TW201329010A - 光電前平面基板 - Google Patents

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Sean Matthew Garner
Mingqian He
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Corning Inc
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Abstract

本發明描述前平面製品，該前平面製品使用層壓玻璃基板，例如，離子交換玻璃基板，其中與製造製品之方法一起描述可撓性玻璃及光電裝置，該可撓性玻璃及該等光電裝置可對鹼遷移敏感。

Description

光電前平面基板 【相關申請案之交叉引用】
本申請案根據專利法主張2011年11月8日申請之美國臨時申請案第61/556934號為優先權利，本申請案依賴於該案之內容且該案之內容全文以引用之方式併入本文中。
本案揭示係針對使用層壓結構之光電裝置，且詳言之係針對使用強化玻璃作為具有可撓性玻璃層或聚合物層之前平面基板之光電裝置，及製造該光電裝置之方法。
目前對使顯示器及類似裝置薄、重量輕及機械耐用存在興趣。當前方法為使用強化玻璃蓋保護單獨製造之顯示器。此當前方法使用多個基板且導致相對較厚之封裝裝置。對整合強化蓋與顯示器以達成比目前存在之裝置更薄、更輕及更耐用之裝置存在興趣。同樣對達成機械可靠之共形顯示器或非平坦顯示器存在興趣。
之前採用之製造較薄裝置的不同方法已包括以下步驟：製造顯示器面板或其它裝置面板；及化學蝕刻厚度。 接著將強化蓋附接至接近的框架或將強化蓋直接黏合至顯示器。若發生直接黏合，則該直接黏合執行為裝置封裝中之步驟且不為面板製造之部分。
使用強化玻璃基板產生機械耐用電子裝置前平面將係有利的。
已在2011年5月6日申請之共同擁有之美國臨時專利申請案第61/483,205號中描述機械強化離子交換玻璃作為基板及可撓性薄玻璃層用作障壁來製造有源電子裝置。由於無鹼可撓性玻璃亦可用作前平面，該前平面大體上充當液晶顯示器(LCD)之彩色濾光片，吾人相信，將可撓性玻璃層壓至機械耐用玻璃(諸如離子交換玻璃)作為前玻璃可產生機械強固前蓋與無鹼較薄、較輕玻璃表面兩者。
相反，本發明與先前方法不同，因為強化蓋直接整合至裝置結構中作為面板製造製程之部分。藉由將強化玻璃整合為面板製造之部分，可達成更薄、更輕及更耐用之裝置。同樣，此方法產生用於製造共形顯示器之更有效率製程。
本發明為將強化蓋整合至顯示器前平面之裝置設計。具體地，本發明包括針對黏合至強化蓋之可撓性玻璃前平面及直接製造在強化蓋上之前平面的概念。先前未報 告此裝置構造及製造裝置之方法。
實施例可提供以下優點中之一或多個優點：機械可靠性：藉由將前平面直接整合至蓋玻璃，達成更高機械可靠性等級。平坦前平面之直接黏合先前已在顯示器與觸控面板中發生。在一個實施例中，本發明將前平面直接黏合至蓋玻璃作為面板裝配或製造製程之部分；處理能力：藉由將可撓性玻璃前平面基板整合至蓋玻璃，達成額外處理選擇。可將可撓性玻璃最佳化用於滾印處理或其它處理且接著在完成製造後將該可撓性玻璃層壓至蓋玻璃。在滾印處理係有益的時，此方法使用滾印處理。該方法允許將完全或部分製造之可撓性玻璃前平面黏合至非平坦蓋玻璃。在對黏合至蓋玻璃之可撓性玻璃之片處理為優點時，該方法亦使用對黏合至蓋玻璃之可撓性玻璃之片處理；較薄及較輕重量：藉由整合蓋玻璃與前平面，達成較薄及較輕重量裝置；及/或此方法可消除不必要之裝置厚度及/或重量。
