TW201426044A - 表面具微結構的光學板 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種表面具微結構的光學板，具有一個可透光的積層，及多個微結構，該積層具有一第一基層及一形成於該第一基層表面的第二基層，且該第二基層具有一遠離該第一基層的上表面，該第一基層是由一第一樹脂構成，該第二基層是由一第二樹脂構成，該第一、二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg1及Tg2，且5℃≦Tg1-Tg2≦17℃；該些微結構形成於該第二基層的上表面，用以引導光線的行進路徑。

Description

表面具微結構的光學板

本發明是有關於一種光學板，特別是指一種表面具有微結構的光學板。

一般非自發光型的顯示器，須藉由一背光模組，將一光源(線光源或是點光源)轉換成高亮度且出光均勻性佳的面光源，以作為顯示器的光源。參閱圖1，以側向式背光模組為例作說明，該背光模組包含一個導光板11及一個光源12，該導光板11具有一個透光層111，及一形成於該透光層111上方的微結構13作為出光面，該光源12則為形成於該透光層111的一側面112。利用設置於該微結構13改變並導引自該光源12發出的光線的行進方向，而讓自該出光面發出的光成為具有高亮度且均勻性佳的面光源。

目前用於製作該具有微結構的導光板的方式有多種，例如，美國專利第6,199,994號揭示一種利用印刷方式形成一具有微結構的導光板，該微結構形成在該導光板的出光面，具有一設置在該出光面鄰近其入射面的光抑制區，一分別設置在該光抑制區的兩端的光增強區，及一設置在遠離該入射面的一側的光控制區，藉由該具有不同型態的微結構讓自該導光板發出的光可具有高均勻性；或是中華民國專利公開第200602189號，則揭示一種藉由一具有微結構圖案的模仁，利用射出成型方式將樹脂注入該模仁，將該微結構圖案轉寫而得到一具有微結構的導光板，或是利 用熱壓印方式，將一具有微結構圖案的模板於一樹脂成型片表面進行熱壓印，也可將該微結構圖案轉寫而得到該具有微結構的導光板。

其中，以熱壓印方式形成該微結構的方式，當該模仁/模板的微結構尺寸愈來愈細微化的同時，不僅該模仁/模板的微結構加工不易，也容易因為後續射出成形或是熱壓印的條件控制不當，使得該模仁/模板微結構的轉寫率降低，無法形成具有所預期的微結構的導光板；此外，由於壓印時需加熱到接近該樹脂的玻璃轉換溫度或是熔點，因此在壓印的同時會因為樹脂本身的支撐性不足造成轉寫率不佳，也會令該導光板上的微結構產生缺陷而降低該背光模組的光均勻化效果。

因此，如何提供一具有高轉寫率且結構完整之微結構的導光板，則為本技術領域業者不斷改良的方向。

因此，本發明之目的，即在提供一種製程簡便且可具有高轉寫率且表面微結構完整性高之光學板。

於是，本發明提供一種表面具微結構的光學板，包含一個積層，及多個微結構。

該積層為具有可透光性質，包括一第一基層，及一形成於該第一基層表面的第二基層，該第一基層是由一第一樹脂構成，該第二基層是由一第二樹脂構成，該第一、第二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg₁及Tg₂，且5℃≦Tg₁-Tg₂≦17℃。

該第二基層具有多個與該第一基層相反方向向上凸伸且平行延伸的微結構，用以引導光線的行進路徑。

較佳地，該第一、第二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg₁及Tg₂，且7℃≦Tg₁-Tg₂≦15℃。

較佳地，該些微結構是呈三角柱狀、半圓柱狀、半球狀，或是前述截頭三角柱狀、錐狀、半球狀的頂面具有弧狀的凹面。

較佳地，任兩條相鄰微結構之垂直截面間有一谷底，定義連接任兩相鄰谷底的連接線為一基準線，該每一個微結構有一表面，定義該每一個微結構表面的最高處為一頂點，該頂點與該基準線之間有一個最大的垂直距離H，5μm<H<50μm。

