向中之方向的迴旋成份時，也包含於本發明之迴旋流。

該紗製造裝置時，因為以迴旋流來實施奈米碳管纖維群的撚轉，故可以高速來製造聚集著奈米碳管纖維群之奈米碳管紗。此時，紗製造裝置，係以第1噴嘴部來發生第1迴旋流，而以第2噴嘴部來發生與第1迴旋流為相反方向之第2迴旋流。所以，紗製造裝置，可以對奈米碳管纖維群實施假撚而使其高速地聚集在一起。此外，紗製造裝置，因為係以壓縮空氣發生迴旋流來對奈米碳管纖維群實施撚轉的構造，藉由壓縮空氣量的調整，很容易就可調整撚轉程度。此外，紗製造裝置時，第1噴嘴部與 第2噴嘴部，係被分別單元化地設置於噴嘴本體部，而被設置於奈米碳管纖維群行進方向中的不同位置。藉此，紗製造裝置，奈米碳管纖維群可以容易地通過第1噴嘴部及第2噴嘴部。

在一種實施方式中，第1噴嘴部係設置於奈米碳管纖維群行進方向中之第2噴嘴部的上游側，用以形成第1迴旋流之壓縮空氣的壓力小於用以形成第2迴旋流之壓縮空氣的壓力。如此，在將第1噴嘴部設置於第2噴嘴部上游側的構成中，形成第1迴旋流之壓縮空氣的壓力較小，換言之，形成第2迴旋流之壓縮空氣的壓力較大，可以對奈米碳管纖維群實施良好之假撚來使其聚集在一起。

在一種實施方式中，第1噴嘴部所發生之第1迴旋流，主要是捲繞奈米碳管纖維群外層的一部分，第2噴嘴部所發生之第2迴旋流，主要係對奈米碳管纖維群實施假撚來使其聚集在一起。藉此，紗製造裝置，可以對奈米碳管纖維群實施良好的假撚來使其聚集。

在一種實施方式中，噴嘴本體部，亦可於第1噴嘴部與第2噴嘴部之間，配設有排氣部。藉此，紗製造裝置，可以抑制第1噴嘴部之第1迴旋流與第2噴嘴部之第2迴旋流的互相干擾。藉此，可以抑制各噴嘴部之迴旋流發生亂流，而可抑制奈米碳管紗之品質可靠度的降低。

在一種實施方式中，排氣部，也可以為切除噴嘴本體部之一部分的缺口部。藉此，紗製造裝置，可以 利用缺口部以外之噴嘴本體部來抑制奈米碳管纖維群的飛散。

在一種實施方式中，於第1噴嘴部及第2噴嘴部之至少一方，具備用以供應架橋劑溶液之架橋劑溶液供應機構。藉此，紗製造裝置，可以利用迴旋流來使架橋劑溶液有效地附著於奈米碳管纖維群。因此，紗製造裝置，可以利用架橋劑溶液實施奈米碳管纖維群的架橋。結果，紗製造裝置，可以製造良好的奈米碳管紗。尤其是，對第1噴嘴部供應架橋劑溶液的話，可以利用下游側之第2噴嘴部的第2迴旋流使溶媒以良好的效率來汽化。

在一種實施方式中，也可具有用以使架橋劑溶液產生化學反應的架橋促進照射裝置。藉此，紗製造裝置，可以對奈米碳管纖維群更有效地實施架橋。

在一種實施方式中，也可使第1噴嘴部及第2噴嘴部之至少其中一方，具備用以供應聚集液之聚集液供應機構。藉此，紗製造裝置，可以使被假撚之奈米碳管纖維群有效率地聚集在一起。藉此，紗製造裝置，可以利用第1迴旋流使聚集液有效地附著於奈米碳管纖維群。因此，紗製造裝置，可以製造良好的奈米碳管紗。尤其是，對第1噴嘴部供應聚集液的話，可以利用下游側之第2噴嘴部的第2迴旋流使聚集液以良好效率來汽化。

