TW201033007A - Fluoropolymeric multilayer optical film and methods of making and using the same - Google Patents
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201033007 ‘ 六、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明概括而言係關於一種多層光學膜及製造與使用前 述者之方法。 【先前技術】 ' 6製得—種多層光學膜,其具有至少兩種聚合材料之複 數個交替層且單層厚度約為數百奈米或數百奈米以下。舍 選擇折射率充分失配之聚合材料時,此等多層光學膜引= 光波長之相長干擾。此導致多層光學膜反射某些波長,同 時透射或吸收其他波長。 傳統上已由非氟化聚合材料之交替層構造多層光學膜, 該等交替層具有(M以上之折射率差。舉例而言,通常由 具有0.25之折射率差的(聚(2,6_蔡二甲酸乙二醋乃與 基丙烯酸甲醋))之層對、具有〇·16之折射率差的(聚(對苯 一甲酸乙二醋))與(聚(甲基丙烯酸甲醋)之共聚物)之層對、 及可對-種光偏振具有〇.19之折射率的(聚(2,6蔡二甲 二醋))與⑶酿(由萘:甲酸、其他:㈣及 對構造多層光學膜。 段侍)之層 【發明内容】 簡言之’在-個實施例中’本發明提供—種 疊之多層膜,其中該光學堆叠包 =堆 :第,一由第二氟聚合材料構成之第二層 m施:m等第二層之至少-部分緊密接觸。 實施例中,本發明提供-種包含多層光學膜之物 J45536.doc 201033007 品。 在另實細例中,本發明提供一種將多$光學膜用於太 陽能應用、照明應用、抗反射應用及/或工業應用的方 法。 在另實細*例中,本發明提供一種製造多層光學膜之方 法’其包含提供第-氟聚合材料及第二氣聚合材料;將該 第-氟聚合材料及該第二敗聚合材料共擠成網狀物;及交 替地層疊該第-氟聚合材料及該第二聚合材料以形成多層 膜。 有利的是,與傳統多層光學膜相比,此等新穎多層光學 膜可提供改良之效能。 以上概述不意欲描述每一實施例。本發明之一或多個實 施例之詳情亦闡述於以下描述内容中。根據本說明書及申 請專利範圍,其他特徵、目標及優勢將為顯而易知的。 【實施方式】 如本文中所用,術語 「一」、「該」及「."中之至少一者」可互換使用且意 謂一或多個(種); 「及/或」用於指示可能發生一或兩種所述情況,例如A 及/或B包括(A及B)及(A或B); 「互聚合」係指單體聚合在一起形成大分子化合物; 共5^物」係指一種包含至少兩種不同互聚合單體(亦 即該等單體不具有相同化學結構)且包括例如三元共聚物 (三種不同單體)或四元共聚物(四種不同單體)之聚合材 145536.doc -4- 201033007 料; 「聚合物」係指一種包含相同單體(均聚物)或不同單體 (共聚物)之互聚合單體的聚合材料; 「光」係指具有200 nm至2500 nm範圍内之波長的電磁 輕射, 「可熔融加工」係指一種聚合材料在正常加工設備(諸 如擠壓機)中,在熔融、加熱及/或施加壓力後可流動;且 「光學層」係指一種厚度為欲反射之光波長的約四分之 ® 一之材料層。 圖1A展示本發明之一個例示性實施例。多層光學膜100 包含光學堆疊140及視情況選用之其他層,諸如視情況選 用之保護邊界層120及122,及視情況選用之表層130及 150 ° 參看圖1B可更好地瞭解光學堆疊140。光學堆疊140包含 第一光學層160a、160b、…、160η(共同為第一光學層 160),其與第二光學層162a、162b、…、162η(共同為第二 光學層162)緊密接觸。 第二光學層162以重複序列與第一光學層160—起安置。 . 如圖1Β中所示,層對(例如其中第一光學層160為Α且第二 . 光學層162為B)可排列為交替層對(例如ABABAB··.)。在其 他實施例中,層對可與諸如第三光學層C之中間層一起排 列(例如ABCABC...)或以非交替方式排列(例如 ABABABCAB…、ABABACABDAB…、ABABBAABAB.·· 等)。通常,層對排列為交替層對。 145536.doc 201033007 第一光學層160包含第一氟聚合材料且第二光學層162包 含第二氟聚合材料。本發明所涵蓋之氟聚合材料包括由完 全或部分氟化單體之互聚合單元獲得的可熔融加工型氟聚 合物且可為半晶質或非晶形的。氟聚合材料可包括以下單 體中之至少一者:四氟乙烯(TFE)、偏二氟乙烯(VDF)、氟 乙烯(VF)、六氟丙烯(HFP)、氯三氟乙烯(CTFE)、氟烷基 乙烯基醚、氟烷氧基乙烯基醚、氟化苯乙烯、氟化矽氧 烷、六氟環氧丙烷(HFPO)或其組合。 例示性氟聚合材料包括:TFE之均聚物(例如PTFE)、乙 烯與TFE共聚物之共聚物(例如ETFE) ; TFE、HFP及VDF之 共聚物(例如THV) ; VDF之均聚物(例如PVDF) ; VDF之共 聚物(例如coVDF) ; VF之均聚物(例如PVF) ; HFP及TFE之 共聚物(例如FEP) ; TFE及丙烯之共聚物(例如TFEP) ; TFE 及(全氟乙烯基)醚之共聚物(例如PFA) ; TFE、(全氟乙烯 基)醚及(全氟曱基乙烯基)醚之共聚物(例如MFA) ; HFP、 TFE及乙烯之共聚物(例如HTE);氯三氟乙烯之均聚物(例 如PCTFE);乙烯及CTFE之共聚物(例如ECTFE) ; HFPO之 均聚物(例如PHFPO) ; 4-氟-(2-三氟甲基)苯乙烯之均聚 物;TFE及降冰片烯之共聚物;HFP及VDF之共聚物;或 其組合。 