TW201227643A - Encapsulation sheet, flat panel display device using the same, and method of manufacturing the flat panel display device - Google Patents

Description

201227643 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 [0001]相關申請案的交互參照 闕本申請案主張西元2〇1〇年12月24曰向韓國智慧財產局提 父之韓國專利申請案，申請號為1 0-2010-0134881之優 先權效益，其全部内容納入此處作為參考。 [〇〇〇3]本實施例係有關於一種封裝薄板、平板顯示裴置、以及 製造平板顯示裝置之方法，且更具體地說，係有關於一 種改善用以吸收濕氣之吸氣劑層的安裝方法之封裝薄板 、具有該封裝薄板的平板顯示裝置、以及製造該平板顯 示裝置之方法。 【先前技術】 國目前已進行了許多研究以形成薄且具彈性的平板顯示裝 置，例如有機發光顯示裝置即因驅動特性而被廣泛研究 〇 _5]然而’有機發光顯示裝置的顯示單元會因為濕氣的渗入 而損壞，因此，需藉由於平板顯示裝置中安裝吸氣劑層 以避免/嚴氣渗透造成顯示單元的損壞。 [〇_到目前為止’為了安裝吸氣劑層，吸氣劑糊 paste)係於真空中藉由分配法（心印卽“叩）或網印法 (screen printing)塗佈於顯示單元的周圍。 [0007]然而此方法非常複雜且花費時間，且由於添加至吸氣劑 糊用以幫助塗佈的接著劑（binder)會漏氣，因此顯示單 元可能會被汙染。 1001382〇产單編號 A0101 第4頁/共33頁 1013043017-0 201227643 闺因此’需麵立—㈣單且安全以安裝料織的方法 〇 , 【發明内容】 國$ 了解決上述及/或其他問題，本實施例提供—種封裝薄 板，其中用於吸收濕氣的吸氣劑層可輕易地且安全地安 裝、平板顯示裴置' 以及製造該平板顯示裝置之方法。 [0010] 根據本實施例夕_会匕士笨4» /X* . J之一也樣，其係知供一種製造平板顯示裝 置之方法’該方法包含：於第—薄板上形成吸氣劑層； 〇 於第—薄板切成密封·，該密封劑層具有對應於吸 氣劑敎形狀的空間；藉由搞接第-薄板與第二薄板形 “板以使吸氣劑層進入該空間，·以及貼附封裝薄 板於顯示單元形成於其上的基板上。 [0011]

[0012] [0013] [0014] 附封裝薄板於基板上可包含：移除封裝薄板之第—薄 ^與第二薄板其中之―；將已移除第-薄板或第二薄板 ，、中之—之封裝薄板之—表面貼附至基板；以及移除封 裝薄板所剩餘之第一薄板或第二薄板。 該方法可W含於縣薄板均成密封基板。 吸氣劑層可具有環繞顯轉元之封閉環形。 密_層可包含第一密封劑部分，其係形成在對應於顯 不單元之第二薄板之中央區域中、以及第二密封劑部分 其係形成在對應於顯示單元之邊緣區域之第二薄板之 邊緣區域中，其中該空間係位於第—密封劑部分與第二 密封劑部分之間。 [0015]根據本實施例之一態樣，其俾棍 --^ ^ 1013043017-0 編號麵 ，…共=供一種封裝4板其包 201227643 含第一薄板，其上形成有吸氣劑層、以及第二薄板，其 上形成有密封劑層，密封劑層具有對應於吸氣劑層之形 狀之空間，其中第一薄板與第二薄板相互耦接而使吸氣 劑層進入該空間。 [0016] 吸氣劑層可具有封閉環形。 [0017] 密封劑層可包含第一密封劑部分，其係形成於第二薄板 之中央區域、以及第二密封劑部分，其係形成於第二薄 板之邊緣區域，其中該空間係位於第一密封劑部分與第 二密封劑部分之間。 [0018] 根據本實施例之一態樣，其係提供一種平板顯示裝置， 其包含基板、形成於基板上之顯示單元、覆蓋顯示單元 之封裝薄板、以及形成於封裝薄板上之密封基板，其中 封裝薄板可包含吸氣劑層，其係環繞顯示單元以吸收濕 氣、以及密封劑層，其係與用於吸收濕氣的吸氣劑層一 起填補位於基板與封裝薄板之間的空間。 [0019] 吸氣劑層可具有環繞顯示單元之封閉環形。 [0020] 密封劑層可包含第一密封劑部分，其係形成在對應於顯 示單元之封裝薄板之中央區域上、以及第二密封劑部分 ，其係形成在對應於顯示單元之邊緣區域之封裝薄板之 邊緣區域上，其中該空間係位於第一密封劑部分與第二 密封劑部分之間。 【實施方式】 [0021] 現將參照顯示範例實施例之附圖，更完整地描述實施例 10013820#單編號删1 第6頁/共33頁 1013043017-0 201227643 國帛1圖係根據實施例之封裝薄板1G之剖面圏。 闕根據本實施例之封裝薄板1G包含第—薄板13與第二薄板 1卜其中具有吸氣劑層14形成於其上的第一薄板13以及 具有密封制12形成於其上的第二薄板⑴目互輕接。在 第一薄板13上形成吸氣劑層14，且在第二薄板u上形成 选封劑層12並預留吸氣劑層η可進入之空間12a(參閲第 3A圖）之後，封裝薄板1〇係藉由結合第一薄板13與第二薄 板11而形成。透過此方法，得以實現封裝薄板1〇具有密 0 封劑層12及吸氣劑層14同時形成於平板顯示器之基板20 上（參閲第6A圖至第6C圖）。 [0024] 現將描述製造封裝薄板1〇的方法。 [0025] 首先請參閲第2A圖與第2B圖，密封劑層12係形成於第二 薄板11上。密封劑層12可由熱硬化材料（thermal hardening material)或光硬化材料（optical hardening material)所製成，其將於下描述。 〇 [0026]接下來請參閱第3A圖與第3B圖，空間12a係形成於為中央 區域之第一密封劑部分12-1及為邊緣區域之第二密封劑 部分12-2之間。此空間12a與將形成之吸氣劑層14之形 狀一致。 [0027] 當空間12a與密封劍層12形成於其上之之第二薄板I〗已準 備好時，如第4A圖與第4B圖所示，吸氣劑層14係形成於 第一薄板13上。吸氣劑層14係以環繞顯示單元21 (參閱第 6C圖）之封閉環形所形成。吸氣劑層14之材料將於下文中 描述。 10013820^^^ A0101 第7頁/共33頁 1013043017-0 201227643 [0028] 形成吸氣劑層14於第一薄板13上與形成密封劑層12於第 二薄板11上的順序可互換。 [0029] 如上所述所準備的第一薄板13與第二薄板11，如第5A圖 與第5B圖所示結合為一體。於此時，第一薄板13的吸氣 劑層14進入於第二薄板11之密封劑層12中的空間i2a。 [0030] 透過這樣的方法，欲安裝於平板顯示裝置之上的封裝薄 板10得以製成。 [0031] 用於形成密封劑層12與吸氣劑層14之材料如下所述。 [0032] 密封劑層12可由熱硬化材料或光硬化材料所形成。 [0033] 熱硬化材料可為環氧樹脂（epoxy resiη)、熱硬化劑 (thermal hardening agent) ' 硬化促進劑 (hardening promotion agent)、偶合劑（coupling agent)、以及抗氧化劑（anti-oxidant)混合之化合物 ο [0034] 環氧樹脂可為雙酚Α型環氧樹脂（bisphenol A-type epoxy resin)、雙酚 F 型環氧樹脂（bisphenol F-type epoxy resin)、氫化雙酚型環氧樹脂（hydrogenated bisphenol type epoxy resin)、脂環族環氧樹脂 (alicyclic epoxy resin)、芳香族環氧樹脂 (aromatic epoxy resin)、酚醛型環氧樹脂（n〇v〇lac type epoxy resin)、或雙環戊二烯型環氧樹脂 (dicyclopentadiene type epoxy resin)，且具有 上述％氧群組之化合物可早獨或至少混合兩種化合物而 使用。 