一個可能性為使用強化玻璃(諸如Gorilla®(Corning Incorporated之註冊商標)玻璃)作為前平面基板。
一個實施例為用於光電裝置之前平面基板，該前平面基板包含：玻璃基板，該玻璃基板具有第一表面及第二表面；及可撓性玻璃層，該可撓性玻璃層具有彎曲至30 cm或更大之半徑之能力且具有第一表面及第二表面，其中可撓性玻璃層之第一表面鄰近玻璃基板之第二表面。
另一實施例為一種方法，該方法包含以下步驟：提供 玻璃基板，該玻璃基板具有第一表面及第二表面；及塗覆可撓性玻璃層，該可撓性玻璃層具有彎曲至30 cm或更大之半徑之能力且具有第一表面及第二表面，其中可撓性玻璃層之第一表面鄰近玻璃基板之第二表面。
將在隨後詳細描述中闡述本發明額外的特徵及優點，且熟習此項技術之人士將易於自描述部分地顯而易見該等特徵及優點，或藉由實踐如在書面描述及該書面描述之申請專利範疇以及附隨圖式中所描述之本發明而瞭解範疇。
應理解，前述大體描述及以下詳細描述僅為本發明之示例，且意在提供用於瞭解本發明所主張之性質及特性之綜述或框架。
包括附隨圖式以提供對本發明之進一步瞭解，且該等附隨圖式被併入本說明書且構成本說明書之部分。圖式說明本發明之一或多個實施例並與描述一起用以解釋本發明之原則及操作。
現將詳細參閱各種實施例。
如本文中所使用，術語「基板」可用於描述取決於裝置之配置之基板或頂置板。舉例而言，基板為頂置板，若在頂置板裝配至(例如)光伏打電池中時，則頂置板在光伏打電池之光入射側上。頂置板可為光伏打材料提 供保護以免於影響及環境退化，同時允許透射太陽光譜之適當波長。進一步地，多個光伏打電池可配置成光伏打模組。光伏打裝置可描述電池、模組或以上兩者。
如本文中所使用，術語「鄰近」可界定為極為接近。鄰近結構可能與彼此實體接觸或可能不與彼此實體接觸。鄰近結構可具有佈置在該等鄰近結構之間的其它層及/或結構。鄰近層可藉由一或多個層分隔，該一或多個層包括一或多個氣隙。
本發明之總體設計包含黏合或製造在強化蓋玻璃上之裝置前平面。前平面可製造在可撓性玻璃基板上且接著黏合至蓋玻璃，或前平面可直接製造在蓋玻璃本身上。
就本發明而言，前平面可包含諸如用於電子紙之前平面之結構。此前平面可包括電泳前平面或電致變色前平面。前平面亦可包含用於液晶顯示器或電子紙顯示器以及觸控感測器基板之彩色濾光片前平面。前平面亦可包含光伏打裝置前平面。大體言之，裝置前平面為基板，在該基板上不形成半導體元件且該基板通常與後平面相對。
強化蓋玻璃可包含離子交換基板或其它強化基板。此強化蓋玻璃之實例包括Gorilla®玻璃及FIT基板。
可撓性玻璃基板可包含具有或不具有保護塗層之<300 μm厚的玻璃基板。與前平面製造相容之可撓性玻璃基板之實例包括：融合拉伸Eagle XG®(Corning Incorporated之註冊商標)、再拉伸Eagle XG®及槽縫式 拉伸0211。就前平面製造而言，可撓性玻璃可用作離散片或用作一卷捲軸玻璃。捲軸可撓性玻璃提供在有效率滾印製程中製造前平面之能力。在滾印前平面製造之後，離散裝置前平面可經單一化且黏合至獨立蓋玻璃基板。此舉允許在有益時使用滾印處理且在需要基於片之處理時使用黏合至蓋玻璃之可撓性玻璃。舉例而言，若在某一點後需要基於特定片之處理，則蓋玻璃可充當對可撓性玻璃之處理載體。在可撓性玻璃上製造裝置亦允許黏合至非平面強化蓋玻璃基板。自處理觀點來看，直接在彎曲的或非平面蓋玻璃上製造裝置將不實際。然而，如第2圖中所示，前平面首先在可撓性玻璃上製造且接著黏合至彎曲的蓋玻璃係可能的。