較佳地，該頂點與該基準線之間有一個最大的垂直距離H，10μm<H<25μm。

較佳地，該頂點與該基準線之間有一個最大的垂直距離H，15μm<H<23μm。

較佳地，任相鄰的兩個微結構的表面的最高點之間距S，40μm<S<90μm。

較佳地，該相鄰的兩個微結構的表面的最高點之間距S，50μm<S<80μm。

較佳地，該相鄰的兩個微結構的表面的最高點之間距S，55μm<S<75μm。

較佳地，該第一基層的厚度為0.45mm~5mm，該第二基層的厚度為80μm~200μm。

較佳地，該第一樹脂及該第二樹脂分別選自丙烯酸酯系樹脂、甲基丙烯酸酯系樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物、丙烯腈-苯乙烯共聚合物、聚對苯二甲酸乙二酯，及前述其中一組合。

較佳地，該積層的厚度為0.5~5.2mm。

較佳地，該第一基層具有一相對於該些微結構的底面，該光學板還具有多個設置於該底面的反射結構。

較佳地，該反射結構是由多個自該底面凸起的凸點結構或是多個自該底面向內凹陷的凹穴結構所構成。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之一個較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

參閱圖2，本發明具有微結構的光學板的一較佳實施例包含：一個積層2，該積層2為具透光性質，包括一第一基層21及一層具多個微結構3的第二基層22，該每個微結構3各具有一表面31。該第一基層21是由一第一樹脂構成，具有一第一基層表面211及一與該第一基層表面211相對的底面212；該第二基層22由一第二樹脂構成，且連接於該第一基層表面211，該第二基層22具有多個與該第一基層21相反方向向上凸伸且平行延伸的微結構3；其中，該第一、第二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg₁及Tg₂，且5℃≦Tg₁-Tg₂≦17℃；較佳地，7℃≦Tg₁-Tg₂≦15℃。

詳細的說，該第一、第二樹脂分別選自可透光的熱可塑性樹脂所構成，例如：丙烯酸酯系樹脂、甲基丙烯酸酯系樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物、丙烯腈-苯乙烯共聚合物、聚對苯二甲酸乙二酯，及前述其中一組合，且該第一、第二樹脂可為同類或不同類的材料，上述所謂的丙烯酸酯系樹脂及甲基丙烯酸酯系樹脂，是由甲基丙烯酸酯系單體及丙烯酸酯系單體所形成的聚合物，例如聚甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate，簡稱PMMA)，上述丙烯酸酯系單體及甲基丙烯酸酯系單體，包括甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸異丙酯、正-丙烯酸丁酯，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸異丙酯等單體，其中以甲基丙烯酸甲酯單體及丙烯酸甲酯單體為佳。

較佳地，為了讓該第一基層21與第二基層22具有更好的光學性質，該第一樹脂與第二樹脂為選自同類的材料，例如可均為甲基丙烯酸酯系樹脂、聚苯乙烯樹脂、或是聚碳酸酯樹脂等；該積層2的厚度為該些微結構3的表面31與該第一基層21的底面212的最大垂直距離；該第二基層22的厚度為該些微結構3的表面31與該第一基層表面211的最大垂直距離；該第一基層21的厚度為該第一基層表面211與該第一基層21的底面212的最大垂直距離；而，為了不影響該積層2的透光性及減低光線於該積層2的內反射而折損出光強度，較佳地，該積層2的厚度為0.5mm~5.2mm，該第一基層21的厚度為 0.45mm~5mm，且該第二基層22的厚度為80μm~200μm。

要說明的是，該積層2也可是由具有不同玻璃轉換溫度的樹脂層疊而成的三層或三層以上的多層結構，該多層結構的樹脂材料是選擇預形成該些微結構3的層體的玻璃轉換溫度為Tg₁，最遠離該些微結構3的層體的玻璃轉換溫度為Tg₂，且5℃≦Tg₁-Tg₂≦17℃，其餘層體的材料則將玻璃轉換溫度控制在介於該Tg₁與Tg₂之間即可。