依據本發明，可以謀求奈米碳管紗製造的高速化。

1‧‧‧紗製造裝置

1A‧‧‧紗製造裝置

1B‧‧‧紗製造裝置

3‧‧‧基板支撐部

5‧‧‧紗製造部

7a‧‧‧挾持輥

7b‧‧‧挾持輥

9‧‧‧捲取裝置

10‧‧‧噴嘴本體部

11‧‧‧導入口

12‧‧‧第1收容部

13‧‧‧第2收容部

14‧‧‧導出口

15‧‧‧排氣部

16‧‧‧第1流路部

17‧‧‧第2流路部

20‧‧‧第1噴嘴部

22‧‧‧筒狀部

30‧‧‧第2噴嘴部

32‧‧‧筒狀部

40‧‧‧架橋劑溶液供應機構

42‧‧‧UV照射部

44‧‧‧聚集液供應機構

第1圖係顯示第1實施方式之紗製造裝置的圖。

第2圖係第1圖所示之紗製造裝置之一部分的立體圖。

第3圖係顯示紗製造部的圖。

第4圖係第3圖所示之紗製造部分解圖。

第5圖係顯示紗製造部之空氣的流動的圖。

第6圖係顯示第2實施方式之紗製造裝置的圖。

第7圖係顯示第3實施方式之紗製造裝置的圖。

以下，參照附圖，針對本發明之良好實施方式來進行詳細說明。而且，圖式之說明中，相同或相當之要素賦予相同元件符號，並省略重複說明。

[第1實施方式]

第1圖係顯示第1實施方式之紗製造裝置的圖。第2圖係第1圖所示之紗製造裝置之一部分的立體圖。如各圖所示，紗製造裝置1，係使奈米碳管纖維群(以下，稱為「CNT纖維群」)F持續保持行進並以該CNT纖維群F來製造奈米碳管紗(以下，稱為「CNT紗」)Y的裝置。

紗製造裝置1，係具備基板支撐部3、紗製造部5、挾持輥7a、7b、以及捲取裝置9。基板支撐部3、 紗製造部5、挾持輥7a、7b、以及捲取裝置9，係依順序配置於特定生產線上，CNT纖維群F，從基板支撐部3朝捲取裝置9行進。而且，CNT纖維群F係由複數之由奈米碳管所構成的纖維所集合而成者。CNT紗Y，係對CNT纖維群F實施假撚所聚集而成者。

基板支撐部3，係以保持著由CNT纖維群F拉出之奈米碳管形成基板(以下，稱為「CNT形成基板」)S的狀態來進行支撐。CNT形成基板S，係指奈米碳管叢集體(carbon nanotubeforest)、或奈米碳管之垂直配向構造體等，以化學氣相沈積法等，於基板B上形成高密度且高配向之奈米碳管(例如，單層奈米碳管、二層奈米碳管、多層奈米碳管等)者。基板B，例如，使用塑膠基板、玻璃基板、矽基板、金屬基板等。而且，於開始製造CNT紗Y時、更換CNT形成基板S時等，以被稱為細頭鑽機之治具，可以將CNT纖維群F從CNT形成基板S拉出。

紗製造部5，利用壓縮空氣(空氣)之迴旋流對CNT纖維群F實施假撚來使其聚集在一起。第3圖係顯示紗製造部的圖。第4圖係第3圖所示之紗製造部分解圖。第3圖及第4圖係噴嘴本體部10的剖面圖。如第3圖及第4圖所示，紗製造部5，具備噴嘴本體部10、第1噴嘴部20、以及第2噴嘴部30。第1噴嘴部20及第2噴嘴部30，係設置於噴嘴本體部10，噴嘴本體部10、第1噴嘴部20、以及第2噴嘴部30，已被單元化。

噴嘴本體部10，係供CNT纖維群F插通且用以保持第1噴嘴部20及第2噴嘴部30之殼體。噴嘴本體部10，例如，係由黃銅等材料所形成。噴嘴本體部10，具有：供CNT纖維群F插通及用以將CNT纖維群F導入噴嘴本體部10的導入口11、用以收容第1噴嘴部20的第1收容部12、用以收容第2噴嘴部30的第2收容部13、以及供CNT纖維群F插通且用以將CNT纖維群F從噴嘴本體部10導出的導出口14。第1收容部12及第2收容部13，係沿著CNT纖維群F之行進方向配置。