在一些實施例中,上述包含四氟乙烯之互聚合單體之代 表性可熔融加工型共聚物包括可經氟化或未經氟化之其他 單體。實例包括:在聚合條件下經歷開環之開環化合物 (諸如3或4員環),例如環氧化物;烯烴單體,諸如丙烯、 145536.doc 201033007 乙烯、偏二氟乙烯、氟乙烯及降冰片烯;及式CF2=CF-(OCF2CF(Rf))aOR'f之全氟(乙烯基醚),其中Rf為具有1至8 個、通常為1至3個碳原子之全氟烷基,R’f為具有1至8個、 通常為1至3個碳原子之全氟脂族基、通常為全氟烷基或全 氟烧氧基,且a為0至3之整數。具有此式之全氟(乙稀基醚) 之實例包括:cf2=cfocf3、CF2=CFOCF2CF2CF2OCF3、 CF2=CFOCF2CF2CF3、CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3 及 CF2=CFOCF2CF(CF3)OCF2CF(CF3)OCF2CF2CF3。尤其適用 Φ 者可為包含至少三種或甚至至少四種不同單體之可熔融加 工型氟聚合物。
以上論述之四氟乙烯及其他單體之例示性可熔融加工型 共聚物包括如下可購得之彼等者:以商標「DYNEON THV 220」、 r DYNEON THV 230 j ' 「DYNEON THV 500 j ' 「 DYNEON THV 500G j 、 「DYNEON THV 510D」、 「DYNEON THV 610」、 「DYNEON THV 815」、 「DYNEON THVP 2030G j 由 Dyneon LLC.,
Oakdale,MN出售之四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之 共聚物;以商標「DYNEON HTE 1510」及「DYNEON HTE 1705」由 Dyneon LLC.出售以及以「NEOFLON EFEP」由 Daikin Industries, Ltd·,Osaka, Japan 出售之四氟 乙烯、六氟丙烯及乙烯之共聚物;以商標「AFLAS」由 As ahi Glass Co., Ltd., Tokyo, Japan 出售之四氟^ 乙稀、六氟 丙烯及乙烯之共聚物;以商標「TEFLON AF」由E.I. du Pont de Nemours and Co.,Wilmington, DE出售之四氟乙婦 145536.doc 201033007 及降冰片烯之共聚物;以商標「DYNEON ΕΤ 6210A」及 「DYNEON ΕΤ 6235」由 Dyneon LLC.出售、以「TEFZEL ETFE」由 E,I. du Pont de Nemours and Co.出售以及以 「FLUON ETFE」由 Asahi Glass Co.,Ltd.出售之乙烯及四 氟乙稀之共聚物;以商標「HALAR ECTFE」由Solvay Solexis Inc., West Deptford,NJ出售之乙稀及氣三氟乙稀 之共聚物;以商標「DYNEON PVDF 1008」及「DYNEON PVDF 1010」由Dyneon LLC•出售之偏二氟乙烯之均聚 物;以商標「DYNEON PVDF 1 1008」、「DYNEON PVDF 60512」、「DYNEON FC-2145」(HFP 及 VDF 之共聚 物)由Dyneon LLC.出售之聚偏二氟乙烯之共聚物;以商標 「DUPONT TEDLAR PVF」由 Ε·Ι· du Pont de Nemours and Co.出售之氟乙烯之均聚物;以商標「HYFLON MFA」由 Solvay Solexis Inc·出售之MFA ;或其組合。 本發明之例示性層對包括偏二氟乙烯之均聚物與(四氟 乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物)之層對;(乙烯及 氣三氟乙烯之共聚物)與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 烯之共聚物)之層對;(四氟乙烯、六氟丙烯及乙烯之共聚 物)與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物)之層 對;(四氟乙烯、六氟丙烯及乙烯之共聚物)與(乙烯及四氟 乙烯之共聚物)之層對;(四氟乙烯、六氟丙烯及乙烯之共 聚物)與四氟乙烯及降冰片烯之共聚物之層對;(乙烯及四 氟乙烯之共聚物)與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之 共聚物)之層對;或其組合。 145536.doc 201033007 藉由對第一光學層及第-止思 • 弟一光學層作適當選擇,光學堆疊 140可經設計以反射或透射 八处射所需帶寬之光。