TW201323638A - 工作模具及鍍膜層 - Google Patents

Abstract

一種工作模具，包含一模具本體，及至少一自該模具本體向上形成的鍍膜層，該鍍膜層包括一層以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆形成的抗高溫鍍膜，該抗高溫鍍膜組成中具有微量元素，且該微量元素選自以下所成的群組：鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合；藉該抗高溫鍍膜的鎳鋁合金的晶體結構使得該鍍膜層在高溫下的抗沾黏、抗氧化特性更佳，而令整體工作模具可在高溫下進行模造成形。

Description

工作模具及鍍膜層

本發明是有關於一種工作模具及鍍膜層，特別是指一種用於高溫加工的工作模具及鍍膜層。

參閱圖1，現有的工作模具1包含一模具底材11，及一形成於該模具底材11上的功能膜層12，該功能膜層12具有防止因沾黏而導致產品脫模時損傷的作用，並可提高工作模具1的整體使用壽命，所以，該功能膜層12的研究是目前產業上發展的重要課題。

台灣第093126646專利申請案揭示利用富石墨碳相碳的類金鋼石膜層形成於模具底材上，並以不同碳相的比例調配得到易脫模、硬度高，及使用壽命長等特點的工作模具的技術手段。惟，類金鋼石膜層的耐溫性不足，當模造溫度高於400℃時，類金鋼石膜層會開始產生碳化而失去原有良好的脫模作用與對模具底材表面的保護效果。

又，台灣第093121109專利申請案用膨脹率相近於鑽石的陶瓷材料作為模具底材，並在其上形成鑽石保護膜的技術手段，利用鑽石的高硬度、高耐溫性等優點得到可應用於高溫模造的工作模具。但，不論是陶瓷材料，及/或鑽石保護膜的製程皆有相當的製程條件與成本限制，而使得此類工作模具並無實際應用價值。

另外，台灣第096133395專利申請案中則揭示由20~60層以上的鉑(Pt)、銥(Ir)、釕(Ru)、銠(Rh)或鎢(W)等合金薄膜中至少兩者交疊而成奈米多層膜的技術，藉以提高工作模具的模造溫度與本身的機械強度；又如美國專利5171348亦提出以貴金屬合金：鉑(Pt)、銥(Ir)、釕(Ru)、銠(Rh)、鎢(W)、鈀(Pd)、錸(Re)、鉭(Ta)、鋨(Os)至少其中一種構成模具底材上的功能薄膜的技術。此兩發明技術的缺點皆在於用貴金屬構成保護模具底材的功能膜層，其材料成本以及製程成本都非常高，對於工業上大量地應用推廣將受到很大的限制。

還有，台灣第094146036專利申請案揭示一種以鐵氟龍(Teflon,Polytetrafluoroethene；縮寫PTFE)、含鐵氟龍的複合材料，及含陶瓷的材料其中之一所構成的功能薄膜的技術手段，以提升工作模具整體的抗沾黏性，其缺點在於當模造溫度高於400℃時，鐵氟龍材料也會開始碳化而失去抗沾黏的特性。

由上述可知，一般工作模具所使用的功能膜層大致可分為含貴金屬的合金、陶瓷材料，及類鑽石碳(Diamond Like Carbon,DLC)等三類，但以含貴金屬的合金或鑽石為膜層材料的成本高，陶瓷材料選擇限制多且對於模具底材的附著性通常較差，此外，類鑽碳膜對於溫度的耐受能力低，因此，都具有相當大的改進空間。

另外，美國專利7618719揭示一種可應用於高於600℃的玻璃用模造工具的技術手段，其特徵在於工作模具包含在高溫模造時具有良好脫膜效果與持久性的硬質膜(Hard coating)，該硬質膜含鎢(W)、釩(V)、硼(B)、碳(C)、氮(N)並形成於一非晶質CrSiN層上，以期改善含貴金屬的合金、陶瓷材料，及類鑽石碳(Diamond Like Carbon,DLC)等三類材料構成功能膜層的工作模具的缺點。以此專利案揭示的技術手段為基礎，當有機會開發出製程成本更低廉、耐溫性高而可廣泛應用於模造，特別是高溫模造的工作模具。

因此，本發明之目的即在提供一種耐高溫、且可應用於大量工業生產的工作模具。

再者，本發明之又一目的即在提供一種耐高溫、原料成本低的鍍膜層。

於是，本發明工作模具包含一模具本體，及至少一自該模具本體向上形成的鍍膜層。

該鍍膜層包括一以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆形成的抗高溫鍍膜，且該抗高溫鍍膜的組成中添加有以鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合的微量元素。