第1收容部12，設置於CNT纖維群F之行進方向中的一端側(紗製造部5以如第1圖所示方式進行配置時，CNT纖維群F之行進方向中的上游側位置)。第2收容部13，設置於CNT纖維群F之行進方向中的另一端側(紗製造部5以如第1圖所示方式進行配置時，第1收容部12之下游側的位置)。

第1收容部12與第2收容部13之間，設有排氣部15。排氣部15，係用以進行第1噴嘴部20所發生之第1迴旋流SF1之排氣的部分。排氣部15，係切除噴嘴本體部10之一部分的缺口部。排氣部15，係以包含CNT纖維群F之行進路徑在內來設置。第1收容部12與第2收容部13之間之CNT纖維群F的行進路徑，因為排氣部15而開放，另一方面，一部分則為噴嘴本體部10所圍繞。

於噴嘴本體部10，配設有第1流路部16、及 第2流路部17。第1流路部16，係連通至第1收容部12，用以對第1噴嘴部20供應壓縮空氣的流路。第2流路部17，係連通至第2收容部13，用以對第2噴嘴部30供應壓縮空氣的流路。而且，在本實施方式中，噴嘴本體部10係由複數(此處為3個)零件所構成，然而，噴嘴本體部10可以為一體成型品。

第1噴嘴部20，係用以發生第1迴旋流SF1而於CNT纖維群F形成氣圈，對CNT纖維群F實施撚轉。第1噴嘴部20，例如，係由陶瓷所形成。第1噴嘴部20，配置於噴嘴本體部10之第1收容部12。第1噴嘴部20，除了供CNT纖維群F插通以外，尚具有隔間成用以發生第1迴旋流SF1之空間的筒狀部22。筒狀部22，係沿著CNT纖維群F之行進方向配設。

第1噴嘴部20，如第5圖所示，介由設置於噴嘴本體部10之第1流路部16，由未圖示之空氣供應源供應壓縮空氣。第1噴嘴部20，如第2圖所示，係於垂直相交於CNT纖維群F之行進方向的方向，例如，於以行進方向為軸之逆時針方向，發生第1迴旋流SF1。第1迴旋流SF1，係沿著筒狀部22之內壁來發生。第1迴旋流SF1，主要係將CNT纖維群F之外側纖維群(外層之一部分)捲繞於內側之纖維群。形成第1迴旋流SF1之壓縮空氣的壓力(靜壓)，例如，為0.25MPa程度。

第2噴嘴部30，係用以發生第2迴旋流SF2而於CNT纖維群F形成氣圈，對CNT纖維群F實施撚 轉。第2噴嘴部30，例如，係由陶瓷所形成。第2噴嘴部30，配置於噴嘴本體部10之第2收容部13。第2噴嘴部30，除了供CNT纖維群F插通以外，尚具有隔間成用以發生第2迴旋流SF2之空間的筒狀部32。筒狀部32，係沿著CNT纖維群F之行進方向配設。

第2噴嘴部30，如第5圖所示，介由設置於噴嘴本體部10之第2流路部17，由未圖示之空氣供應源供應壓縮空氣。第2噴嘴部30，如第2圖所示，係於垂直相交於CNT纖維群F之行進方向的方向上，於與第1迴旋流SF1為相反之方向，例如，於以行進方向為軸之順時針方向，發生第2迴旋流SF2。換言之，第2迴旋流SF2之方向，係第1迴旋流SF1之方向的相反方向。第2迴旋流SF2，係沿著筒狀部32之內壁發生。第2迴旋流SF2，主要係對CNT纖維群F之芯部(內側的纖維群)，實施與第1迴旋流SF1相反之方向的撚轉。形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣的壓力(靜壓)，例如，為0.4~0.6MPa程度。換言之，形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣的壓力，大於形成第1迴旋流SF1之壓縮空氣的壓力。換言之，形成第1迴旋流SF1之壓縮空氣的壓力，小於形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣的壓力。

