TW201346896A - 光資訊記錄媒體及光資訊記錄媒體用疊層體 - Google Patents

Abstract

本發明係提供一種無需嚴格控制膜厚，而可抑制由界面反射所引起之再生光或記錄光之干擾之光資訊記錄媒體。光資訊記錄媒體具備疊層而成之複數個樹脂層。樹脂層間之界面中之至少一者具有於樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。

Description

光資訊記錄媒體及光資訊記錄媒體用疊層體

本發明係關於一種光資訊記錄媒體及用於其之光資訊記錄媒體用疊層體。詳細而言係關於一種藉由光之照射可形成記錄標記之光資訊記錄媒體。

先前，作為光資訊記錄媒體，CD(Compact Disc，緊密光碟)、DVD(Digital Versatile Disc，數位影音光碟)及Blu-ray Disc(藍光光碟)(註冊商標)等廣泛普及。然而，近年來，隨著利用電視之高畫質化及PC(Personal Computer，個人電腦)處理之資料之急劇增多，則期望有光資訊記錄媒體之更大容量化。

因此，作為使光資訊記錄媒體大容量化之方法之一種，揭示有於光資訊記錄媒體之厚度方向上三維地記錄資訊之方法。作為採用此種方法之光資訊記錄媒體，有使記錄層中含有藉由光子吸收發泡而成之記錄材料，藉由照射光束形成作為孔隙(void)之記錄標記之方式(以下，稱為「孔隙記錄方式」)者(例如參考專利文獻1)。

然而，因孔隙記錄方式係如上所述之形成孔隙作為記錄標記之方式，故記錄資訊信號需要非常高之雷射功率。因此，揭示有為了降低記錄資訊信號所必需之雷射功率，而於疊層而成之複數個樹脂層間之界面上形成記錄標記之方式(以下，稱為「界面記錄方式」)(例如參考專利文獻2)。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2008-176902號公報

[專利文獻2]日本專利特開2011-86327號公報

然而，於上述之界面記錄方式中，若樹脂層之厚度為大致波長之厚度，則由樹脂層之上側(入射側)之界面反射之再生光或記錄光，與由下側(背面側)之界面反射之再生光或記錄光之干擾之影響顯著。 其源自：利用透鏡所得之收斂．發散光自各界面之各個反射光之光程差越小則干擾之影響越大。為了抑制此種干擾之影響，而需要嚴格控制樹脂層之膜厚。嚴格之膜厚控制則需要較高之技術形成樹脂層，而導致增加形成成本。

因此，本技術之目的在於：提供一種即便未嚴格控制膜厚，亦可抑制由鄰近之2個以上之界面反射所引起之再生光或記錄光之干擾之光資訊記錄媒體及使用其之光資訊記錄媒體用疊層體。

為了解決上述之問題，第1技術係光一種光資訊記錄媒體，其具有疊層而成之複數個樹脂層，樹脂層間之界面中之至少一者具有於樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。

第2技術係一種光資訊記錄媒體用疊層體，其具有疊層而成之複數個樹脂層，且具有可於複數個樹脂層之界面上形成資訊標記之構成，樹脂層間之界面中至少一者具有於樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。

本技術中，於具有於樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率之 界面上，可抑制再生光或記錄光之反射。因此，即便未控制樹脂層之膜厚，亦可抑制由界面反射所引起之再生光或記錄光之干擾。

如以上所說明，根據本技術，無需嚴格控制膜厚，亦可抑制由界面反射所引起之再生光或記錄光之干擾。

1‧‧‧主體層(疊層體)

2‧‧‧選擇反射層

3‧‧‧覆蓋層

4‧‧‧基板

10‧‧‧光資訊記錄媒體

11‧‧‧樹脂層

11a‧‧‧記錄層(第1樹脂層)

11b‧‧‧中間層(第2樹脂層)

12a‧‧‧第1樹脂組合物

12b‧‧‧第2樹脂組合物

13‧‧‧半固化膜

21a‧‧‧塗佈裝置

21b‧‧‧塗佈裝置

22a‧‧‧輻射源

22b‧‧‧輻射源

23a‧‧‧輻射源

23b‧‧‧輻射源

23c‧‧‧輻射源

31‧‧‧保護片

41a‧‧‧塗佈輥

41b‧‧‧塗佈輥

42a‧‧‧壓合輥

42b‧‧‧壓合輥

43a‧‧‧刮刀

43b‧‧‧刮刀

44a‧‧‧儲液部

44b‧‧‧儲液部

45a‧‧‧半固化處理部

45b‧‧‧固化處理部

B1‧‧‧第1界面

B2‧‧‧第2界面

圖1係表示本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之一構成例之概略剖面圖。

圖2係表示主體層之一構成例之概略剖面圖。

圖3A~圖3C係用以說明本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之製造方法之一例之步驟圖。

圖4A~圖4C係用以說明本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之製造方法之一例之步驟圖。

圖5係表示本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之其他之構成例之概略剖面圖。

圖6A~圖6C係用以說明本技術之第2實施形態之光資訊記錄媒體之製造方法之一例之步驟圖。

圖7係用以說明主體層之形成方法之一例之簡略線圖。

圖8係表示試驗例1之模擬之模型之圖。

圖9A~圖9C係表示試驗例2-1~2-3之模擬之模型之圖。

圖10A~圖10C係表示試驗例3-1~3-3之模擬之模型之圖。

圖11A~圖11C係表示試驗例4-1~4-3之模擬之模型之圖。

圖12A~圖12D係表示試驗例5-1~5-4之模擬之模型之圖。

圖13A~圖13D係表示試驗例5-5之模擬之模型之圖。

圖14A~圖14D係用以說明本技術之第3實施形態之光資訊記錄媒體之製造方法之一例之步驟圖。

圖15A~圖15C係用以說明本技術之第3實施形態之光資訊記錄媒體之製造方法之一例之步驟圖。

對本技術之實施形態一面參考圖式一面按照以下之順序進行說明。

1.第1實施形態(將資訊信號記錄於界面之光資訊記錄媒體之例)

