TW201044056A - Color filter on array substrate and method for manufacturing the same and liquid crystal display panel and liquid crystal display device using the same - Google Patents

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201044056 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種薄膜電晶體基板及其製造方 法，且特別是有關於一種彩色濾光片整合電晶體式基板及 其製造方法與應用其之液晶顯示面板及液晶顯示裝置。 【先前技術】 ，隨者科技的進步’在顯示器（display )領域中，輕薄 的液晶顯示器儼然是現今資訊時代的主流，且已廣泛地應 ^ 用於日常生活的電子商品上。 〇 佔液晶顯示器大宗的薄膜電晶體液晶顯示器 (TFT-LCD)中，其材料成本仍然佔總製造成本的絕大多 數。並且，於TFT-LCD面板中用來維持上下基板間隙“… gap)之間隙材，大致可分為灑佈式間隙球與光感應間隙 材（photospacer)。其中，灑佈式間隙球因自由灑佈，其分 佈密度極難控制，易造成密度不均而影響TFT_LCD平坦 性，進而影響畫質表現。故而使用透光率良好且可控制分 ❹布密度光感應間隙材，藉以改善傳統灑佈式間隙材於上述 之缺點。然而，光感應間隙材往往是在畫素電極之後才進 行製作的，因此須另使用一道光罩製程。而增加光罩製程 不僅費時，且其製程成本往往較一般灑佈間隙球之製程成 本高。故在這個強調低成本與高競爭力的時期，且伴隨消 費者的需求曰益增加，如何在更先進的製程中提升產品品 質及良率，繼能減少不良品與成本的浪費，實是業界研發 的重要方向。 【發明内容】 3 201044056 ., i w 本發明是有關於一種彩色濾光片整合電晶體式（color filter on array，COA)基板及其製造方法與應用其之液晶顯 示面板及液晶顯示裝置，其直接將絕緣保護層與間隙材同 時形成於COA基板上。藉此減少製程步驟、光罩數量， 以及減少設備及材料使用，以達降低製程成本之目的。 本發明提出一種彩色濾光片整合電晶體式（COA)基 板之製造方法，此製造方法包括下列步驟。提供一基層。 設置一薄膜電晶體結構層於基層上，薄膜電晶體結構層具 有複數個電晶體，其中，這些電晶體各包括複數個電極。 設置一彩色濾光片結構層於薄膜電晶體結構層及基層 上。設置一絕緣結構層於彩色濾光片結構層上，並圖案化 絕緣結構層，使絕緣結構層具有複數個間隙柱及複數個接 觸孔，此些間隙柱係突出於絕緣結構層之一表面，此些接 觸孔係由絕緣結構層之表面向下延伸，且各接觸孔係分別 對應至薄膜電晶體結構層之各電晶體之一電極。以及設置 一導電層於絕緣結構層上，並圖案化導電層，以形成複數 個晝素電極及對應各間隙柱之複數個開口，且各晝素電極 分別透過各接觸孔電性連接至一電極。 本發明提出一種彩色濾光片整合電晶體式（COA)基 板，此基板包括一基層、一薄膜電晶體結構層、一彩色濾 光片結構層、一絕緣結構層及一導電層。薄膜電晶體結構 層設置於基層上，薄膜電晶體結構層具有複數個電晶體， 其中，這些電晶體各包括複數個電極。彩色濾光片結構層 設置於薄膜電晶體結構層及基層上。