TW201321361A - 抑制脯氨酸羥化酶活性的化合物的穩定晶型及其應用 - Google Patents
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Abstract
本發明涉及結構式I所示化合物的晶型、其製備方法包括中間體的製備、其藥物組合物,以及在治療疾病或製備治療疾病藥物製劑中的用途。 □
Description
本發明涉及到一種新化合物的多晶型,以及它們對抑制脯氨酸羥化酶(prolyl hydroxylase)的活性中的應用;本發明同時也涉及到應用上述一種或多種晶型來調節體內HIF水準或活性,或治療與體內HIF水準或活性提高或減低有關病症的方法。
細胞轉錄因數HIF(Hypoxia Inducible Factor,低氧誘導因子)在很多生物體內對細胞內氧的動態平衡起著中心調節的作用,同時也是細胞對缺氧產生相應反應時的一個關鍵的調控因數。HIF的轉錄所調控的一系列基因在新血管生成,紅細胞生成,血紅蛋白F生成,能量代謝,炎症,血管舒縮功能調控,細胞凋亡和細胞增殖這些生理過程中都有著舉足輕重的作用。HIF在癌症細胞中一般水準會升高,在體內缺血和缺氧的病理生理也起著作用。
HIF轉錄複合體是個αβ異二聚體,HIF是一個內在結構組成的核蛋白,可以跟受體內氧水準調控的HIF亞單位形成二聚體。體內氧水準調控HIF是通過對HIF亞單位的羥基化,使之迅速進一步被蛋白酶體分解。在有充足氧的細胞中,pVHL蛋白(Hippel-Lindau tumor suppressor
protein)會與羥基化的HIF結合以促進其依賴於泛素(ubiquitin)的蛋白分解。這個過程在缺氧條件下會被抑制,HIF-α變得更穩定,更有利於HIFαβ二聚體的轉錄形成和活化。
HIF亞單位羥基化主要是在脯氨酸和天冬氨酸殘基上,並可以由一系列依賴2-oxoglutarate的酶來催化。這一系列酶包括可以羥基化人HIF1的Pro402和Pro564的脯氨酸羥化酶(PHDs-HIF prolyl hydroxylase isozymes),以及可以羥基化人HIF1上的Asn803的FIH(Factor Inhibiting HIF)。對PHDs或FIH的抑制,會增加HIF的穩定性並更有利於其轉錄形成和活化。
對PHDs的抑制也會促進HIF的穩定和HIF複合體的轉錄活化,並最終為治療缺血和貧血症狀提供了一種可能。已有多個專利申請保護具有潛在PHDs抑制劑作用的化學結構式,如WO2004108681、WO2007070359、WO2011006355。
本發明涉及多種基本上純的晶型,這些晶型為如下結構式I所示化合物多種晶型,和\或水合物,和\或溶劑化物,
本發明所述結構式I的化合物可以以一種或一種以上的晶型存在。申請人將這些晶型簡稱為晶型I、晶型II、晶型III、晶型IV和晶型V。
本發明的目的是提供結構式I所示化合物的晶型。
本發明首先提供了結構式I所示化合物的一種
晶型,其X射線粉末衍射譜圖具有衍射角2θ為7.1°、10.4°、12.4°、17.0°和20.2°的衍射峰,申請人將其定義為晶型I。
本發明進一步提供了上述晶型I的優選技術方案:
作為優選,上述晶型I中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為12.4Å、8.5Å、7.2Å、5.2Å和4.4Å。
作為優選,其X射線粉末衍射譜圖具有衍射角2θ為7.1°、8.4°、10.4°、12.4°、13.3°、17.0°、20.2°和27.6°的衍射峰
作為優選,上述晶型I中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為12.4Å、10.6Å、8.5Å、7.2Å、6.7Å、5.2Å、4.4Å及3.2Å。
作為優選,上述晶型I具有基本如圖1所示的X-射線粉末衍射圖。
圖1所示的X-射線粉末衍射圖的特徵詳見表A。
作為優選,該晶型I熔點為190~193℃。
作為優選,該晶型I純度85%。
作為優選,該晶型I純度95%。
作為優選,該晶型I純度99%。
本發明還提供了晶型I的製備方法:包括如下的步驟:室溫下將結構式I所示化合物先溶解於溶劑中,再揮發、沉澱即得晶型I,其中,所述溶劑選自丙酮、乙酸乙酯、異丙醇、丙酮/甲醇、丙酮/庚烷、丙酮/異丙醇、丙酮/乙酸異丙酯、四氫呋喃/甲醇、四氫呋喃/乙酸乙酯、四氫呋喃/庚烷、四氫呋喃/乙腈、四氫呋喃/異丙醇、四氫呋喃/甲基叔丁基醚或四氫呋喃/二氯甲烷。或者;將過量的結構式I所示化合物在二氯甲烷、水/丙酮或水/四氫呋喃中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,或在庚烷、甲醇或水/四氫呋喃中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,最後所得晶體即為晶型I。
本發明進一步提供了結構式I所示化合物的另一種晶型,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為6.5°、9.3°、11.2°、15.4°和18.4°的衍射峰,申請人將其定義為晶
型II。
本發明進一步提供了上述晶型II的優選技術方案:
作為優選,上述晶型II中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為13.6Å、9.5Å、7.9Å、5.8Å和4.8Å。
作為優選,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為6.5°、9.3°、11.2°、13.0°、14.1°、15.4°、18.4°和24.6°的衍射峰。
作為優選,上述晶型II中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為13.6Å、9.5Å、7.9Å、6.8Å、6.3Å、5.8Å、4.8Å和3.6Å。