2.第2實施形態(使用輥對輥方式之製造方法之例)

3.第3實施形態(使用紫外線照射之製造方法之例)

<1.第1實施形態>

[光資訊記錄媒體之構成]

圖1係表示本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之一構成例之概略剖面圖。如圖1所示，光資訊記錄媒體10包括：主體層1、設置於主體層1上之選擇反射層2、設置於選擇反射層2上之覆蓋層3。光資訊記錄媒體10可進而於與覆蓋層3相反側之面上具備基板4。光資訊記錄媒體10整體具有大致圓板狀之形狀，於其中央部設置有夾持用之開口部(以下稱為中孔)。

於該第1實施形態之光資訊記錄媒體10上，藉由使該光資訊記錄媒體10旋轉驅動，並且自該覆蓋層3側之表面向主體層1中之界面B照射雷射光，而進行資訊信號之記錄或再生。以下，將雷射光入射之側之面稱為入射面，將與其相反側之面稱為背面。

以下，依次對構成光資訊記錄媒體10之覆蓋層3、選擇反射層2、主體層1及基板4進行說明。

(覆蓋層)

覆蓋層3只要係具有透明性者即可，並不特別限定，可使用各種之材料，例如，可使用具有透明性之塑膠材料等有機材料，玻璃等無機材料。作為塑膠材料，例如可使用眾所周知之高分子材料。作為眾 所周知之高分子材料，例如可列舉：聚碳酸酯(PC，Poly Carbonate)、丙烯酸系樹脂(PMMA，Poly Methyl Meth Acrylate)、環烯烴聚合物(COP，Cyclo Olefin Polymer)、三醋酸纖維素(TAC，Tri Acetyl Cellulose)、聚酯(TPEE，Thermoplastic Polyester Elastom Er)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET，Poly Ethylene Terephthalate)、聚萘二甲酸乙二酯(PEN，Poly Ethylene Naphthalate)、聚醯亞胺(PI，Poly Imide)、聚醯胺(PA，Poly Amide)、芳族聚醯胺、聚乙烯(PE，Poly Ethylene)、聚丙烯酸酯、聚醚碸、聚碸、聚丙烯(PP，Poly Propylene)、二乙醯基纖維素、聚氯乙烯、環氧樹脂、尿素樹脂、胺基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂等。作為無機材料，例如可列舉：石英、藍寶石、玻璃等。

覆蓋層3例如具有於中央形成有中孔之大致圓板形狀。該覆蓋層3之一主面例如為凹凸面，於該凹凸面上設置有選擇反射層2。凹凸面係藉由用以引導記錄或再生位置之引導槽而形成者。作為自光資訊記錄媒體10之一主面側觀察時之引導槽之整體形狀，例如可列舉螺旋狀、同心圓狀等各種形狀。

作為引導槽，例如可使用連續槽(groove)、訊坑列或該等之組合。為了附加線速度之穩定化或位置資訊(例如旋轉角度資訊及半徑位置資訊等)，亦可使引導槽蜿蜒。

(選擇反射層)

選擇反射層2係設置於覆蓋層3之凹凸面側。於該光資訊記錄媒體10上，與用以對主體層1進行標記記錄之記錄光(第1雷射光)不同，向選擇反射層2另行照射伺服光(第2雷射光)，該伺服光基於上述覆蓋層3之引導槽且用以獲得追蹤或聚焦之錯誤信號。於照射記錄光時，若選擇反射層反射或吸收記錄光，則到達主體層1內之記錄光量衰減且使表觀之記錄感光度降低。因此，作為選擇反射層2，較佳為使用 具有伺服光反射且記錄光大致全部透過之選擇性之反射層。

於該光資訊記錄媒體10中，例如，作為記錄光及伺服光係分別使用波長不同之雷射光。作為選擇反射層2，例如使用以下之選擇反射層：相對於與伺服光相同之波段之光之反射，具有可透過除其以外之波長之光(例如記錄光)之波長選擇性。

作為選擇反射層2，例如，可使用交替疊層複數個折射率不同之低折射率層及高折射率層而成之疊層膜。作為低折射率層及高折射率層，例如可使用介電層。作為介電層之材料，例如可使用氮化矽、氧化矽、氧化鉭、氧化鈦、氟化鎂、氧化鋅等。

(主體層)

主體層1係疊層複數個樹脂層而成之疊層體(光資訊記錄媒體用疊層體)，於樹脂層間形成有界面。主體層1具有可於複數個樹脂層之界面上形成資訊標記之構成。鄰接之樹脂層彼此例如具有互相不同之折射率。樹脂層間之界面中之至少一者具有於樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。若就再生光或記錄光之反射率降低及透過率提高之觀點而言，該折射率之變化較佳為連續性之變化，更佳為自形成界面之一樹脂層之折射率向另一樹脂層之折射率傾斜之變化。

若將主體層1中之複數個界面視為以相鄰之2個界面形成一組之情形時，較佳為：形成一組之界面中之一者具有於樹脂層之厚度方向上連續變化之折射率，而另一者則不連續性地變化。由此，可抑制由形成一組之界面而引起之記錄光或再生光之多重干擾。於採用上述之界面之構成之情形時，記錄標記例如形成於不連續變化之界面上。

更具體而言，如圖1所示，主體層1係疊層複數個樹脂層11a、11b而成之疊層體(光資訊記錄媒體用疊層體)，且按疊層之順序分別於樹脂層11a-11b之間形成有界面B1，同樣的於樹脂層11b-11a之間形成有界面B2。主體層1例如具有可於界面B1上形成資訊標記之構成。鄰接 之樹脂層11a、11b彼此例如具有互相不同之折射率。又，例如於界面B1上，具有自樹脂層11a向11b於厚度方向逐漸變化之折射率。若就再生光或記錄光之反射率降低及透過率提高之觀點而言，則折射率逐漸變化之情況較佳為連續性之變化，更佳為自形成界面之一樹脂層11a之折射率向另一樹脂層11b之折射率傾斜之變化。於界面B1上折射率逐漸變化之轉移區域之寬度較佳為大致100 nm以上且大致1 μm以下。