挾持輥7a、7b，係用以搬送由紗製造部5實施假撚而聚集在一起之CNT紗Y。挾持輥7a、7b，係以一對之方式配置於夾持CNT紗Y之位置。挾持輥7a、7b，停止由紗製造部5所傳播之CNT纖維群F的撚轉 (氣圈)。由紗製造部5實施假撚後之CNT纖維群F，藉由通過挾持輥7a、7b而更為聚集，並成為最終製造物的CNT紗Y。

捲取裝置9，將經過紗製造部5實施假撚並通過挾持輥7a、7b後之CNT紗Y，捲取至線軸。

接著，針對紗製造部5之CNT纖維群F的假撚動作進行說明。首先，藉由紗製造部5之第2噴嘴部30的第2迴旋流SF2，開始對被從CNT形成基板S拉出之CNT纖維群F，實施撚轉。經由第2迴旋流SF2實施撚轉而聚集之CNT纖維群F，因為第1噴嘴部20之第1迴旋流SF1而使撚轉被退回。此外，藉由第1噴嘴部20之第1迴旋流SF1，使未被第2迴旋流SF2所聚集之CNT纖維群F的一部分(外面部分)被捲繞於已聚集之表面。藉此，紗製造部5可使CNT纖維群F聚集。紗製造裝置1，例如，以數十m/min來製造CNT紗Y。

如以上說明所示，在本實施方式之紗製造裝置1中，因為係利用壓縮空氣之迴旋流來對CNT纖維群F實施撚轉，而可從CNT纖維群以高速來製造CNT紗Y。此時，紗製造裝置1，以第1噴嘴部20來發生第1迴旋流SF1，以第2噴嘴部30來發生與第1迴旋流SF1相反方向的第2迴旋流SF2。所以，紗製造裝置1，可以高速對CNT纖維群F實施穩定之假撚。

紗製造裝置1，因為係以壓縮空氣發生迴旋流來對CNT纖維群F實施假撚，故可以容易地以調整壓縮 空氣量來調整撚轉程度。此外，紗製造裝置1，第1噴嘴部20與第2噴嘴部30，被單元化而分別設置於噴嘴本體部10，故可配置於CNT纖維群F之行進方向中的不同位置。藉此，紗製造裝置1，可以容易地使CNT纖維群F通過第1噴嘴部20及第2噴嘴部30。

本實施方式，第1噴嘴部20，係配置於CNT纖維群F行進方向中之第2噴嘴部30的上游側。在此種構成中，形成第1迴旋流SF1之壓縮空氣的壓力，小於形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣的壓力。藉此，在紗製造裝置1中，在第1噴嘴部20所發生之第1迴旋流SF1，主要係捲繞CNT纖維群F的外側的起毛，在第2噴嘴部30所發生之第2迴旋流SF2，主要係對CNT纖維群F實施撚轉。因此，紗製造裝置1，可以對CNT纖維群F實施良好的假撚。

本實施方式，於噴嘴本體部10之第1噴嘴部20與第2噴嘴部30之間，設有排氣部15。排氣部15，係切除噴嘴本體部10之一部分的缺口部。藉此，紗製造部5，可以抑制第1噴嘴部20之第1迴旋流SF1與第2噴嘴部30之第2迴旋流SF2的互相干擾。因此，紗製造部5，可以抑制在各噴嘴部20、30之迴旋流SF1、SF2發生亂流，進而可以抑制CNT紗Y之品質可靠度的降低。此外，紗製造部5，利用排氣部15以外之噴嘴本體部10，可以抑制CNT纖維群F的飛散。

[第2實施方式]

接著，針對第2實施方式進行說明。第6圖係顯示第2實施方式之紗製造裝置的圖。如第6圖所示，紗製造裝置1A，係具備基板支撐部3、紗製造部5、挾持輥7a、7b、以及捲取裝置9，且更具備架橋劑溶液供應機構40、及架橋促進照射裝置也就是UV照射部42。