H)關_ 1013043017-0 第8頁/共33頁 201227643 [0035] Ο ο [0036] 熱硬化劑可為多胺類（polyamine group)熱硬化劑，例 如二伸乙三胺（diethylenetriamine) '三伸乙四胺 (triethylenetetramine)、N-氨乙基六氫π比 (N-amino-ethyl piperazine, ΑΕΡ)、二氨基二笨曱 烧（diamino-diphenylmethane)、以及己二酸二醯肼 (adipic acid dihydrazide);聚硫醇類（poly mercaptan group)熱硬化劑，例如紛醒·樹脂型（phenol novo lac type)熱硬化劑以及三聚曱醛三氧甲基硫醇 (trioxane trimethylene mercaptan);酸酐類 (acid anhydride group)熱硬化劑，例如苯甲基二甲 胺（benzyl-dimethylamine)以及2, 4, 6-三（二甲氨基 曱基）苯紛（2, 4, 6-tris(dimethylaminomethyl) phenol);以及°米。坐化合物（imidazole compound)， 例如2-甲基口米峻（2-11161;117111111(132〇1)、2-乙基-4-甲 基咪°^(2-ethyl-4-ine1;hyliniidazol)、以及 1-苯基 -2-甲基味嗤（l-benzyl-2-methylimidazol)。除了上 述化合物，亦可使用固態分散型潛伏性固化硬化劑或密 封於微胞（micro capsule)中的潛伏型固化硬化劑。 硬化促進劑可為四價敍鹽（quaternary ammonium salts)、四價硫鹽（quaternary sulfonium salts) 、各種金屬鹽（various metal salts)、或三級胺鹽 (tertiary amine salts)。更具體地說，四價銨鹽可 包含四甲基溴化胺（tetramethyl ammonium bromide) 以及四丁基漠化胺（tetrabutyl ammonium bromide) ;四價硫鹽可包含四笨基溴化鱗（tetraphenyl 10013820#單編號 A0101 第9頁/共33頁 1013043017-0 201227643 phosphonium bromide)以及四丁基溴化碟 (tetrabuty 1 phosphonium bromide);金屬鹽可包 含辛基酸鋅（octyl acid zinc)以及辛基酸錫（octyl acid tin);咪唑可包含1-苄基-2-甲基咪唑 (1-benzy l-2-raethy 1 imidazol)、1-苄基-2-苯咪《坐 (1-benzyl-2-phenyl imidazol)、以及2-乙基-4-甲 基咪唑（2-ethyl-4-methyl imidazole);以及三級胺 鹽可包含二曱基苄胺（benzyl dimethyl amine)。 [0037] 偶合劑（coupl ing agent)可包含石夕院類（Si iane group)偶合劑、鈦酸類（titanate group)偶合劑、鋁 酸鹽（aluminate group)偶合劑、以及石夕化合物。這些 材料可單獨或為至少兩種材料混合之組合物而使用。若 偶合劑包含於密封劑層12中，可增加樹脂化合物之附著 度且降低樹脂化合物之黏度。用於密封之熱硬化樹脂可 包含0.001至5重量百分比（wt%)的偶合劑，最佳為0.01 至 1 wt% 〇 [〇〇38] 當熱硬化材料被熱硬化時，抗氧化劑可避免熱硬化材料 因氧化作用而破壞，因此可更增加熱硬化材料的熱穩定 度。抗氧化劑可包含紛類抗氧化劑（phenolic antioxidant)、硫化抗氧化劑（sulfuric antioxidant)、以及峨酸抗氧化劑（phosphoric antioxidant)。