於主體層1內，於樹脂層11a或11b之至少一者之厚度為足以干擾經聚光之記錄光或再生光之波長之程度之薄度(大致5 μm以下)之情形時，較佳為：界面B1具有於樹脂層11之厚度方向上連續性地變化之折射率，而界面B2則不連續性地變化。由此，可抑制由相鄰之界面B1與界面B2所引起之記錄光或再生光之多重干擾。於採用上述之界面B之構成之情形時，記錄標記例如形成於不連續性地變化之界面B2上。

形成折射率逐漸變化之界面之2個樹脂層11a及11b，較佳為於該界面中相溶。所謂此情形之相溶，係表示該等2個樹脂層11a與11b之材料組成於自11a向11b之膜厚方向之大致100 nm以上之轉移區域連續性地變化組成。由此，可於樹脂層11a與11b之界面上，於厚度方向上逐漸變化折射率。

圖2係表示主體層之構成之一例之剖面圖。如圖2所示，主體層1係交替疊層複數個作為第1樹脂層之記錄層11a，及作為第2樹脂層之中間層11b而成之疊層體。主體層1係具有藉由記錄層11a及中間層11b而形成之複數個第1界面B1及第2界面B2。第1界面B1係藉由記錄層11a與其入射面側之中間層11b而形成之界面，第2界面B2係藉由記錄層11a與其背面側之中間層11b而形成之界面。較佳為：第1界面B1及第2界面B2中之一界面之折射率之變化為連續，而另一界面之折射率之變化則為不連續。由此，可抑制由第1界面B1及第2界面B2所引起 之記錄光或再生光之干擾之影響。於採用上述之第1界面B1及第2界面B2之構成之情形時，記錄標記例如形成於第1界面B1及第2界面B2中不連續變化之界面上。

記錄層11a之平均厚度較佳為30 nm以上且5 μm以下，更佳為30 nm以上且1 μm以下之範圍內。若記錄層11a之平均厚度為5 μm以下，尤其為1 μm以下，則存在以下之傾向：記錄層11a之入射面側之界面B1與背面側之界面B2之反射光之干擾之影響視為不可忽視之程度。另一方面，若記錄層11a之平均厚度超過5 μm，則存在以下之傾向：記錄層11a之入射面側之界面B1與背面側之界面B2之反射光之干擾之影響視為可忽視之程度，即作為聚焦錯誤信號而可分離之程度。

例如，於使用波長405 nm之再生光，並將記錄層11a之折射率設定為1.3~1.8之範圍之情形時，由於由干擾所引起之光學增強效果，表觀之反射光極大時之膜厚於折射率n=1.3時約為80 nm，於折射率n=1.8時約為55 nm。因此，於薄於折射率n=1.8時之約一半之膜厚30 nm之厚度之薄膜上，無需擔心表面及背面之光學干擾，因而無需採取本發明之措施。因此，可設置30 nm作為記錄層11a之平均厚度之下限值。

記錄層11a之平均厚度成為第1界面B1與第2界面B2之間之平均距離，於該等界面中之一界面上，於形成該界面之記錄層11a及中間層11b之材料相溶之情形時，如下所述規定界面之位置。即，於將記錄層11a之材料之組成設為A，將中間層之材料之組成設為B之情形時，規定組成B平均為90 mol%之位置為界面之位置。

作為記錄層11a及中間層11b之材料，例如，係使用具有互相不同之折射率之材料。作為記錄層11a及中間層11b之材料，例如，可使用有機材料、有機無機複合材料。記錄層11a及中間層11b至少一者亦可視需要含有添加劑。於記錄層11a及中間層11b至少一者含有添加劑之 情形時，藉由於第1界面B1或第2界面B2上變化添加劑之濃度，可使第1界面B1或第2界面B2之折射率逐漸變化。

作為有機材料，例如可使用選自由熱塑性樹脂、熱固性樹脂及能量線固性樹脂等所組成之群中至少一種。

作為熱塑性樹脂，例如，可使用如聚對苯二甲酸乙二酯、聚乙烯2,6-萘二甲酸酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯之芳香族聚酯，或如聚乙烯、聚丙烯之聚烯烴。或者，可使用如聚苯乙烯之聚乙烯、如尼龍66(聚(乙二胺-共聚-己二酸))之聚醯胺、如雙酚A聚碳酸酯之芳香族聚碳酸酯。又，亦可使用聚碸等之均聚物或以該等之共聚物為主成分之樹脂、氟碳樹脂等。又，可使用該等例示之樹脂之混合體。

作為熱固性樹脂，例如可使用酚樹脂、三聚氰胺樹脂、脲樹脂、環氧樹脂等。尤其就通用性(例如、光學設計或光吸收功能等)之方面而言，較佳為於末端具有環氧基之樹脂。

能量線固性樹脂係可藉由照射能量線使其固化之樹脂。所謂能量線，係表示可成為電子束、紫外線、紅外線、雷射光線、可見光線、游離輻射(X射線、α射線、β射線、γ射線等)、微波、高頻等之自由基、陽離子、陰離子等之聚合反應之誘因之能量線。能量線固性樹脂組合物亦可為有機無機複合材料。又，可混合2種以上之能量線固性樹脂組合物而使用。作為能量線固化樹脂組合物，較佳為使用利用紫外線進行固化之紫外線固化樹脂。

