TW201213893A - Exposing method for color filter substrate - Google Patents

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201213893 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種使用於液晶顯示裝置等的彩色濾光 片基板之曝光方法。 【先前技術】 近幾年伴隨液晶顯示裝置的大型化，使用於液晶顯示 裝置的彩色濾光片也大型化。在彩色濾光片的製程中，雖 然利用光微影法（photolithography)將著色層圖案化，但因 大型的曝光光罩非常昂貴，故會有彩色濾光片的製造成本 增高的問題。於是，使用小型光罩的新的曝光方法被多方 硏討。 作爲使用小型光罩的曝光方法，有下述方式：使用將 小於基板大小的光罩安裝於曝光頭部的曝光機，一面搬送 基板，一面對成爲曝光對象的基板全面進行反覆曝光（以下 稱爲「小型光罩連續曝光方式」）。 圖15爲顯示小型光罩連續曝光方式的曝光方法的俯 視圖，圖1 6爲顯示基板、光罩及遮光片的位置關係的側面 圖》 如圖15所示，相對於基板120配置光罩130。光罩上 例如設有與點狀的著色像素或光間隔物（以下稱爲「PS」） 對應的複數個開口 131。一面沿圖的箭頭方向搬送基板 120，一面經由開口 131.在基板120上的顯示區域依序進行 印相，形成著色像素或光間隔物（未圖示）。 201213893 基板120具有形成著色像素的顯示區域140及包圍顯 不區域140外周的非顯示區域150。形成於顯示區域140 的PS爲用以在彩色濾光片基板110與作爲對向基板的TFT 基板的貼合時，將兩基板的間隔保持一定的間隔物。PS有 畤也設於非顯示區域150上（將設於非顯示區域150上的PS 以下稱爲「虛擬PS」）。虛擬PS係在彩色濾光片基板110 與TFT基板的貼合時，在用以將顯示區域140外側的兩基 板的間隔保持一定，並使晶胞間隙（裝有液晶的晶胞的間隙） 穩定上担任重要的角色》 〔先前技術文獻〕 〔專利文獻〕 〔專利文獻1〕日本特開2006 — 292955號公報 【發明內容】 [發明欲解決之課題] —般PS (包含虛擬PS)並不是配置於彩色濾光片基板內 的所有部分，而是部分地存在未形成虛擬PS的區域，使得 不會成爲與TFT配線的接觸或基板切出時的障礙。此未形 成虛擬PS的區域，是彩色濾光片基板與TFT基板的貼合時 成爲基板彎曲的主要原因，貼合時的應力在顯示區域與其 周邊不同。於是，配合彩色濾光片基板與TFT基板的貼合 時產生的應力的分布，將虛擬PS的配置密度、大小、高度 與顯示區域內的PS分開作調整。此外，爲了避開與彩色濾 光片基板的製程中所需的對準記號等的干擾，虛擬PS係在 201213893 非顯示區域以不規則的間距配置。 然而，在上述小型光罩連續曝光方式中，由於對於基 板搬送方向反覆印出相同的圖案，所以不能在中途切換圖 案的形狀或圖案的排列間距。此外，如圖1 5所示，雖然在 1片基板120上使複數個彩色濾光片110曝光，但此時被排 列於基板搬送方向的顯示區域140挾持的部分，未利用與 顯示區域140相同的光罩進行曝光。因此，如圖16所示， 設置與基板同步移動的遮光片139,將顯示區域140間的區 域遮光。因此，在非顯示區域1 5 0中，會有在沿著與基板 搬送方向正交的邊的部分，不能對虛擬PS進行曝光的問 題。 所以，本發明的目的在於提供一種可使用小型光罩連 續曝光方式，在彩色濾光片基板的顯示區域外側的非顯示 區域有效率地形成虛擬PS的曝光方法。 [解決課題之手段] 本發明係關於一種彩色濾光片基板之曝光方法。在彩 色濾光片基板上具有矩形狀的顯示區域、沿著該第1方向 的各邊的一對第1非顯示區域、及沿著該第2方向的各邊 的一對第2非顯示區域；該矩形狀的顯示區域係具有在第 1方向上延伸的一對邊及在與第1方向正交的第2方向上延 伸的一對邊；其中在顯示區域設置複數個著色像素及複數 個PS，在第1及第2非顯示區域設置複數個虛擬PS。爲了 形成此彩色濾光片基板，具備下述步驟：一面在第1方向 201213893 上搬送塗佈有第1色的光阻劑的基板，一面間歇地進行複 數次的曝光’以在第1非顯示區域形成第1層的步驟，該 第1層係構成由與構成第1色的著色像素的著色層相同的 材料所構成的虛擬PS;及一面在第2方向上搬送塗佈有第 2色的光阻劑的基板，一面間歇地進行複數次的曝光，以 在第2非顯示區域形成第2層的步驟，該第2層係構成由 與構成第2色的著色像素的著色層相同的材料所構成的虛 擬PS。