KR20060014317A - 노광장비 - Google Patents

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KR20060014317A KR1020040062956A KR20040062956A KR20060014317A KR 20060014317 A KR20060014317 A KR 20060014317A KR 1020040062956 A KR1020040062956 A KR 1020040062956A KR 20040062956 A KR20040062956 A KR 20040062956A KR 20060014317 A KR20060014317 A KR 20060014317A
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Abstract

제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 노광장비가 개시된다. 노광장비는 광원, 다수의 메인셔터 및 다수의 서브셔터로 이루어져, 제1 및 제2 샷 영역으로 이루어진 모기판을 노광한다. 제1 샷 영역은 제1 컬러부의 일부분, 제1 컬러부보다 작은 사이즈를 갖는 제2 컬러부 및 제1 컬러부와 제2 컬러부와의 사이에 형성된 비컬러부로 이루어지고, 제2 샷 영역은 제1 컬러부의 나머지 일부분으로 이루어진다. 여기서, 다수의 서브셔터 중 하나는 노광장비가 제1 샷 영역을 노광할 때, 비컬러부에 인접하는 제1 컬러부의 비유효영역에 대응하도록 이동하여, 비유효영역으로 입사되는 광을 차단한다. 따라서, 노광장비를 이용하여 제조되는 제품의 생산성을 향상시킬 수 있다.

Description

노광장비{EXPOSURE APPARATUS}
도 1은 액정표시패널의 단면도이다.
도 2는 모기판을 나타낸 평면도이다.
도 3은 도 2에 도시된 모기판의 제1 샷 영역을 노광하는 1차 노광공정을 나타낸 평면도이다.
도 4는 도 2에 도시된 모기판의 제2 샷 영역을 노광하는 2차 노광공정을 나타낸 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장비를 나타낸 평면도이다.
도 6은 도 5에 도시된 절단선 Ⅰ-Ⅰ`에 따라 절단한 단면도이다.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명*
100 : 액정표시패널 110 : 어레이 기판
120 : 컬러필터기판 123 : 컬럼 스페이서
130 : 액정층 135 : 실런트
200 : 모기판 400 : 노광장비
410 : 광원 440 : 마스크 스테이지
421, 422, 423, 424 : 제1 내지 제4 메인셔터
431, 432, 433, 434 : 제1 내지 제4 서브셔터
본 발명은 노광장비에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 제품의 생산성을 향상시킬 수 있는 노광장비에 관한 것이다.
최근 들어, 액정표시장치의 사이즈가 대형화됨에 따라서 어레이 기판과 컬러필터기판을 형성하는데 이용되는 모기판에 형성될 제품의 개수가 감소되고 있다. 모기판의 이용 효율을 높이기 위하여 하나의 모기판을 이용하여 서로 다른 제품을 제조하는 복합 기술이 개발되고 있다.
상기한 복합 기술의 일 예로, 모기판의 일부분에 32인치 제품이 형성되고, 모기판의 나머지 일부분에 19인치 제품이 형성하는 구조가 이용되고 있다.
상기한 복합 기술을 적용한 모기판의 경우 한번의 샷으로 서로 다른 제품을 동시에 노광하기가 어렵다. 따라서, 종래에는 32인치 제품의 일부분과 19인치 제품을 노광한 이후 32인치 제품의 나머지 일부분을 노광하는 두 번의 샷으로 모기판을 노광하였다.
또한, 다수의 샷으로 모기판을 노광하는 공정에서 마스크는 샷 영역 단위로 쉬프트된다. 마스크의 쉬프트 과정에서 마스크가 샷 영역에 정확하게 얼라인되지 못하여 샷 영역들 사이의 경계부에서 원하지 않는 패턴이 형성되는 불량이 발생된다.
이러한 패턴 불량을 해소하기 위하여 샷 영역들 사이의 경계부에 대응하여 마스크에는 그래쥬얼 스티치 영역이 형성된다. 따라서, 마스크의 미스 얼라인으로 인해서 경계부에 발생되는 불량이 제거된다.
그러나, 복합 기술이 적용된 모기판을 두 번의 샷으로 노광하는 과정에서 그래쥬얼 스티치 영역을 구비하는 마스크를 적용하면, 그래쥬얼 스티치 영역에 대응해서 32인치 제품의 비유효영역에 원하지 않는 패턴이 형성된다.