架橋劑溶液供應機構40，係對紗製造部5供應架橋劑溶液。架橋劑溶液供應機構40，例如，是對第1噴嘴部20供應架橋劑溶液。由架橋劑溶液供應機構40所供應之架橋劑溶液，於第1噴嘴部20，被與壓縮空氣一起噴射，被添加至第1迴旋流SF1並附著於CNT纖維群F。架橋劑，只要為可產生奈米碳管之分子間的架橋構造者即可。架橋劑溶液，係將架橋劑溶解於具有揮發性之溶媒(例如，乙醇、丙酮等)者。

UV照射部42，係用以對CNT紗Y照射UV(ultraviolet：紫外線)。UV照射部42，係設置於挾持輥7a、7b與捲取裝置9之間，對通過挾持輥7a、7b之CNT紗Y照射UV。UV照射部42，係對附著著架橋劑溶液之CNT紗Y照射UV，來促進CNT紗Y之架橋。

如以上說明所示，本實施方式之紗製造裝置1A，藉由架橋劑溶液供應機構40對紗製造部5之第1噴嘴部20供應架橋劑溶液。藉此，紗製造裝置1A，可以利用第1迴旋流SF1使架橋劑溶液附著於CNT纖維群F。因此，紗製造裝置1A，可以對CNT纖維群F實施架橋。 此外，紗製造裝置1A，利用架橋劑溶液供應機構40使架橋劑溶液附著於CNT纖維群F後，以UV照射部42對CNT紗Y照射UV。所以，紗製造裝置1A，可以促進CNT紗Y之架橋。

而且，上述實施方式，係以照射UV之UV照射部42做為架橋促進照射裝置之一例來進行說明，然而，架橋促進照射裝置，例如，也可以採用照射電子線之電子線照射部。照射部，只要為可對架橋劑(架橋劑溶液)產生化學反應者即可。

此外，上述實施方式，係以對第1噴嘴部20供應架橋劑溶液的形態做為架橋劑溶液供應機構40之一例來進行說明，然而，架橋劑溶液供應機構40也可以是對第2噴嘴部30供應架橋劑溶液。或者，架橋劑溶液供應機構40也可以是對第1噴嘴部20及第2噴嘴部30供應架橋劑溶液。對第1噴嘴部20進行供應時，可以藉由下游側之第2噴嘴部30的第2迴旋流SF2來使溶媒以良好效率汽化。

[第3實施方式]

接著，針對第3實施方式進行說明。第7圖係顯示第3實施方式之紗製造裝置的圖。如第7圖所示，紗製造裝置1B，係具備基板支撐部3、紗製造部5、挾持輥7a、7b、以及捲取裝置9，且更具備聚集液供應機構44。

聚集液供應機構44，係對紗製造部5供應聚 集液。聚集液供應機構44，例如，是對第1噴嘴部20供應聚集液。藉由聚集液供應機構44所供應之聚集液，於第1噴嘴部20，被與壓縮空氣一起噴射，而被添加至第1迴旋流SF1並附著於CNT纖維群F。聚集液，只要為可產生奈米碳管之分子間的聚集構造者即可。聚集液，係具有揮發性之有機化合物(例如，乙醇、丙酮、碳化氟類、甲苯、二氯甲烷等)。

如以上說明所示，本實施方式之紗製造裝置1B，以聚集液供應機構44對紗製造部5之第1噴嘴部20供應聚集液。藉此，紗製造裝置1B，利用第1迴旋流SF1使聚集液附著於CNT纖維群F。因此，紗製造裝置1B，可以使CNT纖維群F獲得良好的聚集。

上述實施方式，係以對第1噴嘴部20供應聚集液之形態做為聚集液供應機構44的一例來進行說明，然而，聚集液供應機構44也可對第2噴嘴部30供應聚集液。或者，聚集液供應機構44，也可以對第1噴嘴部20及第2噴嘴部30供應聚集液。對第1噴嘴部20進行供應時，可以藉由下游側之第2噴嘴部30的第2迴旋流SF2來使聚集液以良好效率汽化。