更具體地說，酚類抗氧化劑可為二丁基 經基曱苯（dibutyl hydroxy toluene) (2, 6-二四丁 基對甲紛，2-6-di-tetra-butyl-p-cresol) (ΒΗΤ) ，硫化抗氧化劑可為硫醇丙酸衍生物 10013820^單編號 Α0101 第10頁/共33頁 1013043017-0 201227643 (me reap toprop ionic acid der i vat i ve)，以及構酸 抗氧化劑可為填酸三苯脂（triphenyl phosphate) (9，10 -二氫-9-氧雜-10 -構雜菲-10 -氧化物（ 9,1O-dihydro-9-oxa-l0-phospha phenanthrene-10-oxide)) (HCA)。這些抗氧化劑可 單獨或至少混合兩上述材料而使用。熱硬化樹脂化合物 可包含約0. 001至5 wt%的抗氧化劑，且最佳為〇. 〇1至 0.5 wt%。 〇 f_] 接下來，若密封劑層12為光硬化材料，則密封劑層12可 為混合環氧樹脂、光起始劑（photoinitiator)、礦物 填料（mineral filler)、偶合劑（coupling agent) 、間隔材料（spacer)、光酸產生劑（photoacid generator)、以及自由基起始劑（radical initiator)之化合物》 [0040] 環氧樹脂可為芳香族環氧樹脂、脂環族環氧樹脂、或這 些材料之化合物《芳香族環氧樹脂可為雙酚環氡樹脂、 〇 雙酚A型環氧樹脂、雙酚F型環氧樹脂、酚醛型環氧樹脂 、以及雙環戊二烯型環氧樹脂，或上述材料之化合物。 [0041] 光起使劑（Photoinitiator)使用光而硬化環氡樹脂， 且可為务香重氮鹽（31'011131：1〇：(1丨32011丨11111831〇、芳 香疏鹽（aromatic sulfonium salt)、芳香蛾紹鹽 (aromatic iodine aluminum salt)、芳香銃銘鹽 (aromatic sulfonium aluminum salt)、以及茂金 屬化合物（metallocene compound)。具體地說，光起 使劑可為芳香銃鹽（aromatic suifoniunl salt)，而 10013820#單編號A〇101 第11頁./共33頁 1013043017-0 201227643 實例可為疏六氟填酸化合物（sul fonium hexaf luoro phosphate compound)以及芳香銃六氟録化合物 (aromatic sulfonium hexafluoro ant imon i te compound) 〇 [0042] [0043] [0044] 礦物填料（mineral filler)可為板狀或球狀的材料， 例如滑石粉（talc)、二氧化矽（silica)、氧化鎂 (magnesium oxide)、雲母（mica)、蒙脫土 (montmori 1 lonite)、氧化鋁（alumina)、石墨 (graphite)、氧化皱（beryllium oxide)、氮化銘 (aluminum nitride)、碳矽酸鹽（carbon silicate) 、模來石（mullite)、以及石夕（silicon)或加入替代物 至上述之礦物填料所形成之礦物填料，且具有約〇. 1微米 至20微米之直徑或主要軸寬。在硬化密封劑層12後，礦 物填料係均勻地分佈於化合物中，且因此藉由分散施加 於化合物之壓力而增加密封劑層12之結合力，並且藉由 有效地避免濕氣滲透密封劑層12而增加平板顯示裝置隔 絕濕氣的特性。 偶合劑（coupling agent)可為矽烷型偶合劑、鈦酸型 偶合劑、或矽化合物，且這些材料可單獨使用或混合使 用。偶合劑可為院氧基矽燒（alk〇xySilane)及二氧化丙 烯醚（diglycidyl ether)包含於同一分子之矽烷類偶 合劑。 間隔材料（spacer)維持平板顯示裝置之厚度，例如在硬 化之後以一預疋距離介於基板2〇與密封基板3〇之間的間 隙。面板之厚度可維持在約5微米至5〇微米，而以5微米 10013820^ A0101 第12頁/共33頁 1013043017-0 201227643 至2 5微米為佳。間隔材料可具有球型或圓柱型狀。然而 間隔材料的形狀並未特別限定，舉例來說，只要能維持 厚度均勻’間隔材料可具有任何形狀。 [0045]光酸產生劑（photoacid generator)並非特定限制，只 要sb藉由暴露於光下而產生路易士酸（Lewis acid)或布 氏酸（Bronsted acid)的光酸產生劑即可，且可為硫化 化合物如有機績酸（organic sulfonic acid)或鑌類化 合物（onium group compound)如鏽鹽。具體地說，光 q 酸產生劑可為選自下列群組之化合物，其包含酞醯亞胺 基二氟甲基續酸鹽（phthalimido trifluoro methanesulfonate)、二硝苄基甲笨磺酸鹽 (dinitrobenzyl tosylate)、正癸二礙 (n-decyldisulfone)、萘醯亞胺三氟甲基磺酸鹽 (naphthy1imido trifluoro methanesulfonate)、 二苯基蛾六氟填酸鹽（diphenyl iodide hexafluorophosphate)、二苯基峨六氟珅酸鹽 〇 (diphenyl iodide hexafluoroarsenate)、二苯基 破六銻酸鹽（diphenyl iodide hexaf luoroantimonate)、二苯基-對-甲氧苯銃三氟曱 績酸鹽（dipheny 1 -p-methoxypheny 1 sul f oni um triflate)、二苯基-對-甲苯锍三氟曱磺酸鹽 (dipheny 1-p-toluenylsu 1 fonium triflate)、二笨 基-對-異丁苯銃三氟甲磺酸鹽 (diphenyl-p-isobutylphenylsulfonium triflate)、三苯基锍六氟珅酸鹽 10013820#單編號 A0101 第 13 頁 / 共 33 頁 1013043017-0 201227643 (triphenylsul ionium hexai 1 uoroarsenate )、三笨 基鉸六氟錄酸鹽（triphenyl sul fonium hexafluoroantimonate)、三苯基疏三氟甲石黃酸鹽 (triphenylsulfonium triflate)、以及二丁基萘三 氟甲績酸鹽（dibuty lnaphthy 1 sul f onium tr i f late) 〇 [0046] 自由基起始劑（radi ca 1 ini t i ator )可為藉由例如紫外 線（UV rays)之電磁能量射線而分解以產生自由基的自 由基光聚合引發劑（radical photopolymerization initiator)，或是藉由加熱而分解以產生自由基的可熱 分解自由基聚合引發劑（thermal decomposable radical polymerization initiator)。自由基光聚 合引發劑可包含第I型α裂解起始劑（type I alpha cleavage initiator)與第II型光起始劑 (photoinitiator)。第I型α裂解起始劑可選自由例如 2-經基-2 -甲基苯基丙網 (2-hydroxy-2-methy lpropiophenon)及 1-經基環己 基苯基甲酮（1-hydroxy cyclohexyl phenyl ketone)之苯乙酮衍生物（acetophenone derivative)、例如雙（2, 4, 6-三曱基苯甲醯酰氣）氧化 苯膦（b i s (2，4，6 ~ t r i m e t h y 1 b e η ζ 〇 y 1) phenyl phosphine oxide)之醯膦氧化物系衍生物 (acylphosphine oxide derivative)、以及例如安 息香二曱基醚（benzoin methyl ether)及安息香乙基 醚（benzoin ethyl ether)之安息香乙醚衍生物 10013820# 單編號* A0101 第14頁/共33頁 1013043017-0 201227643 (benzoin ether derivative)所組成之群組。