201122677 2009-I-P-D-013TW 32238twf.doc/n 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種液晶顯示裝置及其製造方法，特別涉 及一種具有與間隔物相對應設置的凸起物结構的液晶顯示 裝置及其製造方法。 【先前技術】 近年來，由於光電技術的突飛猛進，使得具有體積 小、重量輕、顯示效果良好，等特點的液晶顯示器（Liquid Crystal Display，LCD )，越來越受到消費者的青睞。 圖1是一種習知的液晶顯示面板的示意圖（對應的參 考文獻為中國專利申請案：CN 1991488)。圖2則繪示為 圖1的液晶顯示面板受到測向外力時的示意圖。如圖1所 示’液晶顯示面板100包括上基板1〇1、下基板1〇2以及 設置在上下兩基板l(n、102之間的液晶層（未標示）。此 外’在上基板101上設置有一間隔物1〇3，而在下基板1〇2 上設置有一凸起物104。凸起物1〇4與上基板1〇4的一間 隔物103相接。這種結構設計可以使兩基板1〇卜1〇2之間 保持較好的間隙。 但疋’當側向外力F施加在上基板1〇1上，上基板ι〇1 可能發生偏移（如圖2所示）。此時，因為凸起1〇4表面 和間隔物103表面並沒有良好的緩衝角度，而使外力卩撤 去時，上基板101並不能完全回復到先前的位置。如此一 來，缺陷將會產生，而這樣的缺陷在業界稱之為擦拭缺陷 201122677 2009-1-F-D-013TW 32238twf.doc/n (push mura )或壓黑缺陷(touch mura)。從而，嚴重影變了 液晶顯示面板100的顯示效果，降低了顯示品質。 圖3為另一習知的液晶顯不面板（LCD)(對應的失 考文獻為中國專利申請案：CN 1661425)。如圖3所示二 液晶顯示面板110包括一上基板111、—下基板112以及 在上下兩基板111、112之間設置的一液晶層（未標示）。 此外’在上基板ill上設置有一間隔物113，而在下基板 112上設置有一凸起結構（未標示），其中凸起結構（未 標示）由第一凸起物114與第二凸起物115組成。這種結 構設置可使兩基板111、112之間保持良好的間隙，以確保 顯示晝面的優良。但是，當上基板lu受到外力擠壓時， 上基板111會發生位移。因上基板U1發生位移而使其上 的間隔物113也會隨著產生位移。同樣地，間隔物113與 凸起結構（114、115)相接處的表面並沒有良好的緩衝角 度。所以，當外力消失後，上基板lu並不能完全回復到 原來的位置，因而產生所s胃彳祭拭缺陷（push mura)或壓黑 缺陷（touch rrmra);從而嚴重影響顯示器的顯示效果， 降低顯示品質。 基於以上所述，還需要重新設計一種新的間隔物結 構’來改善上述問題；本發明提出一種新的液晶顯示裝置， 重新設計與間隔物相對應的凸起物結構，以有效防止擦拭 缺陷（pushmura)和壓黑缺陷(touchmura)現象的產生。 【發明内容】 201122677 2009-l-P~D~013TW 32238twf.doc/n 為了實現解決上述問題，本發明提供 置及其製衫法。《顯移置包括第_雜與第二頁基裝 f。第-基板上設置有複數間隔物。第二基板上設置有複 ^二起物與第一基板上的至少部份間隔物相對應 且接觸，其中凸起物具有一平滑緩衝表面。 =發明之-實施例中，液晶顯示裝置包括第一基板， t 基板上設置有複數間隔物，且間隔物包 =-間隔物和第二間隔物。在第二基板上設置有複數凸 凸起物與第-間隔物相對應且接觸，其中凸起物例 t疋由上堆疊層與下堆疊層所、组成。上堆叠層包括-上表 irifr而下表面完全覆蓋下堆疊層’並且下表面 2-基曰板相接田合。