作為優選,上述晶型II具有基本如圖2所示的X-射線粉末衍射圖。
圖2所示的X-射線粉末衍射的特徵詳見表B。
作為優選,該晶型II熔點為129~132℃。
作為優選,該晶型II純度85%。
作為優選,該晶型II純度95%。
作為優選,該晶型II純度99%。
本發明還提供了上述晶型II的製備方法:包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於混合溶劑中,再揮發、沉澱,最終所得晶型即為晶型II,其中所述溶劑選自二甲基甲醯胺或四氫呋喃/二甲基甲醯胺。
本發明進一步提供了結構式I所示化合物的另一種晶型,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、16.6°、21.8°、25.4°和29.2°的衍射峰,申請人將其定義為晶型III。
本發明進一步提供了上述晶型III的優選技術方案:
作為優選,上述晶型III中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、5.3Å、4.1Å、3.5Å和3.1Å。
作為優選,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、13.0°、16.6°、18.6°、21.8°、25.4°、26.9°和29.2°的衍射峰;作為優選,上述晶型III中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、6.8Å、5.3Å、4.8Å、4.1Å、3.5Å、3.3Å和3.1Å。
作為優選,上述晶型III具有基本如圖3所示的X-射線粉末衍射圖。
圖3所示的X-射線粉末衍射的特徵詳見表C。
作為優選,該晶型III熔點為196~199℃。
作為優選,該晶型III純度85%。
作為優選,該晶型III純度95%。
作為優選,該晶型III純度99%。
本發明還提供了上述晶型III的製備方法,包括如下的步驟:結構式I所示化合物先溶解於乙酸異丙酯,再揮發、沉澱回收所得晶體即為晶型III。或者;過量的結構式I所示化合物,在溶劑中懸浮攪拌48小時以上,最後所得晶體即為晶型III,所述溶劑選自甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯所述懸浮攪拌的溫度優選20~50℃。或者;結構式I所示化合物在丙酮/水中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,或者;在乙酸乙酯/四氫呋喃中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,最後所得晶體即為晶型III,其中,
優選乙酸乙酯/四氫呋喃的體積比為3:1,丙酮/水的體積比為1:1。或者;結構式I所示化合物在惰性氣體保護下加熱到195℃,再冷卻到室溫回收所得晶型即得晶型III。或者;結構式I所示化合物先溶解於溶劑中,加入上述製備的晶型III作為晶種,再揮發、沉澱即得晶型III,所述溶劑,包括但不限於,甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。或者;結構式I所示化合物先溶解於混合溶劑中,加入上述製備的晶型III製備的晶型作為晶種,再揮發、沉澱即得晶型III,所述混合溶劑,包括但不限於,含有乙酸乙酯的混合溶劑、含有四氫呋喃的混合溶劑、含有丙酮的混合溶劑或含有水的混合溶劑。所述混合溶劑優選乙酸乙酯/四氫呋喃的混合溶劑或丙酮/水的混合溶劑。或者;結構式I所示化合物先加熱溶解於下述溶劑中,加入上述所製備的晶型III作為晶種,然後冷卻、回收結晶即得晶型III,其中所述溶劑,包括但不限於,異丙醇、4-甲基-2-戊酮、乙酸丙酯、甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。或者;結構式I所示化合物先加熱溶解於下述混合溶劑中,再加入上述所製備的晶型III作為晶種,然後冷卻、結晶並回收所得晶型即得晶型III。所述混合溶劑,包括但不限於,含有乙酸乙酯的混合溶劑、含有四氫呋喃的混合溶劑、含有丙酮的混合溶劑或含有水的混合溶劑,所述混
合溶劑優選異丙醇/水混合溶劑、乙酸乙酯/四氫呋喃混合溶劑、乙酸異丙酯/四氫呋喃混合溶劑、甲基叔丁基醚/四氫呋喃混合溶劑或丙酮/水混合溶劑。
本發明進一步提供了結構式I所示化合物的又一種晶型,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為8.4°、12.5°、17.0°、18.1°和22.3°的衍射峰,申請人將其定義為晶型IV。
本發明進一步提供了上述晶型IV的優選技術方案:
作為優選,上述晶型IV中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為10.5Å、7.1Å、5.2Å、4.9Å和4.0Å。
作為優選,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為8.4°、9.0°、11.3°、12.5°、17.0°、18.1°、22.3°和28.2°的衍射峰。
作為優選,上述晶型IV中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為10.5Å、9.8Å、7.9Å、7.1Å、5.2Å、4.9Å、4.0Å和3.2Å。
作為優選,上述晶型IV具有基本如圖4所示的X-射線粉末衍射圖。
圖4所示的X-射線粉末衍射圖中的特徵峰詳見表D。
作為優選,該晶型IV熔點為189~193℃。
作為優選,該晶型IV純度85%。
作為優選,該晶型IV純度95%。
作為優選,該晶型IV純度99%。
本發明還提供了上述晶型IV的製備方法:包括如下的步驟,上述製備的晶型I加熱到50℃,再冷卻到室溫即得晶型IV。或者;結構式I所示化合物先溶解於四氫呋喃中,再揮發、沉澱即得晶型IV。