形成第1層的步驟、及形成第2層的步驟係按任意 的順序進行。 [發明之效果] 依據本發明，使用小型光罩連續曝光方式，可在位於 彩色據光片基板的顯不區域四邊的外側的非顯示區域的全 區使虛擬PS曝光。 【實施方式】 (基本結構） 圖1爲顯示在本發明各實施形態共通的基本曝光方法 的俯視圖。圖2爲顯示本發明各實施形態共通的基本光罩 的開口配置的俯視圖，是圖1的A部分的放大圖。在圖1 中’以右下的影線顯示的區域爲排列顯示像素的顯示區 域’以右上的影線顯示的區域爲後述的第1非顯示區域。 此外’在以後的各圖面中，爲了說明方便起見，使用相互 正交的X方向及Y方向來特別指定基板的方向。具體而 言·’ X方向爲與顯示區域的對向的長邊平行的方向，γ方 201213893 向爲與顯示區域的對向的短邊平行的方向（在以下的圖中 也同樣）。 如圖1所示，光罩30a〜301分別安裝於複數個曝光頭 部上，分成排列於X方向的2列而配置。更詳細而言，在 第1列（基板20的投入側）上隔著預定間隔，配置有光罩 30a、30c、30e、30g、30i、30k，在第2列上對應於第1列 的光罩的間隔部分，相輔地配置有光罩30b、30d、30f、30h、 30j ' 301 » 在光罩30a〜3 01上設有與顯示區域40的複數個著色像 素、複數個PS對應的開口，此外，在光罩30a的左端、30e 的右端、30f的左端及30k上，設置與形成於後述的第1非 顯示區域5 1的複數個虛擬PS對應的開口。 此處，如圖2所示，開口的排列31及3 2分成2個區 域而形成於光罩30a上（圖示雖然省略，但關於其他的光罩 3 Ob〜3 01也同樣）。這是因爲可用1片光罩形成2種圖案之 故。作爲使用方法而言，在Y方向上搬送基板20時，使用 開口 31進行曝光，在後述的X方向上搬送基板20時，使 用開口 32進行曝光。於在X及Y方向上切換基板搬送方 向之際，以開口的排列3 1或3 2選擇性地與光源對向的方 式，使光罩上下地移動，來切換所使用之開口的排列。 在圖1之例中，8個彩色濾光片基板10形成於基板20 上。在曝光時，對於如圖1所示般排列的光罩30a〜301， 如圖1所示，使基板20的Y方向與搬送方向一致，一面以 201213893 預定的速度搬送基板20，一面間歇地進行複數次的曝光， 在基板20上的顯示區域40將著色像素及PS依次圖案化， 在沿著顯示區域40的Y方向的各邊的一對區域（以下稱爲 「第1非顯示區域」）5 1，將虛擬PS依次圖案化。在此過 程中，鄰接於基板搬送方向的顯示區域40間的區域係使用 遮光片遮光。 圖3爲顯示在本發明各實施形態共通的基本曝光方法 的俯視圖，顯示與圖1的曝光方法組合而進行的曝光方 法。在圖3中，以右下的影線顯示的區域爲顯示區域，以 右上的影線顯示的區域爲後述的第2非顯示區域。 在Y方向上進行掃描曝光後，使第1非顯示區域51的 曝光完成的基板20從圖1所示的狀態旋轉90度，對於光 罩3 0a〜3 01如圖3所示地設置（基板的搬送方向與基板的X 方向一致）。在圖3所示的曝光時，雖然需要依據基板20 的方向改變應曝光的圖案，但可使用設置於光罩30a〜301 的各光罩的另一開口的排列32(參閱圖2)，以取代按各光罩 乾燥。此外，在光罩30a〜301上設有與顯示區域40的複數 個著色像素、複數個PS對應的開口，並在光罩30a的左端、 30c的右端、30d的左端、30f的右端、30g的左端、30i的 右端、30 j的左端及3 01的右端，設置與形成於第2非顯示 區域52的複數個虛擬PS對應的開口。 使基板20的X方向與搬送方向一致，一面以預定的速 度搬送基板20，一面間歇地進行複數次的曝光，在基板20 201213893 上的顯示區域40將著色像素及PS依次圖案化，在沿著顯 示區域40的X方向的各邊的一對區域（以下稱爲「第2非 顯示區域」）52將虛擬PS依次圖案化。在此過程中，鄰接 於基板搬送方向的顯示區域40間的區域係使用遮光片予 以遮光。 再者，構成顯示區域40內的同一色的著色像素及PS 的同一色的層，可藉X方向或Y方向的一次掃描進行曝 光，也可藉分成X及Y方向的兩次掃描進行曝光。 