該些微結構3是與該第一基層21相反方向向上凸伸且平行延伸。

配合參閱圖2，詳細的說，該些凸伸的微結構3可以是呈三角柱狀、半圓球狀、圓柱狀，或是截頭三角柱狀，或是前述截頭三角柱狀、半圓柱狀的頂面具有弧狀的凹面等對光線具有高折射效果的形狀，以用於導引並改變光的行進方向，藉由該些微結構3的形狀設計及變化，增加光線於接觸該些微結構3時的折射效果，而可用以提昇該光學板的出光均勻性，於本實施例中，該些微結構3是以如圖3所示的三角柱狀為例做說明。

參閱圖3，任兩條相鄰微結構3之垂直截面間有一谷底，定義連接任兩相鄰谷底的連接線為一基準線L，該每一個微結構3有一表面31，定義該每一個微結構3的表面31的最高處為一頂點，該每一個微結構3的頂點與該基準線L之間最大的垂直距離H，較佳地5μm<H<50μm；更佳地，10μm<H<25μm，又更佳地15μm<H<23μm。

較佳地，任相鄰的兩個微結構3的頂點之間距S， 40μm<S<90μm。

較佳地，該相鄰的兩個微結構3的頂點之間距S，50μm<S<80μm。

較佳地，該相鄰的兩個微結構3的頂點之間距S，55μm<S<75μm。

當該每一個微結構3的頂點與該基準線L之間最大的垂直距離H範圍介於5μm<H<50μm，且任相鄰的兩個微結構3的頂點之間距S，40μm<S<90μm，且前述該些微結構3的形狀為截頭三角柱狀、錐狀、半球狀的頂面具有弧狀的凹面，此可提升光學板的出光角度，增加相鄰微結構3間的混光程度，及該光學板整體的光均勻度，還可降低該入光面(也就是光源側)的熱點(hotspot)問題。

當利用該光學板作為習知背光模組的導光板時，光源(以側向式背光模組為例)會自該積層2的一側邊進入該積層2，經折射後朝向該光學板的出光面(即該些微結構3的表面31)發出，而該些設置於該上表面221的微結構3的表面31則可用以改變並導引自該光源發出的光線的行進方向，而讓自該出光面發出的光成為具有高亮度且均勻性佳的面光源。

茲將本發明光學板該較佳實施例的製作方法說明如下。

配合參閱圖4，首先，選取一玻璃轉換溫度為Tg₁的第一樹脂，及一玻璃轉換溫度為Tg₂的第二樹脂，且Tg₁>Tg₂；接著，分別將該第一、第二樹脂分別以不同押出 裝置加熱加壓後押出，得到一第一基材101、及一第二基材102，然後再將該第一、第二基材101、102經同一模頭400共同加熱加壓後押出，令該第一與第二基材101、102彼此疊接而得到一積層材100，之後，再將該積層材100通過一滾輪轉寫裝置，以滾輪轉寫方式於該積層材100形成該些微結構3，該積層材100經冷卻形成第一基層21及第二基層22形成的積層2，並經牽引滾輪(圖未示)牽引，即可製得該光學板。

詳細的說，該滾輪轉寫裝置具有至少一個轉寫滾輪200及至少一個與該轉寫滾輪200呈一間隙P設置的第一背壓滾輪300，於圖4中是以一個轉寫滾輪200及一個第一背壓滾輪300，及一個配置於該轉寫滾輪200下游位置的第二背壓滾輪301為例。該轉寫滾輪200的輪面具有複數個轉寫微結構202，相鄰兩個轉寫微結構202之間共同界定一成型空間201，該些成型空間201為與所欲轉印之該些微結構3互相配合，例如當欲轉印形成的微結構3為凸起的三角柱狀，該成型空間201為具有多個呈三角柱狀的凹穴；當欲轉印形成的微結構3為呈凸起的長條錐狀或是長條半圓柱狀，該成型空間201則為具有多條呈錐柱或是半圓柱的凹穴。