예를 들어, 모기판이 컬러필터기판용인 경우, 32인치 제품의 비유효영역에는 컬럼 스페이서가 형성된다. 이 경우, 비유효영역에 컬럼 스페이서가 형성되므로 인해서 비유효영역에서 실런트가 형성될 공간이 감소한다. 따라서, 실런트의 미형성으로 인해서 액정표시장치의 결합력이 저하될 수 있고, 실런트가 미형성된 부분에서 액정이 누출될 수 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 제품의 생산성을 향상시키기 위한 노광장비를 제공하는 것이다.
본 발명의 일 특징에 따른 노광장비는 제1 컬러부의 일부분, 상기 제1 컬러부보다 작은 사이즈를 갖는 제2 컬러부 및 상기 제1 컬러부와 상기 제2 컬러부와의 사이에 형성된 비컬러부로 이루어진 제1 샷 영역과 제1 컬러부의 나머지 일부분으로 이루어진 제2 샷 영역으로 구분되는 모기판을 노광한다.
상기 노광장비는 광을 발생하는 광원, 상기 제1 또는 제2 샷 영역의 에지부에 구비되어 상기 제1 또는 제2 샷 영역의 주변부로 입사되는 상기 광을 차단하는 다수의 메인셔터, 및 상기 다수의 메인셔터보다 상기 기판에 인접하도록 상기 제1 또는 제2 샷 영역의 에지부에 구비되어 상기 다수의 메인셔터를 통과한 후 상기 주변부로 입사되는 상기 광을 차단하는 다수의 서브셔터를 포함한다.
상기 노광장비가 상기 제1 샷 영역을 노광할 때, 상기 다수의 서브셔터 중 어느 하나의 서브셔터는 상기 비컬러부에 인접하는 상기 제1 컬러부의 비유효영역에 대응하도록 이동하여, 상기 비유효영역으로 입사되는 상기 광을 차단한다.
이러한 노광장비에 따르면, 상기 제1 컬러부의 비유효영역에 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 방지할 수 있음으로써, 상기 비유효영역에 실런트가 형성될 영역이 확보되어, 실런트가 미형성되는 불량 또는 실런트의 미형성으로 인한 액정 누출 등을 방지할 수 있다.
이하, 첨부한 도면들을 참조하여, 본 발명의 바람직한 실시예를 보다 상세하게 설명하고자 한다.
도 1은 액정표시패널의 단면도이고, 도 2는 모기판을 나타낸 평면도이다.
도 1을 참조하면, 액정표시패널(100)은 어레이 기판(110), 상기 어레이 기판(110)과 마주하는 컬러필터기판(120) 및 상기 어레이 기판(110)과 상기 컬러필터기판(120)과의 사이에 개재된 액정층(130)으로 이루어져 영상을 표시한다.
상기 어레이 기판(110)은 제1 베이스 기판(111)과 상기 제1 베이스 기판(111) 상에 구비된 화소층(112)으로 이루어진다. 도면에 도시하지는 않았지만, 상기 화소층(112)은 다수의 박막 트랜지스터와 화소전극을 포함한다. 한편, 상기 컬러필터기판(120)은 제2 베이스 기판(121), 상기 제2 베이스 기판(121) 상에 구비된 컬러층(122) 및 상기 컬러층(122) 상에 구비된 컬럼 스페이서(123)로 이루어진다. 도면에 도시하지는 않았지만, 상기 컬러층(122)은 다수의 컬러필터와 공통전극으로 포함한다.
상기 컬럼 스페이서(123)는 상기 어레이 기판(110)과 상기 컬러필터기판(120)을 소정의 간격으로 이격시킨다. 도면에 도시하지는 않았지만, 상기 컬럼 스페이서(123)는 원기둥 또는 팔각 기둥 형상을 갖는다.
한편, 상기 어레이 기판(110)과 상기 컬러필터기판(120)이 이격하여 형성된 공간에는 상기 액정층(130)이 개재된다. 또한, 상기 이격 공간에는 상기 어레이 기판(110)과 상기 컬러필터기판(120)을 결합시키기 위한 실런트(135)가 더 개재된다.
상기 액정표시패널(100)은 영상을 표시하는 유효영역(AA)과 상기 유효영역(AA)에 인접하는 비유효영역(NAA)으로 구분된다. 일반적으로, 상기 컬럼 스페이서(123)는 상기 유효영역(AA)에 형성되고, 상기 실런트(135)는 상기 비유효영역(NAA)에 형성된다.