其中，上堆疊層的上表面為一弧形的 ^ 5疋上堆®層的上表面為—由多段類直線所構成的折 角表面，且上表面與下表面連接處形成-小於3G度的失 本發明之—實施例中，—種液晶顯示裝置包括：第一 板；在第—基板上設置有複數間隔物，且該 f一間隔物和第二間隔物；在第二基板上設置 複。凸起物’ 5亥凸起物與第一間隔物相對應且接觸；复 疊層與下堆疊層所組成，且該场 疊層的，並目ίΐΓ表面，該下表面是完全覆蓋下堆 η , ^表面與第二基板相接合。其中，該下堆 G成的’且該上堆疊層的上表面 勺表面，或者該上堆疊層的上表面為—由 201122677 zuw-i-f-u-0l3TW 32238twf.doc/n 多段類直線所構成的折曲形表面’且該上表面與下表面連接 處形成一小於30度的夾角。 本發明之一實施例中，一種液晶顯示裝置包括第一基 板與和弟一基板。弟一基板上設置有複數間隔物。第二基 板上設置有複數凸起物，且凸起物與第一基板上的間隔ς 相對應且接觸，其t凸起物具有一平滑緩衝表面。其中， 在第二基板上設置有金屬線，晝素電極和薄膜電晶體，其 中金屬線為掃描線(Gate Line)及信號線(s〇urce Line)，且凸 起物設置的位置在掃描線或者信號線之上。畫素電極連接 至，膜電晶體，而_電晶體連接至金屬線。第—基板例如 為彩色濾光片基板，而第二基板例如為陣列基板。 本發明之另-實施例中，一種液晶顯示裝置包括第一 ^板以及第，基板。在第—基板上設置有複數間隔物。在 -基板上①置有複數凸祕，而峡物與間隔物相對應 且接觸，其中間隔物包括第—間隔物和第二間隔物。凸起 物與第―間隔物相對纽接觸。凸起物至少包括上堆疊層 ίΓΐ疊I下堆疊層包括有—上表面及下表面，且下表 弟—基板相貼合。另外，上堆4層包括上表面和下表 φ 堆疊層的下表面與下堆疊層的上表面相貼合，其 “、4:層的下表面小於或等於下堆疊層的上表面。也就 ==層不與第二基板接觸。此外，上堆疊層的上表 产？另休宜日的亡表面形成—夹角，且此夾角是小於30 二與下表上 201122677 2U〇y-l-P-D-〇13TW 32238twf.d〇c/n 度。 本發明之又一貫施例中，提供一種液晶顯示裝置的製 造方法，此方法包括以下步驟：提供一第一基板，其上形 成一間隔物。提供一第二基板，其上形成一凸起物。凸起 物與間隔物相對應且接觸，且凸起物形成一平滑緩衝表 面’其中Λ起物的平滑緩衝表面是利用灰階調光罩（Gray Tone Mask)或半色調光罩（HalfT〇neMask)進行曝光顯 $ 影製作而成。 本發明中所述的凸起物具有平滑緩衝表面而可以有 效防止擦拭缺陷（push mura)和壓黑缺陷(t〇ucll mum)現象 的產生。如先前技術中所述：因基板受到外力的作用時， 基板會產生位移，則間隔物也會跟著基板產生位移。若間 隔物與凸起結構的表面並沒有設置平滑緩衝的角度，則外 力消失時’基板較不容易恢復到原來的位置，因而產生擦 拭缺陷(push mura)和壓黑缺陷(touch mura)。本發明將凸起 物没計為具有平滑緩衝的表面，所以凸起物與間隔物相接 • 觸時，間隔物可以有較好的緩衝力，從而獲得較好的缓衝 效果。因此’即使基板受到外力的作用基板而產生位移， 當外力消失之後，基於凸起物表面的特殊設計，基板則較 為谷易恢復到原來的位置。因而本發明有效的防止了擦拭 缺陷（push mura )和壓黑缺陷(t〇uch mura);從而提高了液 晶顯示器的顯示效果，到達出貨的標準。 為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特 舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。 201122677 zuuy-i 十-U-013TW 32238twf.d〇c/n 【實施方式】 下面結合附圖說明對本發明的具體實施方式進行詳 細說明。 