當要將該積層材100壓印形成該些微結構3時，須令該積層材100通過該轉寫滾輪200與該第一背壓滾輪300之間的間隙P，並在小於該第一基材101的玻璃轉換溫度Tg₁的條件下，利用該轉寫滾輪200及該第一背壓滾輪300 對該積層材100形成相對輥壓，即可將該成型空間201的結構轉寫於該積層材100，而得到如圖3所示的光學板。

要說明的是，為了可順利藉由滾輪轉寫方式於該積層材100得到高轉寫率的微結構3，因此，滾輪轉寫時須將該積層材100具有較低玻璃轉換溫度的一面朝向該轉寫滾輪200，具有高玻璃轉換溫度的另一面則朝向該第一背壓滾輪300，於本實施例中是將該第二基材102朝向該轉寫滾輪200，而該第一基材101則朝向該第一背壓滾輪300，據此，在滾輪轉寫時，由於該第二基材102具有相對較低的玻璃轉換溫度，因此於轉寫時可較易成型；而因為滾輪轉寫時之加熱溫度為控制在低於該第一基材101的玻璃轉換溫度Tg₁，所以在該第二基材102受壓的同時，該第一基材101可作為一支撐材，承受轉寫過程的應力，維持該第二基材102的平整度，而令該些成型空間201可更完整的轉印至該第二基材102。

該轉寫滾輪200的溫度較佳為90℃~110℃，而第一背壓滾輪300溫度較佳為70℃~90℃，除此之外還可配置有至少一支第二背壓滾輪位301於該轉寫滾輪200的下游位置，溫度為100℃~130℃、至少一支輸送滾輪(圖未示)及至少一支引取滾輪(圖未示)來帶動光學板的移動。上述該些滾輪的材質不限制，可為金屬、橡膠等材質。此外，上述該轉寫滾輪200的位置也可置於該第二背壓滾輪位301的下游位置，即依序為第一背壓滾輪300、第二背壓滾輪位301、轉寫滾輪200排列，該積層材100係通過該第一背壓 滾輪300、第二背壓滾輪301的間隙。上方所述該積層材100經過該轉寫滾輪200與該第二背壓滾輪301時仍需在高溫的狀態下並具備可繞曲性，才能以彎折弧曲的形態通過。因此，該等滾輪溫度如果太低，將使該積層材100冷卻而容易於輸送過程中產生裂縫，而滾輪溫度若太高，該積層材100的流動性太高亦不利於微結構3的成型。

為了獲得高轉寫率之微結構，該轉寫滾輪200之速度較佳為1~20公尺/分鐘，更佳為2~10公尺/分鐘，最佳為3~5公尺/分鐘，且較佳地，該成型空間201凹穴的深度為A，深度A範圍介於30μm<A<100μm，而寬度為B，寬度B範圍介於40μm<B<120μm。

更佳地，本發明之表面具微結構的光學板適用於微結構高度5μm<H<50μm及相鄰的兩個微結構的表面的最高點之間距40μm<S<90μm的微小結構，並具有高轉寫率且表面微結構完整性高的特性。

值得一提的是，本發明該光學板還可具有多個設置於該第一基層21底面212的反射結構(圖未示)。該反射結構可以是多個自該第一基層21的底面212朝向第二基層22方向延伸的凹穴結構，或是多個自該底面212遠離該些微結構3方向凸伸的凸粒結構。

該些微結構3與該些反射結構可以是在滾輪轉寫過程時，利用具有該些轉寫微結構202的轉寫滾輪200及具有多個與該些反射結構配合的轉寫結構(圖未示)的第一背壓滾輪300相對輥壓後而同時形成，或是也可利用網印方式於 該底面212形成凸粒狀的反射結構。

要說明的是，當該些反射結構是凹穴時，則該些微結構3與該些反射結構可在滾輪轉寫過程時，利用具有該些轉寫微結構202的轉寫滾輪200及具有多個與該些反射結構配合的凸起轉寫結構(圖未示)的第一背壓滾輪300相對輥壓後而同時形成，該些呈凹穴的反射結構不僅可進一步增加對光線的折射效果，提升出射光的強度及均勻性，且在熱壓成形的過程中，該些反射結構還會形成背壓作用，令該第二樹脂更易被擠入該些成型空間201中，更有利該些微結構3的形成，而可提升該寫轉寫微結構的轉寫率。