도 2에 도시된 바와 같이, 모기판(200)에는 다수의 제1 컬러부(CP1)와 다수의 제2 컬러부(CP2)가 구비된다. 상기 다수의 제1 컬러부(CP1) 각각의 사이즈는 상기 다수의 제2 컬러부(CP1) 각각의 사이즈보다 크다. 예를 들어, 상기 제1 컬러부(CP1) 각각은 32인치 액정표시패널에 이용되는 컬러필터기판의 사이즈를 갖으면, 상기 제2 컬러부(CP2) 각각은 19인치 액정표시패널에 이용되는 컬러필터기판의 사이즈를 갖는다. 또한, 상기 제1 컬러부(CP1) 각각은 40인치 액정표시패널에 이용되는 컬러필터기판의 사이즈를 갖으면, 상기 제2 컬러부(CP2) 각각은 17인치 액정표 시패널에 이용되는 컬러필터기판의 사이즈를 갖는다.
먼저, 상기 모기판(200)은 상기 다수의 제1 및 제2 컬러부(CP1, CP2)에 컬러층을 형성하기 위해서 가공된다. 이후, 상기 모기판(200)은 상기 다수의 제1 및 제2 컬러부(CP1, CP2)에 형성된 상기 컬러층 상에 컬럼 스페이서(123, 도 1에 도시됨)를 형성하기 위해서 가공된다.
일반적으로, 상기 컬럼 스페이서(123)는 감광성 유기물질로 이루어지므로, 상기 컬럼 스페이서(123)를 형성하기 위하여 상기 모기판(200)을 가공하는 공정에는 상기 모기판(200) 상에 형성된 감광성 유기물질을 노광하는 노광공정이 포함된다. 상기 모기판(200)의 사이즈가 크면 상기 모기판(200)을 한번에 노광하기가 힘들기 때문에, 도 2에 도시된 바와 같이, 상기 모기판(200)은 제1, 제2, 제3, 제4, 제5 및 제6 샷 영역(S1, S2, S3, S4, S5, S6)으로 구분되어 샷 영역별로 노광된다.
여기서, 상기 제1 샷 영역(S1)은 상기 제2 컬러부(CP2), 상기 제2 컬러부(CP1)와 인접하는 상기 제1 컬러부(CP1)의 일부분(A1) 및 상기 제1 컬러부(CP1)와 상기 제2 컬러부(CP2)와의 사이에 형성된 비컬러부(NCP)를 포함한다. 한편, 상기 제2 샷 영역(S2)은 상기 제1 컬러부(CP1)의 나머지 일부분(A2)을 포함한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 노광장비는 샷 영역 단위로 상기 모기판(200)의 제1 및 제2 컬러부(CP1, CP2)를 노광시킴으로써, 상기 모기판(200)의 상기 제1 및 제2 컬러부(CP1, CP2)에 컬러층과 컬럼 스페이서(123)를 형성한다. 이후, 도 5 내지 도 7을 참조하여 상기 노광장비에 대해서 구체적으로 설명하기로 한다.
도 3은 도 2에 도시된 모기판의 제1 샷 영역을 노광하는 1차 노광공정을 나 타낸 평면도이고, 도 4는 도 2에 도시된 모기판의 제2 샷 영역을 노광하는 2차 노광공정을 나타낸 평면도이다.
도 3을 참조하면, 제1 샷 영역(S1)은 제1 컬러부(CP1)의 일부분(A1), 제2 컬러부(CP2) 및 비컬러부(NCP)로 이루어지고, 제2 샷 영역(S2)은 상기 제1 컬러부(CP1)의 나머지 일부분(A2)으로 이루어진다.
상기 제1 및 제2 컬러부(CP1)에 컬럼 스페이서(123, 도 1에 도시됨)를 형성하기 위하여 노광장비(미도시)로부터 제공된 광의 투과도를 조절하는 마스크(MASK)가 이용된다. 여기서, 상기 컬럼 스페이서(123)는 네가티브 타입 감광성 유기물질로 이루어지므로, 상기 마스크(MASK)에 개구부가 형성된 영역에 대응하여 상기 제1 및 제2 컬러부(CP1, CP2)에는 상기 컬럼 스페이서(123)가 형성된다.
상기 마스크(MASK)의 사이즈도 상기 제1 및 제2 샷 영역(S1, S2)을 모두 커버하도록 크지 않으므로, 먼저 상기 마스크(MASK)는 상기 제1 샷 영역(S1)에 대응하여 배치되어 상기 제1 샷 영역(S1)에 컬럼 스페이서를 형성하기 위한 1차 노광공정이 수행된다.