根據以上討 命’應瞭解,第一光學層之選楼尤禮彳亡紹认女好 擇不僅依賴於多層光學膜之 預定應用’而且依賴於對第思 * 7乐允学層所作出之選擇以及加 工條件。 •當光穿過光學堆疊140時,光或光之某-部分透射通過 光學層’為光學層所吸收,或自光學層之間的界面反射 掉。 ❹ 透射通過光學層之光與吸收率、厚度及反射率有關。透 射率(Τ)與吸收率(Α)之相關性在於A=_1〇g τ ,且%八+%1>% 反射率=100%»在光學層之間各界面處產生反射。再次 參看圖1B,第一光學層160及第二光學層162分別具有不同 之相應折射率⑴及〜。光可在相鄰光學層之界面處,例如 在第一光學層160a與第二光學層162a之間的界面處;及/或 在第二光學層162a與第一光學層16〇b之間的界面處反射。 •在相鄰光學層之界面處未經反射之光通常穿過連續層且在 後續光學層中被吸收、在後續界面處被反射或完全透射通 過光學堆疊140。通常,特定層對之光學層係經選擇以便 .實質上可讓需要進行反射之彼等光波長透過。在層對界面 處未經反射之光傳輸至下一層對界面,其中一部分光被反 射且未經反射之光繼續傳輸,且如此進行下去。以此方 式’具有許多光學層(例如超過50個、超過100個、超過 1000個或甚至超過2000個光學層)之光學層堆疊能夠產生 高度反射性。 145536.doc 201033007
通常,相鄰光學屉夕H 界面之反射率與反射波長下第—光 學層與第二光學層之折射率 平差之平方成正比。層對之間 絕對折射率差(|ηι-η山通常為〇1或〇1以上。第一 與第二光學層之_較高折射㈣為可取的,因為可產生 較大光功率(例如反射率),由此能夠實現較大反射帶寬。 然而’在本發明中,满|祕、联a 視所選層對而定,層對之間的絕對差 可小於G.2G、小於〇.15、小於〇 1()、小於q 或甚至小於 〇.03舉例而5 ’聚(甲基丙烯酸甲醋)及DYNEON HTE 1705具有0.12之絕對折射率差。 藉由選擇適當層對、層厚度及/或層對數目,光學堆疊 可經《X汁以透射或反射所需波長。各層厚度可藉由改變反 射量或變換反射波長範圍來影響光學堆疊之效能。光學層 之平均單層厚度通常為相關波長之約四分之一,且層對厚 度為相關波長之約一半。光學層可各自為四分之一波長厚 或光學層可具有不同光學厚度,只要層對之光學厚度之總 和為波長之一半(或其倍數)即可。舉例而言,為了反射400 奈米(nm)光,平均單層厚度將為約100 nm,且平均層對厚 度將為約200 nm。類似地,為了反射8〇〇 11111光,平均單層 厚度將為約200 nm ’且平均層對厚度將為約40〇 nm。第一 光學層160及第二光學層ία可具有相同厚度。或者,光學 堆叠可包括具有不同厚度之光學層以增大反射波長範圍。 具有超過兩個層對之光學堆疊可包括具有不同光學厚度之 光學層以提供在某一波長範圍内之反射性。舉例而言,光 學堆疊可包括已經個別調整以達成具有特定波長之正入射 145536.doc -10- 201033007
光之最佳反射的層對或可包括層對厚度之梯度以反射較大 f寬範圍之光。特定層對之正反射率主要視單層之光學厚 度而定,其中光學厚度係定義為層之實際厚度乘以其折射 率之乘積。自光學層堆疊反射之光的強度與其層對數目及 各層對中光學層之折射率差呈函數關係。比率nidi/(nidi+n2d2) (通常稱為「f比值」)與指定波長下特定層對之反射率相 關。在f比值中,〜及〜為層對中第一及第二光學層在指定 波長下之各自折射率,且dJd2為層對中第—及第二光學 層之各自厚度。藉由合理選擇折射率、光學層厚度及£比 值,可對第-級反射之強度實行某種程度之控制。舉例而 言,可由約0.05與0.3奈米之間的層光學厚度獲得紫色(4〇〇 奈米波長)至紅色(700奈米波長)之第一級可見反射。通 常,與f比值之偏差0·5導致較小程度之反射性。 可利用方程式來調整光學層以反射處於正 入射角下之波長為λ之光。在其他角度下,層對之光學厚 度視穿過組分光學層之距離(其大於層厚度)及光學層之三 個光轴中之至少兩者的折射率而定。光學層可各自為四分 之-波長厚或光學層可具有不同解厚度,只要光學厚度 之總和為波長之-半(或其倍數)即可。具有超過兩個層對 之光學堆疊可包括具有不同光學厚度之光學層以提供在某 -波長範圍内之反射性。舉例而言,光學堆疊可包括已緩 個別地調整以達成具有特定波長之正人射光之最佳反射的 層對或可包括層對厚度之梯度以反射較大帶寬範圍内之 光。 145536.doc -11- 201033007 一種典型方法為使用所有或大部分四分之一波長膜的堆 疊。在此情況下,控制光譜需要控制膜堆疊中之層厚度概 況。若層為聚合者’則寬頻帶光譜(諸如反射空氣中較大 角度範圍内之可見光所需的寬頻帶光譜)仍需要較多層 數’此係因為與無機膜相比,可由聚合物膜達成相對較小 之折射率差。可使用美國專利第6,783,349號(Neavin等人) 中教示之轴桿裝置結合由顯微技術獲得之層概況資訊來調 節該等光學堆疊之層厚度概況以提供改良之光譜特徵。 一種提供具有受控光譜之多層光學膜的理想技術包括: 1) 如美國專利第6,783,349號(Neavin等人)所教示,使用 轴桿加熱器控制共擠聚合物層之層厚度值。 