第 η型 光起始劑可為例如二笨甲_(benzophenone)、異丙基氧 硫蒽 _ (isopropyl thioxanthone)、恩篦類 (anthraquinone)之化合物，或上述化合物不同取代基 之衍生物。可熱分解自由基聚合引發劑可為選自下列群 組之過氧化物（peroxide)，例如1，1，3, 3-四甲基丁基 過氧-2 -乙基-己酸鹽 (1，1, 3, 3_tetramet;hylbutylperoxy-2_ethyl-hexanoate) 、1，卜二（三級丁基過氧）環己烷（1，1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane)、1，1-二（三級丁基 過氧）環十二娱*(l，l-bis (t-butylperoxy) cyclododecan)、二-三級丁基過氧異二甲酸酯 (di-t-butylperoxyisophthalate)、三級丁基過氧苯 甲酸酯（t-butylperoxybenzoate)、二異丙苯過氧化物 (dicumyl peroxide)、三級丁基異丙苯過氡化物 (t-butylcumy 1 peroxide)、2, 5-二曱基-2, 5-二（三 級丁基過氧基）己烷（2, 5-dime thy卜2, 5-di (t-buty 1 peroxy) hexane)、2, 5-二曱基-2, 5-二（三 級丁基過氧基）-3-己烷（2, 5-dime1;hy卜2, 5-di (t-butylperoxy)-3-hexane)、以及異丙苯氫過氧化 物（cumene hydroperoxide)。自由基起始劑的有效量 一般約為每100 wt%之丙稀酸酯（acrylate)或異丁蝉酸 (metacrylate)的0.01至20 wt%。 [0047] 接下來，吸氣劑層14可為與活性氣體（active gas)，（ 包含水與氧氣）反應且不會傷害裝置之任何材料。乾燥劑 1001382G#單編號 A0101 第15頁/共33頁 1013043017-0 201227643 ’其為—種用於移除濕氣的吸氣材料，可用於本實施例 中。適合的吸氣材料可為第ΠΑ族金屬以及金屬氧化物， 例如金屬鈣、金屬鋇、氧化鈣、以及氧化鋇。 [0048] [0049] [0050] [0051] [0052] [0053] [0054] 使用第1圖之封裝薄板以製造平板顯示裝置之方法，現將 參閱第6A圖至第6C圖描述。 請參閱第6A圖，在準備好其上形成有顯示單元21之基板 20與封裝薄板10之後’移除封裝薄板10的第一薄板13。 之後’藉由使用滾輪（r〇 11 er )將封裝薄板丨〇已移除第一 薄板13的那一面貼附至基板2〇上。 接下來請參閱第6B圖，第二薄板Π亦被移除，於是獲得 密封劑層12與吸氣劑層14環繞顯示單元21之結構。 請參閱第6C圖，藉由安裝密封基板30於封裝薄板10上， 用於顯示單元21的密封結構便完整形成。 透過此方法，平板顯示裝置可使用封裝薄板10製成。 因此’當平板顯示裝置使用上述之封裝薄板10製成時， 密封劑層12與吸氣劑層14可同時安裝於基板20上，由於 不需要如傳統複雜製程在真空狀態下安裝吸氣劑層’因 可簡化平板顯示裝置之製程，並可避免漏氣。 一’、、、範例實施例具體顯現與描述，其將為所屬 技術領域者了缺& 鮮的是，任何未脫離本發明之精神與範疇 ，而對其進行 ★ 等效修改與變更，均應包含於後附之專 利申請範圍中。 ' 【圖式簡單說明】 10013820# 單編號 A_ 1013043017-0 201227643 [〇〇55]本實施例上述與其他特徵與優點將藉由參照附圖以詳細 描述其範例實施例而變得更加顯著，其中： 第1圖係根據實施例之封裝薄板剖面圖； 第2A圖、第3A圖、第4A圖與第5A圖係根據實施例之製造 第1圖中封裝薄板之方法之平面圖； 第2B圖、第3B圖、第4B圖與第5B圖係根據實施例之製造 第1圖中封裝薄板之方法之剖面圖；以及 第6A圖、第6B圖與第6C圖係根據實施例之使用第1圖之封 0 裝薄板製造平板顯示裝置之方法之剖面圖。 【主要元件符號說明】 ⑽56] 1〇:封裝薄板 11 :第二薄板 12 :密封劑層 12a :空間 12-1 :第一密封劑部分 12 - 2 .第一密封劑部分 ◎ 13 :第一薄板 14 :吸氣劑層 20 :基板 21 :顯示單元 30 :密封基板 10013820#單編號 A0101 1013043017-0

