TW201501166A - 離子束測定裝置及離子束測定方法 - Google Patents

離子束測定裝置及離子束測定方法 Download PDF

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Abstract

以簡單的構成測定兩個方向的射束角度。一種離子束測定裝置(100，其)具備：遮罩(102)，係用以把原本的離子束(B)整形成：具備在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分之測定用離子束(Bm)；檢測部(104)，其構成為：檢測y射束部分的x方向位置，並檢測x射束部分的y方向位置；及射束角度運算部(108)，構成為：利用x方向位置運算x方向射束角度，並利用y方向位置運算y方向射束角度。

Description

離子束測定裝置及離子束測定方法
本發明係有關一種適合於離子植入裝置之離子束測定裝置及測定方法。
公知有一種測定離子束的行進方向的角度之方法。在該方法中，例如把具有使帶狀的離子束的一部分通過之圓形小孔之遮罩板，配置於射束監控器的上游側。在另一種方法中，使用藉由平移機構移動之標記，該標記具有能夠測定離子束角度之第1形狀與第2形狀。第1形狀為垂直槽，第2形狀為傾斜邊緣。
〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕
〔專利文獻1〕日本特開2010-50108號專利公報
〔專利文獻2〕日本特表2009-524195號專利公報
在離子植入處理中所植入之離子束的角度受到控制或管理。特別是在高能量區域的離子植入中，要求高精度的角度控制或管理。但是，在這樣的區域射束電流通常較小，所以進行高精度的測定是不簡單的。如上述所述，若限制射束通過遮罩板的圓形小孔的話，則射束電流將變得極小，而可能無法以所要求的精度來進行測定。而且，利用可動式的傾斜邊緣來測定與離子束的行進方向垂直的兩個方向的各個射束角度是非常複雜。
本發明的一態樣的例示性目的之一，為提供一種能夠以簡單的構成測定兩個方向的射束角度之離子束測定裝置及測定方法。
根據本發明之一態樣，提供一種離子束測定裝置，其具備：遮罩，係用以把原本的離子束整形成：具備在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分之測定用離子束；檢測部，其構成為：檢測前述y射束部分的x方向位置，並檢測前述x射束部分的y方向位置；及射束角度運算部，構成為：利用前述x方向位置運算x方向射束角度，並利用前述y方向位置運算y方向射束角度。
根據本發明之一態樣，提供一種離子束測定方法，其具備：準備測定用離子束之製程，該測定用離子 束具備：在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分、及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分；檢測前述y射束部分的x方向位置之製程；檢測前述x射束部分的y方向位置之製程；利用前述x方向位置運算x方向射束角度之製程；及利用前述y方向位置運算y方向射束角度之製程。
另外，在方法、裝置、系統等之間，相互置換以上構成要件的任意組合或本發明的構成要件或表現形式之裝置，作為本發明的態樣是同樣有效。
根據本發明，能夠提供一種能夠以簡單的構成測定兩個方向的射束角度之離子束測定裝置及測定方法。
B‧‧‧離子束
Bm‧‧‧測定用離子束
10‧‧‧離子植入裝置
16‧‧‧真空處理室
100‧‧‧離子束測定裝置
102‧‧‧遮罩
104‧‧‧檢測部
108‧‧‧射束角度運算部
110y‧‧‧y狹縫
110x‧‧‧x狹縫
112y‧‧‧y射束部分
112x‧‧‧x射束部分
114‧‧‧檢測要件
200‧‧‧離子束測定裝置
204‧‧‧檢測部
204a‧‧‧移動檢測器
204b‧‧‧固定檢測器
216‧‧‧真空處理室
304‧‧‧檢測部
314‧‧‧檢測要件
402‧‧‧遮罩
502‧‧‧遮罩
503y‧‧‧第1遮罩部分
503x‧‧‧第2遮罩部分
〔圖1〕為示意地表示本發明的第1實施形態之離子植入裝置之圖。
〔圖2〕為示意地表示本發明的第1實施形態之離子束測定裝置之圖。
〔圖3〕為從y方向觀察在遮罩的y方向中央切斷圖2所示之離子束測定裝置之圖。
〔圖4〕為從x方向觀察在遮罩的y狹縫的x方向位 置切斷圖2所示之離子束測定裝置之圖。
〔圖5〕為從x方向觀察在遮罩的x狹縫的x方向位置切斷圖2所示之離子束測定裝置之圖。
〔圖6〕為示意地表示本發明的第2實施形態之離子植入裝置的處理室之圖。
〔圖7〕為示意地表示本發明的第2實施形態之離子束測定裝置之圖。
〔圖8〕為從y方向觀察在遮罩的y方向中央切斷圖7所示之離子束測定裝置之圖。
〔圖9〕為示意地表示本發明的第3實施形態之離子束測定裝置之圖。
〔圖10〕為表示本發明的第4實施形態之離子束測定裝置中所使用之遮罩之圖。
〔圖11〕為表示本發明的第5實施形態之離子束測定裝置中所使用之遮罩之圖。
〔圖12〕為用於說明本發明的一實施形態之離子束測定方法之流程圖。
以下，一邊參閱圖面，一邊詳細說明有關用以實施本發明之形態。另外，在圖面說明中，對相同的要件標註相同的元件符號，以適當省略重複說明。並且，以下所述構成為示例，對於本發明的範圍未做任何限定。
(第1實施形態)
圖1為示意地表示本發明的第1實施形態之離子植入裝置10之圖。圖1的上部為表示離子植入裝置10的概略構成之俯視圖，圖1的下部為表示離子植入裝置10的概要結構之側視圖。
離子植入裝置10構成為對被處理物W的表面進行離子植入處理。被處理物W例如為基板，例如為半導體晶圓。因此在以下說明中為方便起見有時將被處理物W稱為基板W，而這並非有意將植入處理的對象限定在特定物體上。
離子植入裝置10構成為：藉由射束掃描及機械掃描中的至少一種方式向整個基板W照射離子束B。本說明書中，為便於說明，將設計上的離子束B的行進方向定義為z方向，與z方向垂直的面定義為xy面。如後述，對被處理物W掃描離子束B時，將掃描方向設為x方向，與z方向及x方向垂直的方向設為y方向。因此，向x方向進行射束掃描，向y方向進行機械掃描。