圖4為本發明一實施例的液晶顯示裝置的結構示意 圖’其中液晶顯示裝置10包括第一基板11以及第二基板 21°第一基板11上設置有複數間隔物(未標示），間隔物(未 標示)例如由第一間隔物31與第二間隔物61所組成。第二 基板21與第一基板11對向設置，並且在第二基板21上設 置有凸起物（未標示），凸起物（未標示）例如是由上堆疊層 51與下堆疊層41所組成的。在第一基板11上的第一間隔 物31與凸起物(4卜51)相對應且接觸。舉例而言，下堆疊 層41的材料為半導體材料，而上堆疊層51的材料為金屬 材料。另外，第一基板11可以為彩色濾光片基板，而第二 基板21可以為陣列基板。 一立圖5為本發明一實施例的液晶顯示裝置的製作流程 :思圖。如圖5所示’本發明的液晶顯示裝置的製造方法 =括以I步驟：步驟S1Q ’提供—第—基板並在第一基板 形成複數間隔物。舉例而言，間隔物包括第—間隔物與 物。步驟S12，提供第二基板並在第二基板上形 接觸，物，凸起物與第—基板上的第—間隔物相對應且 3太it凸起物例如具有—平滑緩衝表面。平滑缓衝表 顯影制中的形成方法例如是曝光顯影製程。進行曝光 量通過對光罩與凸起物表面距離的控制、曝光 、卫1 ㈣反應速率的控制及其他因素的控制以形 201122677 2009-1-F-D-013TW 32238twf.doc/n 成符合需求的平滑缓衝表面。詳言之，曝光的方法是利用 灰階調光罩（Gray Tone Mask)或半色調光罩（HalfT〇ne
Mask)進行的。此外，在曝光完畢後，再進行顯影蝕刻， 以使凸起物的表面形成較為平滑的緩衝表面。利用圖5所 表示的製程步驟可以製作圖4中所繪示的液晶顯示步 10。 ’衣直 圖6為本發明一實施例的液晶顯示裝置的平面示奄
圖。請參照圖6，液晶顯示裝置(未標示）包括橫向設置的= 描線211和縱向設置的信號線81。一晝素電極pE通過 膜電晶體TFT分別與掃描線211和信號線81電性連接\ 在對應的信號線81位置配置有第一間隔物31盥 物6卜 -弟—間隔 圖7為圖6的液晶顯示裝置沿剖線A_A，所繪示的 示意圖。請參照圖7,液晶顯示裝置(未標示）包—二 11以及第二基板21。第二基板21與第-基板u二讯 置。在第一基板11上設置有第一間隔物31和第 ^ 6卜在第二基板21上設置有掃描線2U。在掃描『 設置有閘極保護層7卜在閘極保護層71上設 ^ 81。間極保護層71的作用是將掃插線2U與信號 重疊部位絕緣隔開以防止掃描線211與信號線㈣二的 而產生短路。此外，在信號線81上設置有—保^生^觸 在保護層91上設置有—凸起物，其由上堆疊層θ地 疊層41所組成。凸起物(41、51)與第—基板的:堆 間隔物31相對應且接觸。在本實施财，凸起 201122677 2UUy-l-F-U-013TW 32238twf.doc/n 遠離第二基板21的頂部面積是小於第一間隔物3丨遠離第 一基板11的頂部面積。 圖8為本發明液晶顯示裝置的另一實施例的平面示 意圖。請參圖8，另一實施例的液晶顯示裝置包括橫向設 置的掃描線211和縱向設置的信號線81，且晝素電極PE 通過/專膜電aa體TFT分別與掃描線211和信號線81電性 連接。本實施例與前述實施例之主要差異在於與掃描線 211對應位置的第一基板上設置有第一間隔物32與第二間 隔物61。 圖9所示為圖8的液晶顯示裝置沿剖線，的剖面示 意圖。由圖9可知，第二基板21與第一基板u對向設置。 在第一基板11上設置有第一間隔物31和第二間隔物61。 在弟二基板21上設置有掃描線21 i。在掃描線211上設置 有閘極保護層71。在閘極保護層71上設置有信號線81。 同樣地，閘極保護層71的作用是將掃描線211與信號線 81重疊的部位絕緣隔開，以防止掃描線211與信號線81 電性接觸而產生短路。