本發明表面具有微結構的光學板的轉寫率測定係取該具有微結構之光學板約1公分作為量測樣品，將該樣品置於光學顯微鏡下量測該光學板的該些微結構3的表面31與該基準線L之最大的垂直距離H，與轉寫滾輪200的成型空間凹穴的深度A，定義該最大的垂直距離H與該成型空間凹穴的深度A比值(H/A)為轉寫率。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下1個具體例及1個比較例的詳細說明中，將可清楚的呈現，但應瞭解的是，該具體例僅為說明之用，而不應被解釋為本發明實施之限制。

具體例

選取具有不同玻璃轉換溫度的聚苯乙烯樹脂分別為第一、二樹脂，並準備一滾輪轉寫裝置。

第一樹脂：奇美實業公司製，產品名ACRYREX CM- 205，Tg₁=115℃。

第二樹脂：奇美實業公司製，產品名ACRYREX CM-211，Tg₂=103℃為第二樹脂，Tg₁-Tg₂=12℃。

如圖4中之滾輪轉寫裝置，該滾輪轉寫裝置具有一個轉寫滾輪及一個與該轉寫滾輪相對位置，並呈一間隙設置的第一背壓滾輪，該轉寫滾輪的下游位置另外置一支第二背壓滾輪，即依序為第一背壓滾輪、轉寫滾輪、第二背壓滾輪的排列方式，其中，該轉寫滾輪具有多個成型空間，該些成型空間凹穴的深度為A=60μm，而寬度為B=100μm的倒三角柱狀的凹穴。該第一背壓滾輪的溫度為80℃，該轉寫滾輪的溫度為100℃，而該第一背壓滾輪的溫度為80℃，而該第二背壓滾輪的溫度為120℃、至少一支輸送滾輪及至少一支引取滾輪來帶動光學板的移動。

先利用一第一押出裝置將該第一樹脂加熱加壓後押出(押出溫度=230℃)，得到一第一基材，再以一第二押出裝置將該第二樹脂加熱加壓後押出(押出溫度=220℃)，得到一第二基材，接著將該第一基材與第二基材經同一個模頭共同加熱押出，令該第一基材與第二基材彼此疊接，即可得到一積層材；接著，以該第二基材朝向該轉寫滾輪方向，令該積層材通過該第一背壓滾輪及該轉寫滾輪的間隙，並藉由該轉寫滾輪及該第一背壓滾輪對該積層材形成相對輥壓，即可於該第二基材形成多個與該些三角柱狀凹穴的形狀相對的三角柱狀微結構，再經冷卻後該第一基材形成該第一基層，該第二基材形成該第二基層，即可得到 該表面具微結構的光學板，且該每一個微結構頂點與該基準線最大的垂直距離H為35μm，任相鄰的兩個微結構的頂點之間的間距S為100μm。該第一基層的厚度為2.85mm，該第二基層的厚度為150μm，該積層的厚度為3mm。量測該光學板的微結構轉寫率為58%(H/A=35μm/60μm×100%)。

<比較例>

同前述該具體例的製造方法，差別在於該比較例的地一、二基層為選用同一種樹脂(奇美實業公司製，產品名ACRYREX CM-205，Tg₁=115℃)，由此製得的表面具微結構的光學板，該每一個微結構的頂點與基準線最大的垂直距離H為9μm，任相鄰的兩個微結構的頂點的間距S為100μm，且該光學板的厚度為3mm。量測該光學板的微結構轉寫率為15%(H/A=9μm/60μm×100%)。

由前述該具體例及比較例的轉寫率量測結果可知，本發明表面具有微結構的光學板不僅製程容易控制、轉寫率高，且該些微結構的結構完整度高，而可利用該些微結構有效提升該光學板的出光均勻性。