2) 在製造期間自層厚度量測工具(諸如原子力顯微鏡、 透射電子顯微鏡或掃描電子顯微鏡)獲得及時的層厚 度概況回馈。 3) 進行光學模擬以產生所需層厚度概況。 4) 基於所量測之層概況與所需層概況之間的差異來重 複軸桿調節。 層厚度概況控制之基本過程涉及基於目標層厚度概況盥 所量測之層概況的^來調節軸桿區功率設定。為調節特 定給料機㈣中之層厚度值所需的軸桿功率增加可首先根 據使彼加熱器區中產生之層的所得厚度變化ι奈米所需之 熱輸入瓦特數來校準。使用24個轴桿區有可 275個層之光譜。-旦經校準,則只要給定目標概況及量 測概況,即可計算出必需的功率調節。可重複該程序直至 145536.doc 12 201033007 兩個概況達成一致。 舉例而。,可將光學堆叠之層厚度概況(層厚度值)調節 為近似線性之概況,其中第-(最薄)光學層經調節以對於 340 nm光而言具有約四分之一 ^ ,皮長光學厚度(指數乘以實 體厚度),且進行至最厚層,其經調 ,、丄巧即以對於420 nm光而 言為約四分之一波長厚光學厚度。
增加光學堆疊中之光學層數目亦可提供較大光功率。舉 例而言,若層對之間的折射率較小,則光學堆疊可能不能 達成所需反射率,然而藉由增加層對數目,可達成足夠反 射率。在本發明之一個實施例中,光學堆疊包括至少2個 第光學層及至少2個第二光學層、至少5個第一光學層及 至少5個第二光學層 '至少5〇個第一光學層及至少5〇個第 一光學層、至少200個第一光學層及至少2〇〇個第二光學 層、至少500個第一光學層及至少5〇〇個第二光學層,或甚 至至少1000個第一光學層及至少丨個第二光學層。 光學層之雙折射(例如由拉伸所引起)為增加層對中光學 層之折射率差的另一有效方法。視例如光學層數目、f比 值及折射率而定,包括以兩個互相垂直之平面内軸定向之 層對的光學堆疊能夠反射極高百分比之入射光,且為高效 反射體。 正如所提及,本發明之光學堆疊可經設計以反射或透射 至少相關之特定帶寬(亦即波長範圍)。在一個實施例中’ 本發明之光學堆疊可透射以下中之至少一者:約400-700 nm之間、約380-780 nm之間或甚至約350-800 nm之間的波 145536.doc -13· 201033007 長之至少一部分;大於約700 nm、大於約780 nm或甚至大 於約800 nm之波長的至少一部分;約700-2500 nm之間、 約800-1300 nm之間或甚至約800-1 100 nm之間的波長之至 少一部分·,約300-400 nm之間或甚至約250-400 nm之間的 波長之至少一部分;小於約300 nm之波長之至少一部分; 或其組合。「至少一部分」意謂不僅包含整個波長範圍, 而且包含一部分波長,諸如至少2 nm、10 nm、25 nm、50 nm或100 nm之帶寬。「透射」意謂在90度入射角下透射至 少 30、40、50、60、70、80、85、90、92或 95百分比之相 關波長。 在一個實施例中,本發明之光學堆疊可反射以下中之至 少一者:約400-700 nm之間、約380-780 nm之間或甚至約 350-800 nm之間的波長之至少一部分;大於約700 nm、大 於約780 nm或甚至大於約800 nm之波長的至少一部分;約 700-2500 nm之間、約 800-1300 nm之間或甚至約 800-1 100 nm之間的波長之至少一部分;約300-400 nm之間或甚至約 250-400 nm之間的波長之至少一部分;小於約300 nm之波 長之至少一部分;或其組合。「反射」意謂在90度入射角 下反射至少 30、40、50、60、70、80、85、90、92 或 95 百 分比之相關波長。 可對層對、層數及層厚進行選擇以便使光學堆疊反射第 一帶寬之光且透射第二帶寬之光。舉例而言,光學堆疊可 透射可見波長(例如400-700 nm)且反射紅外波長(例如700-2500 nm)、透射紫外線波長(例如250-400 nm)且反射紅外 145536.doc •14- 201033007 波長或透射紅外波長且反wuv波長。 '、v光學堆Φ之外,可視情況在多層光學膜中採用諸 如圖1A中展示之彼等者的其他層來改良或增強多層光學膜 ' 、 化學及/或光學特徵。可視情沉在本發明之多層 、子膜中使用的塗層或層之非限制性列舉在以下段落中詳 述。 個實細例中’多層光學膜包含一或多個光學層。應 冑解’多層光學膜可由單—光學堆疊組成或可由多個光學 堆疊製成,該等光學堆叠隨後經經合以形成多層光學膜。 可添加之其他光學層包括例如偏振器、鏡面、透明至有色 膜、有色至有色膜、冷光鏡或其組合。 在-個實施例中,多層光學膜包含—或多個非光學層, 諸如’-4多個表層或一或多個内部非光學I,諸如光學 層組之間的保護邊界層。可使用非光學層來提供多層光學 膜結構或在加工期間或之後保護多層光學膜免受傷害或損 • 傷對於一些應用,可能需要包括犧牲性保護表層,其中 控制表層肖光學堆叠之間的界面黏附以冑可在使用之前自 光學堆疊剝離表層。 通常,安置一或多個非光學層以便使欲由光學層透射或 反射之光的至少一部分亦穿過此等層(亦即此等層被安置 於可穿過第一及第二光學層或可由第一及第二光學層反射 之光之路徑中)。