作為另一說明，本發明使用於裝配共形顯示器之一個方法成為可能。若在平整狀態下裝配裝置，則在裝置接著彎曲至給定半徑時將發生一定量之應變。此誘發之應變可影響裝置效能。舉例而言，若平整裝配LCD且接著彎曲LCD，則在其它層之液晶中之所得應變可導致扭曲圖像或低品質圖像。然而，用本發明，可首先製造前平面且接著將該前平面黏合至彎曲的蓋玻璃。然後，可將後平面裝配至前平面。藉由以此次序構造裝置，在彎曲時，黏著劑及黏合前平面與後平面之其它材料處於無應力狀態下。
如第1圖中所示，一個實施例為用於光電裝置之前平面基板100，該前平面基板100包含：玻璃基板10，該 玻璃基板10具有第一表面12及第二表面14；及可撓性玻璃層16，該可撓性玻璃層16具有彎曲至3 cm或更大之半徑之能力且具有第一表面18及第二表面20，其中可撓性玻璃層16之第一表面18鄰近玻璃基板10之第二表面14。在如第1圖中所示之一個實施例中，光電裝置22鄰近可撓性玻璃層16之第二表面20。
在一個實施例中，可撓性玻璃層佈置在玻璃基板上，例如，可撓性玻璃層與玻璃基板實體接觸。在一個實施例中，可撓性玻璃層為無鹼玻璃。無鹼玻璃可不含有有意添加之鹼，或例如，無鹼玻璃可具有0.05重量百分比或更少之鹼含量，例如，0重量百分比之鹼。可撓性玻璃層可呈玻璃片之形式。
在一個實施例中，可撓性玻璃層或片為光學透明的。可撓性玻璃層可為光學澄清或光學澄清及光學透明的。光學澄清可意謂無裸眼可見之顏色。
可撓性玻璃層可由無鹼玻璃組合物製成且可拉伸至<300 μm之厚度。舉例而言，可撓性玻璃可具有300 μm或更小之平均厚度，例如，200 μm或更小，例如，100 μm或更小，例如50 μm或更小。在一個實施例中，可撓性玻璃層具有150 μm或更小之平均厚度。可撓性玻璃可具有典型融合拉伸液晶顯示器(LCD)基板之尺寸公差及表面品質，以使在該可撓性玻璃之表面上製造光電裝置成為可能。在一些實施例中，可撓性玻璃能具有30 cm或更大、10 cm或更大、5 cm或更大、3 cm或更大，或 1 cm或更大之最小彎曲半徑。可撓性玻璃能具有此最小彎曲半徑而不破裂、不震裂及/或不斷裂。
在一個實施例中，裝置佈置在可撓性玻璃層上，例如，裝置與可撓性玻璃層實體接觸。
在另一實施例中，裝置自可撓性玻璃層間隔開。在裝置與可撓性玻璃層之間的空間中可存在多個層，例如，一或多個聚合物層、一或多個黏接層，該空間可包含空氣及/或彩色濾光片層或區域。
根據一個實施例及第1圖中所示，前平面基板進一步包含可選黏合層24，該可選黏合層24佈置在可撓性玻璃層16與玻璃基板10之間。在一個實施例中，黏合層為層壓層且可撓性玻璃層經層壓至玻璃基板。該層壓層可為有機或無機黏接薄膜。作為另一實例，黏合層24可為光固化黏接層或熱固化黏接層。壓敏黏著劑、光固化有機黏著劑、矽酮薄膜及熱固化黏著劑、諸如玻璃料之無機層為黏合層24之實例。
在一個實施例中，玻璃基板為玻璃片之形式。在一個實施例中，玻璃基板包含強化玻璃，該強化玻璃具有至少20 kgf之維氏裂縫形成臨限值。玻璃基板可為離子交換玻璃。玻璃基板可為平面或非平面的，例如，玻璃基板可為具有單一或可變半徑彎曲的。
根據一些實施例，玻璃基板具有厚度，該厚度為0.4 mm或更小，例如3.5 mm或更小，例如3.2 mm或更小，例如3.0 mm或更小，例如2.5 mm或更小，例如2.0 mm 或更小，例如1.9 mm或更小，例如1.8 mm或更小，例如1.5 mm或更小，例如1.1 mm或更小，例如0.5 mm至20.mm，例如0.5 mm至1.1 mm，例如0.7 mm至1.1 mm。儘管該等厚度為示例性厚度，但玻璃基板可具有任何數值之厚度，包括自0.1 mm高達4.0 mm(包括4.0 mm)之範疇中之小數位。
在一個實施例中，功能層佈置在玻璃基板之第一表面上。功能層可選自：防眩光層、防汙跡層、自潔層、防反射層、防指紋層、光學散射層及以上各者之組合。