도 3에 도시된 바와 같이, 상기 마스크(MASK)에는 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS1, GS2)이 형성된다. 상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)은 상기 제1 및 제2 샷 영역(S1, S2)의 경계선(BL) 부근에 대응하고, 상 기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)은 상기 제1 컬러부(CP2)의 우측 단부에 대응한다. 상기 마스크(MASK)의 상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)은 상기 제1 샷 영역(S1)의 일부분과 오버랩되고, 상기 제2 샷 영역(S2)의 일부분과 오버랩된다.
상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)에서 상기 마스크(MASK)에 형성된 상기 개구부(OP)의 개수는 상기 경계선(BL)으로부터 멀어질수록 증가한다. 반면에, 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)에서 상기 마스크(MASK)에 형성된 상기 개구부(OP)의 개수는 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)의 중심선(CL1)으로부터 멀어질수록 감소한다.
여기서, 상기 개구부(OP) 하나의 크기가 어레이 기판(110, 도 1에 도시됨)에 형성되는 화소의 사이즈와 동일하다고 가정했을 때, 상기 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS1, GS2) 각각의 폭은 6개의 화소의 폭을 합한 값과 같다.
상기 마스크(MASK)가 상기 제1 샷 영역(S1)에 구비된 상태에서 상기 모기판(200)에 광을 조사하면, 상기 모기판(200)에 형성된 감광성 유기물질에서 상기 개구부(OP)에 대응하는 부분만이 노광된다.
이후 도 4를 참조하면, 상기 마스크(MASK)는 상기 제1 샷 영역(S1)으로부터 상기 제2 샷 영역(S2)으로 쉬프트된다. 따라서, 상기 제1 컬러부(CP1)의 나머지 일부분(A2)에 컬럼 스페이서(123)를 형성하기 위한 2차 노광공정이 수행된다.
상술한 바와 같이, 상기 마스크(MASK)에는 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS1, GS2)이 형성된다. 쉬프트된 상기 마스크(MASK)의 상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)은 상기 제2 샷 영역(S2)의 좌측 단부에 대응하고, 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)은 상기 제1 및 제2 샷 영역(S1, S2)의 경계선(BL) 부근에 대응한다. 상기 마스크(MASK)의 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)은 상기 제2 샷 영역(S2)의 일부분과 오버랩되고, 상기 제1 샷 영역(S1)의 일부분과 오버랩된다.
상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)에서 상기 마스크(MASK)에 형성된 상기 개구부(OP)의 개수는 상기 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)의 중심선(CL2)으로부터 멀어질수록 증가한다. 반면에, 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)에서 상기 마스크(MASK)에 형성된 상기 개구부(OP)의 개수는 상기 경계선(BL)으로부터 멀어질수록 감소한다.
1차 노광공정에서 상기 마스크(MASK)의 제1 그래쥬얼 스티치 영역(GS1)과 2차 노광공정에서 상기 마스크(MASK)의 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2)이 오버랩된다. 따라서, 상기 경계선(BL) 부근에서는 상기 1차 노광공정과 2차 노광공정이 모두 이루어진다. 그러나, 상기 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS1, GS2)에 형성된 개구부(OP)의 패턴은 서로 다르기 때문에 상기 경계선(BL) 부근에서 상기 감광성 유기물질의 동일한 부분이 2번 노광되지는 않는다.
요컨데, 상기 경계선(BL1) 부근에서 대응해서 상기 마스크(MASK)에 그래쥬얼 스티치 영역을 형성하고, 그래쥬얼 스티치 영역이 1차 및 2차 노광시 오버랩된다. 따라서, 상기 마스크(MASK)를 쉬프트시키는 과정에서 상기 마스크(MASK)의 미스 얼라인이 발생하더라도, 경계선(BL) 부근에서 패턴의 위치가 틀어지는 것을 방지할 수 있다.
그러나, 경계선(BL) 부근에서 패턴의 위치가 틀어지는 것을 방지하기 위하여 상기 마스크(MASK)에 그래쥬얼 스티치 영역을 형성하면, 도 3에 도시된 바와 같이, 상기 제1 샷 영역(S1)의 원하지 않는 영역에도 개구부(OP)가 형성되는 경우가 발생한다. 여기서, 도 3에 도시된 제2 그래쥬얼 스티치 영역(GS2) 중 중심선(CL1)을 기 준으로 좌측에 위치하는 영역을 더미 그래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)으로 정의한다.