Claims (1)

1. 201227643 七、申請專利範圍： 1 . 一種製造平板顯示裝置之方法，該方法包含： 提供包含一顯示單元之一基板； 於一第一薄板上形成一吸氣劑層； 於一第一薄板上形成一密封劑層，該密封劑層具有對鹿於 該吸氣劑層之形狀的一空間； 藉由耦接該第一薄板與該第二薄板而使該吸氣劑層進入嗜 空間以形成一封裝薄板；以及 貼附該封裝薄板至該基板。 2 .如申請專利範圍第工項所述之方法，其中貼附該封裝薄板 至該基板包含： 移除該封裝薄板之該第一薄板與該第二薄板其中之— 將已移除該第-薄板或該第二薄板其中之—之薄 的一表面貼附至該基板；以及 封裝存板 =該封裝薄板所剩餘之該第—薄板或該第二 3 .如申請專利範圍第i項所述之方法 上形成-密封基板。 1匕3於該封裝薄板 4 .如申請專利範圍第！項所述之 環練該顧示單元之-封閉環形。， 吸氣劑層具有 —第—密封劑部分，其係 -Μ Λτ- 成在對應於該顯+萤- —4板之一尹央區 飞顯不早7C之該第 、Τ，以及 -第二密封劑部分’其係形 緣區域之該第二薄板 、應於销示單元之—邊 一透緣區域中； 第18頁/共33頁 1013043017-0 201227643 其中違空間係位於該第一密封劍部分與該第二密封劑部分 之間。 。刀 —種封裝薄板，其包含： —第一薄板，—吸氣劑層形成於其上，·以及 —第二薄板，—密封劑層形成於其上，該Μ劑層具有對 應於該吸氣劑層之形狀之一空間； 進 其中該第-薄板與該第二薄板相絲接而使該吸氣谢層 入該空間。 S Ο Ο 劑層 如申請專利範圍第6項所述之封裝薄板，其中該吸氣 具有一封閉環形。 劑層 如申請專利範圍第6項所述之封裝薄板，其中該密封 包含： 中央區域 第-密封劑部分，其_成於該第二薄板之— 以及 區域 第二密封劑部分，其係形成於該第二薄板之一邊緣 密封劑部分 其中該空間係位於該第一密封劑部分與該第 之間。 一種平板顯示裝置，其包含： 一基板； 一顯示單元’其㈣成於該基板上； -封裴薄板’其係覆蓋該顯示單元；以及 一密封基板，其係形成於該封裝薄板上； 其中該封裝薄板包含： 10013820#單編號 Α0101 第19頁/共33頁 2乳劑層’其係環繞該顯示單元以吸收濕氣·以及 二封劑層’其係與用於吸收濕氣的該吸氣劑層-起填補 1013043017-0 201227643 ίο 11 位於該基板與該封裝薄板之間的-空間。 請專利範圍第9項所述之平板顯示裝置， 劑層具有環繞該顯示單元之一封閉環形。-中相氣 .如申請專利範圍第9項所述之平 劑層包含： 直其令遠密封 密封㈣分，其係形成在對應於_示單 褽缚板之一中央區域上，·以及 》亥封 -第二密封劑部分’其係形成在對應於該顯 緣區域之該封裝薄板之—邊緣區域上， 其中該空間係位於該第-密龍部分與該 之間。 'X 單元之~ 邊 第二密封劑部分 ^由申請專利範圍第1項所述之方法所製造之平板 13 示裝置 一種藉由申請專利範圍第2項所述之方法所 示裝置。 製造之平板 顯 顯 種藉由申請專利範圍第3項所述之方 示裝置。 法所製造之平板 顯 15 16 -種藉由巾請專職圍第4項所述之方法造 示裝置。 -種藉由中請專利範圍第5項所述之方法所製造 示裝置。 顯 顯 17 -種包含巾請專利範圍第6項所述之封㈣板之平板 裝置。 顯示 18 一種包含申請專利範圍第7項所述之封裝薄板 裝置。 之平板顯示 19 . 一種包含申請專利範圍第8項所述之封裴薄板之 10013820^單編號A0101 第2〇頁/共33頁 平板顯示 1013043017-0 201227643 裝置。 ❹ ❹ 10013820^單編號應01 第21頁/共33頁 1013043017-0