非光學層可能影響或可能不影響光學堆 疊對於相關波長範圍之反射或透射性質。通常,其不應影 響光學堆疊之光學性質。 145536.doc 201033007 對非光學層可選擇賦予或改良多層光學膜之性質(諸如 抗撕裂性、抗穿刺性、韌性、耐風化性及/或耐化學性)的 材料。當選擇例如用於抗撕裂層中之材料時,應考量許多 因素,諸如斷裂伸長百分率、楊氏模數(Young,s modulus)、 撕裂強度、對内部層之黏附力、對相關波長之透射率及吸 收率百分率、光學透明度及霧度、耐風化性及對各種氣體 及溶劑之滲透性。可用作抗撕裂層之材料之實例包括:聚 碳酸酯、聚碳酸酯與共聚酯之摻合物、聚乙烯之共聚物、 聚丙烯之共聚物、乙烯與四氟乙烯之共聚物、六氟丙烯、 四氟乙烯及乙晞之共聚物及聚(對苯二甲酸乙二酯)。 非光學層可由任何合適材料製成且可與光學堆疊中使用 之材料之-相同。當然’重要的是所選材料不具有對於光 學堆疊之彼等材料過於有害的光學性質。可由各種聚合物 (包括在第-及第二光學層中使用之任何聚合材料)形成非 光學層。在-些實施例中,對於非光學層所選擇之材料與 ❿ 對於第-光學層所選擇之聚合材料及/或對於第二光學層 所選擇之聚合材料類似或相同。 可將視情況選用之uv吸收層施加於多層光學膜以保護 多層光學膜以免受會引起降解之旧輻射影響。太陽光, 尤其 nm至_ nn^uv輻射會引起詩降解 2致變色及光學與機械性質劣化。對於長期耐久性必不可 /之戶外應用,抑制光氧化降解 -,聚(針菜-… 解為至關重要的。舉例而 °聚(對本—甲酸乙二酯)吸收UV輻射M私π, m , „ 輻射開始於360 nm^ 圍,在320 nmH下明顯增加, 门 在3〇〇 nm以下極為顯著。 145536.doc -J6- 201033007 聚(萘二甲酸乙二酯)強烈吸收310_37〇 nm範圍内之uv輕 射’且吸收尾部延伸至約410 nm,且最大吸收發生在352 nm及33 7 nm下。在氧氣存在下發生鏈斷裂,且主要光氧化 產物為一氧化碳、二氧化碳及羧酸。除酯基之直接光解之 外,必須考量氧化反應’其同樣地經由過氧化物基團形成 二氧化碳。 UV吸收層包括聚合物及UV吸收劑。通常,該聚合物為 熱塑性聚合物,但此不為必要條件。合適聚合物之實例包 ❹ 括聚酯(例如聚(對苯二甲酸乙二酯))、氟聚合物、聚醯 胺、丙烯酸系物(例如聚(甲基丙烯酸甲酯))、聚矽氧聚合 物(例如熱塑性聚矽氧聚合物)、笨乙烯系聚合物、聚烯 烴、稀烴共聚物(例如可以TOPAS COC獲得之乙烯與降冰 片烯之共聚物)、聚矽氧共聚物、胺基甲酸酯或其組合(例 如聚甲基丙烯酸甲酯與聚偏二氟乙烯之摻合物)。 uv吸收層藉由吸eUV光來保護多層光學臈。通常, 參吸收層可包括能夠在較長時間内抵禦1;乂輻射之任何聚合 物組合物(亦即聚合物加上添加劑)。 通常將各種uv光吸收及穩定添加劑併入uv吸收層中以 有助於其保護多層光學膜之功能。該等添加劑之非限制性 實例包括-或多種選自UM吸收劑、受阻胺光穩定劑、 抗氧化劑及其組合之化合物。 UV穩定劑(諸如uv吸收劑)為可干涉光誘導降解之物理 及化學過程的化合物。因此可藉由使用uv吸收層來防止 由UV輻射所引起之聚合物光氧化,該UV吸收層含有至少 145536.doc -17· 201033007 一種UV吸收劑以有效地吸收小於約400 nm之波長之光。 UV吸收劑通常以吸收至少70百分比、通常為80百分比、 更通常為大於90百分比或甚至大於99百分比之處於180至 400 nm波長範圍内之入射光的量包括在UV吸收層中》 典型UV吸收層厚度為10至500微米,不過亦可使用更薄 及更厚之UV吸收層。通常,UV吸收劑係以2至20重量百分 比之量存在於UV吸收層中,但亦可使用更小及更大之含 曰 ϊ。 一種例示性UV吸收化合物為苯并三唑化合物5 -三氟甲 基-2-(2-羥基·3-α-異丙苯基_5 -第三辛基苯基)-2H-苯并三 唑。其他例示性苯并三唑包括例如2-(2-羥基-3,5-二-α-異 丙苯基苯基)-2Η-笨并三唑、5-氯-2-(2-羥基-3-第三丁基-5-甲基苯基)-2H-苯并三唑、5-氯-2-(2-羥基-3,5-二-第三丁基 苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-3,5-二-第三戊基苯基)-2H-苯并三唑、2-(2-羥基-3-α-異丙苯基-5-第三辛基苯基)-2H-苯并三唑、2-(3-第三丁基-2-羥基-5-甲基苯基)-5-氣-2H-苯 并三唑。其他例示性UV吸收化合物包括2-(4,6-二苯基-1 · 3,5-三嗪-2-基)-5-己氧基-苯酚以及以商標「TINUVIN 1577」及「TINUVIN 900」由 Ciba Specialty Chemicals Corp., Tarrytown,NY出售之彼等者。另外,UV吸收劑可 與受阻胺光穩定劑(HALS)及/或抗氧化劑組合使用。例示 性 HALS 包括以商標「CHIMASSORB 944」及「TINUVIN 123」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出售之彼等者。