在一個實施例中，強化玻璃基板為玻璃片之形式。強化玻璃基板可為離子交換玻璃。強化玻璃基板可為平面或非平面的，例如，強化玻璃基板可為具有單一或可變半徑彎曲的。如第2圖中所示，可撓性玻璃基板16可黏合至彎曲的強化玻璃基板10之凹面。未圖示之替代實例在於：可撓性玻璃基板16亦可黏合至彎曲的強化玻璃基板10之凸面。
經設計以用於應用(諸如用於消費型電子裝置中)及用於需要高破壞抗性等級之其它區域的玻璃藉由熱方式(例如，熱回火)或化學方式頻繁強化。廣泛使用離子交換以化學強化用於該等應用之玻璃製品。在此製程中，將含有第一金屬離子(例如，Li2O、Na2O等中之鹼性陽離子)之玻璃製品至少部分地浸沒於離子交換浴或介質中或另外與該離子交換浴或介質接觸，該離子交換浴或介質含有大於或小於存在於玻璃中之第一金屬離子之第 二金屬離子。第一金屬離子自玻璃表面漫射至離子交換浴/介質中，而來自離子交換浴/介質之第二金屬離子置換玻璃中之第一金屬離子至玻璃表面之下的層的厚度。較大離子取代玻璃中之較小離子在玻璃表面處產生壓縮應力，反之，較小離子取代玻璃中之較大離子通常在玻璃表面處產生拉張應力。在一些實施例中，第一金屬離子及第二金屬離子可為一價鹼金屬離子。然而，其它一價金屬離子(諸如Ag+、Tl+、Cu+及類似者)亦可在離子交換製程中使用。
在一個實施例中，玻璃基板為鈉鈣玻璃、鋁硼矽酸鹽、鹼鋁硼矽酸鹽、鋁矽酸鹽或鹼鋁矽酸鹽。在一個實施例中，玻璃基板為強化玻璃基板。在一個實施例中，強化玻璃基板為離子交換玻璃基板。
在一個實施例中，玻璃基板包含強化玻璃，其中玻璃自玻璃之表面經離子交換至至少20 μm之層之厚度。
在一個實施例中，當藉由離子交換化學強化時，本文所述之強化玻璃基板展現至少約5 kgf(千克力)之維氏起始破裂臨限值，在一些實施例中，至少約10 kgf，在一些實施例中及在其它實施例中，至少約20 kgf，例如，至少約30 kgf。第3圖為圖示各種厚度下之示例性離子交換玻璃基板(例如，Gorilla®玻璃)之環上環負載失效的圖表。
在一個實施例中，功能層佈置在強化玻璃基板之第一表面上。功能層可選自：防眩光層、防汙跡層、自潔層、 防反射層、防指紋層、防破裂層、光學散射層及以上各者之組合。
另一實施例為一種方法，該方法包含以下步驟：提供玻璃基板，該玻璃基板具有第一表面及第二表面；及塗覆可撓性玻璃層，該可撓性玻璃層具有彎曲至3 cm或更大之半徑之能力且具有第一表面及第二表面，其中可撓性玻璃層之第一表面鄰近玻璃基板之第二表面。
在一個實施例中，方法進一步包含以下步驟：形成鄰近可撓性玻璃層之第二表面之光電裝置。
在一個實施例中，方法進一步包含以下步驟：將可撓性玻璃片之極薄層塗覆在離子交換玻璃片上。可用有機黏著劑或玻璃-玻璃黏合製程(例如滾印方法)黏合無鹼可撓性玻璃片。實質上無鹼之可撓性玻璃片可有效阻止鹼離子自離子交換玻璃片遷移。根據一個實施例，在將可撓性玻璃片黏合至離子交換玻璃片之後，可在可撓性玻璃片上製造光電裝置。
聚合物層可用於將可撓性玻璃黏合至離子交換玻璃且該聚合物層可藉由溶液處理方法沈積。聚合物可為熱固化的(交聯的)或光固化的(交聯的)。
在將可撓性玻璃層或聚合物層塗覆至玻璃基板之後，可在可撓性玻璃層之第二表面或聚合物層上製造光電裝置或其它中間層(諸如，一個或多個彩色濾光片、一或多個黏接層及/或一或多個聚合物層)。舉例而言，有機TFT裝置可包括：離子交換玻璃基板，該離子交換玻璃 基板包括可撓性玻璃層或聚合物層。該等層可以不同順序堆疊且可由氣隙分隔。在另一方法中，在將可撓性玻璃層層壓至離子交換玻璃基板之前，可在無鹼可撓性玻璃層上製造光電裝置。此舉允許在前平面製造期間使用製程相容可撓性玻璃。然後將該可撓性玻璃層黏合至離子交換玻璃產生機械耐用堆疊。
