TW201043732A - Coating machine - Google Patents

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TW201043732A
TW201043732A TW98119999A TW98119999A TW201043732A TW 201043732 A TW201043732 A TW 201043732A TW 98119999 A TW98119999 A TW 98119999A TW 98119999 A TW98119999 A TW 98119999A TW 201043732 A TW201043732 A TW 201043732A
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TW
Taiwan
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liquid
container
substrate
side wall
coating machine
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TW98119999A
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Inventor
shao-kai Pei
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Hon Hai Prec Ind Co Ltd
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Description

201043732 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 [0001] 本發明涉及一種利用離心力進行鍍膜的鍍膜機。 [0002] 〇 [先前技術] 現有技術中,有一種用於對表面滲水.性不良的基板進行 鍍膜的鍍膜機。該罈膜機先將基板固定放置在一可控的 旋轉離心機工作平臺中心,並隨之旋轉,然後再通過一 個滴液裝置將待鑛液體滴在基板中心,液滴在離心力的 作用下從基板中心向四周拋灑出去,從而在被鍍物表面 形成鍍膜層。 [0003] 這種鍍膜機雖然可以在基板上鍍膜,但是由於係液滴在 離心力的作用下從基板中心向四周拋撒,所以工作臺上 每次只能安裝一塊基板’由此大大的降低::;了,鍍膜的效率 〇 [0004] 【發明内容】 有鑒於此,有必要提:供一種高效率的链膜機。 ❹[_5] 一種鍍膜機’該键爾機用於將待鍍液體艘到至少一塊基 板上。所述鑛膜機包括容器、轉子及加熱器β所述容器 包括側壁,至少一塊基板固定於所述側壁上,所述容器 設置有入液口及排氣口,待鍍液體通過所述入液口注入 所述容器内’所述轉子用於帶動所述待鍍液體沿所述侧 壁的圓周方向旋轉’使得待鍍液體覆蓋所述基板,所述 加熱器加熱所述基板,用於將所述基板表面的待鍵液想 蒸發,在所述基板表面形成膜結構》 098119999 表單編號Α0101 第3頁/共12頁 ηηο 0982034009-0 201043732 [0006] 本發明提供的鍍膜機由於可以在所述側壁固定複數塊基 板,所以可以同時對複數塊基板進行鍍膜,由此大大的 提高了鍍膜效率。 【實施方式】 [0007] 下面將結合附圖,對本發明作進一步的詳細說明。 [0008] 請參閱圖1及圖2,為本發明提供的鍍膜機100,其用於將 待鍍液體200内的成膜溶質鍍到基板300上。所述鍍膜機 100包括容器10、轉子20、驅動裝置30及加熱器40。 [0009] 所述容器10包括侧壁11及開口端12。本實施方式中,所 述容器1 0係圓筒形,所述側壁11係圓弧形侧壁。所述側 壁11經加工設有容置槽11a、入液口 lib及出液口 11c。 本實施方式中,所述側壁11加工有兩個容置槽11a,兩個 入液口 lib及兩個出液口 11c。所述容置槽11a用於收容 所述基板300。本實施方式中,所述基板300係具有一定 弧度的大致呈矩形的板,所述容置槽11a#與所述基板 30 0相配合的大致呈矩形的槽。當然,若需要給更多的基 έ '1 板30 0鍍膜,所述侧壁11可以加工更多的容置槽11a。所 述基板300也可以係其他形狀。所述基板300也可以利用 螺栓或卡合結構固定到所述側壁11上。所述入液口 lib用 於將待鍍液體200注入到所述容器10内。本實施方式中, 所述入液口 lib係沿平行所述容器10的軸向00’設置的矩 形孔。所述入液口 lib設置有一閥門(圖中未畫出),該 閥門只有當所述鍍膜機100準備鍍膜時開啟,使得待鍍液 體100通過所述入液口 lib注入所述容器10内。當鍍膜機 100内注入適量的待鍍液體後,所述閥門將關閉。當然, 098119999 表單編號A0101 第4頁/共12頁 0982034009-0 201043732 Ο 〇 [0010] 所述入液Pllb也可以係圓形等其他形狀的孔, ’入液口 lib的位置也可以位於所述容器1〇的底部。 • 个貫施方式中 ,所述出液口 11c與入液口 lib的形狀及大小相 ,用於 鑛膜完成後將多餘的待鑛液體20〇排出所述容 ,所述鍍膜機100也可以不加工所述出液口 n 田’、、、 c ’而利用 加熱器40將多餘的待鍵液體200蒸發掉,或採用戶斤、,、 口 lib進行排液作業。本實施方式中,為了提高致率 快待鍍液體2 0 0的排放,在所述侧壁11上開轨α 又所述出液口 11c。所述出液口 11c設置一閥門(圖中未畫 ),當所 述鍍膜機100鍍膜時’所述閥門關閉,防止待緩液體 排出。只有當鍍膜完成後,所述閥門才會開啟,使〜多 餘的待鍍液體200在離心力的作用下從所述出液D u排 出。所述轉子20從所述開口端12伸入所述容器1〇内告 然’所述容器10也可以採用封閉結構將廣述轉子2〇封^ 於所述容器10内,並在容器10上部開邊排氣D, I ’用於排 出待鍍液體200被蒸發出的氣體。本實施方式φ 八干,所述開 口端12作為拂出氣體的通道。 所述轉子20包括轉轴21及攪動端22。所述搜動端22可以 採用圓盤、葉輪等有利於帶動待鍍液體2〇〇旋轉的形狀。 本實施方式中,所述攪動端22由複數個同心的圓臺組成 。所述攪動端22包括四個圓臺22a、22b、22c及22d。所 述圓臺22a、22b、22c及22d的直徑從下到上依次择加。 所述攪動端22的最大直徑\小於所述開口端12的内徑D ^ 所述驅動裝置30用於旋轉轉子20 ’使得所述待鍍液體2〇〇 在轉子20的帶動下完全覆蓋所述基板300。本實施方式中 098119999 表單編號A0101 第5頁/共12頁 0982034009-0 [0011] 201043732 ’為了避免產生氣泡及待鍍液體2〇〇旋轉時的紊流,所述 驅動裝置3G旋轉轉切的速度逐漸加快。 [0012] 所述加熱器40係複數個電加熱棒。本實施方式中所述 加熱器4G㈣距的分佈在所述容器1G的側壁U上,用於 均句的加熱所述容器10的側壁11。所述加熱器4G可以係 容置於所述容器10的側壁11内’也可以係設置於所述容 器1〇的側壁U外。本實施方式中,所述加熱器40均句的 排布在所述侧壁11外。當然,所述加熱器40也可以_ 紅外線加熱等可以使得所述側壁n均勻受熱的其他加熱 裝置。當所述待料體2QG被所述轉子20帶_將所述基 板300完全覆蓋時’所述加熱_開始加熱,使得待錢液 體200被蒸發’蒸發的氣體從所述攪動端22與容器10的門 口端12之間的縫隙排出。 幵 [0013] 清參閱圖1及圖3,軸時,先將所述容H1G内|入至基 板〇〇 I间度的待鑛液體200。再利用所述驅動裝置3〇 轉動所述轉子20,並逐漸加快所述轉子2G的轉速,、直到 待鑛液體2GG完全覆蓋所述基板_。此時㈣加熱器⑼ 進仃加熱來蒸發待鍍液體200。待所述基板300上形成膜 層後打開所述出液alle的閥f1,通過所述出液口⑴將 殘留的待鍍液體200排出。根據所述基板300需要鍍的膜 層的不同厚度,可以設定加熱器40的溫度及加熱的時間 [0014] 098119999 右需要鍍多層膜,可以等第一層膜鍍膜完成後,再將容 器内注入其他成份的液體,再次重複第一層骐形成的 步驟,從而在基板3〇〇上形成多層膜結構。 表軍蝙號A0101 第6頁/共12頁 0982034009-0 201043732 [0015] 本發明提供的鍍膜機由於可以在所述侧壁固定複數塊基 板,所以可以同時對複數塊基板進行鍍膜,由此大大的 提高了鍍膜效率。 [0016] 另外,本領域技術人員可在本發明精神内做其他變化, 但是,凡依據本發明精神實質所做的變化,都應包含在 本發明所要求保護的範圍之内。 【圖式簡單說明】 [0017] 圖1為本發明提供的鍍膜機的示意圖;
[0018] 圖2為圖1的鍍膜機的剖視圖; [0019] 圖3為圖2中鍍膜機運行的示意圖。 【主要元件符號說明】 鍍膜機 100 基板 300 容器 10 侧壁 11 容置槽 11a 入液口 lib 出液口 11c 開口端 12 轉子 20 轉轴 21 攪動端 22 圓臺 22a 、 22b 、 22c 、 22d 驅動裝置 30 加熱器 40 098119999 表單編號A0101 第7頁/共12頁 0982034009-0