離子植入裝置10具備：離子源12、射束線裝置14、及真空處理室16。離子源12構成為：向射束線裝置14賦予離子束B。射束線裝置14構成為：從離子源12向真空處理室16輸送離子。並且，離子植入裝置10具備：用於向離子源12、射束線裝置14及真空處理室16提供所希望的真空環境之真空排氣系統(未圖示)。
如同圖示，射束線裝置14例如從上游依次具 備：質譜分析磁鐵裝置18、射束整形裝置20、偏向掃描裝置22、P透鏡24或射束平行化裝置及角度能量過濾器26。另外，在本說明書中，所謂上游係指靠近離子源12之一側，下游係指靠近真空處理室16(或者射束阻擋器28)一側。
質譜分析磁鐵裝置18設置於離子源12的下游，構成為藉由質譜分析從引自離子源12之離子束B中選擇必要的離子種類。射束整形裝置20具備Q透鏡等聚光透鏡，構成為將離子束B整形為所希望的剖面形狀。
並且，偏向掃描裝置22構成為：提供射束掃描。偏向掃描裝置22向x方向掃描被整形之離子束B。以此遍及比y方向的寬度長的x方向的掃描範圍而掃描離子束B。圖1中，利用箭頭C例示出射束掃描及其掃描範圍，並分別以實線及虛線表示掃描範圍的一端及另一端上的離子束B。另外，為明確表示，在離子束B上標註斜線而圖示。
P透鏡24構成為：使掃描之離子束B的行進方向平行。角度能量過濾器26構成為：分析離子束B的能量並使必要能量的離子向下方偏向以導引至真空處理室16。以此，射束線裝置14將應被照射到基板W之離子束B供給到真空處理室16。
真空處理室16具備物體保持部(未圖示)，該物體保持部保持1片或複數片基板W，且構成為：依據需要向基板W提供相對於離子束B之例如y方向的相對 移動(所謂機械掃描)。圖1中利用箭頭D例示出機械掃描。並且，真空處理室16具備射束阻擋器28。當離子束B上不存在基板W時，離子束B射入到射束阻擋器28。
另一實施形態中，離子植入裝置10亦可以構成為向真空處理室16賦予具有在與z方向垂直的一個方向較長的剖面之離子束。此時，離子束例如具有比y方向的寬度長的x方向的寬度。有時該種細長剖面的離子束被稱為帶狀離子束。或者，在另一實施形態中，離子植入裝置10還可以構成為，不掃描離子束而向真空處理室16賦予具有斑點狀剖面之離子束。
具體內容參閱圖2至圖5後述之，真空處理室16中設置有離子束測定裝置100。離子束測定裝置100具備用於將原本的離子束B整形為測定用離子束Bm之遮罩102及構成為檢測測定用離子束Bm之檢測部104。
如圖1的下部所例示，當離子束B照射到基板W上時，遮罩102及檢測部104處於遠離離子束B之退避位置。此時遮罩102及檢測部104照射不到離子束B。進行測定時，遮罩102及檢測部104藉由未圖示的移動機構移動到橫切離子束B之測定位置(參閱圖2)。此時遮罩102在離子束B的路徑上位於角度能量過濾器26與檢測部104之間，檢測部104在離子植入處理中位於放置有基板W的表面之z方向位置。
並且，離子束測定裝置100具備用於執行離子束測定處理之測定控制部106。測定控制部106可以是 構成為控制離子植入裝置10之控制裝置的一部分，亦可以與其無關地單獨設置。測定控制部106可以構成為掌管如上所述之遮罩102及檢測部104的退避位置與測定位置之間的移動。一實施形態中，離子植入裝置10可以構成為依據由離子束測定裝置100測定之測定結果來控制離子植入處理。
測定控制部106具備射束角度運算部108，該射束角度運算部構成為依據表示檢測結果之檢測部104的輸出，運算實際離子束B的行進方向相對於設計上的行進方向即z方向所成之角度。射束角度運算部108構成為利用測定用離子束Bm的y射束部分的x方向位置運算x方向射束角度，並利用測定用離子束Bm的x射束部分的y方向位置運算y方向射束角度。
圖2為示意地表示本發明的第1實施形態之離子束測定裝置100之圖。圖3為從y方向觀察在遮罩102的y方向中央切斷圖2所示之離子束測定裝置100之圖。圖4為從x方向觀察在遮罩102的y狹縫110y的x方向位置切斷圖2所示之離子束測定裝置100之圖。圖5為從x方向觀察在遮罩102的x狹縫110x的x方向位置切斷圖2所示之離子束測定裝置100之圖。
遮罩102構成為使從上游供給到之離子束B部分通過並生成測定用離子束Bm。測定用離子束Bm具備y射束部分112y及x射束部分112x(參閱圖3至圖5)。y射束部分112y在xy面具有沿y方向細長的剖 面。x射束部分112x在xy面具有沿x方向細長的剖面。
遮罩102具備使離子束B通過之複數個狹縫或具有開口之板狀構件。遮罩102上的複數個狹縫包含沿y方向細長的y狹縫110y及沿x方向細長的x狹縫110x。本說明書中，將形成有y狹縫110y之遮罩102的部分稱為「第1遮罩部分」，形成有x狹縫110x之遮罩102的部分稱為「第2遮罩部分」。
圖2所示之遮罩102在有原本的離子束B射入之遮罩102上的被照射區域具備3個第1遮罩部分及2個第2遮罩部分。該些第1遮罩部分及第2遮罩部分在x方向上配置得互不相同。各第1遮罩部分具備1條y狹縫110y，各第2遮罩部分具備1條x狹縫110x。
因此，遮罩102具有3條y狹縫110y及2條x狹縫110x，且y狹縫110y與x狹縫110x在x方向上排列得互不相同。中央的y狹縫110y在有離子束B射入之遮罩102上的被照射區域中配置於x方向中央。其餘2條y狹縫110y分別在遮罩102上的被照射區域中配置於x方向端部。另一方面，2條x狹縫110x在y方向上位於相同位置，在遮罩102上的被照射區域中配置於y方向中央。
y狹縫110y為具有與y射束部分112y對應之形狀之貫穿孔。因此y狹縫110y在x方向上具有一個狹窄的狹縫寬度，在y方向上具有長於該寬度之狹縫長度。另一方面，x狹縫110x為具有與x射束部分112x對應之 形狀之貫穿孔。因此x狹縫110x在y方向上具有一個狹窄的狹縫寬度，在x方向上具有長於其寬度之狹縫長度。
y狹縫110y與x狹縫110x的狹縫長度明顯比狹縫寬度長，狹縫長度例如至少為狹縫寬度的10倍。當重視測定精度時，將狹縫寬度設窄為較佳，重視測定時間的縮短時，將狹縫寬度設寬為較佳。y狹縫110y的狹縫長度取決於離子束B的y方向的寬度。