作為紫外線固化樹脂，例如，可使用具有1個或2個以上之(甲基)丙烯醯基之化合物。此處，(甲基)丙烯醯基係指丙烯醯基或甲基丙烯醯基。作為紫外線固化樹脂，具體而言，例如，可使用自東亞合成股份有限公司製之ARONIX(光固化樹脂)系列，任意調合單體量之紫外線固化樹脂。作為紫外線固化樹脂之單官能單體，例如，可使用大坂燃氣化學公司製之異丁基丙烯酸酯、第三-丁基丙烯酸酯、異辛基丙 烯酸酯、月桂基丙烯酸酯、硬脂基丙烯酸酯等。即便於使用由於具有氟元素或硫元素而表面性(表面張力)不同之樹脂材料之情形時，亦可於第1界面B1或第2界面B2上使樹脂材料相溶，並可使第1界面B1或第2界面B2附近之膜厚方向之轉移區域之折射率逐漸變化。

作為有機無機複合材料，例如，可使用將有機材料及無機材料於奈米級進行複合化之奈米複合材料。藉由製備奈米複合材料之組成，可使第1界面B1或第2界面B2之折射率逐漸變化。

於具有上述之構成之光資訊記錄媒體10中，如下所述記錄資訊信號。若記錄層11a吸收雷射光，則產生熱，利用該發熱而自身變形(例如熱膨脹而變為凸形狀等)。而且，藉由中間層11b仿照該變形而界面自平面變形為曲面，而形成記錄標記(相位訊坑)。聚集雷射光而記錄之位置較佳為自界面略微偏向記錄層11a，但記錄位置並不限定於該例，例如，聚集雷射光而記錄之位置亦可自界面略微偏向中間層11b。

(基板)

基板4例如具有設置於中央部之中孔之大致圓板形狀。作為基板4之材料，可使用具有透明性或不透明性之材料之任一種，例如，可使用塑膠材料或玻璃，就成形性之觀點而言，較佳為使用塑膠材料。作為塑膠材料，例如，可使用聚碳酸酯系樹脂、聚烯烴系樹脂、丙烯酸系樹脂等，就成本之觀點而言，較佳為使用聚碳酸系樹脂。

[光資訊記錄媒體之製造方法]

以下，一面參考圖3A~圖3C，一面對本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體10之製造方法之一例進行說明。

(第1塗佈步驟)

首先，如圖3A所示，藉由塗佈裝置21a向基板4之內周部滴下第1樹脂組合物12a，將滴下之第1樹脂組合物12a藉由旋轉塗佈法向基板4 之外周方向延伸，於基板4上形成均勻厚度之塗膜。作為第1樹脂組合物12a，例如可使用熱固性樹脂或紫外線固化樹脂。再者，本製造方法可使用之樹脂組合物並不限定於此，亦可使用如上所述之除紫外線固化樹脂之外之能量線固性樹脂或熱塑性樹脂等。

[半固化步驟]

其次，如圖3B所示，藉由自輻射源22a照射紅外線或紫外線，而使形成於基板4上之塗膜半固化。由此，於基板4上形成均勻厚度之半固化膜13。作為紅外線照射用之輻射源22a，例如可使用IR(infrared，紅外線)燈，作為紫外線照射用之輻射源22a，例如可使用UV(ultraviolet，紫外線)燈。

於使用熱固性樹脂作為第1樹脂組合物12a之情形時，藉由調整紅外線之照射時間及照射後之等待時間，可使塗膜成為半固化狀態。於使用紫外線固化樹脂作為第1樹脂組合物12a之情形時，藉由調整紫外線之Dose量(累積光量)，可使塗膜成為半固化狀態。紫外線之Dose量較佳為設定為全固化塗膜時之Dose量之80%以下。

(第2塗佈步驟)

其次，如圖3C所示，藉由塗佈裝置21b而於基板4之內周部滴下第2樹脂組合物12b，將滴下之第2樹脂組合物12b藉由旋轉塗佈法向基板4之外周方向延伸，於半固化膜13上形成均勻厚度之塗膜。作為第2樹脂組合物12b，例如可使用熱固性樹脂或紫外線固化樹脂。再者，本製造方法可使用之樹脂組合物並不限定於此，亦可使用如上所述之除紫外線固化樹脂之外之能量線固性樹脂或熱塑性樹脂等。

(全固化步驟)

其次，如圖4A所示，藉由來自輻射源22b之紅外線照射或紫外線照射，而使形成於半固化膜13上之含有第2樹脂組合物12b之塗膜全固化，並且使含有第1樹脂組合物12a之半固化膜13全固化。由此，於基 板4上形成記錄層11a及中間層11b。此時，於第1樹脂組合物12a與第2樹脂組合物12b之間形成折射率逐漸變化之界面B1。作為紅外線照射用之輻射源22b，例如可使用IR燈，作為紫外線照射用之輻射源22b，例如可使用UV燈。

(疊層步驟)

其次，反覆進行複數次自「第1塗佈步驟」至「全固化步驟」之步驟。由此，如圖4B所示，於基板4上交替疊層複數個記錄層11a及中間層11b，於基板4上形成主體層1。此時，於記錄層11a與中間層11b之間形成折射率逐漸變化之界面B1，於中間層11b與記錄層11a之間形成折射率不連續變化之界面B2。

其次，如圖4C所示，將形成有選擇反射層2之覆蓋層3貼合於形成於基板4上之主體層1之一主面。由此，可獲得作為目標之光資訊記錄媒體10。

[效果]

根據第1實施形態，於形成於樹脂層11a上且具有於樹脂層11b之厚度方向連續性地變化之折射率之界面B1上，可抑制記錄光或再生光之反射。因此，即便未嚴格控制樹脂層11b之膜厚，亦可抑制由樹脂層11b之上表面與下表面2個界面所引起之反射光之干擾之影響。 又，可於形成於複數個樹脂層11b上且樹脂層11a之間之不連續變化折射率之界面B2上形成記錄標記。由此，藉由向界面B2照射再生光並將其返回光作為再生信號，可檢測出上述記錄標記之存在之有無。

