TW201334947A - 保持具及熱處理方法 - Google Patents

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Masao Takashige
Tomoaki Miyazaki
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Idemitsu Unitech Co Ltd
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Abstract

本發明之保持具之特徵在於：其係於對膜實施熱處理時使用之保持具(70)，且保持具(70)包括基體構件(71)、及與該基體構件(71)之間保持上述膜之保持構件(72)，於保持構件(72)，於上述膜之流動方向上之上游側及下游側中之至少一端部設置有R形狀。

Description

保持具及熱處理方法
本發明係關於一種於對膜實施熱處理時使用之保持具、及使用其之膜之熱處理方法。
雙軸延伸尼龍膜因穿刺強度(耐針孔性)或耐衝擊性優異，故而大量使用於重貨包裝或液貨包裝等使用條件較為嚴格之領域中。而且，於此種雙軸延伸尼龍膜中，正開發一種具有可直線地切割膜之性質(直線切割性)之易裂性膜(例如，文獻1(日本專利特開平6-106619號公報))。
然而，尤其於製造易裂性膜等之情形時，存在如下問題：於對延伸之膜實施熱處理時，因保持膜之保持具(拉幅夾(tenter clip))而導致膜中出現凹口從而產生斷膜。而且，於產生斷膜之情形時，必需停止生產線，故而就膜之連續生產性之觀點而言存在問題。
另一方面，亦提出有保持膜之拉幅夾之構造(例如，文獻2(日本專利特開昭58-214574號公報))，但即便使用此種如文獻2中所記載之拉幅夾，亦無法充分防止斷膜。
本發明之目的在於提供一種可防止對膜實施熱處理時之斷膜且可提高膜之連續生產性之保持具、及使用其之膜之熱處理方法。
為了解決上述課題，本發明提供如下之保持具及使用其之膜之熱處理方法。
即，本發明之保持具之特徵在於：其係於對膜實施熱處理時使用者，且上述保持具包括基體構件、及與該基體構件之間保持上述膜之保持構件，且於上述保持構件，於上述膜之流動方向上之上游側及下游側中之至少上游側之端部設置有R形狀。
此處，較佳為上述R形狀之曲率半徑為3 mmR以上且15 mmR以下。
根據本發明，即便於熱處理時膜產生收縮力，由於在上述保持構件之上述膜之流動方向上之上游側之端部設置有R形狀，故而亦可防止膜中出現凹口。因此，根據本發明，可防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜之連續生產性。
於本發明之保持具中，較佳為上述保持部之R形狀之曲率半徑為5 mmR以上。
根據本發明，可更確實地防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可進一步提高膜之連續生產性。
本發明之熱處理方法之特徵在於：其係保持膜並實施熱處理之膜之熱處理方法，且使用上述保持具保持上述膜。
根據本發明，即便於熱處理時膜產生收縮力，由於在上述保持具之保持構件之上述膜之流動方向上之上游側之端部設置有R形狀，故而亦可防止膜中出現凹口。因此，根據本發明，可防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜之連續生產性。
於本發明之熱處理方法中，較佳為上述熱處理係以第一 熱處理及第二熱處理之2個階段實施，且至少於實施上述第一熱處理時使用上述保持具。
如此，於以2個階段實施熱處理之情形時，於延伸後之第一熱處理中，易於產生膜之收縮力，且膜中變得易於出現凹口。因此，較佳為至少於實施上述第一熱處理時使用上述保持具。