本發明進一步提供了結構式I所示化合物的又一種晶型,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、16.8°、17.9°、21.8°和27.6°的衍射峰,申請人將其定義為晶型V。
本發明進一步提供了上述晶型V的優選技術方案:作為優選,上述晶型V中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、5.3Å、5.0Å、4.1Å和3.2Å。
作為優選,其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射
角2θ為11.1°、12.3°、16.8°、17.9°、21.2°、21.8°、23.0°和27.6°的衍射峰
作為優選,上述晶型V中,衍射角2θ對應的晶面間距分別為8.0Å、7.2Å、5.3Å、5.0Å、4.2Å、4.1Å、3.9Å和3.2Å。
作為優選,上述晶型V具有基本如圖5所示的X-射線粉末衍射圖。
圖5所示的X-射線粉末衍射圖中的特徵峰詳見表E。
作為優選,該晶型熔點為192~195℃。
作為優選,該晶型V純度85%。
作為優選,該晶型V純度95%。
作為優選,該晶型V純度99%。
本發明還提供了上述晶型V的製備方法:包括步驟:
在惰性氣體保護下加熱上述製備的晶型IV到175℃即得晶型V。
本發明還提供了結構式I所示化合物的的製備方法,包括如下的步驟:
化合物2的合成:
化合物1溶於乙酸中,攪拌,升溫至75-85℃,緩慢滴加液溴,滴加完畢繼續反應7-9小時,TLC監測反應完全後冷卻至常溫,將反應液倒入亞硫酸氫鈉溶液中,析出固體,過濾,淋洗濾餅,60℃真空乾燥得化合物2;
化合物3的合成:
惰性氣體保護下,將化合物2、對甲基苯硼酸、四(三苯基膦)鈀、N,N-二甲基甲醯胺、碳酸鈉水溶液混合,75-85℃反應10-14小時。TLC監測反應至完全,冷卻至室溫,加入水和乙酸乙酯,水相用乙酸乙酯萃取,合併有機相,有機相用飽和食鹽水洗滌,無水Na2SO4乾燥,除去
乙酸乙酯,得化合物3粗品,甲醇重結晶,得化合物3;
化合物4的合成:
將化合物3加入水中,加入甲酸銨和Pd/C,反應加熱回流1.5-2.5小時,冷卻,除去Pd/C,乙酸乙酯萃取,合併有機相,用飽和食鹽水洗滌,無水Na2SO4乾燥,除去溶劑得化合物4;
化合物5的合成:
將化合物4、乙酸酐、磷酸,於45-55℃保溫反應直到完成,冷卻至室溫,加水攪拌,升溫至45-55℃水解完全,冷卻,析出固體,過濾,乾燥得化合物5;
化合物6的合成:
將化合物5、1-羥基苯並三唑(HOBt)溶於四氫呋喃中,冷卻至0℃以下,分批加入二環己基碳二亞胺,並於10℃以下攪拌10-14小時,濾除固體得濾液;將丙二酸二甲酯溶於四氫呋喃中,加入氫化鈉,攪拌下加入上述濾液,室溫反應1-3小時,除去四氫呋喃,加入甲醇、10%鹽酸室溫攪拌過夜,過濾形成的沉澱,甲醇洗,得化合物6;
化合物7的合成:
甘氨酸叔丁酯鹽酸鹽、甲醇鈉分散到甲醇中,攪拌均勻後除去甲醇,加入四氫呋喃、化合物6於55-65℃反應過夜;除去四氫呋喃,加入甲醇攪拌1.5-2.5小時,過濾得化合物7;
化合物8,即結構式I所示化合物的合成:
化合物7、二氯甲烷、三氟乙酸混合,攪拌反應3.5-4.5小時,除去二氯甲烷與三氟乙酸,剩餘物用甲醇重結晶得化合物8,即結構式I所示化合物。
本發明還進一步提供了一種藥物組合物:含有治療有效量的上述任一項所述的晶型,和藥學上可接受的輔料、輔助劑或載體。
本發明還進一步提供了上述藥物組合物優選技術方案:
作為優選,含有治療有效量的上述任一項所述本發明的晶型;以及至少一種另外的有效成分
作為優選,所述藥物組合物適於口服給藥。
作為優選,所述藥物組合物為片劑或膠囊。
作為優選,所述藥物組合物中本發明的晶型的含量為1-99重量%。
作為優選,所述藥物組合物中本發明的的晶型的含量為1-70重量%。
作為優選,所述藥物組合物中本發明的晶型的含量為10-30重量%。
本發明還提供了上述任一項所述的晶型在製備用於調節體內HIF水準或活性的藥物中的應用。
本發明還提供了上述晶型應用的優選技術方案:
作為優選,所述晶型在製備用於治療與HIF水準或HIF活性相關的疾病中的藥物的應用。
作為優選,所述晶型在製備用於治療與貧血或缺血相關疾病的藥物中的應用。
作為優選,所述晶型在製備用於治療患者的疾病的藥物中的應用,其中,所述患者的疾病選自缺血、貧血、缺血、傷口癒合、原位移植、異位移植、異體移植、高血壓、地中海貧血、糖尿病、癌症或炎症,或者其中兩種或兩種以上疾病的組合。
本發明提供的晶型以基本上純的形式存在。
本文中,術語“基本上純的”在本發明的上下文中理解為特別是指至少85%,優選至少95%,最優選至少99%重量比的結構式I化合物N-[(4-羥基-2-氧代-8-(3-甲基苯基)-2H-3-色烯基)羰基]甘氨酸以一種本發明所述的晶型存在。
上述晶型主要的峰可再現並且在誤差限度內(在上述給定小數點位置±2,即所述值±0.2)。
術語“基本如圖1所示的“X射線粉末衍射圖譜”是存在圖1所示的圖譜中的主要譜線,即與圖1所示的圖譜中相對強度最大的譜線(其譜線相對強度定為100)相比,譜線相對強度超過10,特別是超過30的那些譜線。其他類推,即“基本如圖2所示”、“基本如圖3所示”、“基本如圖4所示”、“基本如圖5所示”分別指在圖2、圖3、圖4及圖5所示的圖譜中的主要譜線,即與該圖所示的圖譜中相對強度最大的譜線(其譜線相對強度定為100)相比,譜線相對強度超過10,特別是超過30的那些譜線。
結晶的獲得可使用或不使用適於結晶本發明化合物的晶種引發和/或實現。
本發明的結晶與特定條件下各個晶型的動力學和平衡條件有關。因此本領域技術人員會意識到,得到的晶型取決於結晶過程的動力學和熱力學。在特定條件下(溶劑體系、溫度、壓力和本發明化合物的濃度),一種晶型可能要比另一種晶型穩定(或實際上比任何其它晶型穩定)。然而,具有相對較低熱力學穩定性的多晶型可能動力學上有利。因此動力學之外的因素,例如時間、雜質分佈、攪動、晶種的存在與否等也可能影響結晶的形式。