圖4爲顯示在本發明第1及3實施形態共通的基本曝 光方法的俯視圖，顯示與圖1及3的曝光方法組合而進行 的曝光方法。在圖4中，以右下的影線顯示的區域爲顯示 區域，以右上的影線顯示的區域爲第1及2非顯示區域。 此外，2點鏈線的外框表示光罩的外形，2點鏈線的內框的 內部表示形成開口的排列的區域。 沿X及Y方向進行掃描曝光後，對於已完成第1非顯 示區域51及第2非顯示區域52的曝光的基板20，配置可 將彩色濾光片基板10的區域進行1次曝光的光罩35。爲 此，開口的排列36係以可將顯示區域40、非顯示區域50(包 含第1非顯示區域51與第2非顯示區域52)進行一次曝光 的方式形成。 如此，在配置有光罩35的狀態下，在基板20左側之 行的第1列彩色濾光片基板10的區域進行近接（proximity) 方式的1次曝光（以下稱使用本方式的曝光爲「近接曝 -10- 201213893 光」）。藉由此曝光，將基板20上的顯示區域40內的著色 像素及PS、第1非顯示區域51內的虛擬PS、第2非顯示 區域52內的虛擬PS同時圖案化。曝光後’使光罩35移動 到相鄰的彩色濾光片基板1 〇 (例如從左側之行上起算的第2 列）的區域，再進行同樣的近接曝光。重複進行此近接曝 光，在基板20上的全部彩色濾光片基板10的區域（4列x2 行）進行曝光。 圖5爲曝光後的彩色濾光片基板的俯視圖，圖6爲圖 5的B部分的放大圖。 已進行朝X及Y方向的小型光罩連續曝光、或朝X及 Y方向的小型光罩連續曝光及近接曝光後的彩色濾光片基 板10，在顯示區域40具有著色像素（未圖示）或PS90，且在 第1非顯示區域51及第2非顯示區域52具有複數個虛擬 PS71及72。再者’如圖5及6所示’亦可在第1非顯示區 域51及第2非顯示區域52形成虛擬PS71及72的同時’ 在位於第1非顯示區域5 1及第2非顯示區域5 2外側的周 邊部虛擬PS形成區域53及54形成虛擬PS71及72。周邊 部虛擬PS形成區域53及54與第1及第2非顯示區域51 及52的虛擬PS具有相同的構造’僅有虛擬PS是形成於基 板上、或是形成於黑色基材上之點不同。 以下，一面參照圖7〜14與圖6，一面說明各實施形態 的曝光方法。 (第1實施形態） -11 - 201213893 圖7爲第1實施形態的彩色濾光片基板一部分的剖面 圖’更特別指定的是，U)爲相當於沿著圖6的I _ I線的部 分的剖面圖’（b)爲相當於沿著圖6的II - II線的部分的剖 面圖，（c)爲相當於沿著圖6的III — in線的部分的剖面圖。 在第1非顯示區域51中，如圖7(a)所示，在表面形成 有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬PS71的第1層 81及第3層83。在第2非顯示區域52中，如（b)所示，在 表面上形成有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬 PS72的第2層82及第4層84。在顯示區域40中，如（c) 所示，在基板20上層積有黑色基材61與著色層62。然後， 在黑色基材61上的著色層62上層積有構成PS90的層91 及92。再者，以覆蓋（a)〜（c)所示的顯示區域40、第1非 顯示區域51及第2非顯示區域52全部的方式，形成有ITO 膜63。在本實施形態中，第1層81係由與紅色的著色層 62相同的材料構成，第2層82及層91係由與綠色的著色 層相同的材料構成，第3層83、第4層84及層92係由與 藍色的著色層相同的材料構成。 圖8爲顯示第1實施形態的彩色濾光片基板之曝光方 法的俯視圖。再者，爲了簡化說明，僅圖示基板全面中對 應於1個彩色濾光片基板的區域。此外，圖8的上方爲基 板的搬送方向。 首先，使用眾所周知的手段，在基板20上形成黑色基 材61。再者，在基板20上塗布紅色的光阻劑’ 一面在U) -12- 201213893 所示的Y方向上搬送基板20，一面進行小型光罩連續曝 光，藉此在顯示區域40內形成紅色的著色層62，在第1 非顯示區域5 1內形成第1層81。 其次，在基板20上塗布綠色的光阻劑，一面在（b)所示 的X方向上搬送基板20，一面進行小型光罩連續曝光’籍 此在顯示區域40內形成綠色的著色像素與層91，在第2 非顯示區域52內形成第2層82。 其次，在基板20上塗布藍色的光阻劑，如（c)所示，對 基板20進行1次的近接曝光，在第1非顯示區域51內的 第1層81上形成第3層83，同時在第2非顯示區域52內 的第2層82上形成第4層84,在顯'示區域40內的層91上 形成層92。