一絕緣結構層設置於 彩色濾光片結構層上，絕緣結構層具有複數個間隙柱及複 201044056 數個接觸孔，此些間隙柱係突出於絕緣結構層之一表面， 此些接觸孔係由絕緣結構層之表面向下延伸，且各接觸孔 係對應至薄膜電晶體結構層之各電晶體之一電極。導電層 設置於絕緣結構層上，並藉由圖案化形成複數個晝素電極 及對應各間隙柱之複數個開口，且各晝素電極分別透過各 接觸孔電性連接至一電極。 本發明提出一種液晶顯示面板，此液晶顯示面板包括 一彩色濾光片整合電晶體式（COA)基板、一對向基板及 〇 一液晶分子層。其中COA基板包括一基層、一薄膜電晶 體結構層、一彩色濾光片結構層、一絕緣結構層及一導電 層。薄膜電晶體結構層設置於基層上，薄膜電晶體結構層 具有複數個電晶體，其中，這些電晶體各包括複數個電 極。彩色濾光片結構層設置於薄膜電晶體結構層及基層 上。絕緣結構層設置於彩色濾光片結構層上，絕緣結構層 具有複數個間隙柱及複數個接觸孔，此些間隙柱係突出於 絕緣結構層之一表面，此些接觸孔係由絕緣結構層之表面 〇 向下延伸，且各接觸孔係對應至薄膜電晶體結構層之各電 晶體之一電極。導電層設置於絕緣結構層上，並藉由圖案 化形成複數個畫素電極及對應各間隙柱之複數個開口，且 各晝素電極分別透過各接觸孔電性連接至一電極。對向美 板平行COA基板設置，並與COA基板利用此些間隙柱^ 成一間隙。液晶分子層填充於COA基板及對向基板之間 隙。 本發明提出液晶顯示裝置，此液晶顯示裝置包括—液 晶顯示面板及一背光模組。此液晶顯示面板包括—彩色濟 5 201044056 ., i w jyuir/Λ. 光片整合電晶體式（COA)基板、一對向基板及一液晶分 子層。其中COA基板包括一基層、一薄膜電晶體結構層、 一彩色濾光片結構層、一絕緣結構層及一導電層。薄膜電 晶體結構層設置於基層上，薄膜電晶體結構層具有複數個 電晶體，這些電晶體各包括複數個電極。彩色濾光片結構 層設置於薄膜電晶體結構層及基層上。絕緣結構層設置於 彩色濾光片結構層上，絕緣結構層具有複數個間隙柱及複 數個接觸孔，此些間隙柱係突出於絕緣結構層之一表面， 此些接觸孔係由絕緣結構層之表面向下延伸，且各接觸孔 係對應至薄膜電晶體結構層之各電晶體之一電極。導電層 設置於絕緣結構層上，並藉由圖案化形成複數個晝素電極 及對應各間隙柱之複數個開口，且各晝素電極分別透過各 接觸孔電性連接至一電極。對向基板平行COA基板設置， 並與COA基板利用此些間隙柱形成一間隙。液晶分子層 填充於COA基板及對向基板之間隙。背光模組平行液晶 顯示面板設置，用以提供一光線穿透通過液晶顯示面板以 進行晝面之顯示。 為讓本發明之上述内容能更明顯易懂，下文特舉較佳 實施例，並配合所附圖式，作詳細說明如下： 【實施方式】 請參照第1圖，其繪示依照本發明一較佳實施例之彩 色濾光片整合電晶體式（COA)基板之製造方法的流程圖。 首先，如步驟S11所示，提供一基層。 接著，如步驟S12所示，設置一薄膜電晶體結構層於 基層上。且此薄膜電晶體結構層具有複數個電晶體、複數 201044056 個儲存電各結構、複數條掃描線、複數條資料線、以及至 少一保護層（passivation layer)，其中，電晶體包括複數個 電極即閉極、源極與没極，本實施例中，電晶體之閘極 連接至掃插線，電晶體之源極則連接至資料線。 + 然後，如步驟S13所示，設置一彩色濾光片結構層於 薄膜電晶體結構層及基層上。 ^接著，如步驟S14所示，設置一絕緣結構層於彩色濾 光片結構層上，並圖案化絕緣結構層。此圖案化步驟，係 Ο 使絕緣結構層具有複數個間隙柱及複數個接觸孔 ，且這些 間隙柱係突出於絕緣結構層之一表面，這些接觸孔係由絕 緣結構層之表面向下延伸，並且各接觸孔係分別對應至薄 膜電晶體結構層之各電晶體之一電極。 