於本發明之熱處理方法中，較佳為上述膜為雙軸延伸後之膜。
於本發明中，由於使用可防止對膜實施熱處理時之斷膜、且可提高膜之連續生產性之上述保持具，故而即便為雙軸延伸後之膜亦可高效地實施熱處理。
於本發明之熱處理方法中，較佳為上述膜含有尼龍6(以下，亦稱為Ny6)與己二醯間苯二甲胺(以下，亦稱為MXD6)作為原料，上述原料包含含有40質量%至85質量%之Ny6且含有15質量%至60質量%之MXD6(兩者之合計為100質量%)之原始原料、以及將Ny6及MXD6熔融混煉而成之熱歷程品，上述熱歷程品中之MXD6之熔點為233℃以上且238℃以下，且上述熱歷程品之含量以原料總量基準計為5質量%以上且40質量%以下。
於本發明中，由於使用可防止對膜實施熱處理時之斷膜且可提高膜之連續生產性之上述保持具，故而即便如該膜般為易裂性膜亦可高效地實施熱處理。
於本發明之熱處理方法中，較佳為上述第一熱處理係一面利用拉幅機方式藉由上述保持具保持上述膜之相對於流 動方向之寬度方向之兩端一面對上述膜施加熱之處理，且上述第一熱處理中之熱處理溫度為120℃以上且190℃以下，且上述第一熱處理中之弛緩率為15%以下。
若為此種熱處理條件，則可防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜之連續生產性。
於本發明之熱處理方法中，較佳為上述第二熱處理係一面利用拉幅機方式藉由上述保持具保持上述膜之相對於流動方向之寬度方向之兩端一面對上述膜施加熱之處理，且上述第二熱處理中之熱處理溫度為190℃以上且220℃以下，且上述第二熱處理中之弛緩率為15%以下。
若為此種熱處理條件，則可防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜之連續生產性。
以下，基於圖式對本發明之實施形態進行說明。
[膜之製造裝置]
首先，對使用本發明之保持具製造膜之裝置列舉一例進行說明。
如圖1所示，膜製造裝置100包括：原片製造裝置90，其用以製造坯膜1；雙軸延伸裝置(管式(tubular)延伸裝置)10，其使坯膜1延伸；第一熱處理裝置20(預熱爐)，其對延伸後經摺疊之基材膜2(以下，亦簡稱為「膜2」)進行預熱；分離裝置30，其將經預熱之膜2分離為上下2片；第二熱處理裝置40，其對經分離之膜2進行熱處理(熱固定)；張力控制裝置50，其於對膜2進行熱固定時自下游側對膜2 施加張力；及捲取裝置60，其捲取對膜2進行熱固定而成之雙軸延伸尼龍膜3(以下，亦簡稱為「膜3」)。
如圖1所示，原片製造裝置90包括擠出機91、圓形模具(circular dies)92、水冷環93、穩定板94、及夾送輥(pinch roller)95。
管式延伸裝置10係用以藉由內部空氣之壓力使管狀之坯膜1雙軸延伸(氣泡延伸)而製造膜2之裝置。如圖1所示，該管式延伸裝置10包括夾送輥11、加熱部12、導引板13、及夾送輥14。
第一熱處理裝置20係用以對成為扁平之膜2預先進行熱處理之裝置。如圖1所示，第一熱處理裝置20包括拉幅機21與加熱爐22。
如圖1所示，分離裝置30包括導輥31、修整(trimming)裝置32、分離輥33A、33B、及附有槽之輥34A~34C。又，修整裝置32包含刀片321。
如圖1所示，第二熱處理裝置40包括拉幅機41與加熱爐42。
如圖1所示，張力控制裝置50包括導輥51A、51B、及張力輥52。
如圖1所示，捲取裝置60包括導輥61與捲取輥62。
此處，對可實施本發明之熱處理方法之第一熱處理裝置20及第二熱處理裝置40進行詳細說明。
第一熱處理裝置20係如上所述般包括拉幅機21與加熱爐22。拉幅機21係保持膜2之兩端部之機構，加熱爐22係用 以對膜2進行熱處理之加熱機構。該加熱爐22例如為熱風爐。
