TW201315584A - 導光板冷卻裝置 - Google Patents
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Abstract
一種導光板冷卻裝置,用於同時對複數個導光板進行冷卻。導光板冷卻裝置包括複數個冷卻盤、一個支架及一個風扇。每個冷卻盤用於收容複數個導光板。冷卻盤包括一底板,底板的周緣沿垂直底板方向延伸有一邊框,底板及邊框共同形成一收容空間。底板上設置多個凸塊,凸塊用於支撐導光板以使其收容於收容空間內且與所述底板相隔開。底板上設置多個通孔,通孔與導光板相對設置,多個冷卻盤相互堆疊設置在支架上,風扇設置在支架內,風扇用於通過多個通孔送風至多個冷卻盤並冷卻複數個導光板。
Description
本發明涉及一種冷卻裝置,尤其涉及一種導光板冷卻裝置。
目前,導光板通過射出成型後,溫度較高,需要將其冷卻以後再進行後續的處理。現有技術中,導光板是單獨靜置,使其自然冷卻。惟,冷卻多個導光板時,且佔用空間很大,且由於空氣流動緩慢,造成冷卻緩慢,以至於整個加工週期變長,效率降低。
鑒於以上內容,有必要提供一種可同時為多塊導光板進行散熱的導光板冷卻裝置。
一種導光板冷卻裝置,用於同時對複數個導光板進行冷卻。所述導光板冷卻裝置包括複數個冷卻盤、一個支架及一個風扇。每個所述冷卻盤用於收容複數個所述導光板。所述冷卻盤包括一底板,所述底板的周緣沿垂直所述底板方向延伸有一邊框,所述底板及邊框共同形成一收容空間。所述底板上設置多個凸塊,所述凸塊用於支撐所述導光板以使其收容於所述收容空間內且與所述底板相隔開,所述底板上設置多個通孔,所述通孔與所述導光板相對設置,所述多個冷卻盤相互堆疊設置在所述支架上,所述風扇設置在所述支架內,所述風扇用於通過所述多個通孔送風至所述多個冷卻盤並冷卻所述複數個導光板。
相對於先前技術,所述導光板冷卻裝置,多個冷卻盤堆疊置在所述支架上,每個冷卻盤上均開設有通孔,所述風扇產生的風可以通過所述通孔傳播至每個冷卻盤,對收容在所述冷卻盤內的收容空間內的所述導光板進行冷卻。從而可同時對多個導光板進行冷卻。
以下將結合附圖對本發明作進一步之詳細說明。
請參閱圖1,為本發明實施方式的導光板冷卻裝置100,其用於同時對多塊導光板200進行冷卻。所述導光板冷卻裝置100包括多個冷卻盤10、一個支架20及一個風扇30。
請一併參閱圖2至圖4,本實施方式中,所述冷卻盤10為長方體結構,其包括一長方形的底板11。所述底板11的周緣沿垂直所述底板11方向延伸有一邊框12。所述底板11及邊框12共同形成一收容空間13。所述底板11上沿垂直所述底板11方向凸設有多個長方體狀的凸塊15,所述多個凸塊15的長度方向垂直於所述底板11的長度方向。所述凸塊15用於支撐所述導光板200以使其收容於所述收容空間13內且與所述底板11相隔開。所述收容空間13沿垂直所述底板11方向上的深度大於每個凸塊15沿垂直所述底板11方向上的高度與所述導光板200的厚度之和。所述底板11上設置多個長方形的通孔14,所述多個通孔14呈陣列分佈在所述底板11上。所述凸塊15分佈在所述通孔14之間。所述邊框12包括一個平行於所述底板11的第一外表面12a及一與所述第一外表面12a相對的第二外表面12b。所述第一外表面12a在遠離底板11的一側,所述第二外表面12b與所述底板11相平齊。所述第一外表面12a上設置有至少兩個突起121,所述第二外表面12b設置有至少兩個凹槽122。所述突起121與所述凹槽122的數量及位置均對應。用於對所述冷卻盤10進行定位。
可以理解的是,所述冷卻盤10和底板11也可以為其他形狀。
在本實施方式中,所述突起121及所述凹槽122均為兩個。
在本實施方式中。所述冷卻盤10上設置四個所述凸塊15。在本實施方式中,每個冷卻盤10能夠放置兩個所述導光板200,每個導光板200承載在相鄰的兩個凸塊15上。可以理解的是,實際應用中,也可只設置兩個凸塊15,所述導光板200承載在該兩個凸塊15上。
所述底板11的面積大於兩個所述導光板200的面積和,以保證在所述導光板200置於所述凸塊15上時,位於所述兩個導光板200之間的通孔14及所述底板11長度方向兩邊的通孔14不被遮擋,能夠讓風直接通過,達到更好的散熱效果。