然後，如步驟S15所示，設置一導電層於絕緣結構層 上，並圖案化導電層。此圖案化之步驟，係用以形成複數 個畫素電極及對應此些間隙柱之複數個開口，且各畫素電 極分別透過各接觸孔電性連接至一電極。 ❹ 於本實施例中，亦提出一種設置薄膜電晶體結構層之 製程。然此製程，僅為使本發明之揭露更加徹底和完整， 並非用以限制本發明之範圍。熟悉本發明技術領域者應當 瞭解’仍有諸多形式之薄膜電晶體結構係可應用於COA 基板’例如交錯型（Staggered)、逆交錯型（Inverted Staggered)、同平面塑（Coplanar)、逆同平面型（Inverted Coplanar)等類似結構。並且，不同形式之薄膜電晶體結構 係之於不同製程，故其中製程得由熟習此技術領域者任施 匠思，而為諸般修飾。於此為了使本發明能明顯易懂，亦 7 201044056 w jy〇ir/\ 相信此些已為本發明技術領域之通常知識，故不再資述其 他薄膜電晶體結構及其製程。 ，L"' 言青參照第2圖’其繪示-種設置薄祺電晶體結構層的 流程圖。並同時參照第3〜8圖’其％示對應第2圖的步驟 依序形成薄膜電晶體結構層各層的剖面圖。 首先’如第3圖所示，即為第2圖之步驟S21，設置 一通道層（channel) 210於基層100上。其中，在執行步驟 S21之前，例如可以先覆蓋一絕緣層（未繪示）於基層 上° 土日 接著’如第4A〜4B圖所示’即為第2圖之步驟S22， 設置一第一金屬層220於通道層210上（見第4A圖），並圖 案化第一金屬層220(見第4B圖），以形成複數個源極222、 複數個汲極221及複數個資料線（未繪示）。此外，在執行 步驟S22之前，更可以包括一高濃度摻雜之步驟，例如n+ a_Si之摻雜。並於步驟S22中，更透過蝕刻移除金屬層以 外之高濃度摻雜區，藉以在金屬與通道層之間形成歐姆層 (Ohmic layer) ° 然後’如第5圖所示’即為第2圖之步驟S23，設置 一絕緣層230於通道層210、源極222、汲極221及資料 線（未繪示）上。 接著’如第6A〜6B圖所示，即為第2圖之步驟S24 ’ 設置一第二金屬層24〇於絕緣層230上（見第6A圖），ϋ圖 案化第二金屬層240(見第6Β圖），以形成複數個閘極241 及複數個掃描線（未繪示）。由於此剖面圖僅為示意，故複 數者係為重複擴張之區域，於圖式中係予以省略。而像是 201044056 前述之資料線、此些掃描線等方位與結構，雖然於圖式中 並未纟會示，但應為此技術領域通常知識者所熟知，故不再 贅述。 然後，如第7A〜7B圖所示，即為第2圖之步驟S25， 設置一保護層（passivation layer) 250於通道層210、源極 222、汲極221、資料線（未繪示）、絕緣層230、閘極241 及掃描線（未繪示）上方（見第7A圖），並圖案化保護層 250(見第7B圖），以曝露出汲極221 (如第7B圖之位置 0 ch)。其中所欲曝露之電極係用以與導電層電性連接，故應 視設計情況而定，即在另一種情況時，係可以選擇曝露源 極 222。 為了讓本發明更明顯易懂，以下將搭配第8圖以三個 薄膜電晶體進行後續製程之說明。在此以同平面型薄膜電 晶體結構為例。 並於第8圖中，例如可以藉由掃描線與資料線定義出 複數個晝素區域（如虛線所分隔之區域）。各晝素區域均具 ❹ 有一顯示區及一非顯示區。雖於圖中並未標示顯示區及非 顯示區，但熟悉此技術領域者應知顯示區及非顯示區須同 時配合垂直於紙面之方向加以定義，於此概括地定義非顯 示區係包括金屬材料所覆蓋之區域，即光線無法自基層 100之一側穿透至相異侧之區域。