如圖2所示，拉幅機21包括導入膜2之導入部211、將膜2送出之送出部212、及複數個保持具70。
如圖3至圖5所示，保持具70包括基體構件71、及與該基體構件71之間保持膜2之保持構件72。
於拉幅機21中，如圖3所示，藉由導入部211而於基體構件71與保持構件72之間設置間隔。藉由將膜2插入至該間隔，而可將膜2導入至第一熱處理裝置20。又，於將膜2導入至第一熱處理裝置20後，如圖4所示，在基體構件71與保持構件72之間變得不存在間隔，而可於基體構件71與保持構件72之間保持膜2。又，於將膜2自第一熱處理裝置20送出時，藉由送出部212於基體構件71與保持構件72之間設置間隔。
於該保持具70中，如圖5及圖6所示，於保持構件72，於膜2之流動方向上之上游側及下游側之兩端部設置有曲率半徑(圖6之R)為3 mmR以上且15 mmR以下之R形狀。再者，只要該R形狀設置於膜2之流動方向上之至少上游側之端部即可。又，該R形狀亦設置於保持構件72中之未與膜2接觸之側(圖6之上側)，但只要至少設置於與膜2接觸之側(圖6之下側)即可。如此，由於在保持構件72設置有R形狀，故而可防止對膜2實施熱處理時之斷膜。
就防止斷膜之觀點而言，該R形狀之曲率半徑更佳為5 mmR以上且12 mmR以下。
第二熱處理裝置40係如上所述般包括拉幅機41與加熱爐42。而且，拉幅機41及加熱爐42與第一熱處理裝置20之拉幅機21及加熱爐22相同。又，關於拉幅機41之保持具70，就更確實地防止對膜實施熱處理時之斷膜之觀點而言，亦較佳為使用與拉幅機21之保持具70相同者。於此情形時，就進一步提高膜之連續生產性之觀點而言，保持構件72中R形狀之曲率半徑較佳為3 mmR以上且15 mmR以下，更佳為5 mmR以上且12 mmR以下。
[膜之製造方法]
其次，對使用該膜製造裝置100製造雙軸延伸尼龍膜之各步驟進行詳細說明。
(坯膜製造步驟)
如圖1所示，作為原料之尼龍樹脂係藉由擠出機91而熔融混煉，且藉由圓形模具92而擠壓成管狀。管狀之熔融樹脂藉由水冷環93而冷卻。坯膜1係藉由利用水冷環93使作為原料之熔融尼龍樹脂急冷而成形。經冷卻之坯膜1由穩定板94摺疊。經摺疊之坯膜1係藉由夾送輥95而作為扁平之膜被傳送至接下來之雙軸延伸步驟。
此處，作為原料之尼龍樹脂可適當地使用公知者。再者，於本實施形態中，由於使用可防止對膜實施熱處理時之斷膜且可提高膜之連續生產性之保持具70，故而可較佳地製造易裂性膜。因此，作為原料之尼龍樹脂係使用下述易裂性雙軸延伸尼龍膜之原料。
於本實施形態中，由於雙軸延伸為管式方式，故而結果 坯膜1亦成形為管狀。因此，於管狀熔融樹脂中，僅與外部氣體接觸之側與水直接接觸。
(雙軸延伸步驟)
如圖1所示，藉由坯膜製造步驟而製造之坯膜1係藉由夾送輥11而作為扁平之膜被導入至裝置內部。所導入之坯膜1藉由在加熱部12中利用紅外線對其加熱而氣泡延伸。其後，氣泡延伸後之膜2由導引板13摺疊。經摺疊之膜2由夾送輥14捏縮而作為扁平之膜2被傳送至接下來之第一熱處理步驟。
(第一熱處理步驟)
自雙軸延伸步驟傳送之膜2係於該膜2之收縮開始溫度以上、且較膜2之熔點低約30℃之溫度或其以下之溫度下對該膜2預先進行熱處理後傳送至接下來之分離步驟。
具體而言，一面利用拉幅機方式藉由保持具70保持膜2之相對於流動方向之寬度方向之兩端，一面對膜2實施熱處理。
較佳為該第一熱處理中之熱處理溫度為120℃以上且190℃以下，且弛緩率為15%以下。
藉由該第一熱處理步驟，使膜2之結晶度增加，從而使重合之膜彼此之滑動性變得良好。
(分離步驟)