而且，遮罩102中相鄰之2個狹縫的間隔被限定，以便當測定用離子束Bm射入到前述檢測部104時相鄰之2個射束部分彼此分離。如圖3所示，相鄰之y狹縫110y與x狹縫110x的x方向的間隔被限定，以便相鄰之y射束部分112y與x射束部分112x在檢測部104的z方向位置互不重合。如此一來，在各射束部分從遮罩102到達檢測部104之前藉由各射束部分的發散而能夠避免相鄰之射束部分相互混合。
離子束B照射到第1遮罩部分，並通過y狹縫110y，藉此生成y射束部分112y。離子束B照射到第2遮罩部分，並通過x狹縫110x，藉此生成x射束部分112x。對應遮罩102上的y狹縫110y及x狹縫110x的配置，生成3條y射束部分112y與2條x射束部分112x在x方向上排列得互不相同之測定用離子束Bm。
在檢測部104進行檢測期間，遮罩102處於靜止狀態。因此，y射束部分112y與x射束部分112x相當於從原本的離子束B切割之特定一部分。因此，y射束 部分112y與x射束部分112x保持在xy面之離子束B的特定位置上的射束角度。
檢測部104構成為檢測y射束部分112y的x方向位置，並檢測x射束部分112x的y方向位置。檢測部104具備可在x方向上移動，以橫切測定用離子束Bm之移動檢測器。圖2中利用箭頭E例示出向檢測部104的x方向的移動。藉由檢測器向x方向移動而檢測出y射束部分112y的x方向位置。並且，檢測部104具備向y方向排列之複數個檢測要件114。依據檢測部104中之x射束部分112x的到達位置檢測出x射束部分112x的y方向位置。
如此一來，檢測部104能夠在移動檢測器橫切1次測定用離子束Bm期間檢測y射束部分112y的x方向位置及x射束部分112x的y方向位置。
檢測部104或各檢測要件114具備例如依據所射入之離子的量來生成電流之元件，或者亦可以是可檢測離子束之任意構成。檢測部104或各檢測要件114例如可以是法拉第杯。而且，圖示之檢測部104中代表性的例示出5個檢測要件114，但典型的檢測部104可以具備數量更多的(例如至少10個)檢測要件114的排列。
如圖3所示，檢測部104為檢測測定用離子束Bm而向x方向移動時，例如在x方向位置xa處，檢測部104接受來自遮罩102上的x方向端部的y狹縫110y之y射束部分112y。而且，檢測部104例如在x方 向位置xb處，接受來自一個x狹縫110x之x射束部分112x。更進一步，檢測部104例如在x方向位置xc處，接受來自x方向中央之y狹縫110y之y射束部分112y。同樣地，檢測部104例如在x方向位置xd處，接受來自另一個x狹縫110x之x射束部分112x，例如在x方向位置xe處，接受來自x方向端部的y狹縫110y之y射束部分112y。
檢測部104向射束角度運算部108輸出向x方向移動之後所獲得之x方向位置與射束電流之間的關係。射束角度運算部108依據x方向位置與射束電流之間的關係指定y射束部分112y的x方向位置。射束角度運算部108例如將與y射束部分112y對應之射束電流峰值的x方向位置定為其y射束部分112y的x方向位置。
如圖4所示，y射束部分112y遍及沿y方向排列之幾個檢測要件114而射入。因此，在本實施形態中從每個檢測要件114輸出之射束電流被整合，且整合的射束電流用於指定y射束部分112y的x方向位置。
如公知的，依據z方向上之第1位置與第2位置之間的x方向的射束變位量及第1位置與第2位置的z方向距離之比能夠運算x方向射束角度θ x。檢測過程中遮罩102保持在規定位置，因此遮罩102上的各狹縫的z方向位置及相應的z方向位置中之各狹縫的xy面內位置為已知。並且，檢測部104的z方向位置亦已知。因此，利用該些已知的位置關係、檢測出之y射束部分112y的 x方向位置能夠運算x方向射束角度θ x。
如圖3所示，y射束部分112y的x方向的寬度與y狹縫110y的x方向的寬度對應地變細。因此可輕鬆地指定與y射束部分112y對應之射束電流峰值的x方向位置。並且，如圖4所示，y射束部分112y的寬度與y狹縫110y對應地向y方向變寬。因此，與以往的使用具有圓形小孔之遮罩相比，能夠將檢測部104所承受之射束電流設大。
同樣，依據z方向上之第1位置與第2位置之間的y方向的射束變位量及第1位置與第2位置的z方向距離之比能夠運算y方向射束角度θ y。如圖5所示，x射束部分112x的y方向的寬度與x狹縫110x的y方向的寬度對應地變窄。x射束部分112x到達檢測部104的某一特定檢測要件114，能夠將其檢測要件114的y方向位置視作x射束部分112x的y方向位置。利用這樣檢測出之x射束部分112x的y方向位置、及遮罩102與檢測部104之間的已知的位置關係能夠運算y方向射束角度θ y。如圖3所示，x射束部分112x與x狹縫110x的寬度對應地向x方向變寬，因此能夠將檢測部104所承受之射束電流設大。
如此依第1實施形態，藉由在單一遮罩上形成x方向狹縫及y方向狹縫，能夠在1個遮罩上同時測定x方向射束角度θ x及y方向射束角度θ y。
藉由沿x方向分別在不同的位置設置複數個y 狹縫110y，能夠求出離子束B的x方向射束角度θ x的x方向分布。例如，能夠將依據中央的y射束部分112y獲得之x方向射束角度θ x用作離子束B的x方向射束角度的代表值。而且，作為代表x方向射束角度θ x均勻性之指標，例如能夠利用該代表值與依據端部的y射束部分112y獲得之x方向射束角度θ x之差。
而且，藉由沿x方向分別在不同的位置設置複數個x狹縫110x，能夠求出離子束B的y方向射束角度θ y的x方向分布。
上述實施形態中，檢測部104以一定速度向x方向移動。這具有使檢測部104的動作變得簡單之優點。然而，在一實施形態中，為了將檢測部104所承受之射束電流量設大，檢測部104亦可以構成為在移動檢測器橫切1次測定用離子束Bm之期間調整其移動速度。例如，移動檢測器亦可以為接受x射束部分110x而減速或靜止。具體而言，例如移動檢測器可以在接受x射束部分110x之前減速，並一直減速，直至通過該x射束部分110x為止。或者，移動檢測器可以在接受x射束部分110x之位置停止規定的時間。
(第2實施形態)
圖6為示意地表示本發明的第2實施形態之離子植入裝置的真空處理室216之圖。圖6的上部為表示真空處理室216的概要構成之俯視圖，圖6的下部為表示真空處理 室216的概要構成之側視圖。第2實施形態之離子植入裝置可以具備圖1所示之離子源12及射束線裝置14。