例如薄膜電晶體、資料 線、掃描線等覆蓋之區域。至於其他未設置上述元件且對 應畫素電極之區域（或光線穿透之區域）則為顯示區。 於本實施例中，亦提出一種設置彩色濾光片結構層之 製程以說明彩色濾光片整合電晶體式基板之後續製程。然 9 4 « 201044056 1 wjy〇ir/\ 此製程，亦僅為使本發明之揭露更加徹底和完整，並非用 以限制本發明之範圍。熟悉本發明技術領域者應當瞭解， 仍有諸多形式之彩色渡光片結構可應用於此。並且，不同 形式之彩色it光片結構狀於㈣製程，故其巾製程得由 熟習此技術領域者任施匠思，而為諸般修飾。於此為了使 本發明能明顯易懂’亦相信此些已為本發明技術領域之通 常知識，故不再贅述其他彩色濾光片結構及其製程。 請參照第9圖，其緣示-種設置彩色遽光片結構層的 流程圖。並同時參照第10A〜12B圖，其續示對應第9圖的 步驟依序形成彩色濾光片結構層各層的剖面圖。 首先’如第10A〜10B圖所示’即為第9圖之步驟s9i， 設置一第一色光阻310於薄膜電晶體結構2〇〇上（見第i〇a 圖），並圖案化第一色光阻310 (見第10；B圖）。此圖案化之 步驟，係使各個非顯示區上均具有第一色光阻31〇 (如第 10B圖之310a、310b、310c)’且使其中一個顯示區上且有 第一色光阻310 (如第10B圖之310b)，並曝露薄膜電晶體 結構層200之電極，在此以汲極221為例。其中，第一色 光阻310例如是一種負光阻。 接著，如第11A〜11B圖所示，即為第9圖之步驟S92, 設置一第二色光阻320於薄膜電晶體結構2〇〇上（見第UA 圖）’並圖案化第一色光阻320 (見第ΙΐΒ圖）。此圖案化之 步驟，係使各個非顯示區上均具有第二色光阻32〇 (如第 11B圖之320a、320b、320c)，且使其中一個顯示區上具有 第二色光阻320 (如第11B圖之320c) ’並曝露薄膜電晶體 結構層200之電極’在此以汲極221為例。其中，第二色 201044056 光阻320例如是一種負光阻。 然後，如第12A〜12B圖所示，即為第9圖之步驟S93, 設置一第三色光阻330於薄膜電晶體結構200上（見第12A 圖）’並圖案化第三色光阻330(見第12B圖）。此圖案化之 步驟’係使各個非顯示區上均具有第三色光阻330 (如第 12B圖之330a、330b、330c)，且使其中一個顯示區上具有 第三色光阻330 (如第12B圖之330a)，並曝露薄膜電晶體 結構層200之各個電極，在此以汲極221為例。其中，第 Q 三色光阻3 3 0例如是一種負光阻。 其中，各個非顯示區上之第一色光阻310、第二色光 阻320及第三色光阻330係依序疊層形成一堆疊結構，且 此堆疊結構於垂直基層100表面之方向具有不透光性。並 且，由上述非顯示區之定義，各堆疊結構實質上係對應一 電晶體設置。此外，在此堆疊結構之各層間更可以包括一 反射層，使洩漏之光線經由反射層而於同色系光阻中傳 遞，藉以增強亮度。 〇 於本實施例中，在完成設置薄膜電晶體結構層200及 彩色濾光片層300於基層100上之後(如第12B圖之結 構），則進行設置絕緣結構層及導電層之製程（見第1圖之 步驟S14及S15)。其中，此絕緣結構層例如是一有機聚合 物，可為負型光阻。請參照第13A〜13B圖’其繪示對應第 1圖步驟S14之設置絕緣結構層的剖面圖。請參照第 14A〜14B圖，其繪示對應第1圖步驟S15之設置導電層的 剖面圖。 