綜上所述，本發明的光學板是利用具有不同玻璃轉換溫度的第一基層21及第二基層22做為構成該光學板的主體，並在具有較低之玻璃轉換溫度的該第二基層22上以滾輪轉寫方式形成多個可改變光行進方向的微結構3，該光學板可應用於一般顯示器背光模組的導光板或做為擴光板用，不僅製程簡便、轉寫率高且可有效提升該光學板的擴光效果，故可達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

100‧‧‧積層材

101‧‧‧第一基材

102‧‧‧第二基材

200‧‧‧轉寫滾輪

201‧‧‧成形空間

202‧‧‧轉寫微結構

300‧‧‧第一背壓滾輪

301‧‧‧第二背壓滾輪

400‧‧‧模頭

P‧‧‧間隙

2‧‧‧積層

21‧‧‧第一基層

211‧‧‧第一基層表面

212‧‧‧底面

22‧‧‧第二基層

3‧‧‧微結構

31‧‧‧表面

H‧‧‧垂直距離

S‧‧‧間距

L‧‧‧基準線

圖1是一示意圖，說明習知背光模組的結構；圖2是一示意圖，說明本發明該微結構的不同態樣；圖3是一示意圖，說明本發明光學板的較佳實施例；圖4是一流程示意圖，說明本發明該較佳實施例的製作流程。

2‧‧‧積層

21‧‧‧第一基層

211‧‧‧微結構表面

212‧‧‧底面

22‧‧‧第二基層

3‧‧‧微結構

31‧‧‧表面

H‧‧‧垂直距離

S‧‧‧間距

L‧‧‧基準線

Claims (14)

1. 一種表面具微結構的光學板，包含：一個可透光的積層，包括一第一基層及一形成於該第一基層表面的第二基層，且該第二基層具有多個與該第一基層相反方向向上凸伸且平行延伸的微結構，其中，該第一基層是由一第一樹脂構成，該第二基層是由一第二樹脂構成，該第一、二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg₁及Tg₂，且5℃≦Tg₁-Tg₂≦17℃。
2. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該第一、二樹脂的玻璃轉換溫度分別為Tg₁及Tg₂，且7℃≦Tg₁-Tg₂≦15℃。
3. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該些微結構呈三角柱狀、半圓柱狀、半圓球狀、截頭三角柱狀，或是前述截頭三角柱狀、半圓柱狀的頂面具有弧狀的凹面。
4. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，任兩條相鄰微結構之垂直截面間有一谷底，定義連接任兩相鄰谷底的連接線為一基準線，該每一個微結構有一表面，定義該每一個微結構表面的最高處為一頂點，該頂點與該基準線之間有一個最大的垂直距離H，5μm<H<50μm。
5. 依據申請專利範圍第4項所述的表面具微結構的光學板，其中，10μm<H<25μm。
6. 依據申請專利範圍第4項所述的表面具微結構的光學 板，其中，15μm<H<23μm。
7. 依據申請專利範圍第5項所述的表面具微結構的光學板，其中，任相鄰兩個微結構的頂點的間距S，40μm<S<90μm。
8. 依據申請專利範圍第8項所述的表面具微結構的光學板，其中，50μm<S<80μm。
9. 依據申請專利範圍第8項所述的表面具微結構的光學板，其中，55μm<S<75μm。
10. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該第一基層的厚度為0.45mm~5 mm，該第二基層的厚度為50μm~200μm。
11. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該第一樹脂及該第二樹脂分別選自丙烯酸酯系樹脂、甲基丙烯酸酯系樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、甲基丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚合物、丙烯腈-苯乙烯共聚合物、聚對苯二甲酸乙二酯，及前述其中一組合。
12. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該積層的厚度為0.5mm~5.2mm。
13. 依據申請專利範圍第1項所述的表面具微結構的光學板，其中，該第一基層具有一相對於該些微結構的底面，該光學板還具有多個設置於該底面的反射結構。
14. 依據申請專利範圍第13項所述的表面具微結構的光學板，其中，該反射結構是由多個自該底面凸起的凸點結 構或是多個自該底面向內凹陷的凹穴結構所構成。