設置於記錄層11之兩側之第1界面B1及第2界面B2中之一界面之折射率連續性地變化，而另一界面之折射率之變化則不連續性地變化，於此情形時，可抑制由第1界面B1及第2界面B2所引起之界面反射光之干擾。

(變化例)

圖5係表示本技術之第1實施形態之光資訊記錄媒體之其他之構成例之概略剖面圖。作為光資訊記錄媒體10之構成，如圖5所示，可採用於基板4之一主面上，依次疊層選擇反射層2、主體層1及覆蓋層3之疊層構造。該構成中，於基板4之表面設置有成為用以引導記錄或再生位置之引導槽之凹凸面。

作為選擇反射層2，較佳為有效反射伺服光，且抑制記錄光之反射者。作為抑制記錄光之反射之原因，可列舉防止由選擇反射層2反射之雜散光對記錄動作產生影響。作為此種構成所使用之選擇反射層2，例如除交替疊層上述之低折射率層及高折射率層之疊層膜之外，亦可使用Ag、Cu、Au等之合金之薄膜，或氮化鈦等之薄膜等。

<2.第2實施形態>

以下，參考圖6A~圖6C，對本技術之第2實施形態之光資訊記錄媒體10之製造方法之一例進行說明。

首先，如圖6A所示，形成交替疊層有複數個記錄層11a及中間層11b之主體層(光資訊記錄媒體用疊層體)1。該主體層1例如藉由將帶狀之疊層膜(光資訊記錄媒體用疊層體)沖裁成圓板狀而形成。該主體層1之詳細形成方法將於下文敍述。

其次，如圖6B所示，經由貼合劑將形成有選擇反射層2之覆蓋層3貼合於主體層1之一主面上。作為貼合劑，例如，可使用紫外線固化樹脂等之感光性樹脂、感壓性黏著劑(PSA：Pressure Sensitive Adhesive)等。

其次，視需要，如圖6C所示，經由貼合劑將基板4貼合於主體層1之其他主面上。作為貼合劑，例如，可使用紫外線固化樹脂等之感光性樹脂、感壓性黏著劑等。

由此，可獲得作為目標之光資訊記錄媒體10。

其次，參考圖7，對主體層之形成方法之一例進行說明。

(第1塗佈步驟)

首先，將塗佈輥41a之一部分浸漬於儲存於儲液部44a中之第1樹脂組合物12a中，旋轉塗佈輥41a，藉此將第1樹脂組合物12a利用塗佈輥41a之表面向上提昇。其次，將利用塗佈輥41a之表面向上提昇之第1樹脂組合物12a中之多餘部分藉由刮刀43a清除。其次，利用壓合輥42a與塗佈輥41a夾入保護片31，為將第1樹脂組合物12a均勻轉移至保護片31上，而藉由壓合輥42a於塗佈輥41a上按壓保護片31。由此，於保護片31之表面形成均勻之塗膜。再者，亦可為於保護片31之塗佈面側預先設置有記錄片之構成。構成記錄片之樹脂層11a、11b與用於藉由上述之旋轉塗佈法疊層時之樹脂層11a、11b之功能或材料相同。

(半固化步驟)

其次，將保護片31搬送至半固化處理部45a，使形成於保護片31上之塗膜半固化。由此，於保護片31之表面上形成均勻之半固化層。

半固化處理部45a例如係可照射紫外線或照射紅外線之構成之單元。於第1樹脂組合物為紫外線固化樹脂之情形時，作為半固化處理部45a，例如，可使用紫外線照射單元。於第1樹脂組合物為熱固化樹脂之情形時，作為半固化處理部45a，例如，可使用乾燥器(加熱器)。

於使用熱固性樹脂作為第1樹脂組合物12a之情形時，藉由調整紅外線之照射時間及照射後之等待時間，可使塗膜為半固化狀態。於使用紫外線固化樹脂作為第1樹脂組合物12a之情形時，藉由調整紫外線之Dose量(累積光量)，可使塗膜為半固化狀態。紫外線之Dose量較佳為設定為全固化塗膜時之Dose量之80%以下。

(第2塗佈步驟)

其次，將塗佈輥41b之一部分浸漬於儲存於儲液部44b中之第2樹脂組合物12b中，旋轉塗佈輥41b，藉此將第2樹脂組合物12b利用塗佈 輥41b之表面向上提昇。其次，將利用塗佈輥41b之表面向上提昇之第2樹脂組合物12b中之多餘部分藉由刮刀43b清除。其次，利用壓合輥42b與塗佈輥41b夾入形成有半固化層之保護片31，為將第2樹脂組合物12a均勻轉移至保護片31上，而藉由壓合輥42a於塗佈輥41a上按壓保護片31。由此，於半固化層之表面形成均勻之塗膜。

(全固化步驟)

其次，將保護片31搬送至固化處理部45b，使形成於半固化層上之塗膜固化，並且使半固化層全固化。由此，於保護片31之表面形成記錄層11a及中間層11b。固化處理部45b例如為可照射紫外線或紅外線之構成之單元。於第2樹脂組合物為紫外線固化樹脂之情形時，作為固化處理部45b，例如，可使用UV照射單元。於第2樹脂組合物為熱固化樹脂之情形時，作為固化處理部45b，例如，可使用乾燥器(加熱器)。

(疊層步驟)

其次，經由搬送輥45，將形成有記錄層11a及中間層11b之保護片31搬送至下一步驟。其次，作為下一步驟，反覆進行複數次自上述之「第1塗佈步驟」至「全固化步驟」之步驟。由此，於保護片31上交替疊層複數個記錄層11a及中間層11b而於保護片31上形成主體層1。於最終步驟中，亦可將保護片31自主體層1剝離，並將主體層1及保護片31捲取至另一輥。

由此，可獲得作為目的之膜狀之主體層(光資訊記錄媒體用疊層體)。

<3.第3實施形態>

以下，參考圖14A~圖15C，對本技術之第3實施形態之光資訊記錄媒體10之製造方法之一例進行說明。

(第1塗佈步驟)

