TW201336998A - 用於高爐的旋轉式填料裝置 - Google Patents

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Abstract

一種用於高爐的旋轉式填料裝置，該裝置包含：用於裝載於高爐喉部之固定外罩(112)；與具有一填料分配器之懸浮轉子(114)，該懸浮轉子由該固定外罩所支撐，使其可繞一實質上垂直軸旋轉。該懸浮轉子(114)與該固定外罩(112)配合以形成旋轉式填料裝置的主殼(122)，一環狀缺口(160)保持在該固定外罩與該懸浮轉子之間。將密封機構配置於該環狀缺口(160)的鄰近處，以對高爐氣體提供密封。該密封機構包含具有環狀水容器(164)之水密封裝置(162)與一配合的環狀壁(166)。或者，該密封機構包含一或多個配置於環狀缺口(34)周圍的噴嘴(44)，以在其中吹送乾淨氣體。

Description

用於高爐的旋轉式填料裝置
本發明一般係關於用於高爐的填料設備，尤其是關於用於在高爐中分配填料的裝置。更明確而言，本發明係關於配備有用於填料的周向與徑向分配之滑槽的類型之裝置。
如在現有技術中已廣為人知的，鼓風爐的填料傳統上是以頂部填料設備來實現的，該頂部填料設備提供了在爐頂儲存未加工材料與將這些材料分配至爐子中的功能。未加工材料在儲存室中秤重並且以批次模式(經由翻斗車或輸送帶)運送至爐子的頂部填料設備，而未加工材料在頂部填料設備處儲存在中間料斗中。
為了將填料(負載)分配至爐子中，該頂部填料設備包含了配置於爐子喉部且在中間料斗之下的旋轉式分配裝置。該旋轉式分配裝置包含一固定外罩與一具有填料分配器之懸浮轉子，該懸浮轉子由該固定外罩所支撐，使該懸浮轉子可繞著爐子軸旋轉。該懸浮轉子與該固定外罩形成了旋轉式填料裝置的主殼，在該主殼中配置了用於驅動懸浮轉子與樞轉填料分配器的機構。
此類旋轉式分配裝置可由例如美國專利第3,693,812號而了解。
在此項技術中亦廣為人知的，當該固定外罩與該懸浮轉子配合形成一封閉式殼，該懸浮轉子的旋轉底座與介於 運動部件(懸浮轉子)和固定部件(外罩)之間的操作動作需要一環狀缺口，在使用中，爐子氣體可經由此環狀缺口進入主殼。
為避免充滿濃密粉塵的爐子氣體進入旋轉式分配裝置的主殼，較為熟知的方法為使用氮氣充滿殼體。為了有效的結果，該氮氣流應足夠高以維持主殼內的壓力水平高於爐子內部的壓力
發明目標
本發明的目標為提供旋轉式分配裝置的改進設計，其中進入該旋轉分配裝置的充滿粉塵之爐子氣體可被最小化。
依照本發明之用於高爐，尤其是鼓風爐的旋轉式填料裝置包含一裝載於高爐喉部之固定外罩；與一具有填料分配器之懸浮轉子，該懸浮轉子由該固定外罩所支撐，使其可繞一實質上垂直軸旋轉(通常為該爐之軸)。
該懸浮轉子與該固定外罩配合以形成該旋轉式填料裝置的主殼，一環狀缺口保持在該固定外罩與該懸浮轉子之間以提供操作動作。
此種環狀缺口，例如，可存在於該固定外罩的下方區域內，其中該懸浮轉子通常具有一向該固定外罩底部延伸之凸緣構件與一為在不受干擾情況下旋轉之環狀缺口。
另一環狀缺口可存在於一滾動軸承之水平面，該滾動軸承對其旋轉軸以及相對於該固定外罩旋轉地支撐該懸浮 轉子。確實，在該滾動軸承之座圈內部之間的空間形成一缺口，氣體可經由此缺口洩漏。
因此，密封機構配置於一(至少)此種環狀缺口的鄰近處，以對高爐氣體提供密封。