本文中所述“治療有效量”是指一個化合物用於治療對象時治療並且預防和/或抑制一種疾病、適應症和/或不適的至少一種臨床症狀時,足以對這種疾病、適應症、不適或症狀的治療產生一定效果的有效劑量。具體的“治療有效量”可以根據化合物,用藥途徑,患者年齡,患者體重,所治療的疾病或不適的類型、症狀和嚴重程度等變化。在任意可能的情況下,一個合適的劑量對那些在本領域的專業人員可以是顯而易見的,也可以是用常規實驗方法確定的。在聯合治療的情況下,“治療有效量”是指有效治療疾病的聯用物件的總量。
包括本發明化合物的藥物組合物可通過口服、鼻吸入、直腸、腸胃外或局部施用方式對需要治療的患者給藥。用於口服時,可將其製成常規的固體製劑如片劑、粉劑、顆粒劑、膠囊劑等,製成液體製劑如水或油懸浮
劑或其他液體製劑如糖漿、溶液、懸浮液等;用於腸胃外給藥時,可將其製成注射用的溶液、水、油性懸浮劑、凍乾粉針或注射劑等。優選的劑型是片劑、包衣片劑、膠囊、栓劑、鼻噴霧劑或注射劑,特別優選口服製劑,更優選片劑或膠囊。該藥物組合物可以是適合於精確劑量的單一施用的單位劑量形式。此外,該藥物組合物還可以包括其它的活性成分。
本發明藥物組合物的各種劑型可以按照藥學領域的常規生產方法製備。例如,將活性成分與一種或多種輔料混合,然後將其製成所需的劑型。
本文中所述“藥學上可接受的載體”是指藥學領域常規的適合於期望藥物製劑的任何藥用載體,例如:稀釋劑、載體如水、各種有機溶劑等;填充劑如澱粉、蔗糖等;黏合劑如纖維素衍生物、藻酸鹽、明膠和聚乙烯吡咯烷酮;濕潤劑如甘油;崩解劑如瓊脂、碳酸鈣和碳酸氫鈉;吸收促進劑如季銨化合物;表面活性劑如十六烷醇;吸收載體如高嶺土和皂黏土;潤滑劑如滑石粉、硬脂酸鈣、硬脂酸鎂和聚乙二醇等。另外還可以在藥物組合物中加入其它藥學上可接受的輔料如分散劑、穩定劑、增稠劑、絡合劑、緩衝劑、滲透促進劑、聚合物、芳香劑、甜味劑和染料。優選使用適合期望劑型和期望給藥方式的輔料類型。
本文中所述術語“疾病”或“不適”是是指任意的疾病、不適、病情、症狀或者適應症。
圖1:結構式I所示化合物晶型I的X-射線粉末衍射衍射圖譜;圖2:結構式I所示化合物晶型II的X-射線粉末衍射衍射圖譜;圖3:結構式I所示化合物晶型III的X-射線粉末衍射衍射圖譜;圖4:結構式I所示化合物晶型IV的X-射線粉末衍射-衍射圖譜;圖5:結構式I所示化合物晶型V的X-射線粉末衍射-衍射圖譜。
圖1、圖2、圖3、圖4及圖5所示的X-射線粉末衍射圖譜是在擁有Empyrean控制台的PANalytical X-射線衍射系統上測得的,並用單晶矽進行校正。單晶矽的2θ衍射峰值是28.443°,X-射線光源是一個Empyrean銅X-射線管的K-alpha射線。
下面通過給出的各實施例和試驗例對本發明作出進一步說明,但所述實施例和試驗例並不能對本發明要求保護的範圍構成任何限制。本發明的具體實施方式中,未作特別說明的技術手段或方法等為本技術領域的常規技術手段或方法等。
化合物2的合成:
5L三口瓶中,將200g化合物1溶解於3000ml乙酸中,攪拌升溫至80℃,緩慢滴加204g液溴,滴加完畢繼續反應8小時,TLC監測反應完全後將反應液冷卻至常溫,倒入4000ml飽和亞硫酸氫鈉溶液中,析出固體,過濾,用水淋洗濾餅,60℃真空乾燥得到204.6g白色固體(化合物2),純度在98%以上。
化合物3的合成:
1000ml三口瓶中,氮氣保護下,將15g 3-溴-5-氯水楊酸(化合物2)、8.16g對甲基苯硼酸、2g四(三苯基膦)鈀、120ml N,N-二甲基甲醯胺、30ml 2mol/L的碳酸鈉水溶液,升溫至80℃反應約12小時。TLC監測反應至完全,反
應液冷卻至室溫,倒入500ml水和300ml乙酸乙酯的混合溶液中,水相用乙酸乙酯萃取(200ml×3),合併有機相,有機相用飽和食鹽水洗滌(300ml×2),無水Na2SO4乾燥,除去乙酸乙酯,得到21.6g粗品,粗品用甲醇重結晶得到18.2g產品(化合物3)。
化合物4的合成:
將27g化合物3加入250ml水中,加入5g甲酸銨和8.7g Pd/C(5%),反應加熱回流約2小時,冷卻,過濾除去Pd/C,乙酸乙酯萃取(100mL×2),合併有機相,水洗及飽和食鹽水洗滌,無水Na2SO4乾燥,除去溶劑得化合物4,該產品無需進一步純化直接用於下一步反應。
化合物5的合成:
將27g化合物4、130ml乙酸酐、1ml磷酸混合,於50℃保溫直到反應完成。冷卻至室溫,加入500ml水攪拌,升溫至50℃水解完全,冷至0℃過濾析出的固體,乾燥得24.4g化合物5,無需進一步純化直接用於下一步反應。
化合物6的合成:
將13g化合物5、6.8g 1-羥基苯並三唑(HOBt)溶於200ml四氫呋喃中,冷卻至0℃以下,分批加入10.4g二環己基碳二亞胺(DCC)並於10℃以下攪拌約12小時。濾除固體得濾液。
將6.6g丙二酸二甲酯溶於400ml四氫呋喃,加入3.8g氫化鈉(70%油液分散體),攪拌下加入上述濾液,室溫反應2小時。除去四氫呋喃,加入甲醇200ml、10%鹽酸
200ml室溫攪拌過夜。過濾形成的固體,200ml甲醇洗得6g化合物6。
化合物7的合成:
13.5g甘氨酸叔丁酯鹽酸鹽、4.4g甲醇鈉分散到200ml甲醇中,攪拌均勻後除去甲醇,加入200ml四氫呋喃、6.0g化合物6於60℃反應過夜。
除去四氫呋喃,加入400ml甲醇攪拌2小時,過濾得白色固體3.5g(化合物7)。
化合物8的合成:
100ml三口瓶中,加入0.5g化合物7再加入5ml二氯甲烷、5ml三氟乙酸,攪拌反應約4小時。除去二氯甲烷與三氟乙酸,剩餘物用甲醇重結晶得終產品8。
實施例1製備的結構式I所示化合物先完全溶解於丙酮、甲基叔丁基醚、乙酸乙酯、異丙醇、丙酮/甲醇、丙酮/庚烷、丙酮/異丙醇、丙酮/乙酸異丙酯、四氫呋喃/甲醇、四氫呋喃/乙酸乙酯、四氫呋喃/庚烷、四氫呋喃/乙腈、四氫呋喃/異丙醇、四氫呋喃/甲基叔丁基醚或四氫呋喃/二氯甲烷中,再揮發、沉澱即得所述晶型I,熔點為190~193℃。