如先前所提及，可撓性玻璃基板可黏合至機械耐用離子交換玻璃基板以產生複合結構。此複合結構提供用於高品質光電裝置製造及效能之無鹼可撓性玻璃表面。該複合結構亦提供離子交換玻璃之高機械耐久性。
可撓性玻璃層可自無鹼玻璃組合物製成且可拉伸至<300 μm之厚度。舉例而言，可撓性玻璃可具有300 μm或更小之厚度，例如，200 μm或更小，例如100 μm或更小，例如50 μm或更小。可撓性玻璃可具有典型融合拉伸LCD基板之尺寸公差及表面品質，以使在該可撓性玻璃之表面上或靠近該可撓性玻璃之表面製造高效能光電裝置成為可能。
離子交換玻璃基板可具有<1.5 mm之厚度且具有與Gorilla®玻璃及完全整合觸控(FIT)產品基板之彼等典型特徵類似的機械耐久性特徵。舉例而言，該離子交換玻璃基板可具有壓縮層，該壓縮層使在預切割至最終大小之裝置基板上製造前平面成為可能，或該離子交換玻璃基板可使在大小近似1m x 1m或更大之基板或類似基板上製造前平面成為可能，該等類似基板隨後切割至成 品形狀。
可藉由層壓或其它黏合方法將可撓性玻璃黏合至離子交換玻璃之表面。可撓性玻璃可具有等於離子交換玻璃之大小，或可撓性玻璃可小得多且可使數個離散可撓性玻璃塊黏合在離子交換玻璃表面上成為可能。為與低溫處理相容，可使用壓敏黏著劑(PSA)(例如，自矽酮黏著劑或丙烯酸酯黏著劑製成之壓敏黏著劑)黏合可撓性玻璃。典型PSA薄膜厚度範疇自12.5 μm至50 μm。亦可藉由使用塗覆至可撓性玻璃或離子交換玻璃之可固化黏著劑黏合可撓性玻璃。此黏著劑亦可為熱固化或UV(光)固化的。
如先前所提及，在將可撓性玻璃表面黏合至離子交換玻璃基板之前或之後，可在該可撓性玻璃表面上製造光電裝置。若在黏合之前製造光電裝置，則可藉由此項技術中已知之方法(諸如，分批處理方法、連續饋片式方法或滾印方法)製造裝置。該等方法利用可撓性玻璃與聚合物薄膜相比之尺寸穩定性。
在已完全或部分製造裝置後，若需要，則可使用高強度切割方法(諸如，雷射切割)來單體化獨立裝置基板。此舉使機械耐用之裝置前平面具有高強度表面及邊緣成為可能。
本文中所述之實施例可提供以下優點中之一或多個優點：提供在強化玻璃(例如，離子交換玻璃基板)上製造光電裝置及促進將強化玻璃(例如，離子交換玻璃) 用作顯示器後平面之合適基板的實用方法；允許在不改變玻璃之優越壓縮強度之情況下在強化玻璃(例如，離子交換玻璃)上製造電子裝置；及/或提供最小化離子交換玻璃上之離子至電子裝置中之遷移的簡單方法。
將對熟習此項技術之人士顯而易見，在不偏離本發明之精神或範疇之情況下，可對本發明進行各種修改及變更。因此，意欲本發明涵蓋本發明之修改及變更，條件是該等修改及該等變更在所附申請專利範圍及其均等物之範疇內。
10‧‧‧玻璃基板
12‧‧‧第一表面
14‧‧‧第二表面
16‧‧‧可撓性玻璃層
18‧‧‧第一表面
20‧‧‧第二表面
22‧‧‧光電裝置
24‧‧‧黏合層
100‧‧‧前平面基板
可單獨地由以上詳細描述理解本發明或與附隨圖式一起理解本發明。
第1圖為根據一個實施例之前平面基板之圖示。
第2圖為根據一個實施例之前平面基板之圖示。
第3圖為圖示各種厚度下之示例性離子交換玻璃基板之環上環負載失效的圖表。
10‧‧‧玻璃基板
12‧‧‧第一表面
14‧‧‧第二表面
16‧‧‧可撓性玻璃層
18‧‧‧第一表面
20‧‧‧第二表面
22‧‧‧光電裝置
24‧‧‧黏合層
100‧‧‧前平面基板

Claims (25)