根據本發明的第一態樣，一環狀水密封裝置可配置在該環狀缺口的鄰近處。該環狀水密封裝置較佳地包含一環狀水容器與一延伸進入該環狀水容器之環狀壁。該環狀水容器與該環狀壁各自地與該固定外罩和該懸浮轉子關聯。其中的各個物件較佳地以流體密封方式固定於各自相關的支撐構件。為使該水密封裝置可操作，該環狀壁與該水容器的裝載必須允許該環狀壁與該水容器之間的相對旋轉運動(較佳地以共中心方式)，並且在該容器內有足夠的液面高度。因此，水供給機構亦較佳地與水密封裝置共同安裝以提供液體至環狀水容器。應瞭解，該名詞”環狀水密封裝置”在本文中被當作上位名詞使用，並且可採取多種形式。在這一點，所屬技術領域中具有通常知識者應明白此處的”水”可被任何其他適合的液體取代。
在一環狀缺口於滾動軸承的情況中，該水密封裝置較佳地定位在相當地接近該滾動軸承，以此方式以封鎖該滾動軸承之該環狀缺口之一側，若不是在主殼之內部容積的一個開口就是在其對側，也就是說在主殼之外部交界面處。
在一變化例中，該環狀水容器包圍該懸浮轉子，較佳地於該滾動軸承的鄰近處，且以流體密封方式固定於該懸浮轉子的外表面。該環狀壁以流體密封方式固定於該固定 外罩，包圍該懸浮轉子且延伸進入該環狀水容器。
在另一變化例中，該環狀水容器與該滾動軸承的內座圈關聯，且以流體密封方式固定於該懸浮轉子之內面或內座圈。該環狀壁以密封方式固定於該固定外罩，於分配裝置之進料管道的內部且延伸進入該環狀水容器。
然而許多其他的裝載組合是可行的，全依照該環狀壁的形狀而定。在其他的具體實施例中，該環狀水容器可與該固定外罩相關，而該環狀壁與該懸浮轉子相關。
根據本發明的第二態樣，該密封機構包含用以供應乾淨氣體進入主殼的機構，其中該主殼包含(也就是說含有或是由以下所組成)一或多個配置於環狀缺口周圍的噴嘴，以在吹送乾淨氣體於該主殼之中。
在本文中使用的名詞”乾淨氣體”指定為一種實質上無粉塵粒子的氣體，也就是說，包含少於20mg/Nm3，較佳地少於10 mg/Nm3之粉塵(1 Nm3等於在標準狀態下的1 m3：相對溼度為0%，壓力為1,02325巴，且溫度為0℃)。該乾淨氣體可包含例如淨化的鼓風爐氣體或惰性氣體。該氣體最佳為氮氣(N2)。
因此，可藉由直接吹送乾淨氣體進入發生洩漏的區域，以避免充滿粉塵之爐子氣體進入主殼。特別地，該乾淨氣體具優勢地被吹送而形成一乾淨氣體的實質周向障礙，該障礙可阻礙充滿粉塵之爐子氣體經由該環狀缺口而通過。較佳地，該乾淨氣體(且該障礙形成)為實質橫向於該環狀缺口，也就是說，橫向於爐子氣體之可能流動路徑。
此類周向氣體障礙充當作為一種密封件，使得在該環狀缺口中不需要固體密封材料。
較佳地，由多數之周向分布的噴嘴經組態吹送每一乾淨氣體流於一給定的周向範圍之上，可獲得該乾淨氣體障礙，該氣流較佳地橫越(沿著寬度方向)該環狀缺口。這些噴嘴可進一步以交錯安排的形式配置，使一乾淨氣體之實質連續障礙形成於環狀缺口的整個周邊之上。在此類交錯安排的組態中，當以周向方式看時，兩相鄰噴嘴之末端或氣流較佳地重疊。
典型地，該固定外罩可包含與旋轉軸同軸之第一圓柱部分且該懸浮轉子可具有與第一圓柱部分同中心之第二圓柱部分，藉以該固定與旋轉圓柱部分界定該環狀缺口。
在一實施例中，該固定外罩可因此包含具有一內部、底層之環狀凸緣的出口區段，該凸緣於其內部邊緣支撐一與旋轉軸同軸且形成該第一圓柱部分之套筒。該轉子從而包含一末端凸緣部分，該凸緣部分於其外部邊緣支撐一形成第二圓柱部分的套筒，且該套筒與旋轉軸同軸且至少部分面對該第一圓柱部分。
在此實施例中，該一或多個噴嘴較佳地配置以經由至少該第一或第二圓柱部份其中之一吹送乾淨氣體流，該乾淨氣體流以實質上橫越方向(徑向)且於實質上於整個缺口周邊之上。
該水密封裝置與周向的乾淨氣體噴嘴亦可與一給定之旋轉式填料裝置結合，每個用於封鎖各自的環狀缺口。
此外，如現有技術中已知的，該裝置可包含用於供應乾淨氣體進入主殼的所有容積之機構。