例 示性抗氧化劑包括以商標「IRGANOX 1010」及 145536.doc -18- 201033007 「ULTRANOX 626」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出 售之彼等者。 除將UVA、HALS及抗氧化劑添加至UV吸收層中之外, 可將UVA、HALS及抗氧化劑添加至其他層(包括本發明之 第一或第二光學層)中。 在另一實施例中,可將視情況選用之IR吸收層施加於多 層光學膜以保護多層光學膜以免受IR輻射影響。IR吸收層 包括聚合物及IR吸收劑。可將IR吸收層塗布至多層光學膜 ❹ 上或可擠出掺合於聚合物層中。例示性IR吸收化合物包 括:氧化銦錫;氧化銻錫;IR吸收染料,諸如以商標 「EPOLIGHT 4105」、「EPOLIGHT 2164」、「EPOLIGHT 3130」及「EPOLIGHT 3072」由 Epolin,Inc.,Newark,NJ 出售之彼等者;雜多酸,諸如美國專利第4,244,741號 (Kruse)中所描述之彼等者;金屬錯合物,諸如美國專利第 3,850,502號(Bloom)中所描述之彼等者;鎳錯合物染料, 諸如由 H.W. Sands Corp.,Jupiter,FL出售之 SDE8832;及 W 鈀錯合物染料,諸如亦由H.W. Sands Corp.出售之 SDA5484 ° .為了進一步增強多層光學膜之反射及/或透射效能或視 覺特性,可將其他添加劑添加至至少一個層中。舉例而 言,多層光學膜可用油墨、染料或顏料處理以改變多層光 學膜外觀或針對特定應用來定製多層光學膜。因此,舉例 而言,多層光學膜可用油墨或其他印刷標誌(諸如用於顯 示產品資訊、廣告、裝飾或其他資訊之彼等者)處理。可 145536.doc •19· 201033007 使用各種技術在多層光學膜上進行印刷,諸如網版印刷、 凸版印刷及平版印刷。亦可使用各種類型之油墨,包括例 如單組分或雙組分油墨、氧化乾燥型及uv乾燥型油墨、 溶解油墨、分散油墨及1 〇〇%油墨系統。亦可使多層光學 膜之外觀帶有顏色,諸如將染色層層壓至多層光學膜上、 將著色塗層施加至多層光學膜表面、在一或多個層(例如 第一或第二光學層、其他光學層或非光學層)中包括顏 料,或其組合。可見光化合物與近IR化合物均涵蓋於本發 明中,且包括例如光學增亮劑,諸如在uv範圍内吸收且 在可見範圍内發螢光的化合物。 可包括在多層光學膜中之其他添加劑包括微粒。舉例而 吕’可將碳黑顆粒分散於聚合物中或塗布至基材上以提供 遮蔽作用。或者或另外,小顆粒非顏料型氧化鋅、氧化銦 錫及氧化鈦亦可用作阻擋、反射或散射添加劑以使uv輻 射降解減至最低程度。奈米級顆粒可讓可見光透過,同時 政射或吸收有害uv輻射,由此減少對熱塑性塑膠之損 害。美國專利第5,504,134號(Palmer等人)描述經由使用直 徑尺寸在約0.001微米至約0_20微米範圍内且更通常直徑為 約〇_〇1微米至約0.15微米之金屬氧化物顆粒來減少由uv輻 射引起之聚合物基材降解。美國專利第5,876,688號 (Laundon)教示一種產生微米尺寸化氧化鋅之方法,該氧 化辞足夠小以便當作為UV阻擋及/或散射劑併入塗料、塗 層、修飾面層、塑膠物品及裝飾品中時為可透光的,其完 全適合於在本發明中使用。可削弱UV輻射的粒徑在10-100 145536.doc • 20· 201033007 nm範圍内之此等精細顆粒(諸如氧化鋅及氧化鈦)可購自 Kobo Products,Inc.,South Plainfield,NJ ° 多層光學膜可視情況包含耐磨層。耐磨層可包含可讓相 關波長透過之任何耐磨材料。耐刮塗層之實例包括:以商 標「TECOFLEX」由 Lubrizol Advanced Materials, Inc., ' Cleveland, OH出售之熱塑性胺基甲酸酯,其含有5重量百 分比之以商標「TINUVIN 405」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出售之UV吸收劑、2重量百分比之以商標「TINUVIN ® 123」出售之受阻胺光穩定劑及3重量百分比之以商標 「TINUVIN 1577」由 Ciba Specialty Chemicals Corp.出售 之UV吸收劑;及以商標「PERMA-NEW 6000 CLEAR HARD COATING SOLUTION」由 California Hardcoating Co., Chula Vista,CA出售的由熱固化奈米二氧化石夕石夕氧院 填充之聚合物組成之耐刮塗層。 耐磨層可視情況包括至少一種防汙組分。防汙組分之實 例包括氟聚合物、矽氧烷聚合物、二氧化鈦顆粒、多面體 寡聚倍半矽氧烷(例如以商標「POSS」由Hybrid Plastics of Hattiesburg, MS出售)或其組合。对磨層亦可包含傳導 . 性填充劑,通常為透明傳導性填充劑。 本發明之多層光學膜可視情況包含一或多個邊界膜或塗 層以改變多層光學膜對於某些氣體或液體之傳輸性質。此 等邊界膜或塗層抑制水蒸氣、有機溶劑、氧氣及/或二氧 化碳傳輸通過膜。在多層光學膜之組分可能會因水分滲透 而變形之高濕度環境中,邊界膜或塗層可為特別可取的。 