在信號線81上設置有一保護層91， 而在保護層91上設置有一凸起物(未標示），其中凸起物(未 標示）是由上堆疊層51與下堆疊層41所組成。凸起物(14、 i5)與第一基板11上的第一間隔物31相對應且接觸。同樣 地，凸起物(14、15)的頂部面積例如是小於第一基板u上 第一間隔物31的頂部面積。 以下將對第一間隔物與凸起物的不同設計進行詳細 描述0 201122677 2U(jy-l-P-D-013TW 32238twf.doc/n 由圖4、圖7以及圖9可知，第一基板u上設置 第一間隔物31與第二間隔物61戶斤組成的複數間隔物 二基板21與第一基板11對向設置，且在第二基板上$ 置有由上堆疊層41與下堆疊層51所構成凸起物。凸起ς 是與^ -基，11上的第—間隔物3!相對應且接觸。
詳細而言’組成凸起物的上堆叠層41與下堆疊層Μ 有^種位置關係：第-，上堆疊層41將下堆疊曰完全 覆蓋；第二’上堆疊層41與下堆疊層51相堆疊，並H ，疊層4!堆疊於下堆疊層51之上^此可以看出，上堆 疊詹41田的總面積可以大於下堆疊層51的總面積，也可以 使上堆疊層10的總面積小於下堆疊層2()的總面積。當然 亦可以使上下兩堆疊層4卜51的總面積相等。不管前述情 況為何’其由上下兩堆疊馳成的凸起物的表面亦應為一 平滑緩衝表面。 第一實施方式 圖10為圖4所述的液晶顯示裝置中區域〇的局部結 放大圖。广參知’ ！。，局部放大圖包括以下元件：第一 j 11與第二基板2卜且兩基板1卜21對向設置。在第 :土板11上設置有第-間隔物31。在第二基板21上設置 $起物❿凸起物包括上堆疊層51與下堆疊層41。 層51是堆叠於下堆疊層41之上。在—實施方式中， :層41為—半導體材料，而上堆疊物51為一金屬材 :‘體材料可為矽的氧化物或矽的氮化物，當然 …以〜、他半導體材料’ *金屬材料可以為IS (A1)、 11 201122677 2009-1-P-U-013TW 32238twf.doc/n 鉬（Mo)、或者鋁的合金、鉬的合金，當然亦可以為其他 金屬材料。 上堆豐層51包括上表面51a和下表面51b，而下堆疊 層41包括上表面41a和下表面41b。上堆疊層51的下表 ，51b是與下堆疊層41的上表面41a相貼合。當然，上堆 疊層51的下表面51b的面積可以小於下堆疊層41的上表 面41a的面積。在其他實施方式中’也可以使上堆疊層51 的下表面51b的面積相等於下堆疊層41的上表面面 積。 另外，下堆疊層41的下表面41b是與第二基板21相 ^ 貼合的’而上堆豐層Η的下表面Slb是與下堆疊層W的 上表面41b相貼合的。在本實施例中，上表面51&與下表 面51b接合而形成第一夾角A1。具體而言，上堆疊層乂 的上表面51a與下表面511)形成的夾角是相等於上堆疊層 51的上表面51a與下堆疊層41的上表面4U形成的夾角曰， 業就是第:夹角A1並且第—夾角A1是小於3〇度。 在本實施例令’上堆疊層M的表面為一平滑緩衝表 面且‘作上堆豐層51時通過對曝光量的控制、光罩與凸 # 起物距#的控制、餘刻反應速率的控制以及其他因素的控 制三可使第一夾角A1的大小符合所需。詳言之，形成上 =層』51的曝光方式是利用灰階調光罩（㈣τ_施也） 广’^光罩（Half Tone Mask)進行的，曝光完畢後， 再進行顯影侧製程而形成所需的上表面5U。 值得一提的是，上堆疊層51的上表面51a與第一基 12 201122677 2UUy-l-F-D-〇13TW 32238twf.doc/n 板11的第一間隔物31相對應且接觸。本實施例的上堆疊 層51表面具有第一夾角A1的設計可以使第一間隔物31 獲得較好的緩衝力。當第一基板丨丨受到外力的作用產生位 移，進而使間隔物31、01(繪於圖4)也跟著產生位移時， 本實施例上堆疊層51表面的第一夾角Α1設計，可以使間 隔物31、61(繪於圖4)可以獲得較好的緩衝。