而且，圖7係示意地表示本發明的第2實施形態之離子束測定裝置200之圖。圖8為從y方向觀察在遮罩102的y方向中央切斷圖7所示之離子束測定裝置200之圖。
與第1實施形態之離子束測定裝置100相比，第2實施形態之離子束測定裝置200的用於檢測測定用離子束Bm之構成有所不同。在遮罩102方面，第1實施形態與第2實施形態相同。
離子束測定裝置200具備用於將原本的離子束B整形為測定用離子束Bm之遮罩102及構成為檢測測定用離子束Bm之檢測部204。而且，離子束測定裝置200具備射束角度運算部108，該射束角度運算部構成為依據檢測部204的輸出，運算實際離子束B的行進方向相對於設計上的行進方向即z方向所成之角度。
檢測部204構成為檢測y射束部分112y的x方向位置，並檢測x射束部分112x的y方向位置。檢測部204具備：可向x方向移動，以橫切測定用離子束Bm之移動檢測器204a、及在離子束行進方向上配置於移動檢測器204a的下游之固定檢測器204b。
移動檢測器204a可向x方向移動，以橫切測定用離子束Bm。藉由移動檢測器204a向x方向移動，檢測出y射束部分112y的x方向位置。移動檢測器204a具 備與y射束部分112y對應地在y方向較長的移動檢測要件214a。於一實施形態中，移動檢測器204a可以是第1實施形態之檢測部104，此時，移動檢測器204a可以具備向y方向排列之複數個檢測要件。
另一方面，固定檢測器204b配設於射束阻擋器28，以接受x射束部分112x。亦即在射束阻擋器28上的有x射束部分112x射入之位置設置有固定檢測器204b。固定檢測器204b具備向y方向排列之複數個固定檢測要件214b。本實施形態中，由於測定用離子束Bm具有2條x射束部分112x，因此固定檢測器204b具備2個複數個固定檢測要件214b的y方向排列。依據固定檢測器204b中之x射束部分112x的到達位置檢測出x射束部分112x的y方向位置。
如圖8所示，移動檢測器204a為檢測測定用離子束Bm而向x方向移動。此時，移動檢測器204a例如在x方向位置xa處接受來自遮罩102上的x方向端部的y狹縫110y之y射束部分112y。移動檢測器204a通過x射束部分112x。並且，移動檢測器204a例如在x方向位置xc處接受來自x方向中央的y狹縫110y之y射束部分112y。此外，移動檢測器204a通過x射束部分112x，例如在x方向位置xe處接受來自x方向端部的y狹縫110y之y射束部分112y。
移動檢測器204a向射束角度運算部108輸出向x方向移動之後獲得之y射束部分112y的x方向位置 與射束電流之間的關係。射束角度運算部108依據該關係指定y射束部分112y的x方向位置。射束角度運算部108例如將與y射束部分112y對應之射束電流峰值的x方向位置定為其y射束部分112y的x方向位置。射束角度運算部108利用所獲得之y射束部分112y的x方向位置及、遮罩102與移動檢測器204a之間的已知位置關係來運算x方向射束角度θ x。
另一方面，固定檢測器204b在移動檢測器204a遠離x射束部分112x時檢測x射束部分112x的y方向位置。當對應之x射束部分112x沒有被移動檢測器204a遮擋時，固定檢測器204b接受x射束部分112x。x射束部分112x到達固定檢測器204b的某一特定固定檢測要件214b。因此，能夠將該固定檢測要件214b的y方向位置視作x射束部分112x的y方向位置。射束角度運算部108利用如此檢測出之x射束部分112x的y方向位置、及遮罩102與固定檢測器204b之間的已知位置關係來運算y方向射束角度θ y。
如此一來，檢測部204能夠在移動檢測器204a橫切1次測定用離子束Bm期間檢測y射束部分112y的x方向位置及x射束部分112x的y方向位置。
依第2實施形態，如同第1實施形態能夠藉由寬幅的狹縫將檢測部204所承受之射束電流設大。並且，藉由在單一遮罩上形成x方向狹縫及y方向狹縫，能夠在1個遮罩上同時測定x方向射束角度及y方向射束角 度。
在現有的離子植入裝置中，大多設置有相當於移動檢測器204a及固定檢測器204b之檢測器。因此，依第2實施形態，具有沿用該種現有的檢測器來構成離子束測定裝置200之優點。
另外，一實施形態中，可以不同時測定x方向射束角度與y方向射束角度。例如在藉由移動檢測器204a測定x方向射束角度θ x之後，使移動檢測器204a退避，利用固定檢測器204b測定y方向射束角度。
並且，亦可以在要放置基板W之z方向位置配置遮罩102，以此代替將遮罩102配置在基板W的上游。此時，移動檢測器204a亦可以配置在要放置基板W之z方向位置的下游。
(第3實施形態)
圖9為示意地表示本發明的第3實施形態之離子束測定裝置300之圖。與第1及第2實施形態之離子束測定裝置相比，第3實施形態之離子束測定裝置300的用於檢測測定用離子束Bm之構成有所不同。在遮罩102方面，第3實施形態與上述實施形態相同。
離子束測定裝置300具備用於將原本的離子束B整形為測定用離子束Bm之遮罩102及構成為檢測測定用離子束Bm之檢測部304。而且，離子束測定裝置300具備射束角度運算部108，該射束角度運算部構成為 依據檢測部304的輸出，運算實際離子束B的行進方向相對於設計上的行進方向即z方向所成之角度。
檢測部304構成為檢測測定用離子束Bm的y射束部分的x方向位置，並檢測測定用離子束Bm的x射束部分的y方向位置。檢測部304具備配設成接受測定用離子束Bm之固定檢測器。固定檢測器具備檢測要件314的二維排列。檢測要件314在x方向及y方向上排列成矩陣形。
依據檢測部304中之y射束部分的到達位置檢測出y射束部分的x方向位置。y射束部分在檢測部304上的某一x方向位置到達向y方向排列之幾個檢測要件314，能夠將該些檢測要件314的x方向位置視作y射束部分的x方向位置。從每個檢測要件314輸出之射束電流被整合，且整合的射束電流用於指定y射束部分的x方向位置。利用檢測出之y射束部分的x方向位置、及遮罩102與檢測部304之間的已知位置關係來運算x方向射束角度θ x。
同樣，依據檢測部304中之x射束部分的到達位置檢測x射束部分的y方向位置。x射束部分在檢測部304上的某一y方向位置到達向x方向排列之幾個檢測要件314，能夠將該些檢測要件314的y方向位置視作x射束部分的y方向位置。利用檢測出之x射束部分的y方向位置、及遮罩102與檢測部304之間的已知位置關係來運算y方向射束角度θ y。