145536.doc -21 · 201033007 例如抗靜電塗層或膜, 亦可考量其他視情況選用之層, 及防霧材料。 視選用之其他層可比光學堆叠之各個光學層厚、 個:同。視情況選用之其他層之厚度-般為至少 一個個別光學層厚度的至少 ^ x ’通常為至少10倍,且可 為至乂 100倍或100倍以上。 文變其他層之厚度以製得具 有特疋厚度之多層光學膜。 在多層光學膜中,可經由共擠出或此項技術中已知之任 何黏附技術(包括例如使用黏著劑、溫度、壓力或其组合) 來施加視情況選用之其他層。若存在,則視情況選用之黏 結層有助於多層光學膜各層之間,主要為光學堆疊與視情 況選用之其他層之間的黏附。黏結層可為有機(例如聚合 層)贫或無機者。例示性無機黏結層包括金屬氧化物,諸如 二氧化鈦、氧化鋁或其組合。可藉由任何合適方法(包括 溶劑淹鎿及粉末塗布技術)提供黏結層。A 了<吏其不會引 起多層光學膜之效能降級,視情況選用之黏結層通常^質 上對相關波長範圍内之光不具吸收性。 可用熟習此項技術者熟知之方法,利用諸如共擠出、層 壓、塗布、氣相沈積或其組合之技術來製造光學堆疊。在 共擠出中,將聚合材料共擠出成網狀物。在共擠出中,較 佳的是兩種聚合材料具有類似流變性質(例如熔融黏度)以 防止層不穩定性或不均勻性。在層壓中,將聚合材料片材 層疊在一起且隨後使用熱、壓力及/或黏著劑來層壓。在 塗布尹’將-種聚合材料之溶液塗覆於另一種聚合材料 J45536.doc -22- 201033007 上°在氣相沈積中,將一種聚合材料氣相沈積至另一種聚 合材料上。另外,可將功能性添加劑添加至第一光學層、 第二光學層及/或視情況選用之其他層中以改良加工。功 能性添加劑之實例包括加工添加劑,其可例如增強流動及/ 或減少熔體破裂。
可參照美國專利第5,552,927號(Wheatley等人)、第 5,882,774號(Jonza 等人)、第 6 827 886號(Neavin等人)及第 6,830,713號(Hebrink等人)獲得關於選擇材料及製造光學堆 疊與多層光學膜的其他考量因素。 通常,所選擇的第一與第二光學層及視情況選用之其他 層之聚合材料具有類似流變性質(例如熔融黏度)以便使其 可在無流動擾動的情況下共擠出。所用之第一與第二光學 層及視情況選用之其他層亦應具有足夠的界面黏附力以便 使多層光學膜不會分層。 達成各個折射率之間的所需關係(且因此達成光學堆疊 之光學性質)的能力受到用於製傷光學堆疊之加^件的 影響。在-個實施例中,多層光學膜_般係藉由以下步驟 來製備:共擠出個別聚合材料形成多層光學膜,隨後藉由 在選定溫度下拉伸^向多層光學膜,視情況接著在選定 溫度下熱定型。或者,可同時進行擠出及定向步驟。 〇J例如用長度定向器在加 A X叩祖11¾機在冤 又方向上拉伸多層光學膜。對預拉伸溫度、拉伸溫度、拉 伸速率、拉伸比、熱定型溫度、熱定型時間、熱定型鬆他 及交又拉伸鬆料行選擇以產生具有所需折射率關係之多 145536.doc -23- 201033007 層光學膜。此等變數為相互依賴的’因此例如若與例如相 對較低之拉伸溫度結合,則可使用相對較低之拉伸速率。 一般技術者應明瞭如何選擇此等變數之合適組合以獲得所 需多層光學膜。若拉伸膜,則一般而言’較佳的是在—個 拉伸方向上拉伸比在1:2至1:_1:3至1:7錢内且在與此 々拉伸方向正交之方向上在1:0 2至1:1〇或甚至2至 範圍内。在-些實施例中,總拉伸比大於3:1,大於4:1或 甚至大於6:1。 多層光學膜—般為柔性材料片材。為達成本發明之目 的,術語柔性指示多層光學膜在尺寸上穩定,然而仍具有 能夠實現隨後模製或成形為各種形式之撓性特徵。在一個 實施例中,多層光學膜可熱成形為各種形狀或結構以用於 特定最終用途應用。 本發明之多層光學膜可用於許多用途。在本發明之一個 實施例中夕層光學膜為物品,諸如UV鏡面(亦即反射uv 波長)、IR鏡面(亦即反射IR波長)及/或可見鏡面(亦即反射 可見波長)。在另一實施例中,本發明之多層光學膜可應 用於需要反射及/或透射不同波長之領域。該等多層光學 膜可定位於欲使用之玻璃片上或定位在欲使用之兩個或兩 個以上玻璃片之間,例如在建築物及汽車中用於反射紅外 波長,由此減少熱負荷。另外’多層光學膜可定位於其他 實質上透明的塑膠上以提供反射性質。 本發明之多層光學膜可用於建築應用、溫室應用、太陽 能應用、照明、門窗產品及/或其他應用中。與用不包含 145536.doc •24- 201033007 氣聚合光學層之光學堆疊製成之多層光學膜相比,本發明 之夕層光學膜可提供包括以下之優勢:不燃性或降低之可 燃性、改良之耐腐蝕性及/或改良之uv穩定性及風化穩定 性。 在一個實施例中,多層光學膜可用於建築應用中,諸如 屋頂覆蓋物、部分屋頂覆蓋物、正面覆蓋物或圓頂覆蓋 物。在建築應用中使用之多層光學膜可經設計以便可透射 • 可見光’但反射紅外波長’從而獲得可減少建築物中之熱 '荷的透明覆蓋物。在另一實施例中,在溫室應用中使用 之多層光學膜可經設計以便可透射UV波長以允許最大的 植物生長。在另一實施例中,多層光學膜可用於太陽能應 用中。舉例而言,在太陽能應用中,多層光學膜可用於太 陽電池、太陽收集(熱採暖)、太陽光電電池、集中光電或 集中太陽症應用。