如第13A〜13B圖所示，即為第1圖之步驟S14 ’設 201044056 , i w^voim 置一絕緣結構層400於彩色濾光片結構層300上（見第13A 圖），並圖案化絕緣結構層400 (見第13B圖）。此圖案化之 步驟，絕緣結構層400係使用一多色調（multi-tone)光罩 進行曝光製程，此製程造成絕緣結構層4〇〇各處之負型光 阻對應於多色調光罩之圖案有不同厚度的光阻鍵結狀 態，再經由顯影製程洗去未鍵結光阻後’一次形成複數個 間隙柱ps與複數個接觸孔ch’而成為絕緣結構層400,（如 第13B圖之結構）。其中’間隙柱Ps係突出於絕緣結構層 400,之一表面40〇’S °接觸孔ch係由絕緣結構層400,之表 面400，s向下延伸’且各接觸孔仏係分別對應至薄膜電晶 體結構層200之各電晶體之一電極’在此以汲極221為 例。此外，顯示區與非顯示區之堆疊結構係具有一高度之 段差，所以於設置絕緣結構層400時，位於此些堆疊結構 上方的絕緣結構層400’之表面400’s’會產生複數個凸起。 然這些段差所產生之凸起，係可能使後續完成之液晶顯示 面板於受外力壓迫時’從而具有較佳的緩衝能力。 如第14A〜14B圖所示，即為第1圖之步驟S15，設 置一導電層500於絕緣結構層400’上（見第14A圖），並圖 案化導電層5⑼（見第14B圖）。此圖案化之步驟，係用以 形成複數個晝素電極(如第14B圖之500a ' 500b、500c)及 對應間隙柱之開口0P，且各晝素電極分別透過各接觸孔 ch電性連接至一電極’如沒極221。 於此’在完成彩色濾光片整合電晶體式（COA)基板之 後，可進一步進行充填液晶分子以及與對向基板對組之步 驟，藉以完成應用本實施例之COA基板之一液晶顯示面 12 201044056 板。請參照第15圖’第15圖繪示應用第14B圖之COA 基板之液晶顯示面板的示意圖。如第15圖所示，液晶顯 示面板1包括一 COA基板1〇 (如第14B圖所示）、一對 向基板20、以及一液晶分子層30。其中對向基板20係平 行COA基板1〇設置，並與COA基板10利用間隙柱ps 形成一間隙（cell gap)。液晶分子層30則填充於COA基板 10及對向基板20之間隙。 並且’依照本發明較佳實施例之液晶顯示面板1更可 〇 應用於一液晶顯示裝置中。以下係辅以圖式進行詳細說 明。請參照第16圖’其繪示應用第15圖之液晶顯示面板 之液晶顯示裝置的示意圖。如第16圖所示，液晶顯示裝 置3包括液晶顯示面板ι(如第μ圖所示）與一背光模組 2 °其中背光模組2係平行液晶顯示面板1設置，並用以 提供一光線L穿透通過液晶顯示面板丨以進行晝面之顯 示。並於第16圖中，其不透光之區域係與前述之各個堆 疊結構對應。 〇 本發明之實施例所提出之COA基板及其製造方法與 應用其之液晶顯示面板及液晶顯示裝置，係在c〇A基板 製程中，直接以一道光罩定義光感應間隙材以及保護層等 結構(稱為絕緣結構層）。使其顯影之後同時形成保護層與 間隙材，而具有絕緣保護、間隙材等效用。藉此減少製程 步驟、光罩數量，以及減少設備及材料使用，以達降低製 程成本之目的。 综上所述，雖然本發明已以較佳實施例揭露如上然 其並非用以限定本發明。本發明所屬技術領域中具有通常 13 201044056 . l w^yoim 知識者，在不脫離本發明之精神和範圍内，當可作各種之 更動與潤飾。因此，本發明之保護範圍當視後附之申請專 利範圍所界定者為準。 【圖式簡單說明】 第1圖繪示依照本發明一較佳實施例之彩色濾光片 整合電晶體式（COA)基板之製造方法的流程圖。 第2圖繪示一種設置薄膜電晶體結構層的流程圖。 