經由導輥31而傳送之扁平之膜2係如圖1所示般藉由修整裝置32之刀片321將兩端部切開而分離為2片膜2A、2B。繼而，膜2A、2B藉由位於上下分離之位置之一對分離輥 33A、33B一面於膜2A、2B之間夾雜著空氣一面將其等分離。該扁平之膜2之切開既可藉由使刀片321位於距兩端部略靠內側而以產生一部分耳部之方式進行，或者，亦可藉由使刀片321位於膜2之折縫部分而以不產生耳部之方式進行。
該等膜2A、2B係藉由依序位於膜之流動方向上之3個附有槽之輥34A至34C而再次重疊並傳送至接下來之第二熱處理步驟。再者，該等附有槽之輥34A至34C係於附槽加工後對表面實施鍍敷處理而成者。經由該槽可獲得膜2A、2B與空氣之良好之接觸狀態。
(第二熱處理步驟)
重疊狀態之膜2A、2B係一面由拉幅機41之夾具(未圖示)保持兩端部，一面以構成膜2之樹脂之熔點以下且較熔點低約30℃之溫度以上進行熱處理(熱固定)，從而成為物性穩定之雙軸延伸尼龍膜3(以下，亦稱為膜3)，並傳送至接下來之捲取步驟。
具體而言，一面利用拉幅機方式藉由保持具70保持膜2之相對於流動方向之寬度方向之兩端，一面對膜2實施熱處理。再者，如此藉由在第二熱處理步驟中亦使用保持具70，而可進一步提高膜之連續生產性。
較佳為該第二熱處理中之熱處理溫度為190℃以上且220℃以下，且弛緩率為15%以下。
又，對於加熱爐42內之膜2A、2B，藉由位於下游側之張力控制裝置50施加較強之張力。
(捲取步驟)
藉由第二熱處理步驟而熱固定之膜3通過張力控制裝置50，並經由導輥61而作為膜3A、3B被捲取至2根捲取輥62上。
[易裂性雙軸延伸尼龍膜]
其次，對本實施形態中所製作之易裂性雙軸延伸尼龍膜(以下，亦簡稱為「ONy膜」)進行說明。
本實施形態中所製作之ONy膜含有Ny6與MXD6作為原料，該原料包含含有40質量%至85質量%之Ny6且含有15質量%至60質量%之MXD6(兩者之合計為100質量%)之原始原料、及將Ny6及MXD6熔融混煉而成之熱歷程品，該熱歷程品中之MXD6之熔點為233℃至238℃，且熱歷程品之含量以原料總量基準計為5質量%以上且40質量%以下。
此處，將Ny6之化學式示於下述式(1)中，將MXD6之化學式示於下述式(2)中。
H-[NH-(CH2)5-CO]n-OH．．．(1)
所謂上述原始原料，通常係指並非具有將Ny6與MXD6彼此混合並熔融混煉之歷程之混合原料之狀態的原料。例如，於即便有將Ny6或MXD6分別單獨地熔融混煉之歷程(例如回收再利用品)，亦不將其等混合而熔融混煉之情形時，為原始原料。然而，就成為ONy膜時之物性方面而 言，較佳為使用回收再利用次數儘可能少之原始原料。再者，即便具有將Ny6與MXD6彼此混合而熔融混煉之歷程，由於其混煉較弱，故而MXD6之熔點幾乎不下降，只要超過238℃，則該等Ny6與MXD6依然為構成原始原料者，而並非構成熱歷程品者。
即，於本實施形態中，將於構成原始原料之Ny6與MXD6中添加有熱歷程品之三者(或二者)進行所謂之乾摻和(Dry blend)後進行熔融混煉而構成ONy膜。
所謂上述熱歷程品，係指Ny6與MXD6之調配品一次性通過擠出機者，對於本發明，使用以示差掃描熱量計(DSC，Differential Scanning Calorimeter)將MXD6樹脂之熔點保持於233℃以上、238℃以下之範圍者。
本實施形態中所製作之ONy膜係原始原料中之Ny6與MXD6之調配比例為Ny6為40質量%至85質量%，MXD6為15質量%至60質量%，故而直線切割性優異。而且，相對於原料整體，含有5質量%以上、40質量%以下之將Ny6及MXD6熔融混煉而成之熱歷程品，故而即便於過於嚴酷之條件下使用ONy膜亦難以產生層內剝離。
此處，所謂層內剝離，係指若將ONy膜與適當之密封膜(sealant film)層壓後於過於嚴酷之條件下使用，則於ONy膜(尼龍層)內引起剝離之現象。層內剝離之機構未必明確，但認為係於ONy膜內，Ny6與MXD6呈層狀配向，而於其界面產生剝離者。