如此一來，依第3實施形態，如同上述實施形態，能夠藉由寬幅的狹縫將檢測部304所承受之射束電流設大。並且，藉由在單一遮罩上形成x方向狹縫及y方向狹縫，能夠在1個遮罩上同時測定x方向射束角度及y方向射束角度。
第3實施形態中，藉由檢測部304進行檢測期間，遮罩102處於靜止狀態。然而在一實施形態中，藉由檢測部304進行檢測期間，遮罩102例如可以向x方向移動。即便如此，亦能夠測定射束角度。
一實施形態中，檢測部304亦可以具備具備檢測要件314的二維排列之固定檢測器，及上述實施形態之移動檢測器。此時，固定檢測器配置於移動檢測器的z方向下游。
(第4實施形態)
圖10係表示本發明的第4實施形態之離子束測定裝置中所使用之遮罩402之圖。第4實施形態之遮罩402，尤其在x狹縫110x的y方向位置方面，與上述實施形態之遮罩102有所不同。另外，圖10中y方向為縱向，x方向為橫向。
圖10所示之遮罩402在有原本的離子束B射入之遮罩402上的被照射區域具備4個第1遮罩部分及3個第2遮罩部分。該些第1遮罩部分及第2遮罩部分在x方向上配置得互不相同。各第1遮罩部分具備1條y狹縫 110y，各第2遮罩部分具備1條x狹縫110x。因此，遮罩402具有4條y狹縫110y及3條x狹縫110x，且y狹縫110y與x狹縫110x在x方向上排列得互不相同。
3條狹縫中中央的x狹縫110x在有離子束B射入之遮罩402上的被照射區域，配置於x方向及y方向上的中央。其餘2條x狹縫110x在遮罩402上的被照射區域分別配置於與中央的x狹縫110x不同的y方向位置。並且，該些其餘2條x狹縫110x的y方向位置互不相同。在圖示之遮罩402中相鄰之x狹縫110x的y方向間隔相等，但並非一定要相等。
如此藉由將複數個x狹縫110x分別設置在y方向上的不同位置，能夠求出離子束B的y方向射束角度θ y的y方向分布。
第4實施形態之遮罩402能夠與用於檢測上述實施形態的任一種實施形態之測定用離子束Bm之構成組合使用。因此，一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩402，具備形成於互不相同的y方向位置之複數個x狹縫110x；及移動檢測器亦即檢測部104。並且，一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩402，具備形成於互不相同的y方向位置之複數個x狹縫110x；及檢測部204，具備移動檢測器204a及固定檢測器204b。一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩402，具備形成於互不相同的y方向位置之複數個x狹縫110x；及固定檢測器亦即檢測部304。
(第5實施形態)
圖11為表示本發明的第5實施形態之離子束測定裝置中所使用之遮罩502之圖。圖11的上部為遮罩502的前視圖，圖11的下部為遮罩502的側視圖。在狹縫的配置方面，第5實施形態之遮罩502與上述實施形態之遮罩有所不同。圖11的上部中y方向為縱向，x方向為橫向。另外，為便於說明用箭頭F表示圖11的下部中離子束的行進方向。
圖11所示之遮罩502在有原本的離子束B射入之遮罩502上的被照射區域具備3個第1遮罩部分503y及2個第2遮罩部分503x。該些第1遮罩部分503y及第2遮罩部分503x在x方向上配置得互不相同。中央的第1遮罩部分503y具備3條y狹縫110y，兩端的第1遮罩部分503y分別具備2條y狹縫110y。各第1遮罩部分503y的y狹縫110y在x方向上平行排列。並且各第2遮罩部分503x具備1條x狹縫110x。
因此，遮罩502總共具有7條y狹縫110y及2條x狹縫110x。中央的3條y狹縫110y在有離子束B射入之遮罩502上的被照射區域配置於x方向中央。端部的2條y狹縫110y在遮罩502上的被照射區域配置於x方向端部。另一方面，2條x狹縫110x在y方向上位於相同位置，在遮罩502上的被照射區域中配置於y方向中央。
離子束照射在第1遮罩部分503y且通過y狹縫110y，藉此生成y射束部分。離子束照射在第2遮罩部分503x且通過x狹縫110x，藉此生成x射束部分。與遮罩502上的y狹縫110y及x狹縫110x的配置對應地生成具備7條y射束部分與2條x射束部分之測定用離子束。
如圖11的下部所示，y狹縫110y及x狹縫110x的x方向(圖中為橫向)的寬度在下游側比離子束行進方向的上游側寬而呈錐形。拓寬狹縫之程度取決於離子束的發散角。這樣的狹縫形狀有利於檢測所有通過狹縫之射束部分的角度成份。雖未圖示，但在y狹縫110y及x狹縫110x的y方向的寬度方面亦相同，亦可以是在下游側比離子束行進方向的上游側寬而呈錐形。
一實施形態中，離子束測定裝置可以利用檢測器對觀測通過相鄰平行排列之複數個狹縫(例如y狹縫110y)之射束部分而獲得之剖面進行比較，並評價該些剖面的相似性。離子束測定裝置可以依據該評價結果判定測定有無正常進行。測定過程中例如產生放電等異常情況時，源於相鄰之2個平行的狹縫之2個射束電流剖面可以採用互不相同的形狀。
因此，當評價為與各狹縫對應之射束電流剖面相似時，離子束測定裝置可以判定為測定進行正常。相反，當評價為與各狹縫對應之射束電流剖面不相似時，離子束測定裝置可以判定為測定沒有正常進行。當判定為測 定沒有正常進行時，離子束測定裝置可以重新執行測定。
而且，如同上述遮罩102，遮罩502的相鄰之2個狹縫的間隔被限定，以便有測定用離子束射入到檢測部時相鄰之2個射束部分相互分離。狹縫間隔例如取決於遮罩502與檢測部之間的距離。狹縫與檢測器的距離越大，狹縫間隔越寬；距離越小，狹縫間隔越窄。狹縫間隔越窄，則能夠在遮罩502上配置越多的狹縫。
第5實施形態之遮罩502能夠與用於檢測上述實施形態的任一種實施形態之測定用離子束Bm之構成組合使用。因此，一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩502，具備各自具有複數個y狹縫110y之複數個第1遮罩部分503y；及移動檢測器亦即檢測部104。而且，一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩502，具備各自具有複數個y狹縫110y之複數個第1遮罩部分503y；及檢測部204，具備移動檢測器204a及固定檢測器204b。一實施形態之離子束測定裝置可以具備：遮罩502，具備各自具有複數個y狹縫110y之複數個第1遮罩部分503y；及固定檢測器亦即檢測部304。