實施例1製備的結構式I所示化合物在二氯甲烷、水/四氫呋喃或水/丙酮中,室溫下懸浮攪拌48小時,最後得所述晶型I。
實施例1製備的結構式I所示化合物在庚烷、甲醇或水/四氫呋喃中,50℃下懸浮攪拌48小時或72小時,最後得所述晶型I。
實施例1製備的結構式I所示化合物先溶解於二甲基甲醯胺或四氫呋喃/二甲基甲醯胺的混合溶劑中,再揮發、沉澱即得所述晶型II,熔點為129~132℃。
實施例1製備的結構式I所示化合物先溶解於乙酸異丙酯,再揮發、沉澱即得所述晶型III,熔點為196~199℃。
實施例1製備的結構式I所示化合物在甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物在甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物在丙酮/水(體積比為1:1)中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物在乙酸乙酯/四氫呋喃(體積比為3:1),50℃下懸浮攪拌48小時以上,即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物先溶解于甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯、乙酸乙酯、乙酸乙酯/四氫呋喃或丙酮/水的混合溶劑中,再加入實施例6-8任一實施例所製備的晶型III作為晶種,再揮發、沉澱即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物先加熱溶解於異丙醇、4-甲基-2-戊酮、乙酸丙酯、甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯、乙酸乙酯、乙酸乙酯/四氫呋喃、丙酮/水或異丙醇/水(體積比為9:1)的溶劑中,再加入實施例6-8任一實施例所製備的晶型III作為晶種,冷卻結晶即得所述晶型III。
實施例1製備的結構式I所示化合物惰性氣體(如氮氣或氦氣)保護下加熱到195℃,再冷卻到室溫,即得所述晶型III。
實施例2-4任一實施例所製備的晶型加熱到50℃即得所述晶型IV,熔點為189~193℃。
實施例1製備的結構式I所示化合物先溶解於四氫呋喃中,再揮發、沉澱即得所述晶型IV。
實施例1製備的結構式I所示化合物製備的結構式I所示化合物在水/丙酮中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,即得所述晶型IV。
實施例14-16任一實施例所製備的晶型IV加熱到175℃即得所述晶型V,熔點為192~195℃。
HIF-PHD2酶活性的測定採用類似的TR-FRET技術(參見US2008/004817;Dao JH et al.,Anal Biochem.2009,384:213-23)。在96孔板中的上半區域向每孔中滴加2μL測試化合物的DMSO溶液和40μL測定緩衝液(50mM Tris PH7.4/0.01%吐溫-20/0.1mg/ml BSA/1mM抗壞血酸鈉/20μg/ml過氧化氫酶/10μM硫酸亞鐵),該緩衝液中還包含600nM的全鏈PHD2酶。室溫下預培養30分鐘,加入8μL的底物(最終濃度為0.2μM 2-酮戊酸和0.5μM biotin標記的HIF-1α的短肽DLDLEMLAPYIPMDDDFQL)引發酶反應。反應2小時後,室溫下,加入50μL的淬滅劑/檢測試劑混合液(終濃度為1mM鄰二氮雜菲,0.1mM EDTA,0.5nM anti-(His)6LANCE試劑,100nM AF647-labeled Streptavidin和30nM(His)6-VHL-elonginB-elonginC)。測定在665和620nm處的時間分辨螢光信號強度比,同時測量無
抑制的對照品的螢光信號,計算樣品化合物的抑制百分比。按照實施例1方法製備的式I化合物的IC50值測定約為150nM。
八周齡C57BL/6雄鼠口服給予含有化合物I中一種晶型的混懸液,給藥劑量分別為20,60,100mg/kg,溶劑為0.5%CMC。給藥6小時後從眼眶靜脈取血獲得血清樣品(參見Robinson A,et al.,Gastroenterology.2008,134:145-55;Hsieh MM,et al.,Blood.2007,110:2140-7)。按照說明書指示使用電化學發光免疫分析儀(MSD)分析樣品中的紅細胞生成素。當按照60mg/kg劑量給予晶型III的混懸液時,樣品中刺激產生的紅細胞生成素的含量高於沒有刺激的空白對照組樣品中紅細胞生成素超過35倍。
100mg按照實施例1製備的式I化合物(晶型混合物)加入2mL乙酸乙酯,在室溫下攪拌72小時,離心處理並乾燥得到的晶體經XRPD測試為純的晶型III,表明室溫下晶型III比實施例1中製備得到的混合晶體在熱力學上是更穩定的。
50mg按照實施例1製備的式I化合物(晶型混合物)加入1mL乙酸乙酯,50℃下攪拌72小時,離心處理並乾燥後得到的晶體經XRPD測試為純的晶型III,表明50℃時
晶型III比實施例1中製備得到的混合晶體在熱力學上是更穩定的。
六周齡Wistar雄鼠被分為對照組和治療組。首先全部給予10天的標準飼料餵養,對照組繼續給予標準飼料餵養,而治療組在標準飼料的基礎上增加0.75%的腺嘌呤飼養30天后使其產生貧血症。此後兩組均給予標準飼料餵養,治療組中的vehicle組給予空白載體,對照組給予含有一種晶型的0.5% CMC-Na混懸液,給藥劑量分別為20,40或80 mg/kg,每天一次,共給藥四周。在給藥第0、5、12、19、27天時眼眶靜脈取血樣。使用自動血細胞分析儀MEK-6318K分析樣品血液參數,如紅細胞數(RBC)、血紅蛋白濃度(HGB)和紅細胞壓積值(HCT)。樣品中的血紅蛋白濃度測定值詳見表I,資料清楚表明使用晶型III可以提高動物血液中的血紅蛋白水準並糾正使其接近正常值。