因此，在外 力作用消失時，第一基板U較容易恢復到原來的狀態，因 而有效防止了擦拭缺陷（push mura)和壓黑缺陷（t〇uch # mura)的現象產生。 但是，當外力作用過大時，則需要將下堆疊層41的 上表面41a與下表面41b連接處形成的第二夾角A2設置 為小於30度。此種設計亦可進一步使間隔物31、61(繪於 圖4)獲得更好的緩衝力。換言之，當外力作用消失時，因 為間隔物31、61(繪於圖4)獲得較大的緩衝力，而使第一 基板11仍能恢復到先前的狀態，而較佳的避免了擦拭缺陷 (push mura)和壓黑缺陷(touch mura)現象的產生，並從而 φ 提尚了液晶顯示裝置的顯示效果，到達出貨的標準。 第二實施方式 圖11為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的另一實 施例的局部結構放大圖。請參照圖u，局部放大圖包括以 下元件·弟一基板11與弟一基板21，且兩基板11、12對 向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31。在第二 基板21上設置有包括上堆疊層51與下堆疊層41的凸起 物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋。下堆疊層 201122677 2UU9-l-^-u-013TW 32238twf.d〇c/n W的材質為 屬純.Y 料1上堆疊物51的材質為—金 = 本實施例的半導體材料可為料氧化物 匕物？然亦可以為其他半導體材料，而金屬材 為鋁(Α1)、鉬(Μ〇)、或者鋁的合金 當然亦可以為其他金屬材料。 m 51b將下 包括上表面…和下表面51b，且下表面
St㈣表面:前述類直線包括丄Si 線盘織折替:： '折曲形由直線與弧線所組成，也可由直 施例中，以直線与；戶嫌二為，直線所構成;在本實 31相對應且接觸的；也就是二2表面，第^隔物 物耵是相對應且接觸的 、^仏是與第一間隔 以的連接處形成—第三夾角A，’上表面广與第二基板 於30度。第三爽角的形成方式f設置為小 也就是說，通過對曝光量的控制、来/盘一夾角A1相似。 制、钱刻反應速率的控制以及凸起物距離的控 層51具有所需的第三炎角，、他口素的控制可使上堆疊 刖述上表面51a是與第—基拓 — 對應且相接觸，並且上表面51& 的弟-間隔物31相 部份為一弧形表面（未標示）：^：:第—間隔物31相接觸的 組成折曲形的弧線。欲形成之’弧形表面即為前述 法上需要考慮_素與 、面(未標*)時在製造方 一失角時所需要考慮的因素 201122677 20〇y-l-P-D-〇13TW 32238twf.doc/n 相同在此；^資述。換言之，形成弧狀表面與形成第三夾 ^ 3的曝光方式均是利用灰階光罩（Gray T〇ne Mask )或 半色凋光罩（Half Tone Mask)進行的。並且，曝光完畢 後，再對凸起物進行顯影蝕刻製作而成。 ^弧狀表面與第三夾角A3的設計可以使第一間隔物31 獲得更好的緩衝效果。當第一基板11受到外力的作用而產 生位移，間隔物3卜61(1 會於圖4)也會跟著第一基板u產 ^位移。此時’因⑽表面與第三夾角A3的存在，而使 * 得間隔物31、61(綠於圖句獲得良好的緩衝效果。當外力 作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因而有 效防止了擦拭缺陷（push mura)和壓黑缺陷㈣也①腿) 的現象產生。 第三實施方式 圖12為圖4所述的液晶顯示裝置中區域D的又一實 施例的局部結構放大圖。請參照圖12，第一基板n與第 一基板+21對向設置。