此外，與此等同時，形成顯示區域40內的藍色 的著色像素。 最後’以覆蓋顯示區域40、第1非顯示區域5 1及第2 非顯示區域52全部的方式，形成ITO膜63。 如此’對基板20，在直行的兩方向上進行小型光罩_ 續曝光’再進行1次的近接曝光，藉此可分別將由2個騰 構成的虛擬PS7 1及72按照所希望的配置間距及形狀形成 於第1非顯示區域51及第2非顯示區域52,而該由2個層 構成的虛擬PS7 1及72係分別由與形成著色像素的材料相 同的材料形成。此外，藉由採用近接曝光方式，可減低全 體的曝光次數，能發揮可降低整體的曝光次數，且可在不 會引起處理節拍（tact)增加的情況下進行曝光步驟的效 -13- 201213893 果，而該近接曝光方式係使用可在曝光步驟的一部分同時 覆蓋非顯示區域全體的曝光之光罩。 (第2實施形態） 圖9爲第2實施形態的彩色濾光片基板上的PS及虛擬 PS的剖面圖。更特別指定的是，（a)爲相當於沿著圖6的I 一 I線的部分的剖面圖，（b)爲相當於沿著圖6的II - II線 的部分的剖面圖，（c)爲相當於沿著圖6的III — III線的部 分的剖面圖。 在第1非顯示區域51中，如圖9(a)所示，在表面形成 有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬PS71的第1層 81及第3層83。在第2非顯示區域52中，如（b)所示，在 表面形成有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬PS 7 2 的第2層82及第4層84。在顯示區域40中，如（c)所示， 在基板20上層積有黑色基材61與著色層62。然後，在黑 色基材61上的著色層62上層積有構成PS90的層91及92。 再以覆蓋（a)〜（c)所示的顯示區域40、第1非顯示區域51 及第2非顯示區域52全部的方式，形成有ITO膜63。在本 實施形態中’第丨層81係由與紅色的著色層62相同的材 料構成’第2層82及層91係由與綠色的著色層相同的材 料構成’第3層83、第4層84及層92係由與藍色的著色 層相同的材料構成。 圖爲顯示關於第2實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。在圖10中也是，上方向爲基板的搬送方 -14- 201213893 向。 首先’使用眾所周知的手段，在基板20上形成黑色基 材61。再者’於基板2〇上塗布紅色的光阻劑，一面在（a) 所示的Y方向上搬送基板2〇，一面進行小型光罩連續曝 光’藉此在顯示區域4〇內形成紅色的著色層62，在第1 非顯示區域51內形成第1層gj。 其次’在基板20上塗布綠色的光阻劑，一面在（b)所示 的X方向上搬送基板20，一面進行小型光罩連續曝光，藉 此在顯示區域40內形成綠色的著色像素與層91，在第2 非顯示區域52內形成第2層82。 其次，在基板20上塗布藍色的光阻劑，一面在（c)所示 的Y方向上搬送基板20，一面進行小型光罩連續曝光，藉 此在顯示區域40內形成藍色的著色層與層91上的層92， 在第1非顯示區域51內的第1層上形成第3層83。 接著，使基板20旋轉90度，一面在（d)所示的X方向 上搬送基板20，一面進行小型光罩連續曝光，藉此在第2 非顯示區域52內的第2層82上形成第4層84。 最後，以覆蓋顯示區域40、第1非顯示區域5 1及第2 非顯示區域52全部的方式，形成ITO膜63。

如此，對基板20，在直行的兩方向上進行各2次的小 型光罩連續曝光，藉此也可按照所希望的配置間距及形 狀，在第1非顯示區域51內形成虛擬PS 71，在第2非顯示 區域52內形成虛擬PS7 2。再者’由於藍色的光阻劑係在X -15- 201213893 方向及γ方向上分成2次曝光’所以藍色的著色像素與層 92可以任1次的曝光形成’也可分成2次的曝光來形成。 (第3實施形態） 圖11爲第3實施形態的彩色濾光片基板上的PS及虛 擬PS的剖面圖。更特別指定的是’ U)爲相當於沿著圖6 的I — I線的部分的剖面圖，（b)爲相當於沿著圖6的II - Π 線的部分的剖面圖，（c)爲相當於沿著圖6的III — III線的 部分的剖面圖。 