圖12為用於說明本發明的一實施形態之離子束測定方法之流程圖。首先，在離子束所通過之位置設置遮罩(S1)。機械地進行該操作。遮罩上設置有如上所述之y狹縫及x狹縫。以下，直至本方法結束為止遮罩將保持在其位置，測定期間遮罩處於靜止狀態。
接著，開始照射離子束(S2)。離子束通過 遮罩的狹縫，藉此準備測定用離子束。如上所述，測定用離子束具備在與離子束行進方向垂直的y方向較長的y射束部分、及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向較長的x射束部分。
接著，測定射束角度(S3)。使用檢測部測定通過遮罩之離子束的到達位置。檢測出y射束部分的x方向位置，並檢測出x射束部分的y方向位置。此時，檢測部依據需要移動測定用離子束。利用檢測到之x方向位置運算x方向射束角度，利用檢測到之y方向位置運算y方向射束角度。之後，結束離子束的照射(S4)，最後解除遮罩的設置(S5)。遮罩返回到退避位置。以此結束本方法。
對幾個本發明的非代表性實施形態進行了說明。依本發明的實施形態，藉由在單一遮罩上形成x方向狹縫及y方向狹縫，能夠在1個遮罩上同時測定x方向射束角度θ x及y方向射束角度θ y。
而且，離子束B的射束角度的特徵為兩個方向的角度成份，典型的有x方向及y方向的射束角度。依本發明的實施形態，利用y射束部分112y的x方向位置及x射束部分112x的y方向位置能夠直接求出x方向射束角度θ x及y方向射束角度θ y。
因此，依本發明的實施形態，能夠以簡單的構成測定兩個方向的射束角度。
以上，依據實施形態對本發明進行了說明。 本發明並不限於上述實施形態，可以進行各種設計變更且存在各種變形例、及該種變形例同樣屬於本發明的範圍之事實被本領域技術人員所認同。
上述實施形態中，y射束部分112y具有在y方向連續之細長的射束剖面。然而，在本說明書中y射束部分可以具有不在y方向連續之小射束剖面。一實施形態中，y射束部分可以具備向y方向對齊之複數個小射束部分。該些小射束部分排列成功能上與在y方向連續之射束剖面相同或相似。以此，可以將在y方向較長的y射束部分形成為使複數個小射束部分集中。在x射束部分方面亦相同。
因此，遮罩的狹縫不限於細長的單一開口。一實施形態中，遮罩亦可以具備複數個小開口，生成與該些每個小開口對應之小射束部分。因此，遮罩可以具備整體形成y狹縫及x狹縫之複數個小開口的排列。例如遮罩可以具備如同y狹縫110y向y方向排列之複數個小孔、及如同x狹縫110x向x方向排列之複數個小孔。
一實施形態之離子植入裝置構成為使用向x方向掃描之離子束或使用x方向的直徑比y方向的直徑長的離子束，並向y方向機械掃描晶圓。其中，將離子束的行進方向作為z方向，與z方向正交之平面上相互正交之兩個方向作為x方向及y方向。並且，離子植入裝置具備構成為測定x方向及y方向的射束角度之離子束角度測定機構。測定機構具備當測定x方向及y方向的射束角度 時，使一部分離子束通過與設置在規定的位置之z方向垂直的遮罩，並在z方向下游檢測通過射束的到達位置之構件。該檢測構件可測定通過射束的到達位置分布。並且，測定機構具備依據檢測到之到達位置分布計算通過射束的角度之構件。遮罩上設置有使一部分離子束通過之在y方向較長的至少一個狹縫、及在x方向較長的至少一個狹縫。測定機構同時測定x方向的射束角度與y方向的射束角度。
通過射束的檢測構件由沿y方向配置之複數個檢測器構成，測定機構可以邊向x方向移動該些複數個檢測器邊測定離子束。測定機構可以在複數個檢測器位於在x方向較長的狹縫的前面時，使相應的複數個檢測器減速或停止一定時間，以測定y方向角度。
用於移動測定之檢測機構可以具備在y方向較長的移動檢測器、及從遮罩觀察時配置於沿著該移動檢測器的移動線遠離z方向的位置之固定檢測器。固定檢測器可以具備在遮罩的x方向較長的狹縫的前面沿y方向排列之複數個檢測要件。測定機構可以只有當在y方向較長的移動檢測器不位於在x方向較長的狹縫的前面時，才利用固定檢測器來檢測射束的到達位置。
檢測構件可以是二維排列並固定之檢測器。
一實施形態之離子植入裝置構成為使用向x方向掃描之離子束或使用x方向的直徑比y方向的直徑長的離子束，並向y方向機械掃描晶圓。其中，將離子束的 行進方向作為z方向，與z方向正交之平面上相互正交之兩個方向作為x方向及y方向。並且，離子植入裝置具備構成為測定x方向及y方向的射束角度之離子束角度測定機構。測定機構具備當測定x方向及y方向的射束角度時，使一部分離子束通過與設置在規定的位置之z方向垂直的遮罩，並在z方向下游檢測通過射束的到達位置之構件。該檢測構件可測定通過射束的到達位置分布。並且，測定機構具備依據檢測到之到達位置分布計算通過射束的角度之構件。遮罩上設置有使一部分離子束通過之在y方向較長的至少一個狹縫、及在x方向較長的至少一個狹縫。通過射束的檢測構件由沿y方向配置之複數個檢測器構成，測定機構可以邊向x方向移動該些複數個檢測器邊測定離子束。用於移動測定之檢測機構可以具備在y方向較長的移動檢測器、及從遮罩觀察時配置於遠離該移動檢測器的移動線的z方向的位置之固定檢測器。固定檢測器具備在遮罩的x方向較長的狹縫的前面沿y方向排列之複數個檢測要件。測定機構邊向x方向移動在y方向較長的檢測器邊測定x方向的射束角度，除了在x方向較長的狹縫的前面以外，使在y方向較長的檢測器停止，以測定y方向的射束角度。
一實施形態之離子植入裝置構成為使用向x方向掃描之離子束或使用x方向的直徑比y方向的直徑長的離子束，並向y方向機械掃描晶圓。其中，將離子束的行進方向作為z方向，與z方向正交之平面上相互正交之 兩個方向作為x方向及y方向。並且，離子植入裝置具備構成為測定x方向及y方向的射束角度之離子束角度測定機構。測定機構具備當測定x方向及y方向的射束角度時，使一部分離子束通過與設置在規定的位置之z方向垂直的遮罩，並在z方向下游檢測通過射束的到達位置之構件。該檢測構件可測定通過射束的到達位置分布。並且，測定機構具備依據檢測到之到達位置分布計算通過射束的角度之構件。遮罩上設置有使一部分離子束通過之在y方向較長的複數個狹縫、及在x方向較長的至少1個狹縫。在x方向較長的複數個狹縫在遮罩上的y方向位置的配置不同。測定機構同時測定x方向的射束角度與y方向的射束角度。