雖然本發明已經進行了詳細的描述,但參考優選的技術方案,還存在其他的實施可能。上述實施例僅為充分說明本發明而列舉的具體實施例,本發明的保護範圍以專利範圍的內容為准,而不限於上述具體實施方式。本領域的技術人員在本發明基礎上所作的不脫離本發明實質內容的等同替代或變換,亦均在本發明的保護範圍之內。
Claims (81)
- 一種具有如下結構式I所示化合物的晶型,
- 如申請專利範圍第1項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖具有衍射角2θ為7.1°、10.4°、12.4°、17.0°和20.2°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第2項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為12.4Å、8.5Å、7.2Å、5.2Å和4.4Å。
- 如申請專利範圍第2項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖具有衍射角2θ為7.1°、8.4°、10.4°、12.4°、13.3°、17.0°、20.2°和27.6°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第4項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為12.4Å、10.6Å、8.5Å、7.2Å、6.7Å、5.2Å、4.4Å及3.2Å。
- 如申請專利範圍第1項所述的結構式I所示化合物的晶型,其特徵在於:具有基本如圖1所示的X-射線粉末衍射圖。
- 如申請專利範圍第1~6項任一項所述的晶型,其特徵 在於該晶型熔點為190~193℃。
- 如申請專利範圍第2~7項任一項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度85%。
- 如申請專利範圍第8項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度95%。
- 如申請專利範圍第9項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度99%。
- 如申請專利範圍第1項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為6.5°、9.3°、11.2°、15.4°和18.4°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第11項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為13.6Å、9.5Å、7.9Å、5.8Å和4.8Å。
- 如申請專利範圍第11項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為6.5°、9.3°、11.2°、13.0°、14.1°、15.4°、18.4°和24.6°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第13項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為13.6Å、9.5Å、7.9Å、6.8Å、6.3Å、5.8Å、4.8Å和3.6Å。
- 如申請專利範圍第1項所述的結構式I所示化合物的晶型,其特徵在於:具有基本如圖2所示的X-射線粉末衍射圖。
- 如申請專利範圍第1項,第11~15項任一項所述的晶型,該晶型熔點為129~132℃。
- 如申請專利範圍第11~16項任一項所述的晶型,該晶型純度85%。
- 如申請專利範圍第17項所述的晶型,該晶型純度95%。
- 如申請專利範圍第18項所述的晶型,該晶型純度99%。
- 如申請專利範圍第1項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、16.6°、21.8°、25.4°和29.2°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第20項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、5.3Å、4.1Å、3.5Å和3.1Å。
- 如申請專利範圍第20項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、13.0°、16.6°、18.6°、21.8°、25.4°、26.9°和29.2°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第22項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、6.8Å、5.3Å、4.8Å、4.1Å、3.5Å、3.3Å和3.1Å。
- 如申請專利範圍第1項所述的結構式I所示化合物的晶型,其特徵在於:具有基本如圖3所示的X-射線粉末衍射圖。
- 如申請專利範圍第1項,第20~24項任一項所述的晶型,其特徵在於該晶型熔點為196~199℃。
- 如申請專利範圍第20~25項任一項所述的晶型,其特徵 在於該晶型純度85%。
- 如申請專利範圍第26項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度95%。
- 如申請專利範圍第27項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度99%。