本實施形態的彩色濾光片基板’除了紅色、綠色 '藍 色以外，另外在設有黃色的著色層方面，也與第1實施形 態不同。在第1非顯示區域51中，如圖11(a)所示，在表 面形成有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬PS71的 第1層81、第3層83及第5層85。在第2非顯示區域52 中，如（b)所示，在表面形成有黑色基材61的基板20上形 成有構成虛擬PS72的第2層82、第4層84及第6層86。 在顯示區域40中，如（c)所示，在基板20上層積有黑色基 材61與著色層62。然後，在黑色基材61上的著色層62 上形成有構成PS90的層91及92。再者’以覆蓋（a)〜（c) 所示的顯示區域40與非顯示區域51及52全部的方式’形 成有ITO膜63。,在本實施形態中，第1層8 1係由與紅色的 著色層62相同的材料構成，第2層82及層91係由與綠色 的著色層相同的材料構成，第3層83、第4層84及層92 係由與藍色的著色層相同的材料構成，第5層85及第6層 -16- 201213893 86係由與黃色的著色層相同的材料構成。 圖12爲顯示第2實施形態的彩色濾光片基板之曝光方 法的俯視圖。在圖12中也是，上方向爲基板的搬送方向。 首先，在圖12(a)〜（c)中，進行與在圖8(a)〜（c)中說 明者相同的曝光方法，在顯示區域40內形成紅色、綠色、 藍色的著色像素與層91及92，在第1非顯示區域51內形 成第1層81及第3層83，在第2非顯示區域52內形成第 2層82及第4層84。 再者，在基板20上塗布黃色的光阻劑，如（d)所示，對 基板20進行1次的近接曝光，在第1非顯示區域51內的 第3層83上形成第5層85，同時在第2非顯示區域52內 的第4層84上形成第6層86，在顯示區域40內形成黃色 的著色像素。 最後，以覆蓋顯示區域40與非顯示區域51及52全部 的方式，形成ITO膜63。 如此，除了第1實施形態以外，再進行近接曝光，相 較於在所有的曝光步驟中使用小型光罩連續曝光方式的情 況，可以少的曝光次數將由3個層構成的虛擬PS形成於第 1非顯示區域51及第2非顯示區域52兩者，該由3個層構 成的虛擬PS係分別由與形成著色像素的材料相同的材料 所形成。此外，得以發揮可在不引起處理節拍（tact)的增加 的情況下進行曝光步驟的效果。 (第4實施形態） -17- 201213893 圖13爲第4實施形態的彩色濾光片基板上的PS及虛 擬PS的剖面圖。更特別指定的是，（a)爲相當於沿著圖6 的I — I線的部分的剖面圖，（b)爲相當於沿著圖6的II 一 Π 線的部分的剖面圖，（c)爲相當於沿著圖6的III — III線的 部分的剖面圖。 在第1非顯示區域51中，如圖13(a)所示，在表面形 成有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬PS71的第1 層81及第3層83。在第2非顯示區域52中，如（b)所示’ 在表面形成有黑色基材61的基板20上形成有構成虛擬 PS72的第2層82及第4層84。在顯示區域40中，如（c) 所示，在基板20上層積有黑色基材61與著色層62。黑色 基材61的著色層62形成有構成PS90的層91及層92。再 者’以覆蓋（a)〜（c)所不的顯不區域40、第1非顯不區域 51及第2非顯示區域52全部的方式，形成有ITO膜63。 在本實施形態中，第1層8 1係由與紅色的著色層62相同 的材料構成，第2層82及層'91·係由與綠色的著色層相同 的材料構成，第3層83及層92係由與藍色的著色層相同 的材料構成，第4層84係由與黃色的著色層相同的材料構 成。 圖14爲顯示關於第3實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。在圖14中也是，上方向爲基板的搬送方 向。 首先，使用眾所周知的手段，在基板20上形成黑色基 -18- 201213893 材61。接著，在基板20上塗布紅色的光 所示的 Y方向上搬送基板20，一面進行 光，藉此在基板20上的顯示區域40形成紅 在第1非顯示區域51內形成第1層81。 其次，在基板20上塗布綠色的光阻劑 的X方向上搬送基板20，一面進行小型光 此在顯示區域40內形成綠色的著色層與層 示區域52內形成第2層82。 