首先，如圖14A所示，藉由塗佈裝置21a而向基板4之內周部滴下第1樹脂組合物12a，將滴下之第1樹脂組合物12a藉由旋轉塗佈法向基板4之外周方向延伸，而於基板4上形成均勻厚度之塗膜。作為第1樹脂組合物12a，例如，可使用熱固性樹脂或紫外線固化樹脂。再者，本製造方法中可使用之樹脂組合物並不限定於此，亦可使用除紫外線固化樹脂之外之能量線固性樹脂或熱塑性樹脂等。

(第1固化步驟)

其次，如圖14B所示，藉由來自輻射源23a之紅外線照射或紫外線照射，而使形成於基板4上之含有第1樹脂組合物12a之塗膜固化。由此，於基板4上形成均勻厚度之記錄層11a。作為紅外線照射用之輻射源23a，例如可使用IR燈，作為紫外線照射用之輻射源23a，例如可使用UV燈。作為UV燈，例如可使用高壓水銀燈、UV閃光燈或H BULB等。

(照射步驟)

其次，如圖14C所示，藉由來自輻射源23b之紫外線照射，而於記錄層11a之表面形成具有線性吸收之氧化層。氧化層具有氧濃度自其表面向厚度方向連續性地降低之濃度分佈。又，於該氧化層上，折射率於厚度方向上連續性地變化。作為紫外線照射用之輻射源23b，例如可使用高壓水銀燈、UV閃光燈或H BULB等之UV燈。再者，來自輻射源23b之紫外線照射之照射功率設定為高於來自輻射源23a之紫外線照射之照射功率。

(第2塗佈步驟)

其次，如圖14D所示，藉由塗佈裝置21b而向基板4之內周部滴下第2樹脂組合物12b，將滴下之第2樹脂組合物12b藉由旋轉塗佈法向基板4之外周方向延伸，於記錄層11a上形成均勻厚度之塗膜。作為第2樹脂組合物12b，例如可使用熱固性樹脂或紫外線固化樹脂。再者， 本製造方法中可使用之樹脂組合物並不限定於此，亦可使用除紫外線固化樹脂之外之能量線固性樹脂或熱塑性樹脂等。

(第2固化步驟)

其次，如圖15A所示，藉由來自輻射源23c之紅外線照射或紫外線照射，而使形成於記錄層11a上之含有第2樹脂組合物12b之塗膜固化。由此，於基板4上形成記錄層11a及中間層11b。作為紅外線照射用之輻射源23c，例如可使用IR燈，作為紫外線照射用之輻射源23c，例如可使用UV燈。

(疊層步驟)

其次，反覆進行複數次自「第1塗佈步驟」至「第2固化步驟」之步驟。由此，如圖15B所示，於基板4上交替疊層複數個記錄層11a及中間層11b，於基板4上形成主體層1。

其次，如圖15C所示，將形成有選擇反射層2之覆蓋層3貼合於形成於基板4上之主體層1之一主面。由此，可獲得作為目標之光資訊記錄媒體10。

於以如上述之方法製造而成之光資訊記錄媒體10中，較佳為記錄標記形成於設置有氧化層之記錄層11a與中間層11b之界面。此係因為氧化層作為光吸收層而發揮功能，記錄標記之形成容易。

[實施例]

以下，根據實施例對本技術進行具體說明，但本技術並不僅限定於該等之實施例。

按以下之順序對實施例及試驗例進行說明。

1.根據製作樣品之研究(1)

2.根據製作樣品之研究(2)

3.根據模擬之研究

<1.根據製作樣品之研究(1)>

製作於界面上折射率連續性地變化之樣品、與於界面上折射率不連續性地變化之樣品，對反射光量進行評估。

(實施例1)

首先，準備直徑120 mm、且中心具有直徑15 mm之中孔之玻璃基板作為基板。其次，藉由旋轉塗佈法，而於玻璃基板上塗佈記錄層形成用之丙烯酸系紫外線固化樹脂B，於形成約50 μm厚度之塗膜後，照射0.37 J/cm²之紫外線而使其半固化。由此，於玻璃基板上形成半固化層。此處，紫外線之Dose量設定為使塗膜全固化時之Dose量之80%以下。

其次，藉由旋轉塗佈法，而將樹脂薄膜形成用之丙烯酸系紫外線固化樹脂A塗佈於半固化層上，形成約2 μm厚度之塗膜。由此，使樹脂薄膜形成用之丙烯酸系紫外線固化樹脂A與處於半固化狀態之記錄層形成用之丙烯酸系紫外線固化樹脂B於界面a2相溶。其次，藉由紫外線照射，使而形成於半固化層上之塗膜固化，並且使上述半固化層全固化，藉此於玻璃基板上形成記錄層及樹脂薄膜。

其次，準備於單面形成無色透明之厚度為25 μm之黏著劑樹脂層C、且於中心具有中孔之厚度為75 μm之聚碳酸酯製膜。其次，藉由將該膜經由黏著劑層貼合於樹脂薄膜上，而於記錄層上形成覆蓋層。

再者，以基板與記錄層之折射率差成為0.05以下，記錄層與樹脂薄膜之折射率差成為0.1以上，樹脂薄膜與黏著層之折射率差成為0.2以上之方式，選擇基板、記錄層、樹脂薄膜及黏著層之材料。

由此，可獲得作為目標之光資訊記錄媒體。

(比較例1)

藉由將丙烯酸系紫外線固化樹脂B塗佈於玻璃基板上，形成塗膜後，照射紫外線使其全固化，而於玻璃基板上形成記錄層，除上述之外之步驟與實施例1相同，而獲得光資訊記錄媒體。

(反射光量之評估)