若產生此種層內剝離，則密封膜之強度變得不穩定，而 有於構成袋之情形時在過於嚴酷之使用條件下產生破袋等問題之虞。此種過於嚴酷之使用條件例如可藉由測定密封膜之層壓強度(剝離強度)之試驗而再現。
又，熱歷程品中之MXD6之熔點為233℃以上、238℃以下，較佳為235℃以上、237℃以下。若熱歷程品中之MXD6之熔點未達233℃，則易裂性延伸膜之直線切割性與耐衝擊強度會下降。又，若熱歷程品中之MXD6之熔點超過238℃，則防止層內剝離之效果會降低。
再者，於製造熱歷程品之過程中，若混煉時之溫度或壓力較高，則熱歷程品中之MXD6之熔點會更大幅度地降低。
此處，所謂熱歷程品中之MXD6之熔點，係指於與原始原料熔融混煉前之狀態下測定之熔點。
於將本實施形態中所製作之ONy膜用作層壓袋之表基材之情形時，就易裂性之觀點而言，較佳為於MD方向(Machine Direction，縱向)及TD方向(Transverse Direction，橫向)中之任一方向上撕裂強度均為70 N/cm以下。
於本實施形態中所製作之ONy膜中，熱歷程品中之Ny6與MXD6之調配比例較佳為Ny6：MXD6=60質量%至85質量%：15質量%至40質量%(兩者之合計為100質量%)。若熱歷程品中之Ny6與MXD6之調配比例為該範圍內，則直線切割性、耐衝擊強度及層內剝離防止效果更優異。
[本實施形態之效果]
根據如上所述之實施形態，可發揮如下效果。
(1)即便於熱處理時膜2產生收縮力，由於在保持構件72之膜2之流動方向上之上游側之端部設置有R形狀，故而亦可防止膜2中出現凹口。因此，可防止對膜2實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜2之連續生產性。
(2)由於在保持構件72之膜2之流動方向上之下游側之端部設置有R形狀，故而可更確實地防止膜2中出現凹口。
(3)由於在第一熱處理裝置20中使用可防止對膜2實施熱處理時之斷膜且可提高膜2之連續生產性之保持具70，故而即便如上述易裂性雙軸延伸尼龍膜般為易裂性膜，亦可高效地實施熱處理。
[實施形態之變形]
再者，以上所說明之態樣係表示本發明之一態樣者，本發明並不限定於上述實施形態，具備本發明之構成、且可達成目的及效果之範圍內之變形或改良當然亦包含於本發明之內容中。又，實施本發明時之具體之構造及形狀等亦可於達成本發明之目的及效果之範圍內設為其他構造或形狀等。本發明並不限定於上述各實施形態，可達成本發明之目的之範圍內之變形或改良包含於本發明。
例如，於本實施形態中，於保持構件72，於膜2之流動方向上之上游側及下游側之兩端部設置有R形狀，但並不限定於此。亦可僅於保持構件72，於膜2之流動方向上之上游側之端部設置有R形狀。又，於本實施形態中，製造了雙軸延伸尼龍膜，但亦可製造單軸延伸尼龍膜。進而，膜之材質亦可為尼龍以外者。又，於本實施形態中，採用 管狀方式作為雙軸延伸方法，但亦可為拉幅機方式。進而，作為延伸方法，既可為同時雙軸延伸亦可為逐次雙軸延伸。
實施例
其次，藉由實施例及比較例進一步對本發明進行詳細說明，但本發明並不受該等例子任何限定。再者，各例中之特性(線穩定性、膜熔接及直線切割性)係利用如下方法進行評價。
(i)線穩定性
觀察第一熱處理步驟中有無斷膜，按照下述基準評價線穩定性。
A：第一熱處理步驟中之斷膜於24小時以上未產生一次。
B：第一熱處理步驟中之斷膜於12小時以上且24小時以下期間為1次以上且2次以下。
C：第一熱處理步驟中之斷膜於12小時以內為3次以上。
(ii)熔接
按照下述基準評價第二熱處理步驟中之膜之熔接。
A：未產生膜之熔接。
C：產生膜之熔接。
(iii)直線切割性
按照下述基準評價將膜撕裂時之直線切割性。