- 如申請專利範圍第1項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為8.4°、12.5°、17.0°、18.1°和22.3°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第29項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為10.5Å、7.1Å、5.2Å、4.9Å和4.0Å。
- 如申請專利範圍第29項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為8.4°、9.0°、11.3°、12.5°、17.0°、18.1°、22.3°和28.2°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第31項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為10.5Å、9.8Å、7.9Å、7.1Å、5.2Å、4.9Å、4.0Å和3.2Å。
- 如申請專利範圍第1項所述的結構式I所示化合物的晶型,其特徵在於:具有基本如圖4所示的X-射線粉末衍射圖。
- 如申請專利範圍第1項,第29~33項任一項所述的晶型,該晶型熔點為189~193℃。
- 如申請專利範圍第29~34項任一項所述的晶型,該晶型純度85%。
- 如申請專利範圍第35項所述的晶型,該晶型純度95%。
- 如申請專利範圍第36項所述的晶型,該晶型純度99%。
- 如申請專利範圍第1項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為12.3°、16.8°、17.9°、21.8°和27.6°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第38項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為7.2Å、5.3Å、5.0Å、4.1Å和3.2Å。
- 如申請專利範圍第38項所述的晶型,其特徵在於:其X射線粉末衍射譜圖中具有衍射角2θ為11.1°、12.3°、16.8°、17.9°、21.2°、21.8°、23.0°和27.6°的衍射峰。
- 如申請專利範圍第40項所述的晶型,其特徵在於:所述衍射角2θ對應的晶面間距分別為8.0Å、7.2Å、5.3Å、5.0Å、4.2Å、4.1Å、3.9Å和3.2Å。
- 如申請專利範圍第1項所述的結構式I所示化合物的晶型,其特徵在於:具有基本如圖5所示的X-射線粉末衍射圖。
- 如申請專利範圍第1項,第38~42項任一項所述的晶型,其特徵在於該晶型熔點為192~195℃。
- 如申請專利範圍第38~43項任一項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度85%。
- 如申請專利範圍第44項所述的晶型,其特徵在於該晶型 純度95%。
- 如申請專利範圍第45項所述的晶型,其特徵在於該晶型純度99%。
- 一種具有如下結構式I所示化合物的的製備方法,其特徵在於,包括如下的步驟:
- 如申請專利範圍第1~10項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟:室溫下將結構式I所示化合物先溶解於溶劑中,再揮發、沉澱即得,其中,所述溶劑選自丙酮、乙酸乙酯、異丙醇、甲基叔丁基醚、丙酮/甲醇、丙酮/庚烷、丙酮/異丙醇、丙酮/乙酸異丙酯、丙酮/甲基叔丁基醚、四氫呋喃/甲醇、四氫呋喃/乙酸乙酯、四氫呋喃/庚烷、四氫呋喃/乙腈、四氫呋喃/異丙醇、四氫呋喃/甲基叔丁基醚或四氫呋喃/二氯甲烷。
- 如申請專利範圍第1~10項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟:過量的結構式I所示化合物在二氯甲烷或水/四氫呋喃或水/丙酮中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,或者;結構式I所示化合物在庚烷、甲醇或水/四氫呋喃中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,最後即得。
- 如申請專利範圍第1項,第11~19項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於溶劑中,再揮發、沉澱即得,其中所述溶劑選自二甲基甲醯胺或四氫呋喃/二甲基甲醯胺的混合物。
- 如申請專利範圍第1項,第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於乙酸異丙酯中,再揮發、沉澱即得。
- 如申請專利範圍第1項,第20~28項任一項所述晶型的製 備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物在溶劑中,懸浮攪拌48小時以上,最後即得,所述溶劑選自甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。
- 如申請專利範圍第52項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中所述懸浮攪拌的溫度為20~50℃。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物在丙酮/水中,室溫下懸浮攪拌48小時以上,或者;在乙酸乙酯/四氫呋喃中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,最後即得。
- 如申請專利範圍第54項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中乙酸乙酯/四氫呋喃的體積比為3/1,丙酮/水的體積比為1/1。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物在惰性氣體保護下加熱到195℃,再冷卻到室溫,所得晶型。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於溶劑中,再加入申請專利範圍51~56任一項所製備的晶型作為晶種,再揮發、沉澱即得,所述溶劑包括甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。