所屬技術領域中具有通常知識者可明白，此兩種密封機構，也就是說，該水密封裝置與該周向乾淨氣體障礙，在旋轉式填料裝置中，可共同地或是單獨地被使用於任何缺口。換言之，僅有水密封裝置或僅有周向幹淨氣體障礙亦可於一給定的旋轉式填料裝置中實施，或者此兩種形式的密封機構可被使用於各自的環狀缺口。
圖1展示用於分配大量填料(負載)進入高爐之旋轉式分配裝置10之主要元件，特別指鼓風爐的儲存線以上(圖中未示)。如現有技術中已知的，該裝置10被設計為頂部填料設備的部分(圖中未示)。
典型地，該分配裝置10配置於靠近反應器之頂部開口，例如，位於爐子喉部上。該分配裝置10由一或多個中間儲存料斗(圖中未示)補進填料，例如依照WO 2007/0826335中所揭示之組態。
該分配裝置10具有一固定外罩12，其係具有一環狀周向裝載凸緣11於其下方外部圓周處，藉由此凸緣，該外罩12以防漏方式典型地固定在，例如，爐子喉部的邊緣(圖中未示)。在該外罩12內部，一整體地以14表示的懸浮轉子由在外罩12之上的大直徑的環狀滾動軸承16所支撐，該軸承通常為扭轉軸承。該轉子14因此可以繞著一實質上垂直旋轉軸A(對應於例如鼓風爐軸)旋轉。已知的，要被分配 進入該爐子中的負載材料是來自於該填料裝置之上，進入進料管道15(通常與爐子同軸)，該管道是由懸浮轉子14的內部與固定外罩12的上部區域所界定。一整體地以18表示的分配滑槽裝載於懸浮轉子14，以使該滑槽與該轉子共同繞著A軸旋轉。該滑槽18實際上包含一對橫向懸浮臂20，藉由此橫向懸浮臂，該滑槽可被懸掛於轉子14之上的裝載凸緣，且更進一步允許該滑槽繞著一水平軸B傾斜/樞轉。該滑槽18通常設置於該進料管道15的下方區域之中，已經於該分配裝置的頂部進入的負載材料係掉落至該滑槽18之中以被分配至爐子內。
將可明白的是，該懸浮轉子14與該固定外罩12配合以形成旋轉式填料裝置的主殼22且因此定義了一個實質上封閉環狀室。在一些案例中，該主殼22可包含一或多個延伸至整個或部分圓周的內部分隔壁。
常見地，需要於使轉子14繞著A軸旋轉與使滑槽18對水平軸B傾斜的部分機構(圖中未示)配置於主殼22內。用於旋轉與傾斜(樞轉)該滑槽18的機構的組態在現有技術中為已知的且非本發明的焦點，所以在本文中將不會再進一步討論。若要了解此類機構的更多細節，可參照US 2003/0180129。並且，常見地設置於主殼22內部的為一冷卻配置以避免損害，並且，特指但不排它地，可用於保護用以操作轉子14與滑槽18的機構構件。
應注意的是轉子14包含一管狀支撐或管狀體24，該管狀體24配置為與旋轉軸A同軸且實際上支撐該滑槽18。該 管狀體24自進料管道15之入口區段26垂直延伸(該滾動軸承16的外座圈161於此處被固定於該固定外罩12)，向下至該固定外罩12之較低末端之出口區段28。該滾動軸承16的內座圈162接著固定在該管狀體24之上方邊緣。在此示範性的變化例中，該旋轉體24具有一朝向該爐子成梯狀變寬之外形且以環狀水平凸緣30終止，該環狀水平凸緣30亦形成介於該主殼22內部與該爐子內部之間的隔板。
該懸浮轉子14的該凸緣30橫向地延伸靠近一固定外罩12之相對應的水平周向凸緣32。在主殼22的此連結區域，固定式與旋轉式部件的尺寸經設計以保留一環狀缺口(底部環狀缺口)，以提供允許該轉子14旋轉的操作動作。
因為此操作動作，爐子氣體可進入該主殼22，且大量的粉塵與粒子可在此處沉積，而阻礙裝設在主殼22內之齒輪或其他機構的操作。其他用於使爐子氣體流入該主殼22之關鍵區域是位於軸承16的水平面。
為了將進入該主殼22之充滿粉塵之爐子氣體最小化，通常已知為例如經由一個噴嘴供應乾淨氣體，特別是氮氣進入該主殼，且維持殼中之壓力至少稍高於爐子內部之氣體壓力。可將此措施應用於本填料裝置，該措施被指定為參考符號23。