通過射束的檢測構件由沿y方向配置之複數個檢測器構成，測定機構可以邊向x方向移動該些複數個檢測器邊測定離子束。測定機構可以在複數個檢測器位於在x方向較長的狹縫的前面時，使相應的複數個檢測器減速或停止一定時間，以測定y方向角度。
用於移動測定之檢測機構可以具備在y方向較長的移動檢測器、及從遮罩觀察時配置於沿著該移動檢測器的移動線遠離z方向的位置之固定檢測器。固定檢測器可以具備在遮罩的x方向較長的狹縫的前面沿y方向排列之複數個檢測要件。測定機構可以只有當在y方向較長的移動檢測器不位於在x方向較長的狹縫的前面時，才利用固定檢測器來檢測射束的到達位置。
檢測構件可以是二維排列並固定之檢測器。
一實施形態之離子植入裝置構成為使用向x方向掃描之離子束或使用x方向的直徑比y方向的直徑長的離子束，並向y方向機械掃描晶圓。其中，將離子束的行進方向作為z方向，與z方向正交之平面上相互正交之兩個方向作為x方向及y方向。並且，離子植入裝置具備構成為測定x方向及y方向的射束角度之離子束角度測定機構。測定機構具備當測定x方向及y方向的射束角度時，使一部分離子束通過與設置在規定的位置之z方向垂直的遮罩，並在z方向下游檢測通過射束的到達位置之構件。該檢測構件可測定通過射束的到達位置分布。並且，測定機構具備依據檢測到之到達位置分布計算通過射束的角度之構件。遮罩上設置有使一部分離子束通過之在y方向較長的至少1個狹縫、及在x方向較長的複數個狹縫。在x方向較長的複數個狹縫在遮罩上的y方向位置的配置不同。通過射束的檢測構件由沿y方向配置之複數個檢測器構成，測定機構可以邊向x方向移動該些複數個檢測器邊測定離子束。用於移動測定之檢測機構可以具備在y方向較長的移動檢測器、及從遮罩觀察時配置於遠離該移動檢測器的移動線的z方向的位置之固定檢測器。固定檢測器具備在遮罩的x方向較長的狹縫的前面沿y方向排列之複數個檢測要件。測定機構邊向x方向移動在y方向較長的檢測器邊測定x方向的射束角度，除了在x方向較長的狹縫的前面以外，使在y方向較長的檢測器停止，以測定 y方向的射束角度。
以下，舉出本發明的幾個態樣。
1.一種離子束測定裝置，其具備：遮罩，係用以把原本的離子束整形成：具備在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分之測定用離子束；檢測部，其構成為：檢測前述y射束部分的x方向位置，並檢測前述x射束部分的y方向位置；及射束角度運算部，構成為：利用前述x方向位置運算x方向射束角度，並利用前述y方向位置運算y方向射束角度。
2.如實施形態1之離子束測定裝置，其中，前述原本的離子束，為遍及比y方向的寬度還要長的x方向的掃描範圍而被掃描之離子束，或者是，為具有比y方向的寬度還要長的x方向的寬度之離子束；前述遮罩，在前述原本的離子束所射入之相應遮罩上的被照射區域，具備複數個第1遮罩部分及複數個第2遮罩部分；前述複數個第1遮罩部分各自具備：與前述y射束部分對應之至少1個y狹縫；前述複數個第2遮罩部分各自具備：與前述x射束部分對應之至少1個x狹縫；前述複數個第1遮罩部分及複數個第2遮罩部分在x方向上配置成互不相同。
3.如實施形態2之離子束測定裝置，其中， 前述複數個第1遮罩部分具備：配置於前述被照射區域的x方向中央之中央第1遮罩部分、及配置於前述被照射區域的x方向端部之端部第1遮罩部分。
4.如實施形態2或3之離子束測定裝置，其中，前述複數個第1遮罩部分的至少1個具備：向x方向排列之複數個y狹縫。
5.如實施形態2至4中任一項之離子束測定裝置，其中，前述複數個第2遮罩部分具備：在某一y位置具備x狹縫之第2遮罩部分、及在另一y位置具備x狹縫之另一第2遮罩部分。
6.如實施形態2至5中任一項之離子束測定裝置，其中，前述y狹縫和/或前述x狹縫的寬度，係比起在前述離子束行進方向的上游側，其下游側為較寬。
7.如實施形態1至6中任一項之離子束測定裝置，其中，前述遮罩中相鄰之2個狹縫的間隔被限定，使得前述測定用離子束射入到前述檢測部時相鄰之2個離子束部分彼此分離。
8.如實施形態1至7中任一項之離子束測定裝置，其中，在前述檢測部進行檢測時，前述遮罩處於靜止狀態。
9.如實施形態1至8中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：至少能夠向x方向移動之移動檢測器，使得以橫切前述測定用離子束；前述移動檢 測器至少檢測前述y射束部分的x方向位置。
10.如實施形態9之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器對應到前述y射束部，具備在y方向有較長的檢測要件。
11.如實施形態9或10之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：配設成至少接受前述x射束部分之固定檢測器；前述固定檢測器具備：至少排列在y方向之複數個檢測要件，並檢測前述x射束部分的y方向位置。
12.如實施形態11之離子束測定裝置，其中，在前述離子束行進方向上，前述固定檢測器配置於前述移動檢測器的下游。
13.如實施形態12之離子束測定裝置，其中，前述固定檢測器，在前述移動檢測器遠離前述x射束部分時，檢測前述x射束部分的y方向位置。
14.如實施形態9之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器具備：至少排列在y方向之複數個檢測要件，並檢測前述x射束部分的y方向位置。
15.如實施形態9至14中任一項之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器，係為了接受前述x射束部分而減速或靜止。
16.如實施形態9至15中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢查部構成為：在前述移動檢測器橫切1次前述測定用離子束期間，檢測前述y射束部分的x 方向位置及前述x射束部分的y方向位置。