其次，在基板20上塗布藍色的光阻劑 的Y方向上搬送基板20，一面進行小型光 此一面在顯示區域40內形成藍色的著色儒 上形成層92，在第1非顯示區域5 1內的！ 第3層83 。 再者，在基板20上塗布黃色的光阻劑 的X方向上搬送基板20，一面進行小型光 此在顯示區域40內形成黃色的著色像素， 域52內的第2層82上形成第4層84。 最後’以覆蓋顯示區域40與非顯示區 的方式，形成ITO膜63。 如此’對基板20，在直行的兩方向上 光罩連續曝光’藉此可按照所希望的配置 第1非顯示區域51內形成虛擬PS71，在 52內形成虛擬PS72。 阻劑，一面在（a) 小型光罩連續曝 :色的著色層62, ，一面在（b)所示 罩連續曝光，藉 f 9 1 ’在第2非顯 ，一面在（c)所示 罩連續曝光，藉 i素，一面在層9 1 赛1層81上形成 ，一面在（d)所示 罩連續曝光，藉 在第2非顯示區 域51及52全部 進行各2次小型 間距及形狀’在 第2非顯示區域 -19- 201213893 再者，在上述的第1實施形態中，將基板的曝光順序 特別指定爲γ方向的掃描曝光、X方向的掃描曝光、近接 曝光，在上述第2及4實施形態中，將基板的曝光順序特 別指定爲Y.方向的掃描曝光、X方向的掃描曝光、Y方向 的掃描曝光、X方向的掃描曝光，在上述的第3實施形態 中，將基板的曝光順序特別指定爲Y方向的掃描曝光、X 方向的掃描曝光、近接曝光、近接曝光，惟曝光順序不限 定於此等順序。在第1實施形態中，圖8的（a)、（b)、（C) 的順序可按（a)〜（c)的組合的6種中的任一種進行，又，在 第2實施形態中，可按圖10的（a)、（c)、（d)及（b)的順序、 或圖10的（b)、（a)、（c)及（d)的順序、或圖1〇的（b)、（c)、 (d)及（a)的順序、或圖10的（c)、（d)、（a)及（b)的順序、或 圖10的（c)、（d)、（b)及（a)的順序的任一順序進行（而且，在 各個順序中，（c)與（d)的順序亦可相反），再者，在第3及4 實施形態中，圖12及14的（a)、（b)、（c)、（d)的順序可按（a) 〜（d)的組合的24種中的任一種進行。 此外，在上述第1〜4實施形態中，雖然一面形成非顯 示區域的虛擬PS，一面形成顯示區域的著色像素及PS，但 未必限定於此，著色像素及PS也可以在其他的步驟中製 作。 再者’在上述第1〜4實施形態中，雖然特別指定著色 層的顏色與形成順序’但顏色或形成順序可爲任意，並不 限定於此等實施形態之场1。 -20- 201213893 [產業上之利用可能性] 本發明可使用於例如液晶顯示裝置或有機E L所使用 的彩色濾光片基板之曝光方法。 【圖式簡單說明】 圖1爲顯示在本發明各實施形態共通的基本曝光方法 的俯視圖。 圖2爲顯示在本發明各實施形態共通的光罩的開口配 置例的俯視圖。 圖3爲顯示在本發明各實施形態共通的基本曝光方法 的俯視圖。 圖4爲顯示在本發明各實施形態共通的基本曝光方法 的俯視圖。 圖5爲在本發明各實施形態共通的彩色濾光片的俯視 圖。 圖6爲圖5所示的B部分的放大圖。 圖7爲關於第1實施形態的彩色濾光片基板上的PS及 虛擬PS的剖面圖。 圖8爲顯示關於第1實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。 圖9爲關於第2實施形態的彩色濾光片基板上的PS及 虛擬PS的剖面圖。 圖10爲顯示關於第2實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。 -21- 201213893 圖11爲關於第3實施形態的彩色濾光片基板上的PS 及虛擬PS的剖面圖。 圖12爲顯示關於第3實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。 圖13爲關於第4實施形態的彩色濾光片基板上的PS 及虛擬PS的剖面圖。 圖14爲顯示關於第4實施形態的彩色濾光片基板之曝 光方法的俯視圖。 圖15爲顯示小型曝光光罩連續曝光方式的曝光方法 的俯視圖。 圖16爲顯示基板、光罩及遮光片的位置關係的側面 圖。 【主要元件符號說明】 10 20 30、35、30a〜301 31 、 32 、 36 40 50 51 52 53、54 61 彩色濾光片基板 基板 光罩 開口的排列 顯示區域 非顯示區域 第1非顯示區域 第2非顯示區域 周邊部虛擬PS形成區域 黑色基材 -22- 201213893 62 著 色 層 63 ITO 膜 71 ' 72 虛 擬 PS 8 1 第 1 層 82 第 2 層 83 第 3 層 84 第 4 層 85 第 5 層 86 第 6 層 90 PS 91、 92 層 -23-