要瞭解的是，在圖1中的裝置，多數的噴嘴配置於存在於旋轉式和固定式部件之間的(下方)環狀缺口34周圍，以在其中吹送乾淨氣體且較佳地形成一乾淨氣體障礙(或幃幕)於延伸至整個圓周之上的環狀缺口中。該噴嘴較佳地組 態以形成乾淨氣體流或乾淨氣體片，其橫越地向由環狀缺口界定的流動路徑，所以此處噴嘴為徑向排列。
此類乾淨氣體幃幕可由以下描述獲得。一套筒構件40沿著旋轉體24之外緣，裝載於旋轉體24的凸緣30之上。該套筒構件40與軸A同軸。
相似地，一套筒構件42裝載於固定外罩的周圍凸緣32之上，與該轉子14的該凸緣30配合。該套筒構件42沿著凸緣30的內緣配置並與軸A同軸，且因此與轉子14上的套筒40同中心。
該環狀缺口34位於兩個相面對的套筒構件40與42中間。
由圖2可較佳的觀看，裝載於該固定外罩12之上的該套筒構件42設有一系列的開口於環狀缺口34之實質水平狹縫44。這些狹縫44與套筒構件42中的內部環狀分配管道46保持流體連通，該狹縫44經由該套筒構件42之外壁部分48而形成。該狹縫44較佳地分配於套筒構件42的圓周上並以交錯安排形式配置，以使得鄰近噴嘴部份地重疊於這些狹縫各自的末端並且延伸至套筒構件42的整個圓周之上。
每一個狹縫44因此形成一個噴嘴，其可產生一橫越的(此處為徑向且水平)乾淨氣體流，該流延伸至套筒圓周之一給定部件(弧形物)之上。該產生之乾淨氣體流可因此被比作片狀物。在結合狀態中，形成狹縫44的噴嘴允許形成一乾淨氣體的徑向障礙(或幃幕)以避免爐子氣體進入該主殼22 之內。
較佳地，乾淨氣體被以高速吹送流經該狹縫44而對著面對套筒40形成一乾淨氣體壓力錐(在軸向方向中，見圖2中的參考符號50)。應瞭解，企盼能於套筒構件40，42之間維持一相對小的環狀缺口。實際上，該環狀缺口的寬度依照運動與固定部件之間的所需操作動作而定。
獲得之壓力錐50可避免氣體由爐子到該主殼22的通過，直到某壓力差。乾淨氣體的量與速度決定爐子氣體可通過該乾淨氣體障礙的壓力差水平。
較佳地，該氣體可經由該噴嘴/狹縫被吹送以使該氣體具有5到20m/s範圍之出口速度。要瞭解，最理想的操作數值可提供低之氣體速度(用於減低的消耗)，然而該速度仍足夠提供所企盼的密封效果。所屬領域中具有通常知識者因此可依照各案的基準而調整氣體速度。
如圖1所示，一乾淨氣體注射噴嘴亦可配置於主殼22內部，以為了在例外情況或緊急情況下可暫時地注射較高量的乾淨氣體。所屬領域中具有通常知識者將可明白，上述的設計不是被建構以作為限制，因為可策劃許多的設計以提供一位於轉子14與固定外罩12之間的乾淨氣體障礙。
特別地，噴嘴-軸承套筒構件的提供與構件42相似，可在常見的旋轉式填料裝置中輕易的達成。例如具有一直徑小於該轉子14的套筒構件可安裝於像是入口區段，以便對著在該滾動軸承16之下，入口區段附近的旋轉體24之內壁形成一乾淨氣體障礙。
圖3展示使用環狀水密封裝置的本旋轉式分配裝置110之另一具體實例。在圖1中同樣或相似的元件被指定以相同的參考符號再加上100。然而該滑槽18未展示於圖3(與圖4)之中，其僅以樞軸B表示。
如已知的，由於扭轉軸承116的配合座圈1161與1162之間的空間，另一環狀缺口160通常存在於環狀軸承116。此為另一個爐子氣體可由此通過的洩漏途徑，且當沒有密封住時，會與其他、底部的環狀缺口134促進氣流的建立。
環狀水密封裝置162較佳地配置於環狀軸承116的鄰近處以封鎖該軸承環狀缺口160之一側且因而封鎖了此洩漏途徑。該環狀水密封裝置162通常可包含一環狀水容器164與一環狀壁166，此兩者各自地分別和該固定外罩112與該懸浮轉子114相關。該環狀壁166延伸進入該環狀容器164以使其下沉到水中且使在此兩部件之間可存在一相對旋轉運動。