- 如申請專利範圍第57項所述晶型的製備方法,其中:所述溶劑選自甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於混合溶劑中,再加入申請專利範圍51~58任一項所製備的晶型作為晶種,再揮發、沉澱即得,所述混合溶劑包括含有乙酸乙酯的混合溶劑、含有四氫呋喃的混合溶劑、含有丙酮的混合溶劑或含有水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第59項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中所述混合溶劑包括乙酸乙酯/四氫呋喃的混合溶劑或丙酮/水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第60項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中所述混合溶劑選自乙酸乙酯/四氫呋喃的混合溶劑或丙酮/水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先加熱溶解於溶劑中,再加入申請專利範圍51~53任一項所製備的晶型作為晶種,然後冷卻、結晶即得,所述溶劑包括異丙醇、4-甲基-2-戊酮、乙酸丙酯、甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。
- 如申請專利範圍第62項所述晶型的製備方法,其特徵在於:所述溶劑選自異丙醇、4-甲基-2-戊酮、乙酸丙酯、甲基叔丁基醚、乙酸異丙酯或乙酸乙酯。
- 如申請專利範圍第1項或第20~28項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化 合物先加熱溶解於混合溶劑中,再加入專利範圍61~63任一項所製備的晶型作為晶種,然後冷卻、結晶即得,所述混合溶劑包括含有異丙醇的混合溶劑、含有乙酸乙酯的混合溶劑、含有乙酸異丙酯的混合溶劑、含有甲基叔丁基醚的混合溶劑、含有四氫呋喃的混合溶劑、含有丙酮的混合溶劑或含有水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第64項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中所述混合溶劑包括異丙醇/水的混合溶劑、乙酸乙酯/四氫呋喃的混合溶劑、乙酸異丙酯/四氫呋喃的混合溶劑、甲基叔丁基醚/四氫呋喃的混合溶劑或丙酮/水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第65項所述晶型的製備方法,其特徵在於:其中所述混合溶劑為異丙醇/水(9:1)的混合溶劑、乙酸乙酯/四氫呋喃的混合溶劑、乙酸異丙酯/四氫呋喃的混合溶劑、甲基叔丁基醚/四氫呋喃或丙酮/水的混合溶劑。
- 如申請專利範圍第1項或第29~37項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,申請專利範圍58或59所製備的晶型在惰性氣體保護下加熱到50℃,再冷卻到室溫所得晶型。
- 如申請專利範圍第1項或第29~37項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,結構式I所示化合物先溶解於四氫呋喃中,再揮發、沉澱即得。
- 如申請專利範圍第1項或第29~37項任一項所述晶型的製 備方法,其特徵在於包括如下的步驟,過量的結構式I所示化合物在丙酮/水中,50℃下懸浮攪拌48小時以上,最後即得。
- 如申請專利範圍第1項或第38~46項任一項所述晶型的製備方法,其特徵在於包括如下的步驟,申請專利範圍77~79所製備的晶型在惰性氣體保護下加熱到175℃即得。
- 一種藥物組合物,其特徵在於:含有治療有效量的申請專利範圍1~46任一項所述的晶型,和藥學上可接受的輔料、輔助劑或載體。
- 一種藥物組合物,其特徵在於:含有治療有效量的申請專利範圍1~46任一項所述的晶型;以及至少一種另外的有效成分。
- 如申請專利範圍第71或72項所述的藥物組合物,其特徵在於:其中所述藥物組合物適於口服給藥。
- 如申請專利範圍第73項所述的藥物組合物,其特徵在於所述藥物組合物為片劑或膠囊。
- 如申請專利範圍第71~74項任一項所述的藥物組合物,其特徵在於:所述藥物組合物中申請專利範圍1~46任一項所述的晶型的含量為1-99重量%。
- 如申請專利範圍第75項所述的藥物組合物,其特徵在於:所述藥物組合物中申請專利範圍1~46任一項所述的晶型的含量為1-70重量%。
- 如申請專利範圍第76項所述的藥物組合物,其特徵在於 :所述藥物組合物中申請專利範圍1~46任一項所述的晶型的含量為10-30重量%。
- 如申請專利範圍第1~46項任一項所述的晶型在製備用於調節體內HIF水準或活性的藥物中的應用。
- 如申請專利範圍第78項所述的應用,其特徵在於:所述晶型在製備用於治療與HIF水準或HIF活性相關的疾病中的應用。
- 如申請專利範圍第78項所述的應用,其特徵在於:所述晶型在製備用於治療與貧血或缺血相關疾病的藥物中的應用。
- 如申請專利範圍第78項所述的應用,其特徵在於:所述晶型在製備用於治療患者的疾病的藥物中的應用,其中,所述患者的疾病選自缺血、貧血、傷口癒合、原位移植、異位移植、異體移植、高血壓、地中海貧血、糖尿病、癌症或各種炎症,或者其中兩種或兩種以上疾病的組合。
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