所述支架20包括兩個支撐臂21。每個支撐臂21包括一用於承載所述冷卻盤10的承載面210。所述承載面210開設有一缺口211。所述缺口211為矩形。兩個缺口211相對設置。與所述支架20相接觸的所述冷卻盤10的邊框12分別設置在兩個所述缺口211內。
組裝時,所述風扇30設置在所述兩個支撐臂21之間。所述多個冷卻盤10相互堆疊設置在所述支架20上。每個邊框12上的突起121與凹槽122分別與相鄰的邊框12上的的凹槽122與突起121相配合。
使用時,開啟所述風扇30後,風從各冷卻盤10上的通孔14對分別收容在各冷卻盤10的收容空間13內所述導光板200進行冷卻。
上述發明,所述導光板冷卻裝置,多個冷卻盤堆疊置在所述支架上,每個冷卻盤上均開設有通孔,所述風扇產生的風可以通過所述通孔傳播至每個冷卻盤,對收容在所述冷卻盤內的收容空間內的所述導光板進行冷卻。從而可同時對多個導光板進行冷卻。
另外,本領域技術人員還可在本發明精神內做其他變化,當然,這些依據本發明精神所做之變化,都應包括在本發明所要求保護之範圍之內。
100...導光板冷卻裝置
200...導光板
10...冷卻盤
20...支架
30...風扇
11...底板
12...邊框
13...收容空間
14...通孔
15...凸塊
21...支撐臂
210...承載面
211...缺口
圖1係本發明光板冷卻裝置的使用狀態剖視圖;
圖2係本發明冷卻盤的示意圖;
圖3係本發明冷卻盤的使用狀態示意圖;
圖4係圖2沿IV-IV線的剖視圖。
100...導光板冷卻裝置
200...導光板
10...冷卻盤
20...支架
30...風扇
21...支撐臂
210...承載面
211...缺口
Claims (8)
- 一種導光板冷卻裝置,用於同時對複數個導光板進行冷卻,所述導光板冷卻裝置包括複數個冷卻盤、一個支架及一個風扇,每個所述冷卻盤用於收容複數個所述導光板,所述冷卻盤包括一底板,所述底板的周緣沿垂直所述底板方向延伸有一邊框,所述底板及邊框共同形成一收容空間,所述底板上設置多個凸塊,所述凸塊用於支撐所述導光板以使其收容於所述收容空間內且與所述底板相隔開,所述底板上設置多個通孔,所述通孔與所述導光板相對設置,所述多個冷卻盤相互堆疊設置在所述支架上,所述風扇設置在所述支架內,所述風扇用於通過所述多個通孔送風至所述多個冷卻盤並冷卻所述複數個導光板。
- 如申請專利範圍第1項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述多個通孔呈矩陣排列。
- 如申請專利範圍第1項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述收容空間沿垂直所述底板方向上的深度大於每個凸塊沿垂直所述底板方向上的高度與所述導光板的厚度之和。
- 如申請專利範圍第3項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述凸塊分佈在所述通孔之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述支架包括兩個支撐臂,所述每個支撐臂包括一用於承載所述冷卻盤的承載面,所述承載面開設有一缺口,所述缺口為矩形,兩個缺口相對設置,與所述支架相接觸的所述冷卻盤的邊框分別設置在兩個所述缺口內。
- 如申請專利範圍第5項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述風扇設置在所述兩個支撐臂之間。
- 如申請專利範圍第1項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述邊框包括一個平行於所述底板的第一外表面及一與所述第一外表面相對的第二外表面,所述第一外表面在遠離是底板的一側,所述第二外表面與所述底板相平齊,所述第一外表面上設置有至少兩個突起所述第二外表面設置有至少兩個凹槽,所述突起與所述凹槽的數量及位置均對應。
- 如申請專利範圍第1項所述之導光板冷卻裝置,其中:所述底板的面積大於兩個所述導光板的面積和。
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