對以如上述之方法而獲得之實施例1、比較例1之光資訊記錄媒體之反射光量以如下之方式進行評估。於樹脂薄膜A與黏著劑樹脂層C之界面a1上聚焦再生光，一面進行聚焦一面監視旋轉光資訊記錄媒體時之反射光量。其結果，於比較例1中，確認推測為由來自界面a2之反射光之影響所引起之光量變動。於上述評估之情形時，作為來自界面之反射，考慮為記錄層B-樹脂薄膜A之界面a2、樹脂薄膜A-黏著劑樹脂層C之界面a1之2個界面反射，並考慮為由來自該等2個界面之反射光而引起之光量變動。另一方面，於實施例1中，推測為由界面反射所引起之反射光之干擾之影響而引起之光量變動幾乎未得到確認。其考慮為以下原因：於實施例1中，與比較例1相同，記錄層與樹脂薄膜之折射率差為0.1以上，但於記錄層與樹脂薄膜之界面上折射率係連續性地變化，且於記錄層與樹脂薄膜之界面上再生光之反射降低。再者，記錄層與樹脂薄膜之界面中之折射率之連續性的變化，考慮係由於記錄層與樹脂薄膜之材料於該界面上相溶之緣故。

<2.根據製作樣品之研究(2)>

藉由Dose量(累積光量)之調整而改變記錄層之半固化狀態，而製作樣品，並進行記錄層與樹脂薄膜之界面反射之反射率之評估。

(實施例2-1)

分別將記錄層、樹脂薄膜之折射率調整為n=1.65~1.72、n=1.45~1.5之範圍內。又，將形成半固化層時之紫外線之Dose量設定全固化塗膜時之Dose量之40%以下。除此之外之步驟與實施例1相同而獲得光資訊記錄媒體。

(實施例2-2)

將形成半固化層時之紫外線之Dose量設定為全固化塗膜時之Dose量之60%，除此之外之步驟與實施例2-1相同而獲得光資訊記錄 媒體。

(實施例2-3)

將形成半固化層時之紫外線之Dose量設定為全固化塗膜時之Dose量之80%以上，除此之外之步驟與實施例2-1相同而獲得光資訊記錄媒體。

(反射率之評估)

對以如上述之方法而獲得之實施例2-1~2-3之光資訊記錄媒體，評估記錄層與樹脂薄膜之界面反射之反射率。其結果如表1所示。

表1表示實施例2-1~2-3之光資訊記錄媒體之評估結果。

自表1可知：若藉由Dose量之調整而改變記錄層形成用之丙烯酸系紫外線固化樹脂之固化度，則樹脂層與樹脂薄膜之界面反射之反射率變化。認為其係由於藉由Dose量之調整而界面中之相溶狀態變化，其結果，使界面上之折射率之狀態變化之緣故。

<3.根據模擬之研究>

利用折射率逐漸變化之疊層膜，製作折射率連續性地變化之轉移區域(界面)之模型，使該疊層膜之層數或厚度變化，藉由模擬求出反射率及透過率。

(試驗例1-1)

如圖8所示，製作於厚度方向上折射率n增加之2層疊層體之模型，藉由模擬求出該疊層體之反射率及透過率。

(試驗例2-1)

如圖9A所示，製作於厚度方向上折射率n增加之3層疊層體之模型，藉由模擬求出該疊層體之反射率及透過率。

(試驗例2-2)

如圖9B所示，將折射率n=1.55層之厚度減少為30 nm，除此之外與試驗例2-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例2-3)

如圖9C所示，將折射率n=1.55層之厚度增加為750 nm，除此之外與試驗例2-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例3-1)

如10A所示，製作於厚度方向上折射率n增加之4層疊層體之模型，藉由模擬求出該疊層體之反射率及透過率。

(試驗例3-2)

如圖10B所示，將折射率n=1.40層之厚度減少為50 nm，將折射率n=1.60之樹脂層之厚度增加為100 nm，除此之外與試驗例3-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例3-3)

如圖10C所示，將折射率n=1.40層之厚度增加為100 nm，將折射率n=1.60之樹脂層之厚度減少為50 nm，除此之外與試驗例3-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例4-1)

如圖11A所示，製作於厚度方向上折射率n增加之7層疊層體之模型，藉由模擬求出該疊層體之反射率及透過率。

(試驗例4-2)

如圖11B所示，將折射率n=1.45~1.65層之厚度增加為90 nm，除此之外與試驗例4-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例4-3)

如圖11C所示，將折射率n=1.45~1.65層之厚度增加為150 nm，除此之外與試驗例4-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例5-1)

如圖12A所示，製作於厚度方向上折射率n增加之疊層體之模型，藉由模擬求出該疊層體之反射率及透過率。再者，折射率n=1.69~1.41層係使折射率n每5 nm之厚度增加0.01之總厚度為150 nm之疊層膜。

(試驗例5-2)

如圖12B所示，將折射率n=1.69~1.41層製成使折射率n每15 nm之厚度增加0.01之總厚度為450 nm之疊層膜，除此之外與試驗例5-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例5-3)

如圖12C所示，將折射率n=1.69~1.41層製成使折射率n每50 nm之厚度增加0.01之總厚度為1.5 μm之疊層膜，除此之外與試驗例5-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例5-4)

如圖12D所示，將折射率n=1.45~1.65層製成使折射率n每90 nm之厚度增加0.01之總厚度為2.7 μm之疊層膜，除此之外與試驗例5-1相同，藉由模擬求出疊層體之反射率及透過率。

(試驗例5-5)

圖13A~圖13D表示將於折射率自1.4→1.7逐漸變化之界面構造上轉移區域之厚度設為橫軸，將自於將波長400 nm之光之入射角度分別設為0°、15°、30°、45°之情形時之該界面構造之反射率設為縱軸之圖表。於轉移區域上，折射率之變化以將轉移區域分割為15個部分，每部分單調遞增0.02之方法計算。

圖8~圖12D表示於上述模擬結果中，代表於自折射率n=1.40層側向疊層體垂直入射波長400 nm之光之條件下求出之反射率及透過率。

又，自圖13A~圖13D之結果可知：若光之入射角為大致30°以下，且折射率n=1.40層與折射率n=1.70層之間之區域(以下，稱為「轉移區域」)之寬度為大致100 nm以上，可充分獲得降低反射率之效果。