在圖3的具體實例中，該環狀水容器164以流體密封方式固定於其所圍繞之該懸浮轉子114，且位於該軸承116之正下方。該環狀水容器164較佳地具有與該轉子114外徑實質相應之內徑(在此水平面)。該環狀壁166以流體密封方式固定於該固定外罩112且以同中心方向延伸進入該環狀容器164。該流體密封的裝載可藉由環狀焊接達成。或者，該環狀容器可具有一環狀凸緣，該環狀凸緣與一居中的環狀墊片(較佳為金屬)以螺栓栓緊於懸浮轉子。因此，環狀缺口160開口進入該主殼122之一側由該水密封裝置162 封鎖。
由圖3中可見，該環狀壁166例如藉由環狀焊接被固定在恰好位於該外座圈1161之下方，且具有介於該水容器164之內徑與外徑之間的直徑。在此變化例中，該環狀壁166進一步具有與進料管道115之區段實質上相符合之直徑，其中該進料管道115之區段支撐該軸承116。
雖然未展示，一或多個水導管配置於主殼以供應水167至環狀容器164。參考符號168指定為溢流口，其係周向地分布以排除多餘的水且避免多餘的水滲透入該滾動軸承116。操作時，該環狀壁166不僅延伸進入該容器164並且下沉到該水167中。
在圖4的具體實例中，該水密封裝置162位於主殼122之外。如圖3之中，該水容器164與該懸浮轉子114關聯，且更準確而言係裝設在內座圈1162周圍。該環狀壁166垂直延伸進入該環狀容器164，同時固定於該進料管道115之入口區段126之邊緣。於此再一次地，該容器164與該環狀盤166兩者皆為較佳地以流體密封方式固定於其各自的支撐構件，例如藉由環狀焊接或螺栓結合凸緣(圖中未示)。在所示的組態中，缺口160之外側藉由水密封裝置162封鎖。
水供應機構(圖中未示)可位於維持容器內的水之操作水平高度的適合之處。該溢流口168位於入口區段壁。
本發明將經由實例並參考隨附圖示而描述，其中： 圖1係用於高爐的旋轉式填料裝置之一具體實例之垂直橫截面視圖；圖2係圖1之D部分之放大詳細視圖；圖3係用於高爐的旋轉式填料裝置之第二變化例之垂直橫截面視圖；圖4係用於高爐的旋轉式填料裝置之第三變化例之垂直橫截面視圖。

Claims (22)

  1. 一種用於高爐的旋轉式填料裝置，其包含：一固定外罩(12；112)，用於裝載於高爐喉部；一懸浮轉子(14；114)，其具有一填料分配器(18)，該懸浮轉子被支撐於該固定外罩(12；112)之中，使該轉子可繞一軸旋轉；其中該懸浮轉子(14；114)與該固定外罩(12；112)配合形成該旋轉式填料裝置的主殼(22；122)，一環狀缺口(34；160)保留在固定外罩與懸浮轉子之間；且密封機構，其配置於該環狀缺口的鄰近處，以對高爐氣體提供密封。
  2. 如申請專利範圍第1項之旋轉式填料裝置，其中該密封機構包含一配置於該環狀缺口(160)鄰近處之環狀水密封裝置(162)。
  3. 如申請專利範圍第2項之旋轉式填料裝置，其中該環狀缺口存在於一環狀滾動軸承(116)處，該軸承固定於該固定外罩(112)且對於懸浮轉子(114)之旋轉軸支撐該懸浮轉子；且該環狀水密封裝置(162)配置於該環狀軸承的鄰近處以封鎖該環狀缺口之一側。
  4. 如申請專利範圍第3項之旋轉式填料裝置，其中該環狀水密封裝置(162)包含一環狀水容器(164)與一延伸進入該環狀水容器(164)之環狀壁(166)，該環狀水容器(164)與環狀壁(166)各自地與固定外罩(112)與懸浮轉子(114)相關。
  5. 如申請專利範圍第3項之旋轉式填料裝置，其中該環 狀水密封裝置(162)經配置以於該環狀缺口(160)之內部、主殼側或於其對面、主殼外側封鎖該環狀缺口。