在第一基板u上設置有第一間隔物 # 31。在第二基板21上設置有包括上堆疊層51與下堆疊層 41的一凸，物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋 的。下堆豐層41與上堆疊層51的材料可以參照前述實施 例’在此不贅述。 上堆®層51包括上表面51&和下表面51b，且下表面 51b將下堆疊層41完全覆蓋，其中上表面m為一弧形。 在本實施例中，弧形類似於半圓形的圓弧部分，也可能是 半橢圓形的圓弧部分。弧形上表面51a與第二基板21的連 15 201122677 2009-I-P-D-013TW 32238hvf.doc/n 接處形成-類夾角B卜g]上表面51a為—弧形，即上表面 51a與第二基板21❾連接處所形成的為—非常規夾角，所 以定義為類夾角。也就是說，本實施例將弧線與直線相交 所形成的夾角稱之為類夹角B1，其中類夾角m 於30度。 〇 如述弧形上表面51a與類夾角B1的形成均是在製作 上堆®層51時’通過對曝光量的控制、光罩與凸起物距離 的控制、侧反應速率的控伽及其侧素的㈣而形成 的。當然，製作上堆疊層51時的曝光方式是通過灰階調光 罩（GrayToneMask)或半色調光罩（HalfT〇neMask)進 行袭作的。上表面51a是與第一基板11的第一間隔物31 相接觸的，因此弧形狀上表面5la的存在可以使第一間隔 物31獲得更好的緩衝效果。 也就疋s兒，當第一基板11受到外力的作用而使間隔 物31、61(繪於圖4)跟著第一基板u產生位移，弧形狀上 表面51a的存在可使得間隔物31、61(纟會於圖4)具有良好 的缓衝效果。當外力作用消失時，第一基板n仍能恢復到 先前的狀態，因而有效防止了擦拭缺陷（pushmura)和壓 黑缺陷(touch mura)的現象產生。 第四實施方式 圖13為圖4所述的液晶顯示裝置中區域d的另一實 施例的局部放大圖。請參照圖Π，第一基板11與第二基 板21對向設置。在第一基板u上設置有第一間隔物31。 在弟一基板21上設置有由下堆疊層41與上堆疊層51構成 16 201122677 2009-I-P-D-013TW 32238twf.doc/n 的一凸起物，且上堆疊層51是將 凸起物的上堆疊層51與第 41元王覆盖的。 堆疊層Μ是由上表面對應且接觸。上 51a , 下表面Hb所構成，且上表面 二基板全物七下表™第
個:連接:堆疊物 例中以兩個為例來說明），且上堆疊層㈣上表面
Li 2 ^直_構成的折曲形表面’前述類直線包括 ，舉例而言，折曲形由直線與弧線所 所構成.二〜線與讀線所組成’當然’亦可為其他類絲 Γ 财，以直線料折線·成的折曲形為 1、’只婦彳巾’料線是為—波浪線，即該波浪線是由兩個 :連=的弧線所組成;簡言之’彎折線所構成的表面即為一波 浪形表面。如前述的波浪形表岭與第—間隔物31相對應 ^接觸的，也就是’上表面51a是與第一間隔物3 j是相對 應且接觸的。另外’上堆麵51的上表面51a與下表面 训的連接處形成一第四夾角八4。因為下表面训與第二 基板21相貼合，第四夾角八4也可以由上表面第二 基板21所形成，且第四夾角是小於3〇度。 ^ ,要達到使上堆疊層51的上表面51a設計成具有一波浪 形的表面並且使第四夾角小於3〇度，可以通 作上堆疊㈣，且曝光方式是通過灰階調光罩