第3〜8圖繪示對應第2圖的步驟以依序形成薄膜電晶 體結構層各層的剖面圖。 第9圖繪示一種設置彩色濾光片結構層的流程圖。 第10A〜12B圖繪示對應第9圖的步驟依序形成彩色 濾光片結構層各層的剖面圖。 第13A〜13B圖繪示對應第1圖步驟S14之設置絕緣 結構層的剖面圖。 第14A〜14B圖繪示對應第1圖步驟S15之設置導電 層的剖面圖。 第15圖繪示應用第14B圖之COA基板之液晶顯示 面板的示意圖。 第16圖繪示應用第15圖之液晶顯示面板之液晶顯示 裝置的示意圖。 【主要元件符號說明】 1 .液晶顯不面板 2:背光模組 3 :液晶顯示裝置 10 :彩色濾光片整合電晶體式（COA)基板 14 201044056 20 :對向基板 » · 30 :液晶分子層 100 :基層 200 :薄膜電晶體結構層 210 :通道層（channel) 220 :第一金屬層 221 :汲極 222 :源極 0 230 :絕緣層 240 :第二金屬層 241 :閘極 250 :保護層 300 :彩色濾光片結構層 310、310a、310b、310c :第一色光阻 320、320a、320b、320c :第二色光阻 330、330a、330b、330c ··第三色光阻 ❹ 400、400’ ：絕緣結構層 400’s :絕緣結構層之表面 500 :導電層 500a、500b、500c :畫素電極 ch :接觸孔 L :光線 op :開口 ps :間隙柱 15

Claims (1)

1. 201044056 ., i wjyoim 七、申請專利範圍： 1. 一種彩色滤光片整合電晶體式（color filter on array，COA)基板之製造方法，包括： 提供一基層； 設置一薄膜電晶體結構層於該基層上，該薄膜電晶體 結構層具有複數個電晶體，其中，該些電晶體各具有複數 個電極； 設置一彩色濾光片結構層於該薄膜電晶體結構層及 該基層上； 設置一絕緣結構層於該彩色濾光片結構層上，並圖案 化該絕緣結構層，使該絕緣結構層具有複數個間隙柱及複 數個接觸孔，該些間隙柱係突出於該絕緣結構層之一表 面，該些接觸孔係由該絕緣結構層之該表面向下延伸，且 各該些接觸孔係分別對應至該薄膜電晶體結構層之該些 電晶體之一電極；以及 設置一導電層於該絕緣結構層上，並圖案化該導電 層，以形成複數個晝素電極及對應該些間隙柱之複數個開 口，且該些畫素電極分別透過該些接觸孔電性連接至該些 電極。 2. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中圖 案化該絕緣結構層之步驟，係藉由一多色調（multi-tone) 光罩一次形成該些間隙柱與該些接觸孔。 3. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該 薄膜電晶體結構層更具有複數條掃描線與複數條資料 線，該些掃描線與該些資料線係定義出複數個畫素區域， 16 201044056 各該些畫素區域均具有一顯示區及一非顯示區，設置該彩 色濾光片結構層之步驟包括： 依序設置並圖案化一第一色光阻、一第二色光阻及一 第三色光阻，使該些顯示區上分別具有該第一色光阻、該 第二色光阻或該第三色光阻，並使該些非顯示區上均具有 該第一色光阻、該第二色光阻及該第三色光阻，並曝露該 薄膜電晶體結構層之該些電極； 其中，各該些非顯示區上之該第一色光阻、該第二色 0 光阻及該第三色光阻係依序疊層形成一不透光之堆疊結 構。 4. 如申請專利範圍第3項所述之製造方法，其中該 堆疊結構係對應一電晶體設置。 5. 