A：可將膜呈直線撕裂。
B：可將膜大致呈直線撕裂。
C：無法將膜呈直線撕裂。
[實施例1] (坯膜製造步驟)
相對於將Ny6顆粒70質量%、與MXD6顆粒30質量%混合而成之原始原料，將已一次性地以該調配比熔融混合並顆粒化之熱歷程品(MXD6之熔點為236℃者)以原料總量基準(原始原料與熱歷程品之合計量基準)計調配30質量%。於下述其他實施例、比較例中，Ny6與MXD6之調配比於原始原料與熱歷程品中均相同。結果，本實施例中之Ny6整體與MXD6整體之質量比為Ny6/MXD6=70/30。
繼而，如圖1所示，於將該乾摻和品於擠出機91中以270℃進行熔融混煉後，將熔融物自圓形模具92作為管狀之膜擠出，繼而以水(15℃)進行急冷而製作坯膜1。再者，MXD6之熔點係使用PerkinElmer公司製造之示差掃描熱量測定裝置(DSC)，以升溫速度10℃/min自50℃升溫至280℃為止而進行測定。均將首輪中之峰值設為熔點。再者，熱歷程品係於270℃下進行10分鐘之熱處理所得者。
用作Ny6者為宇部興產(股)製造之尼龍6[UBE尼龍1023FD(商品名)，相對黏度ηr=3.6]，用作MXD6者為三菱瓦斯化學(股)製造之己二醯間苯二甲胺「MX尼龍6007(商品名)，相對黏度ηr=2.7」。
(雙軸延伸步驟)
其次，如圖1所示，於將該坯膜1插通於一對夾送輥11間之後，一面向其中壓入氣體一面利用加熱部12(設定溫度：310℃)進行加熱，並且以15 m3/分鐘之風量向延伸開 始點吹刮而使其膨脹為氣泡，並利用下游側之一對夾送輥14拉取，藉此，進行利用管式法之MD方向及TD方向上之同時雙軸延伸。該延伸時之倍率係於MD方向上設為3.0倍，於TD方向上設為3.2倍(第一熱處理步驟及第二熱處理步驟)。
其次，如圖1所示，藉由第一熱處理裝置20於溫度170℃下對膜2實施熱處理，其後，經過分離裝置30後，藉由第二熱處理裝置40於溫度210℃下實施熱處理。再者，作為第一熱處理裝置20之保持具70中之保持構件72，使用保持構件72之端部之R形狀之曲率半徑為5 mmR者。又，作為第二熱處理裝置40之保持具70中之保持構件72，使用保持構件72之端部之R形狀之曲率半徑為1 mmR者。
(捲取步驟)
其次，如圖1所示，使藉由第二熱處理步驟而熱固定之膜3經過張力控制裝置50，並經由導輥61而作為膜3A、3B捲取至2根捲取輥62上，從而製造雙軸延伸尼龍膜。
對所獲得之雙軸延伸尼龍膜之直線切割性進行評價。將所獲得之結果示於表1中。又，對製造過程中之線穩定性及膜熔接進行評價。將所獲得之結果示於表1中。
[實施例2~11、比較例1]
除了按照表1中所示之原料組成及製造條件變更各條件以外，以與實施例1相同之方式製造雙軸延伸尼龍膜。
分別對所獲得之雙軸延伸尼龍膜之直線切割性進行評價。將所獲得之結果示於表1中。又，對製造過程中之線 穩定性及膜熔接進行評價。將所獲得之結果示於表1中。
由表1所示之結果亦明確確認，於在第一熱處理裝置20之保持具70中之保持構件72中設置有曲率半徑為3 mmR以上且15 mmR以下之R形狀之情形(實施例1~6、10及11)時，可防止對膜實施熱處理時之斷膜，從而可提高膜之連續生產性。再者，於在第一熱處理裝置20及第二熱處理裝置40之保持具70中之保持構件72中設置有曲率半徑為3 mmR以上且15 mmR以下之R形狀之情形(實施例10及11)時，可進一步提高膜之連續生產性。
另一方面，於在第一熱處理裝置20之保持具70中之保持構件72中未設置R形狀之情形(比較例1)時，於第一熱處理步驟中頻繁地產生有斷膜。
又，於在第一熱處理裝置20之保持具70中之保持構件72中設置有曲率半徑未達3 mmR之R形狀之情形(實施例7~8)時，無法充分地抑制對膜實施熱處理時之斷膜。進而，可 確認於未進行第一熱處理步驟之情形(實施例9)時，就產生膜之熔接之方面而言欠佳。