Claims (1)

1. 201213893 七、申請專利範圍： 1. 一種彩色濾光片基板之曝光方法，該彩色濾光片基板係 具有矩形狀的顯示區域、沿著該第1方向的各邊的一對 第1非顯示區域、及沿著該第2方向的各邊的一對第2 非顯示區域；在該顯示區域設置複數個著色像素及複數 個光間隔物（PS)，在該第1及第2非顯示區域設置複數 個虛擬光間隔物（PS);該矩形狀的顯示區域係具有在第 1方向上延伸的一對邊及在與該第1方向正交的第2方 向上延伸的一對邊；該曝光方法具備下述步驟： 一面在該第1方向上搬送塗佈有第1色的光阻劑的基 板’一面間歇地進行複數次的曝光，以在該第1非顯示 區域內形成第1層的步驟，該第1層係由與形成該第1 色的著色像素的材料相同的材料構成，而構成第1虛擬 PS ;及 一面在該第2方向上搬送塗佈有第2色的光阻劑的基 板’一面間歇地進行複數次的曝光，以在該第2非顯示 區域內形成第2層的步驟，該第2層係由與形成該第2 色的著色像素的材料相同的材料構成，而構成第2虛擬 PS ° 2. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片基板之曝光方法， 其中更具備下述步驟：對塗佈有第3色的光阻劑的基板 進行1次曝光’以形成第3層並形成第4層；該第3層 係與該第1非顯示區域內的該第1層同時層積，由與形 成該第3色的著色像素的材料相同的材料構成，而構成 -.24- 201213893 該第1虛擬PS;該第4層係與該第 第2層同時層積，由與形成該第3色的 相同的材料構成’而構成第2虛擬pS: 按任意順序進行形成該第1層的步願 的步驟、及形成該第3層及該第4層的 3. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片基 其中更具備下述步驟：一面在該第丨方 第3色的光阻劑的基板，一面間歇地 光’以形成第3層，該第3層係與該第 的該第1層同時層積，由與形成該第3 材料相同的材料構成，而構成第1虛擬 方向上搬送該基板，一面間歇地進行複 形成第4層，該第4層係與該第2非顯 2層同時層積，由與形成該第3色的著 同的材料構成，而構成該第2虛擬PS， 按任意順序進行形成該第1層的步騷 的步驟、及形成該第3及4層的步驟。 4. 如申請專利範圍第2項之彩色濾光片基 其中更具備下述步驟：對於塗佈有第4 板進行1次的曝光，以形成第5層並形 5層係與該第1非顯示區域內的該第1 時層積，由與形成該第彳色的著色像素 料構成，而構成該第1虛擬PS;該第6 :顯示區域內的該 著色像素的材料 ► I、形成該第2層 步驟。 I板之曝光方法， 向上搬送塗佈有 進行複數次的曝 1非顯示區域內 色的著色像素的 PS ;—面在第2 數次的曝光，以 示區域內的該第 色像素的材料相 丨、形成該第2層 ;板之曝光方法， 色的光阻劑的基 成第6層；該第 層及該第3層同 的材料相同的材 層係與該第2非 •25- 201213893 顯示區域內的該第2層及該第4層同時層積，由與形成 該第4色的著色像素的材料相同的材料構成，而構成該 第2虛擬PS， 按任意順序進行形成該第1層的步驟、形成該第2層 的步驟、形成該第3層及該第4層的步驟、及形成該第 5及6層的步驟。 5. 如申請專利範圍第1項之彩色濾光片基板之曝光方法， 其中更具備下述步驟： 一面在該第1方向上搬送塗佈有第3色的光阻劑的基 板’一面間歇地進行複數次的曝光，以形成第3層的步 驟’該第3層係與該第1非顯示區域內的該第1層同時 層積’由與形成該第3色的著色像素的材料相同的材料 構成，而構成該第1虛擬PS;及 一面在該第2方向上搬送塗佈有第4色的光阻劑的^ 板，一面間歇地進行複數次的曝光，以形成第4層的# 驟，該第4層係與該第2非顯示區域內的該第2層同胃 層積，由與形成該第4色的著色像素的材料相同的材料 構成，而構成該第2虛擬PS; 按任意順序進行形成該第1層的步驟、形成該第2 μ 的步驟、形成該第3層的步驟、及形成該第4層的步驟。 6. 