상기 더미 그래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)에 의해서 상기 제1 컬러부(CP1)의 비유효영역(NAA, 도 1에 도시됨)에도 컬럼 스페이서(123)가 형성된다. 이하에서는, 상기 더미 그래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)에 상기 컬럼 스페이서(123)가 형성되지 않도록, 상기 제1 샷 영역(S1)을 노광할 수 있는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장비를 설명하고자 한다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장비를 나타낸 평면도이고, 도 6은 도 5에 도시된 절단선 Ⅰ-Ⅰ`에 따라 절단한 단면도이다. 단, 본 발명의 일 실시예로 도 5 및 도 6에서는 도 3에 도시된 제1 샷 영역(S1)을 노광하도록 설정된 노광장비를 도시하였다.
도 5 및 도 6을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 노광장비(400)는 광원(410), 제1 내지 제4 메인셔터(421, 422, 423, 424), 제1 내지 제4 서브셔터(431, 432, 433, 434) 및 마스트 스테이지(440)으로 이루어져, 모기판(200) 상에 형성된 감광성 유기물질(220)을 노광한다.
상기 광원(410)은 상기 모기판(200)의 상기 제1 샷 영역(S1)에 노광을 위한 광을 제공한다. 상기 제1 내지 제4 메인셔터(421, 422, 423, 424)는 상기 제1 샷 영역(S1)의 주변부(PP)에 구비되어 상기 광원(410)으로부터 출력된 광이 상기 주변부(PP)로 입사되지 않도록 1차적으로 차단한다.
한편, 상기 제1 내지 제4 서브셔터(431, 432, 433, 434)는 상기 제1 내지 제4 메인셔터(421, 422, 423, 424)와 상기 모기판(200)과의 사이에 각각 구비된다. 상기 제1, 제3 및 제4 서브셔터(431, 433, 434)는 상기 제1, 제3 및 제4 메인셔터(421, 423, 424)에 의해서 각각 차단되지 못하여 상기 제1 샷 영역(S1)의 주변부(PP)로 입사된 상기 광을 2차적으로 차단한다.
상기 제1, 제3 및 제4 서브셔터(431, 433, 434)는 상기 제1, 제3 및 제4 메인셔터(421, 423, 424)의 단부와 각각 오버랩되어 상기 제1, 제3 및 제4 메인셔터(421, 423, 424)의 끝단면으로부터 반사된 광을 차단한다. 따라서, 상기 제1, 제3 및 제4 메인셔터(421, 423, 424)의 끝단면으로부터 반사된 광에 의해서 상기 제1 샷 영역(S1)의 에지부에 형성되는 그레이 존의 폭을 감소시킬 수 있다. 예를 들어, 메인셔터만 존재하는 경우 상기 그레이 존의 폭은 40mm이지만, 상기 서브셔터가 더 구비될 경우 상기 그레이 존의 폭은 1.5mm로 감소된다.
한편, 상기 제2 서브셔터(432)는 상기 제1 컬러부(CP1)의 일부분(A1) 중 유효영역(A1-AA)과 인접하는 비유효영역(A1-NAA)에 대응하는 위치에 구비된다. 따라서, 상기 제2 서브셔터(432)는 상기 비유효영역(A1-NAA)으로 입사되는 상기 광을 차단한다. 상술한 바와 같이, 상기 비유효영역(A1-NAA)이 마스크(MASK)의 더미 글래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)과 대응하더라도, 상기 제2 서브셔터(432)에 의해서 상기 더미 글래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)으로 입사되는 상기 광이 차단됨으로써, 상기 비유효영역(A1-NAA)에 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 방지할 수 있다. 따라서, 상기 비유효영역(A1-NAA)에 실런트(135, 도 1에 도시됨)가 형성될 영역이 확보되어, 상기 실런트(135)가 미형성되는 불량 또는 실런트(135)의 미형성으로 인한 액정 누출 등을 방지할 수 있다.
또한, 상기 제2 서브셔터(432)는 상기 비컬러부(NCP)와 부분적으로 오버랩된다. 일반적으로, 상기 제2 서브셔터(432)의 폭은 60mm이고, 상기 더미 글래쥬얼 스티치 영역(D-GS2)의 폭은 20mm이므로, 상기 제2 서브셔터(432)는 상기 비컬러부(NCP)로 입사되는 상기 광을 부분적으로 차단한다.