如申請專利範圍第3項所述之製造方法，其中設 置該絕緣結構層之步驟，更藉由該些顯示區與該些非顯示 區之該堆疊結構所產生之一段差，以形成複數個凸起。 6. 如申請專利範圍第1項所述之製造方法，其中該 〇 絕緣結構層係一有機聚合物。 7. —種彩色滤光片整合電晶體式（color filter on array，C0A)基板，包括： 一基層； 一薄膜電晶體結構層，設置於該基層上，該薄膜電晶 體結構層具有複數個電晶體，其中，該些電晶體各包括複 數個電極； 一彩色濾光片結構層，設置於該薄膜電晶體結構層及 該基層上； 17 201044056 i wjyoim · » 一絕緣結構層，設置於該彩色濾光片結構層上，該絕 緣f構層具有複數個間隙柱及複數個接觸孔，該些間隙柱 係大出於該絕緣結構層之一表面，該些接觸孔係由該絕緣 結構層之該表面向下延伸，且各該些接觸孔係對應至該薄 膜電晶體結構層之該些電晶體之一電極；以及 一導電層，設置於該絕緣結構層上，並藉由圖案化形 j =數個晝素電極及對應該些間隙柱之複數個開口，且該 些畫素電極分別透過該些接觸孔電性連接至該些電極。 8.如申請專利範圍第7項所述之c〇A基板其中該 絕緣結構層係藉由—多色調光罩—次形成該些間隙柱盘 該些接觸孔。 + 9.如申請專利範圍第7項所述之C0A基板，其中該 薄膜電晶體結構層更具有複數條掃描線與複數條資料 線上，該些掃描線與該些資料線係定義出複數個畫素區域， 各該些畫素區域均具有一顯示區及一非顯示區，該彩色滤 光片結構層包括-第一色光阻、一第二色光阻及一第三色 光^，該第一色光阻、該第二色光阻及該第三色光阻係依 序设置並藉由圖案化，使該些顯示區上分別具有該第一色 光阻、該第二色光阻或該第三色光阻，並使該些非顯示區 上均具有該第-色光阻、該第二色光阻及該第三色光阻， 並曝露該薄膜電晶體結構層之該些電極； ，其中，各該些非顯示區上之該第一色光阻、該第二色 光阻及該第三色光阻係依序疊層形成一不透光之堆疊妹 構。 α 10·如申請專利範圍第9項所述之c〇A基板，其中 18 該堆疊結構係對應一電晶體設置。 11. 如申請專利範圍第9項所述之COA基板，其中 該絕緣結構層更藉由該些顯示區與該些非顯示區之該堆 疊結構所產生之一段差，以形成複數個凸起。 12. 如申請專利範圍第7項所述之COA基板，其中 該絕緣結構層係一有機聚合物。 13. —種液晶顯示面板，包括： 一彩色滤光片整合電晶體式（color filter on array， ◎ COA)基板，並包括； 一基層； 一薄膜電晶體結構層，設置於該基層上，該薄 膜電晶體結構層具有複數個電晶體，其中，該些電晶體各 包括複數個電極； 一彩色濾光片結構層，設置於該薄膜電晶體結 構層及該基層上； 一絕緣結構層，設置於該彩色濾光片結構層 〇 上，該絕緣結構層具有複數個間隙柱及複數個接觸孔，該 些間隙柱係突出於該絕緣結構層之一表面，該些接觸孔係 由該絕緣結構層之該表面向下延伸，且各該些接觸孔係對 應至該薄膜電晶體結構層之該些電晶體之一電極；及 一導電層，設置於該絕緣結構層上，並藉由圖 案化形成複數個晝素電極及對應該些間隙柱之複數個開 口，且該些晝素電極分別透過該些接觸孔電性連接至該些 電極； 一對向基板，平行該COA基板設置，並與該COA基 19 201044056 i wjyoim < » 板利用該些間隙柱形成一間隙；以及 、夜日日刀子層填充於§亥COA基板及該對向基板之 該間隙。 14. 如申請專利範圍帛13項所述之液晶顯示面板， 其中該絕緣結構層係藉由—多色調光罩—:欠形成該些間 隙柱與該些接觸孔。 15. 