  6. 如申請專利範圍第3項之旋轉式填料裝置，其中該環狀水容器(164)圍繞該懸浮轉子(114)，較佳地於該滾動軸承(116)的鄰近處，且以流體密封方式固定於該懸浮轉子之外表面；且該環狀壁(166)以流體密封方式固定於該固定外罩(112)，並圍繞該懸浮轉子(114)且延伸進入該環狀水容器(164)。
  7. 如申請專利範圍第3項之旋轉式填料裝置，其中該環狀水容器(164)與該滾動軸承之內座圈(1162)關聯，且以流體密封方式固定於該懸浮轉子(114)的內面或於該內座圈(1162)；且該環狀壁(166)以流體密封方式固定於固定外罩，於該分配裝置之進料管道(115)內部且延伸進入該環狀水容器。
  8. 如申請專利範圍第1項之旋轉式填料裝置，其中該密封機構包含用於供應乾淨氣體進入該主殼之機構，其中用於供應乾淨氣體進入該主殼之該機構包含一或多個噴嘴(44)配置於該環狀缺口(34)周圍，以於其中吹送乾淨氣體。
  9. 如申請專利範圍第8項之旋轉式填料裝置，其中該一或多個噴嘴經組態以形成一乾淨氣體之實質上周向障礙於該環狀缺口之中，較佳地為下方環狀缺口(34)。
  10. 如申請專利範圍第9項之旋轉式填料裝置，其中該乾淨氣體為實質橫越地於該環狀缺口吹送。
  11. 如申請專利範圍第9項之旋轉式填料裝置，其中該固定外罩包含一與該軸同軸之第一圓柱部分且該懸浮轉子具有一與該第一圓柱部分同中心之第二圓柱部分；且其中該固定與旋轉圓柱部分界定該環狀缺口。
  12. 如申請專利範圍第11項之旋轉式填料裝置，其中該固定外罩包含一具有一內部底層之環狀凸緣(32)之出口區段，該底層環狀凸緣於其內部邊緣承受一套筒構件(42)，該構件與該軸同軸且形成該第一圓柱部份。
  13. 如申請專利範圍第12項之旋轉式填料裝置，其中該轉子(14)包含一末端凸緣部分(30)，其於外部邊緣承受一形成該第二圓柱部份的套筒構件(40)，該套筒與該軸同軸且至少部分地面對該第一圓柱部分(42)。
  14. 如申請專利範圍第13項之旋轉式填料裝置，其中該一或多個噴嘴經配置以經由至少該第一或第二圓柱部份其中之一吹送乾淨氣體流，該乾淨氣體流實質上橫越於該缺口且於整個缺口圓周上。
  15. 如申請專利範圍第14項之旋轉式填料裝置，其中該乾淨氣體流為徑向的。
  16. 如申請專利範圍第13項之旋轉式填料裝置，其中該第一圓柱部分包含多數分布於該環狀缺口圓周上與開口於該環狀缺口中之狹縫，乾淨氣體可經由該狹縫吹送以在該環狀缺口中形成乾淨氣體障礙。
  17. 如申請專利範圍第16項之旋轉式填料裝置，其中該狹縫以交錯安排的形式配置，以使相鄰的噴嘴於其各自的 末端部分重疊且延伸過套筒構件的整個圓周。
  18. 如申請專利範圍第11項之旋轉式填料裝置，其中該一或多個噴嘴經配置以吹送乾淨氣體流，經由至少該第一或第二圓柱部份其中之一，該乾淨氣體流實質上橫越該缺口且於整個缺口圓周上。
  19. 如申請專利範圍第11項之旋轉式填料裝置，其中該第一圓柱部分包含多數分布於該環狀缺口圓周上與開口於該環狀缺口中之狹縫，乾淨氣體可經由該狹縫吹送以在該環狀缺口中形成乾淨氣體障礙。
  20. 如申請專利範圍第19項之旋轉式填料裝置，其中該狹縫以交錯安排的形式配置，以使相鄰的噴嘴於其各自的末端部分重疊且延伸過套筒構件的整個圓周。
  21. 如申請專利範圍第8項之旋轉式填料裝置，其中該氣流具有5到20m/s範圍之出口速度。
  22. 如申請專利範圍第8項之旋轉式填料裝置，其中該環狀缺口具有約0.1到5mm之徑向寬度。
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