如申請專利範圍第2或3項之曝光方法，其中該彩色灑 光片基板在該顯示區域具有相互不同的第1〜第3色的 著色像素， • 26- 201213893 該第1層係與該顯示區域內的第1色的著色像素同時 形成， 該第2層係與該‘顯示區域內的第2色的著色像素及構 成光間隔物（PS)的第2色的層同時形成， 該第3及第4層係與該顯示區域內的第3色的著色像 素及構成PS的第3色的層同時形成。 7. 如申請專利範圍第4項之曝光方法，其中該彩色濾光片 基板在該顯示區域具有相互不同的第1〜第4色的著色 像素， 該第1層係與該顯示區域內的第1色的著色像素同時 形成， 該第2層係與該顯示區域內的第2色的著色像素及構 成光間隔物（PS)的第2色的層同時形成， 該第3及第4層係與該顯示區域內的第3色的著色像 素及構成PS的第3色的層同時形成， 該第5及第6層係與該顯示區域內的第4色的著色像 素及構成PS的第4色的層同時形成。 8. 如申請專利範圍第5項之曝光方法，其中該彩色濾光片 基板在該顯示區域具有相互不同的第1〜第4色的著色 像素， 該第1層係與該顯示區域內的第1色的著色像素同時 形成， 該第2層係與該顯示區域內的第2色的著色像素及構 -27- 201213893 成光間隔物（PS)的第2色的層同時形成， 該第3層係與該顯示區域內的第3色的著色像素及構 成PS的第3色的層同時形成， 該第4層係與該顯示區域內的第4色的著色像素及構 成PS的第4色的層同時形成。 9·—種彩色濾光片基板，其具有矩形狀的顯示區域、沿著 該第1方向的各邊的一對第1非顯示區域、及沿著該第 2方向的各邊的一對第2非顯示區域；該矩形狀的顯示 區域係具有在第1方向上延伸的一對邊及在與該第1方 向正交的第2方向上延伸的一對邊；其中具備： 第1〜第4色的著色像素，其形成於該顯示區域內； 光間隔物’其形成於該顯示區域內； 第1虛擬光間隔物（虛擬PS)，其由第1層及第3層 構成’該第1層係設置於該第1非顯示區域內，由與形 成第1色的著色像素的材料相同的材料所形成，該第3 層係層積於該第1層上，由與形成第3色的著色像素的 材料相同的材料所形成；及 第2虛擬PS’其由第2層及第4層構成，該第2層 係設置於該第2非顯示區域內，由與形成第2色的著色 像素的材料相同的材料所形成，該第4層係層積於該第 2層上’由與形成第3色的著色像素的材料相同的材料 所形成。 10. 一種彩色濾光片基板’其具有矩形狀的顯示區域、沿著 -28- 201213893 該第1方向的各邊的一對 2方向的各邊的一對第2专 區域係具有在第1方向上 向正交的第2方向上延伸 第1〜第4色的著色像: 光間隔物，其形成於該 第1虛擬光間隔物（虛接 第5層構成；該第1層係 由與形成第1色的著色像 該第3層係層積於該第1 像素的材料相同的材料所 3層上，由與形成該第4 料所形成；及 第2虛擬PS，其由第2 第2層係設置於該第2非 的著色像素的材料相同的 於該第2層上，由與形成 的材料所形成；該第6層 成該第4色的著色像素的 11.—種彩色濾光片基板，其 該第1方向的各邊的一對 2方向的各邊的一對第2 ; 區域係具有在第1方向上 第1非顯示區域、及沿著該第 电顯示區域；該矩形狀的顯示 延伸的一對邊及在與該第1方 的一對邊；其中具備： 素，其形成於該顯示區域內； 顯示區域內； i PS)，其由第1層、第3層及 設置於該第1非顯示區域內， 素的材料相同的材料所形成； 層上，由與形成第3色的著色 形成；該第5層係層積於該第 色的著色像素的材料相同的材 層、第4層及第6層構成；該 顯不區域內，由與形成第2色 材料所形成；該第4層係層_ 第4色的著色像素的材料相_ 係層積於該第4層上，由 材料相同的材料所形成。 具有矩形狀的顯示區域、、沿^ 第1非顯不區域、及沿著該第 申顯不區域；該矩形狀的顯汗_ 延伸的一對邊及在與該第丨^ -29- 201213893 向正交的第2方向上延伸的一對邊 第1〜第4色的著色像素，其形 光間隔物，其形成於該顯示區域 第1虛擬光間隔物（虛擬PS),其 成；該第1層係設置於該第1非顯 第1色的著色像素的材料相同的材 係層積於該第1層上，由與形成第 料相同的材料所形成；及 第2虛擬PS，其由第2層及第4 設置於該第2非顯示區域內，由與 素的材料相同的材料所形成；該第 層上，由與形成第4色的著色像素 形成。 ;其中具備： 成於該顯示區域內； 內； 由第1層及第3層胃 示區域內，由與形成 料所形成；該第3層 3色的著色像素的材 .層構成；該第2層係 形成第2色的著色像 4層係層積於該第2 的材.料相同的材料所 -30-