Mask)或半色調光罩（Half Tone Mask)進行製作的。 17 201122677 /Uuy-i-i--u-〇]3TW 32238twf.doc/n 因上堆疊層51是與第二基板21上的第一間隔物Μ 直接接觸’所以上堆疊層51的上表面51a的波浪狀設計和 第四夾角A4的設計可以使間隔物31、61(繪於圖4)獲得更 好的緩衝力。當第一基板11受到的外力作用消失時，第一 基板11仍能恢復到先前的狀態’因而有效防止了擦拭缺陷 (pushmura)和壓黑缺陷(touchmura)現象的產生，並從 而提高了液晶顯示裝置的顯示效果，到達出貨的標準。 第五實施方式 圖14為圖4所述的液晶顯示裝置中區域d的再一實 施例的局部放大圖。請參照圖14 ’第一基板11與第二基 板21對向設置。在第一基板11上設置有第一間隔物31 ; 在第二基板21上設置有由下堆疊層41與上堆疊層51構成 的一凸起物，且上堆疊層51是將下堆疊層41完全覆蓋的。 其中’上堆疊層51與第一間隔物31相對應且接觸。 值得一提的是，本實施例的下堆疊層41由兩個相連 接的堆疊物410所組成（下堆疊層41的堆疊物410並不局 限於兩個，也可以為多個’本實施例中以兩個為例來說 明）。上堆疊層51的上表面51a為波浪形表面，且波浪形 上表面51a是與第一間隔物31直接接觸。波浪形上表面 51a與下表面51b的連接處形成一類夾角B2,且類夾角B2 是小於30度的。 相似地，上堆疊層51的上表面51a的波浪形設計是 通過曝光顯影製作而成的，且曝光方式是通過灰階調光罩 (Gray Tone Mask)或半色調光罩（Half Tone Mask)進行 18 201122677 2009-I-P-D-013TW 32238twf.doc/n 製作的。上堆疊層51是與第二基板21上的第一間隔物31 直接接觸’所以上堆疊層51的波浪形上表面51&的設計可 以使間隔物31、61(繪於圖4)獲得較好的緩衝力。第—基 板11受到外力的作用時，因波浪形表面51a的存在，而& 得間隔物31、61(繪於圖4)具有良好的緩衝效果。所以， 外力作用消失時，第一基板11仍能恢復到先前的狀態，因 而有效防止了擦拭缺陷（push mura)和壓黑缺陷ft〇uch mura)現象的產生並提高了液晶顯示裝置的顯示效 > 出貨的標準。 運 發明的詳細說明專案中形成的具體實施形態或實施 例終究用於瞭解本發明的技術内容’但不是僅限定與那樣 的具體例並被狹義地解釋，在本發明的精神 權利要求事項的範圍内，可以進行各種實:蝴 【圖式簡單說明】 圖1為習知的一種液晶顯示裝置妗爐千音圖。 • 目2為習知的一種液晶顯示基板受到外i作用下，基 板產生形變的示意圖。 圖3為習知的另一種液晶顯示裝置結構示意圖。 圖4為本發明的-實施例的液晶顯示裝置結構示音 圖。 心 圖5為本發明的-實施例的液晶顯示裝置的製 程示意圖。 圖6為本發明的-實施例的液晶顯示裝置的平面示 19 201122677 zuuy-i-r-u-013TW 32238twf.doc/n 意圖。 圖7為圖6所示液晶顯示裝置沿剖線A-A’的剖面 圖。 圖8為本發明的液晶顯示面板的另一平面的示意圖。 圖9為圖8所示液晶顯示裝置沿剖線B-B5的剖面 圖。 圖10為本發明的液晶顯示裝置第一實施例圖。 圖11為本發明的液晶顯示裝置第二實施例圖。 圖12為本發明的液晶顯示裝置第三實施例圖。 圖13為本發明的液晶顯示裝置第四實施例圖。 圖14為本發明的液晶顯示裝置第五實施例圖。 【主要元件符號說明】 10 :液晶顯示裝置 11 :第一基板 21 :第二基板 31、61 :第一間隔物.. 41、51 :堆疊層 41a、51a :上表面 41b、51b :下表面 71 :閘極保護層 81 :信號線 91 :保護層 100、110 .液晶顯不面板
20 201122677 zu<jy-x-r-D-013TW 32238twf.doc/n 101、 111 :上基板 102、 112 :下基板 103、 113 :間隔物 104、 114 :凸起物 211 :掃描線 410 :堆疊物 A-A’、B-B’ ：剖線 A1〜A4 :夹角 • Bl、B2 :類夾角 D :區域 F :外力 PE :晝素電極 S10、S12 :步驟 TFT :薄膜電晶體