另外，本發明鍍膜層，包含一第一鍍膜，該第一鍍模是由添加微量元素的富含鋁的鎳鋁合金所構成，且該微量元素是選自鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合。

本發明之功效在於：利用該鍍膜層具有的高強度、良好的機械性質、抗高溫、抗氧化等特性，滿足高溫模造下，仍能保持良好的脫膜效果與保護能力，且因本發明不使用貴金屬、或稀有金屬作為膜層材料，而能兼顧材料成本、推廣於工業上的大量應用發展。

有關本發明之前述及其他技術內容、特點與功效，在以下配合參考圖式之三個較佳實施例的詳細說明中，將可清楚的呈現。

在本發明被詳細描述之前，要注意的是，在以下的說明內容中，類似的元件是以相同的編號來表示。

參閱圖2，本發明工作模具之一第一較佳實施例包含一模具本體2，及一自該模具本體2向上形成的鍍膜層3。

該模具本體2包括一底材21，及一連結該底材21和該鍍膜層3的結合材22。該底材21為含金屬材料所構成，如鑄鐵、碳鋼、高速鋼、鎳基合金、鈷基合金、或碳化鎢，而用以成形出所需產品，特別注意的是，當加工成形的溫度超過600℃時，以具有較耐高溫特性的鎳基合金、鈷基合金、或碳化鎢為較佳選擇。而該形成於該底材21加工表面的結合材22選用與該底材21及該鍍膜層3皆有良好親合力、接合能力佳的材料，一般以金屬膜為主，例如鋁(Al)、銅(Cu)、鉻(Cr)、鎳(Ni)、鈦(Ti)、釩(V)、鈮(Nb)、鎢(W)、鈷(Co)、鋯(Zr)至少其中一種所組成，且該結合材22厚度不小於25奈米(nm)，藉此加強該鍍膜層3對該底材21的附著力、並減少界面應力而不易分離。

在本實施例中，該底材21是碳化鎢所構成，而該結合材22則是以鉻金屬形成於該底材21用於加工模造的表面上，且該鉻金屬的結合材22厚度約為25奈米~500奈米，較佳地，厚度範圍是100奈米~300奈米。

該鍍膜層3包括一連接於該模具本體2的結合材22表面的抗高溫鍍膜31(即第一鍍膜)，該抗高溫鍍膜31是以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆而成，且其中鋁的原子含量百分比在42~55at%，較佳地，鋁含量在51~55at%而具有較優異的高溫使用壽命，特別的是，在該富含鋁的鎳鋁合金所構成的抗高溫鍍膜31中還具有不大於5at%的微量元素，所添加的微量元素是選自於與鎳原子半徑相近的金屬，如鈷(Co)、鐵(Fe)、鉻(Cr)、銅(Cu)、釩(V)至少其中一種，如此一來，在該富含鋁的鎳鋁合金所構成的抗高溫鍍膜31中的鎳原子空缺位置便可被該微量金屬所取代，降低鍍膜的晶體結構中原子空缺的數量。

該富含鋁的鎳鋁合金的抗高溫鍍膜31呈B2型晶體結構，且與空氣接觸的表層極易氧化而生成具保護性的氧化鋁層。此外，鋁含量愈高，生成氧化鋁的速率也愈快達到後續膜體抗氧化、抗蝕的效果，而具有良好的高溫抗氧化性及熱傳導性，但鋁含量較高的鎳鋁合金B2晶體結構上，因為鋁原子數量較多會導致鎳原子的位置較容易產生空缺，此等空缺將使得外界環境的氧化氣氛，或是鎳、鋁原子沿該空缺路徑朝該模具本體2方向擴散進入，而令該富含鋁的鎳鋁合金的抗高溫鍍膜31可能失去原有的B2晶體結構、喪失耐高溫、抗氧化的特性，因此，藉由添加於該抗高溫鍍膜31中的微量金屬原子填補於鎳原子空缺中，因而降低該抗高溫鍍膜31中晶體結構的空缺數量，以降低如氧氣等氧化氣氛與合金原子往內部擴散的問題。

因此，本發明工作模具利用該鍍膜層3中，以富含鋁的鎳鋁合金結構為主要構成的該抗高溫鍍膜31，藉鋁含量多的鎳鋁晶體結構，使得耐溫性、抗氧性提升，且兼顧高溫下抗沾黏效果，而不需以貴金屬、鑽石等材料成本高的物質作為組成，對於產業上的大量使用更是降低成本的一大優點。