如申請專利範圍第13項所述之液晶顯示面板， =中該薄膜電晶體結構層更具有複數條掃描線與複數條 資料線，該些掃描線與該些資料線係定義出複數個晝素區 域，各該些畫素區域均具有一顯示區及一非顯示區，該彩 色濾光片結構層包括一第一色光阻、一第二色光阻及一第 三色光阻，該第一色光阻、該第二色光阻及該第三色光阻 係依序6又置並藉由圖案化，使該些顯示區上分別具有該第 :色光阻、該第二色光阻或該第三色光阻，並使該些非顯 不區上均具有該第一色光阻、該第二色光阻及該第三色光 阻，並曝露該薄膜電晶體結構層之該些電極； 其中’各該些非顯示區上之該第一色光阻、該第二色 光阻及該第三色光阻係依序疊層形成一不透光之堆疊結 構。 16. 如申請專利範圍第15項所述之液晶顯示面板， 其中該堆疊結構係對應 一電晶體設置。 17. 如申請專利範圍第15項所述之液晶顯示面板， ’、中”亥絕緣結構層更藉由該些顯示區與該些非顯示區之 "亥堆疊結構所產生之一段差，以形成複數個凸起。 18. 如申請專利範圍第13項所述之液晶顯示面板， 20 201044056 其中該絕緣結構層係一有機聚合物。 19. 一種液晶顯示裝置，包括： 一液晶顯示面板，並包括； 一彩色濾、光片整合電晶體式（color filter on array，COA)基板，並包括； 一基層； 一薄膜電晶體結構層*設置於該基層上， 該薄膜電晶體結構層具有複數個電晶體，其中，該些電晶 0 體各包括複數個電極； 一彩色濾光片結構層，設置於該薄膜電晶 體結構層及該基層上； 一絕緣結構層，設置於該彩色濾光片結構 層上，該絕緣結構層具有複數個間隙柱及複數個接觸孔， 該些間隙柱係突出於該絕緣結構層之一表面，該些接觸孔 係由該絕緣結構層之該表面向下延伸，且各該些接觸孔係 對應至該薄膜電晶體結構層之該些電晶體之一電極；及 〇 一導電層，設置於該絕緣結構層上，並藉 由圖案化形成複數個晝素電極及對應該些間隙柱之複數 個開口，且該些晝素電極分別透過該些接觸孔電性連接至 該些電極， 一對向基板，平行該COA基板設置，並與該 COA基板利用該些間隙枉形成一間隙；及 一液晶分子層，填充於該COA基板及該對向基 板之該間隙；以及 一背光模組，平行該液晶顯示面板設置，用以提供一 21 201044056 1 W3yt>iFA • , 光線穿透通過該液晶顯示面板以進行晝面之顯示。 20·如申請專利範圍第19項所述之液晶顯示裝置， 其中該絕緣結構層係藉由—多色調光罩—次形成該些間 隙柱與該些接觸孔。 21.如申明專利範圍第19項所述之液晶顯示裝置， $中該薄膜電晶體結構層更具有複數條掃描線與複數條 資料線’該些掃描線與該些資料線係定義出複數個晝素區 域，各該些畫素區域均具有一顯示區及一非顯示區，該彩 色»光片結構層包括一第一色光阻、一第二色光阻及—第 三色光阻’該第-色光阻、該第二色光阻及該第三色光阻 係依序D又置並藉由圖案化，使該些顯示區上分別具有該第 =色光阻、該第二色緣或該第三色光阻，並使該些非顯 不區上均具有該第一色光阻、該第二色光阻及該第三色光 阻，並曝4該薄膜電晶體結構層之該些電極； 一其中，各該些非顯示區上之該第一色光阻、該第二色 光阻及該第三色光阻係依序疊層形成—不透光之堆疊結 構0 22. 如申請專利範圍第21項所述之液晶顯示裝置， 其中該堆疊結構係對應一電晶體設置。 23. 如申請專利範圍第21項所述之液晶顯示裝置， 其中該絕緣結構層更藉由該些顯示區與該些非顯示區 該堆疊結構所產生之一段差，以形成複數個凸起。°°之 24. 如申請專利範圍第19項所述之液晶顯示 其中該絕緣結構層係一有機聚合物。 策置 22