越增加形成轉移區域層之層數，即越順利使轉移區域之折射率變化，則越可降低反射率提高透過率。

轉移區域之層數越多，則由轉移區域之厚度而引起之反射率之週期性越存在消失之傾向。

因此，藉由於樹脂層之厚度方向上逐漸變化樹脂層間之界面之折射率，而可降低樹脂層間之界面反射，並且可提高樹脂層間之透過率。

於轉移區域上，若異種樹脂之相溶性不太好，則考慮為形成微區域構造(於微小區域有規律而複雜地深入之構造)之情形。若於膜厚方向上轉移區域變大，則界面中之微區域尺寸亦變大，認為其係作為光學變化而檢測出成為雜訊之可能性。若斟酌本技術之再生光點之尺寸，則期望轉移區域之上限值大致為1 μm。

以上，對本技術之實施形態進行了具體說明，但本技術並不限定於上述之實施形態，可為基於本技術之技術思想之各種變形。

例如，上述之實施形態中列舉之構成、方法、步驟、形狀、材料及數值等僅為舉例，視需要亦可使用與其不同之構成、方法、步驟、形狀、材料及數值等。

又，上述之實施形態之構成、方法、步驟、形狀、材料及數值等，只要未脫離本技術之主旨，可互相組合。

又，形成主體層(疊層體)之樹脂層之種類並不限定於2種，亦可組合3種以上之樹脂層而形成主體層。

又，若使用本技術，於疊層具有互相不同之折射率之複數個樹脂層而形成之任意之界面上，於欲抑制光學反射之界面上，可將折射率之變化製成連續性的變化之情況。因此，折射率之組合並不限定於舉例之「高折射層-低折射層-...高折射層-低折射層」，亦可例如為以下之變化例：於進而將膜厚較薄之高折射層B及低折射層B編入疊層構造中之「高折射層A-高折射層B-低折射層A-低折射層B-高折射層A-高折射層B-...高折射層A-高折射層B-低折射層A-低折射層B」之組合中，視需要，使高折射層A-B之間、低折射層A-B之間、低折射層B-高折射層A之間產生連續性之折射率變化，抑制界面反射，並僅於高折射層B-低折射層A之間產生界面反射。進而，即便於上述例之打亂疊層構造之週期性之構造中，本技術同樣可適用於任意之界面上抑制界面反射。

本技術亦可採用以下之構成。

(1)一種光資訊記錄媒體，其具備疊層而成之複數個樹脂層，上述樹脂層間之界面中之至少一者具有於上述樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。

(2)如(1)之光資訊記錄媒體，其中上述折射率之變化為連續性之變化。

(3)如(1)或(2)之光資訊記錄媒體，其中上述複數個樹脂層為交替設置之複數個中間層及記錄層。

(4) 如(3)之光資訊記錄媒體，其中設置於上述記錄層之兩側之界面中之一界面之折射率之變化為連續，而另一界面之折射率之變化則為不連續。

(5)如(3)或(4)之光資訊記錄媒體，其中上述另一界面構成為可形成記錄標記。

(6)如(3)至(5)中任一項之光資訊記錄媒體，其中上述記錄層之平均厚度為30 nm以上且5 μm以下之範圍內。

(7)如(1)至(6)中任一項之光資訊記錄媒體，其中形成折射率逐漸變化之上述界面之2個樹脂層於該界面上相溶。

(8)如(1)至(7)中任一項之光資訊記錄媒體，其中上述樹脂層以紫外線固化樹脂或熱固性樹脂為主成分。

(9)如(1)至(3)中任一項之光資訊記錄媒體，其中上述樹脂層間之界面構成為可形成記錄標記。

(10)一種光資訊記錄媒體用疊層體，其具備疊層而成之複數個樹脂層，且具有可於上述複數個樹脂層之界面上形成記錄標記之構成，上述樹脂層間之界面中之至少一者具有於上述樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。

1‧‧‧主體層(疊層體)

2‧‧‧選擇反射層

3‧‧‧覆蓋層

4‧‧‧基板

10‧‧‧光資訊記錄媒體

11a‧‧‧記錄層(第1樹脂層)

11b‧‧‧中間層(第2樹脂層)

B1‧‧‧第1界面

B2‧‧‧第2界面

Claims (10)

1. 一種光資訊記錄媒體，其具備疊層而成之複數個樹脂層，上述樹脂層間之界面中之至少一者具有於上述樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。
2. 如請求項1之光資訊記錄媒體，其中上述折射率之變化為連續性之變化。
3. 如請求項1之光資訊記錄媒體，其中上述複數個樹脂層為交替設置而成之複數個中間層及記錄層。
4. 如請求項3之光資訊記錄媒體，其中設置於上述記錄層之兩側之界面中之一界面之折射率之變化為連續，而另一界面之折射率之變化則為不連續。
5. 如請求項3之光資訊記錄媒體，其中上述另一界面構成為可形成記錄標記。
6. 如請求項3之光資訊記錄媒體，其中上述記錄層之平均厚度為30 nm以上且5 μm以下之範圍內。
7. 如請求項1之光資訊記錄媒體，其中形成折射率逐漸變化之上述界面之2個樹脂層於該界面上相溶。
8. 如請求項1之光資訊記錄媒體，其中上述樹脂層係以紫外線固化樹脂或熱固性樹脂為主成分者。
9. 如請求項1之光資訊記錄媒體，其中上述樹脂層間之界面構成為可形成記錄標記。
10. 一種光資訊記錄媒體用疊層體，其具備疊層而成之複數個樹脂層，且具有可於上述複數個樹脂層之界面上形成記錄標記之構成， 上述樹脂層間之界面中之至少一者具有於上述樹脂層之厚度方向上逐漸變化之折射率。