17.如實施形態1至8中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：配設成接受前述測定用離子束之固定檢測器；前述固定檢測器具備：檢測要件的二維排列，並檢測前述y射束部分的x方向位置及前述x射束部分的y方向位置。
18.一種離子植入裝置，其具備實施形態1至17中任一項之離子束測定裝置。
19.如實施形態18離子植入裝置，其中，前述離子束測定裝置被設在：用以對被處理物進行離子植入處理之處理室。
20.一種離子束測定方法，其具備：準備測定用離子束之製程，該測定用離子束具備：在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分、及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分；檢測前述y射束部分的x方向位置之製程；檢測前述x射束部分的y方向位置之製程；利用前述x方向位置運算x方向射束角度之製程；及利用前述y方向位置運算y方向射束角度之製程。
100‧‧‧離子束測定裝置
102‧‧‧遮罩
104‧‧‧檢測部
108‧‧‧射束角度運算部
110x‧‧‧x狹縫
110y‧‧‧y狹縫
114‧‧‧檢測要件
B‧‧‧原本的離子束
Bm‧‧‧測定用離子束

Claims (20)

  1. 一種離子束測定裝置，其具備：遮罩，係用以把原本的離子束整形成：具備在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分之測定用離子束；檢測部，其構成為：檢測前述y射束部分的x方向位置，並檢測前述x射束部分的y方向位置；及射束角度運算部，構成為：利用前述x方向位置運算x方向射束角度，並利用前述y方向位置運算y方向射束角度。
  2. 如請求項1之離子束測定裝置，其中，前述原本的離子束，為遍及比y方向的寬度還要長的x方向的掃描範圍而被掃描之離子束，或者是，為具有比y方向的寬度還要長的x方向的寬度之離子束；前述遮罩，在前述原本的離子束所射入之相應遮罩上的被照射區域，具備複數個第1遮罩部分及複數個第2遮罩部分；前述複數個第1遮罩部分各自具備：與前述y射束部分對應之至少1個y狹縫；前述複數個第2遮罩部分各自具備：與前述x射束部分對應之至少1個x狹縫；前述複數個第1遮罩部分及複數個第2遮罩部分在x方向上配置成互不相同。
  3. 如請求項2之離子束測定裝置，其中，前述複數個第1遮罩部分具備：配置於前述被照射區域的x方向中央之中央第1遮罩部分、及配置於前述被照射區域的x方向端部之端部第1遮罩部分。
  4. 如請求項2或3之離子束測定裝置，其中，前述複數個第1遮罩部分的至少1個具備：向x方向排列之複數個y狹縫。
  5. 如請求項2至4中任一項之離子束測定裝置，其中，前述複數個第2遮罩部分具備：在某一y位置具備x狹縫之第2遮罩部分、及在另一y位置具備x狹縫之另一第2遮罩部分。
  6. 如請求項2至5中任一項之離子束測定裝置，其中，前述y狹縫和/或前述x狹縫的寬度，係比起在前述離子束行進方向的上游側，其下游側為較寬。
  7. 如請求項1至6中任一項之離子束測定裝置，其中，前述遮罩中相鄰之2個狹縫的間隔被限定，使得前述測定用離子束射入到前述檢測部時相鄰之2個離子束部分彼此分離。
  8. 如請求項1至7中任一項之離子束測定裝置，其中，在前述檢測部進行檢測時，前述遮罩處於靜止狀態。
  9. 如請求項1至8中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：至少能夠向x方向移動之移動檢測器，使得以橫切前述測定用離子束；前述移動檢測器至少檢測前述y射束部分的x方向位置。
  10. 如請求項9之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器對應到前述y射束部，具備在y方向有較長的檢測要件。
  11. 如請求項9或10之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：配設成至少接受前述x射束部分之固定檢測器；前述固定檢測器具備：至少排列在y方向之複數個檢測要件，並檢測前述x射束部分的y方向位置。
  12. 如請求項11之離子束測定裝置，其中，在前述離子束行進方向上，前述固定檢測器配置於前述移動檢測器的下游。
  13. 如請求項12之離子束測定裝置，其中，前述固定檢測器，在前述移動檢測器遠離前述x射束部分時，檢測前述x射束部分的y方向位置。
  14. 如請求項9之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器具備：至少排列在y方向之複數個檢測要件，並檢測前述x射束部分的y方向位置。
  15. 如請求項9至14中任一項之離子束測定裝置，其中，前述移動檢測器，係為了接受前述x射束部分而減速 或靜止。
  16. 如請求項9至15中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢查部構成為：在前述移動檢測器橫切1次前述測定用離子束期間，檢測前述y射束部分的x方向位置及前述x射束部分的y方向位置。
  17. 如請求項1至8中任一項之離子束測定裝置，其中，前述檢測部具備：配設成接受前述測定用離子束之固定檢測器；前述固定檢測器具備：檢測要件的二維排列，並檢測前述y射束部分的x方向位置及前述x射束部分的y方向位置。
  18. 一種離子植入裝置，其具備請求項1至17中任一項之離子束測定裝置。
  19. 如請求項18之離子植入裝置，其中，前述離子束測定裝置被設在：用以對被處理物進行離子植入處理之處理室。
  20. 一種離子束測定方法，其具備：準備測定用離子束之製程，該測定用離子束具備：在與離子束行進方向垂直的y方向有較長的y射束部分、及在與前述行進方向及y方向垂直的x方向有較長的x射束部分；檢測前述y射束部分的x方向位置之製程；檢測前述x射束部分的y方向位置之製程； 利用前述x方向位置運算x方向射束角度之製程；及利用前述y方向位置運算y方向射束角度之製程。
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