本發明，並未受限於上述實施方式。例如，CNT纖維群F之供應源，也可以使用供應連續合成之奈米碳管之CNT纖維群F的浮遊觸媒裝置等來取代CNT形成基板S。

上述實施方式，係以形成第1迴旋流SF1之 壓縮空氣壓力小於形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣壓力的形態做為一例來進行說明，然而，形成第1及第2迴旋流SF2之壓縮空氣的壓力，也可以相同。或者，形成第2迴旋流SF2之壓縮空氣壓力，也可以小於形成第1迴旋流SF1之壓縮空氣壓力。

上述實施方式，係以將第1噴嘴部20及第2噴嘴部30配置於噴嘴本體部10之構成做為一例來進行說明，然而，也可以將形成於噴嘴本體部10之空間分別當做第1噴嘴部及第2噴嘴部來使用。換言之，相當於第1噴嘴部20及第2噴嘴部30之構成也可一體形成於噴嘴本體部10。

依據本發明，可以提供可謀求奈米碳管紗製造之高速化的紗製造裝置。

3‧‧‧基板支撐部

5‧‧‧紗製造部

B‧‧‧基板

F‧‧‧CNT纖維群

S‧‧‧CNT形成基板

SF1‧‧‧第1迴旋流

SF2‧‧‧第2迴旋流

Claims (8)

1. 一種紗製造裝置，係使奈米碳管纖維群持續保持行進並以該奈米碳管纖維群來製造奈米碳管紗的紗製造裝置，其特徵為：具備使行進中之前述奈米碳管纖維群聚集的紗製造部，前述紗製造部，具有：供前述奈米碳管纖維群插通之噴嘴本體部；設置於前述噴嘴本體部，在垂直相交於前述奈米碳管纖維群行進方向之方向上，以壓縮空氣發生第1迴旋流的第1噴嘴部；以及設置於前述噴嘴本體部，在垂直相交於前述奈米碳管纖維群行進方向之方向上，以壓縮空氣發生與前述第1迴旋流為相反方向之第2迴旋流的第2噴嘴部；前述第1噴嘴部與前述第2噴嘴部，係設置於前述噴嘴本體部中之前述奈米碳管纖維群的行進方向中的不同位置。
2. 如申請專利範圍第1項所記載之紗製造裝置，其中前述第1噴嘴部，係設置於前述奈米碳管纖維群的行進方向中之前述第2噴嘴部的上游側，用以形成前述第1迴旋流之壓縮空氣的壓力，小於用以形成前述第2迴旋流之壓縮空氣的壓力。
3. 如申請專利範圍第2項所記載之紗製造裝置，其中在前述第1噴嘴部所發生之前述第1迴旋流，主要係用以捲繞前述奈米碳管纖維群的外層之一部分，在前述第2噴嘴部所發生之前述第2迴旋流，主要係用以對前述奈 米碳管纖維群實施假撚使其聚集在一起。
4. 如申請專利範圍第3項所記載之紗製造裝置，其中在前述噴嘴本體部，於前述第1噴嘴部與前述第2噴嘴部之間，設有排氣部。
5. 如申請專利範圍第4項所記載之紗製造裝置，其中前述排氣部，係切除前述噴嘴本體部之一部分的缺口部。
6. 如申請專利範圍第1~5項之其中任一項所記載之紗製造裝置，其中於前述第1噴嘴部及前述第2噴嘴部之至少其中一方，具備用以供應架橋劑溶液之架橋劑溶液供應機構。
7. 如申請專利範圍第6項所記載之紗製造裝置，其中具備：用以使前述架橋劑溶液產生化學反應之架橋促進照射裝置。
8. 如申請專利範圍第1~5項之其中任一項所記載之紗製造裝置，其中於前述第1噴嘴部及前述第2噴嘴部之至少其中一方，具備用以供應聚集液之聚集液供應機構。