  1. 一種用於一光電裝置之前平面基板，該前平面基板包含：一玻璃基板，該玻璃基板具有一第一表面及一第二表面；以及一可撓性玻璃層，該可撓性玻璃層具有彎曲至30 cm或更大之一半徑之一能力且具有一第一表面及一第二表面，其中該可撓性玻璃層之該第一表面鄰近該玻璃基板之該第二表面。
  2. 如請求項1所述之前平面基板，該前平面基板進一步包含鄰近該可撓性玻璃層之一光電裝置。
  3. 如請求項2所述之前平面基板，其中該裝置設置在該可撓性玻璃層上
  4. 如請求項2所述之前平面基板，其中該裝置自該可撓性玻璃層間隔一或多個層。
  5. 如請求項4所述之前平面基板，其中該一或多個層包含空氣、一聚合物層或一黏接層。
  6. 如請求項2所述之前平面基板，其中該裝置係選自由以下各者組成之群組：一光伏打裝置；一薄膜電晶體；一 二極體；一觸控螢幕裝置；一電泳裝置；一電致變色裝置；及一顯示器裝置。
  7. 如請求項1所述之前平面基板，其中該玻璃為一鈉鈣玻璃、一鋁硼矽酸鹽、一鹼鋁硼矽酸鹽、一鋁矽酸鹽或一鹼鋁矽酸鹽。
  8. 如請求項1所述之前平面基板，其中該可撓性玻璃層設置在該玻璃基板上。
  9. 如請求項1所述之前平面基板，該前平面基板進一步包含一黏合層，該黏合層佈置在該可撓性玻璃層與該玻璃基板之間。
  10. 如請求項9所述之前平面基板，其中該黏合層為一層壓層且該可撓性玻璃層層壓至該玻璃基板。
  11. 如請求項1所述之前平面基板，其中該可撓性玻璃層為一無鹼玻璃。
  12. 如請求項1所述之前平面基板，其中該可撓性玻璃層為一玻璃片。
  13. 如請求項1所述之前平面基板，其中該玻璃基板為一玻 璃片。
  14. 如請求項1所述之前平面基板，該玻璃基板包含一強化玻璃，其中該玻璃自該玻璃之一表面經離子交換至至少20 μm之一層之厚度。
  15. 如請求項1所述之前平面基板，其中該玻璃基板為一離子交換玻璃。
  16. 如請求項1所述之前平面基板，其中該玻璃基板具有至少20 kgf之一維氏裂縫形成臨限值。
  17. 如請求項1所述之前平面基板，該前平面基板進一步包含一功能層，該功能層佈置在該玻璃基板之該第一表面上。
  18. 如請求項17所述之前平面基板，其中該功能層選自：一防眩光層、一防汙跡層、一自潔層、一防反射層、一防指紋層、一光學散射層及以上各者之組合。
  19. 如請求項1所述之前平面基板，其中該玻璃基板係彎曲的。
  20. 一種方法，該方法包含以下步驟： 提供一玻璃基板，該玻璃基板具有一第一表面及一第二表面；以及塗覆一可撓性玻璃層，該可撓性玻璃層具有彎曲至30 cm或更大之一半徑之一能力且具有一第一表面及一第二表面，其中該可撓性玻璃層之該第一表面鄰近該玻璃基板之該第二表面。
  21. 如請求項20所述之方法，該方法進一步包含以下步驟：形成鄰近該可撓性玻璃層之該第二表面之一光電裝置。
  22. 如請求項20所述之方法，其中該可撓性玻璃層包含一無鹼玻璃且其中塗覆該可撓性玻璃層之該步驟包含以下步驟：在形成該裝置前將該無鹼玻璃設置在該玻璃基板上。
  23. 如請求項20所述之方法，其中該可撓性玻璃層包含一無鹼玻璃且其中塗覆該可撓性玻璃層之該步驟包含以下步驟：在形成該裝置後將該無鹼玻璃佈置在該玻璃基板上。
  24. 根據請求項20所述之方法，其中將該可撓性玻璃層塗覆至該玻璃基板之該步驟包含以下步驟：一起軋製該層與該基板，以使得在該層與該片之間形成一黏合真空黏合。
  25. 根據請求項20所述之方法，其中該塗覆步驟包含以下步驟：將該無鹼玻璃層壓或黏性黏合至該玻璃基板。
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