參閱圖3，本發明工作模具之一第二較佳實施例與該第一較佳實施例類似，包含該模具本體2，及一自該模具本體2向上形成的鍍膜層4，不同之處在於該鍍膜層4的組成。

該鍍膜層4包括一連接於該模具本體2的結合材22表面的抗擴散鍍膜41(即第二鍍膜)，及一形成在該抗擴散鍍膜41遠離該模具本體2的表面上的抗高溫鍍膜42(即第一鍍膜)。

該抗高溫鍍膜42是以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆而成，且其中鋁的原子含量百分比在42~55at%，較佳地，鋁含量在51~55at%、厚度為300nm~5000nm而具有較優異的高溫使用壽命。特別的是，在該富含鋁的鎳鋁合金所構成的抗高溫鍍膜42中還具有不大於5at%的微量元素，所添加的微量元素是選自於與鎳原子半徑相近的金屬，如鈷(Co)、鐵(Fe)、鉻(Cr)、銅(Cu)、釩(V)至少其中一種，如此一來，在該富含鋁的鎳鋁合金所構成的抗高溫鍍膜42中的鎳原子空缺位置便可被該微量金屬所取代，降低該抗高溫鍍膜42的晶體結構中原子空缺的數量。

該抗擴散鍍膜41是以富含鎳的鎳鋁合金所組成，且其中鎳的原子含量百分比在51~58at%、厚度為25nm~500nm。

而該富含鋁的鎳鋁合金的抗高溫鍍膜42容易導致鎳原子的位置較容易產生空缺，使得外界環境的氧化氣氛，或是鎳、鋁原子沿該空缺路徑朝該模具本體2方向擴散進入，而令該富含鎳的鎳鋁合金的抗擴散鍍膜41失去耐高溫、抗氧化的特性的問題，除了藉由以微量金屬原子添加於該抗高溫鍍膜42中填補於鎳原子空缺外，本第二較佳實施例中該富含鎳的鎳鋁合金的抗擴散鍍膜41，因鎳原子半徑較小，所以晶體結構中的鋁原子所造成的空缺容易被含量多的鎳原子填充代替，而能更有效地進一步改善該抗高溫鍍膜42中的金屬原子往內部擴散，保持該抗高溫鍍膜42良好的耐高溫、抗氧化特性，與優異的機械性質。

參閱附件1，特別值得一提的是，本發明工作模具在高溫下所成形之玻璃樣品不僅無霧化缺陷、表面平整，同時亦具有良好的透光性，特別是未來高光學特性的玻璃鏡片、或是高階電子產品的玻璃面板等需求，皆要在650℃以上的操作溫度成形，本發明工作模具在此便更具有產業競爭力。

在此特別補充說明的是，鎳鋁合金本身雖即具有優良的材料特性，低密度、高熔點、高熱傳速率、高強度、抗蝕、抗高溫氧化與導電等而可應用於半導體元件的線路接點、觸媒、電流斷路器，或航空用零件的表面絕熱塗層介層材料等等，但因為鎳鋁合金的鑄造困難，一般使用粉末冶金技術合成而無法將其大量運用於高溫結構材料，亦無特別在高溫(大於650℃)模造的情況下，針對鎳鋁合金在工作模具上應用的探討，因此，本發明利用濺鍍方式、而非以往合金塊材冶金合成，不僅製程上低成本化，也適合於大型的工作模具。

參閱圖4，本發明工作模具之一第三較佳實施例，該第三較佳實施例與該第二較佳實施例類似，其不同之處僅在於該鍍膜層4的抗擴散鍍膜41’(即第二鍍膜)是以非晶質金屬玻璃構成，且非晶質金屬玻璃是選自以下所成的群組：鋯基金屬玻璃、鎳基金屬玻璃、鈦基金屬玻璃、銅基金屬玻璃、鉑基金屬玻璃，及鈀基金屬玻璃。

非晶質金屬玻璃因為無晶界存在，一樣可使得該抗高溫鍍膜42的原子、以及氧化氣氛大幅降低往內部擴散的速率，而令整體工作模具的使用壽命更長、效能更佳。

在此特別補充的是，上述該第二、三較佳實施例中皆以一個鍍膜層4為實施說明，但實際上，也可是如圖5所示包含兩個以上層疊的鍍膜層4，重點在於，其最頂面一定為該具耐高溫、抗氧化的抗高溫鍍膜42(即第一鍍膜)。

綜上所述，本發明工作模具藉結合材22降低鍍膜層3、4與底材21間的應力、並增加彼此間的附著力，再加上該以富含鋁的鎳鋁合金為主的抗高溫鍍膜31、42增強工作表面的機械性質，提升耐溫、抗氧特性並具備良好的脫模能力，以及高溫下抗原子擴散的抗擴散鍍膜41、41’進一步鞏固該抗高溫鍍膜42的耐高溫、抗氧化的晶體結構，因此，使得本發明工作模具可在製程、材料成本低的前提下仍能進行高溫模造的實施，故確實能達成本發明之目的。

惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當不能以此限定本發明實施之範圍，即大凡依本發明申請專利範圍及發明說明內容所作之簡單的等效變化與修飾，皆仍屬本發明專利涵蓋之範圍內。

2．．．模具本體

21．．．底材

22．．．結合材

3．．．鍍膜層

31．．．抗高溫鍍膜

4．．．鍍膜層

41．．．抗擴散鍍膜

41’．．．抗擴散鍍膜

42．．．抗高溫鍍膜

圖1是一剖視圖，說明現有的工作模具；

圖2是一剖視圖，說明本發明工作模具的一個第一較佳實施例；

圖3是一剖視圖，說明本發明工作模具的一個第二較佳實施例；

圖4是一剖視圖，說明本發明工作模具的一個第三較佳實施例；及

圖5是一剖視圖，說明該第二、三較佳實施例的另一種實施態樣。

2．．．模具本體

21．．．底材

22．．．結合材

4．．．鍍膜層

41．．．抗擴散鍍膜

42．．．抗高溫鍍膜

Claims (14)

1. 一種工作模具，包含：一模具本體；及至少一鍍膜層，自該模具本體向上形成，包括一以富含鋁的鎳鋁合金鍍覆形成的抗高溫鍍膜，該抗高溫鍍膜組成中具有微量元素，且該微量元素選自以下所成的群組：鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合。
2. 根據申請專利範圍第1項所述之工作模具，其中，該抗高溫鍍膜中的微量元素含量百分比不大於5at%，該鋁原子含量百分比為42~55at%。
3. 根據申請專利範圍第1項所述之工作模具，其中，該鍍膜層還包括一選自富含鎳的鎳鋁合金和非晶質金屬玻璃其中之一所構成的抗擴散鍍膜，且該抗高溫鍍膜形成在該抗擴散鍍膜遠離該膜具本體的表面上。
4. 根據申請專利範圍第3項所述之工作模具，其中，該抗擴散鍍膜是以富含鎳的鎳鋁合金構成且鎳原子含量百分比為51~58at%。
5. 根據申請專利範圍第3項所述之工作模具，其中，該抗擴散鍍膜是以非晶質金屬玻璃構成，且非晶質金屬玻璃是選自以下所成的群組：鋯基金屬玻璃、鎳基金屬玻璃、鈦基金屬玻璃、銅基金屬玻璃、鉑基金屬玻璃，及鈀基金屬玻璃。
6. 根據申請專利範圍第1、3項所述之工作模具，其中，該模具本體包括一底材，及一連結該底材和該鍍膜層的結合材。
7. 根據申請專利範圍第6項所述之工作模具，其中，其中，該底材是選自以下所成的群組構成：鑄鐵、碳鋼、高速鋼、鎳基合金、鈷基合金，及碳化鎢，該結合材是選自以下所成的群組構成：鋁、銅、鉻、鎳、鈦、釩、鈮、鎢、鈷、鋯，及此等之一組合。
8. 根據申請專利範圍第7項所述之工作模具，其中，該結合材的厚度是不小於25nm。
9. 一種鍍膜層，包含一第一鍍膜，該第一鍍模是由添加微量元素的富含鋁的鎳鋁合金所構成，且該微量元素是選自鈷、鐵、鉻、銅、釩，及此等之一組合。
10. 根據申請專利範圍第9項所述之鍍膜層，其中，該第一鍍膜中的鋁原子含量百分比為42~55at%，且該微量元素的原子含量百分比不大於5at%。
11. 根據申請專利範圍第9項所述之鍍膜層，還包含一選自富含鎳的鎳鋁合金和非晶質金屬玻璃其中之一所構成的第二鍍膜，且該第一鍍膜形成於該第二鍍膜表面。
12. 根據申請專利範圍第11項所述之鍍膜層，其中，該第二鍍膜是以富含鎳的鎳鋁合金構成，且鎳原子含量百分比為51~58at%。
13. 根據申請專利範圍第11項所述之鍍膜層，其中，該第二鍍膜以非晶質金屬玻璃構成，且非晶質金屬玻璃是選自以下所成的群組：鋯基金屬玻璃、鎳基金屬玻璃、鈦基金屬玻璃、銅基金屬玻璃、鉑基金屬玻璃，及鈀基金屬玻璃。
14. 根據申請專利範圍第11項所述之鍍膜層，其中，該第一鍍膜的厚度為300nm~5000nm，該第二鍍膜的厚度為25nm~500nm。