Claims (1)

  1. 201043732 七、申請專利範圍: 098119999 1 . 一種鍍膜機,該鍍膜機用於將待鍍液體鍍到基板上,其改 進在於,所述鍍膜機包括容器、轉子及加熱器,所述容器 包括侧壁,至少一塊所述基板固定於所述側壁上,所述容 器設置有入液口及排氣口,待鍍液體通過所述入液口注入 所述容器内,所述轉子用於帶動所述待鍍液體沿所述側壁 的圓周方向旋轉,使得待鍍液體覆蓋所述基板,所述加熱 器加熱所述基板,用於將所述基板表面的待鍍液體蒸發, 在所述基板表面形成膜結構。 < 2. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜機,其中,所述容器的 側壁係圓弧形侧壁。 3. 如申請專利範圍第1項所述之鍍膜機,其中,所述容器包 括出液口,所述出液口設置於所述側壁上,用於排出鍍膜 後過多的待鍍液體。 4 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜機,其中,所述加熱器 設置於所述側壁上,用於加熱所述側壁。 5 .如申請專利範圍第4項所述之鍍膜機,其中,所述加熱器 採用複數個加熱棒,所述複數個加熱棒沿所述容器圓周方 向等間距設置。 6 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜機,其中,所述加熱器 採用紅外線、電加熱方式進行加熱。 7 .如申請專利範圍第1項所述之鍍膜機,其中,所述入液口 設有一閥門,當向所述容器内注入液體時所述閥門打開, 當所述鍍膜機鍍膜時關閉。 8 .如申請專利範圍第3項所述之鍍膜機,其中,所述出液口 表單編號A0101 第8頁/共12頁 0982034009-0 201043732 設有一閥門,當所述鍍膜機鍍膜完成時所述閥門打開,當 所述鍍膜機鍍膜時關閉。
    098119999 表單編號A0101 第9頁/共12頁 0982034009-0
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