1‧‧‧坯膜
2‧‧‧基材膜
2A‧‧‧膜
2B‧‧‧膜
3‧‧‧尼龍膜
3A‧‧‧膜
3B‧‧‧膜
10‧‧‧雙軸延伸裝置
11‧‧‧夾送輥
12‧‧‧加熱部
13‧‧‧導引板
14‧‧‧夾送輥
20‧‧‧第一熱處理裝置
21‧‧‧拉幅機
22‧‧‧加熱爐
30‧‧‧分離裝置
31‧‧‧導輥
32‧‧‧修整裝置
33A‧‧‧分離輥
33B‧‧‧分離輥
34A‧‧‧附有槽之輥
34B‧‧‧附有槽之輥
34C‧‧‧附有槽之輥
40‧‧‧第二熱處理裝置
41‧‧‧拉幅機
42‧‧‧加熱爐
50‧‧‧張力控制裝置
51A‧‧‧導輥
51B‧‧‧導輥
52‧‧‧張力輥
60‧‧‧捲取裝置
61‧‧‧導輥
62‧‧‧捲取輥
70‧‧‧保持具
71‧‧‧基體構件
72‧‧‧保持構件
90‧‧‧原片製造裝置
91‧‧‧擠出機
92‧‧‧圓形模具
93‧‧‧水冷環
94‧‧‧穩定板
95‧‧‧夾送輥
100‧‧‧膜製造裝置
211‧‧‧導入部
212‧‧‧送出部
321‧‧‧刀片
R‧‧‧曲率半徑
圖1係表示使用本發明之實施形態之保持具製造膜之裝置之一例的概略構成圖。
圖2係表示具備上述實施形態之保持具之第一熱處理裝置之概略構成圖。
圖3係表示上述第一熱處理裝置中保持膜之前之狀態之側視圖。
圖4係表示上述第一熱處理裝置中保持著膜之狀態之側視圖。
圖5係表示上述實施形態之保持具之立體圖。
圖6係表示上述實施形態之保持具中之保持構件之端部附近的放大前視圖。
70‧‧‧保持具
71‧‧‧基體構件
72‧‧‧保持構件

Claims (9)

  1. 一種保持具，其特徵在於：其係於對膜實施熱處理時使用者；且上述保持具包括基體構件、及與該基體構件之間保持上述膜之保持構件；於上述保持構件，於上述膜之流動方向上之上游側及下游側中之至少上游側之端部設置有R形狀。
  2. 如請求項1之保持具，其中上述R形狀係設置成曲率半徑為3 mmR以上且15 mmR以下之R形狀。
  3. 如請求項2之保持具，其中上述保持部之R形狀之曲率半徑為5 mmR以上。
  4. 一種熱處理方法，其特徵在於：其係保持膜並實施熱處理之膜之熱處理方法；且使用如請求項1至3中任一項之保持具保持上述膜。
  5. 如請求項4之熱處理方法，其中上述熱處理係以第一熱處理及第二熱處理之2個階段實施，且至少於實施上述第一熱處理時使用上述保持具。
  6. 如請求項5之熱處理方法，其中上述膜係雙軸延伸後之膜。
  7. 如請求項6之熱處理方法，其中上述膜含有尼龍6(以下，亦稱為Ny6)與己二醯間苯二甲胺(以下，亦稱為MXD6)作為原料；上述原料包含：原始原料，其含有40質量%至85質量%之Ny6，且含有15質量%至60質量%之MXD6(兩者之合 計為100質量%)；及熱歷程品，其係將Ny6及MXD6熔融混煉而成；上述熱歷程品中之MXD6之熔點為233℃以上且238℃以下；且上述熱歷程品之含量以原料總量基準計為5質量%以上且40質量%以下。
  8. 如請求項5之熱處理方法，其中上述第一熱處理係一面利用拉幅機方式藉由上述保持具保持上述膜之相對於流動方向之寬度方向之兩端，一面對上述膜施加熱之處理；上述第一熱處理中之熱處理溫度為120℃以上且190℃以下；且上述第一熱處理中之弛緩率為15%以下。
  9. 如請求項5之熱處理方法，其中上述第二熱處理係一面利用拉幅機方式藉由上述保持具保持上述膜之相對於流動方向之寬度方向之兩端，一面對上述膜施加熱之處理；上述第二熱處理中之熱處理溫度為190℃以上且220℃以下；且上述第二熱處理中之弛緩率為15%以下。
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