한편, 상기 노광장비(400)의 상기 마스크 스테이지(440)는 상기 마스크(MASK)의 양단부를 지지한다. 따라서, 상기 마스크(MASK)는 노광 공정에서 상기 마스크 스테이지(440)에 의해서 지정된 위치에 고정된다.
이와 같은 노광장비에 따르면, 하나의 모기판에 서로 다른 제품에 적용되는 제1 및 제2 컬러부가 구비되는 경우, 그래쥬얼 스티치가 적용된 마스크를 이용하더라도, 노광장비의 서브셔터를 이용하여 상기 제1 컬러부의 비유효영역에 컬럼 스페이서가 형성되는 것을 방지할 수 있다.
따라서, 상기 비유효영역에는 실런트가 형성될 영역이 확보되고, 그 결과 상기 비유효영역에서 실런트가 미형성되는 불량을 방지할 수 있고, 상기 실런트가 미형성됨에 의하여 발생하는 액정의 누출 또는 얼룩을 방지할 수 있다.
이상 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술 분야의 숙련된 당업자는 하기의 특허 청구의 범위에 기재된 본 발명의 사상 및 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.

Claims (7)

  1. 제1 컬러부의 일부분, 상기 제1 컬러부보다 작은 사이즈를 갖는 제2 컬러부 및 상기 제1 컬러부와 상기 제2 컬러부와의 사이에 형성된 비컬러부로 이루어진 제1 샷 영역과 제1 컬러부의 나머지 일부분으로 이루어진 제2 샷 영역으로 구분되는 모기판의 상기 제1 및 제2 샷 영역을 순차적으로 노광하는 노광장비에 있어서,
    광을 발생하는 광원;
    상기 제1 또는 제2 샷 영역의 에지부에 구비되어 상기 제1 또는 제2 샷 영역의 주변부로 입사되는 상기 광을 차단하는 다수의 메인셔터; 및
    상기 다수의 메인셔터보다 상기 모기판에 인접하도록 상기 제1 또는 제2 샷 영역의 에지부에 구비되어 상기 다수의 메인셔터를 통과한 후 상기 주변부로 입사되는 상기 광을 차단하는 다수의 서브셔터를 포함하고,
    상기 제1 샷 영역을 노광할 때, 상기 다수의 서브셔터 중 어느 하나의 서브셔터는 상기 에지부로부터 상기 비컬러부에 인접하는 상기 제1 컬러부의 비유효영역에 대응하도록 이동하여, 상기 비유효영역으로 입사되는 상기 광을 차단하는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제1 컬러부는 컬럼 스페이서가 형성되는 유효영역과 상기 유효영역에 인접하고 상기 컬럼 스페이서가 형성되지 않는 상기 비유효영역으로 구분되는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  3. 제1항에 있어서, 상기 어느 하나의 서브셔터의 폭은 상기 비유효영역의 폭보다 크고,
    상기 어느 하나의 서브셔터는 상기 비컬러부와 부분적으로 오버랩되는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  4. 제1항에 있어서, 상기 모기판 상에는 상기 제1 및 제2 컬러부의 지정된 위치에 상기 컬럼 스페이서를 형성하기 위하여 상기 광의 투과도를 제어하는 마스크가 구비되고,
    상기 노광장비는 상기 마스크를 지지하기 위한 마스크 스테이지를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  5. 제4항에 있어서, 인접하는 샷과의 경계부에 대응하도록 상기 마스크에는 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역이 구비되고, 상기 제1 및 제2 그래쥬얼 스티치 영역에서 상기 마스크에 형성되는 개구부의 개수는 점차적으로 감소 또는 증가하는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  6. 제5항에 있어서, 상기 컬럼 스페이서는 네가티브 타입 감광성 유기물질로 이루어지고,
    상기 컬럼 스페이서는 상기 개구부에 대응하는 위치에서 상기 모기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 노광장비.
  7. 제5항에 있어서, 상기 마스크가 상기 제1 샷 영역에 배치될 때, 상기 마스크의 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역의 일부분은 상기 비유효영역과 오버랩되어,
    상기 어느 하나의 서브셔터는 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역에 상기 컬럼 스페이서가 형성되지 않도록 상기 제2 그래쥬얼 스티치 영역의 일부분으로 입사될 상기 광을 차단하는 것을 특징으로 하는 노광장비.
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