在另一實施例申,多層光學膜可用於照 明應用中,諸如防碎性燈罩或反射器。在另一實施例中, Φ 多層光學膜可用於門窗產品中(亦即填充建築物中之開口 之產品(諸如窗户、門、天窗或幕壁),其例如經設計以允 许光通過在另一實施例中,多層光學膜可用於抗反射 ,應用,諸如鏡面。在另一實施例中,多層光學膜可用於工 業應用,諸如保護塗層。關於其他論述,請參見伴隨本發 月 之申兩之美國臨時申請案61/141603(代理人宰號 64816US002) 〇 】 在另一實施例中,本發明之多層光學膜可轉變成呈任何 各種所需形狀及尺寸之發光物。發光物可併入基體材料 145536.doc -25- 201033007 ;聯聚合材料)或塗布組合物巾。通常對發光物之尺 \ <狀進行選擇以使發光物外觀最佳化或符合特定最終 用途應用。诵舍 、 ’在塗布組合物中使用之發光物呈碎片形 ’其中各碎片之最大尺寸為多層光學膜厚度之至少兩倍 且不超過塗層之最大厚度。 ' ,丨用以下實例來說明本發明之優勢及實施例,但 此等實例巾陳述之特定材料及其量以及其他條件及詳情不 應被理解為過度地限制本發明。除非另有陳述或顯而易 知’否_有材料為可料的或為熟f此項技術者所知。 、下特疋(但非限制性)實例將用於說明本發明。 實例1 12 .如下製得各種氟化聚合材料之洗鑄膜。將氣 化聚〇材料以速率x遞送至以螺桿速度Y運作之單螺桿擠 出機中。播出物在合適溫度下擠出且以輥速度技鑄至三 輥堆疊上且捲繞。以測微規量測出各膜之厚度為5〇〇微米 (μπί)厚。以下表1中展示各測試試樣之實例、遞送速率(公 斤/小時(kg/hr))、螺桿速度(轉數/分鐘(rpm))及輥速度(公 尺/分鐘(m/min)”所有氟化聚合材料係自Dyne〇n llc , 〇akdale,MN獲得。以分光光度計(LAMBDA 950 uvms/證,來自 PerkinElmer,Inc,ma)量測 各澆鑄膜。 145536.doc -26 - 201033007 表1 實例 DYNEON氟化聚合材料 遞送速率X 螺桿速度Y 輥速度z 1 ET 6235 2.9 kg/hr 20rpm 0.20 m/min 2 ETFE 6218X 2.9kg/hr 20 rpm 0.20 m/min 3 HTE 1705 4.6 kg/hr 26 rpm 0.32 m/min 4 HTE1510 4.5 kg/hr 24 rpm 0.30 m/min 5 THV220 3.9 kg/hr 18 rpm 0.24 m/min 6 THV 500 4.8 kg/hr 24 rpm 0.30 m/min 7 THV415G 5.4 kg/hr 25 rpm 0.33 m/min 8 THVP 2030GX 4.1 kg/hr 22 rpm 0.25 m/min 9 PFA 6502T 3.5 kg/hr 30 rpm 0.20 m/min 10 FEP 6303 3.3 kg/hr 25 rpm 0.20 m/min 11 PVDF 1010/0001 4.2 kg/hr 22 rpm 0.27 m/min 12 PVDF1008/0001 4.2 kg/hr 22 rpm 0.27 m/min
表2(如下)報導表1中之各氟化聚合材料在所選波長下之 透射率%。 表2 實例 透射率% 250 nm 300 nm 350 nm 450 nm 550 nm 650 nm 750 nm 850 nm 950 nm 1 33.2 52.9 64.0 73.5 80.1 84.3 87.1 89.1 90.7 2 39.3 57.1 65.8 74.2 80.4 84.5 87.2 89.1 90.6 3 54.1 65.5 71.1 80.3 85.7 88.8 90.8 92.1 93.1 4 51.8 53.3 72.0 82.5 87.7 90.7 92.2 93.2 94.0 5 85.0 89.3 92.2 94.2 94.8 95.0 95.1 95.2 95.3 6 90.1 88.6 89.6 92.4 93.9 94.6 95.0 95.2 95.4 7 89.7 90.6 92.3 94.3 94.9 95.3 95.3 95.4 95.6 8 90.9 93.2 94.3 95.1 95.3 95.4 95.4 95.3 95.7 9 85.4 80.1 82.0 87.8 91.1 93.0 93.9 94.5 95.0 10 90.8 84.2 84.0 88.3 91.1 92.8 93.7 94.4 95.0 11 72.0 77.2 83.4 86.4 87.8 88.7 89.2 89.7 90.5 12 77.8 79.3 83.5 86.1 87.6 88.7 89.2 89.8 90.5
實例13 :藉由以一次操作擠出澆鑄網狀物且隨後在實驗 室膜拉伸裝置中定向該膜而製得一含有151個層之共擠 145536.doc -27- 201033007 膜。將由一個擠壓機以10碎/小時之速率遞送的聚偏二氟 乙烯(PVDF,以商標「DYNEON PVDF 1008」由 Dyne〇n LLC.出售)(其中10%之PVDF流量進入兩個外部保護邊界 層’各邊界層為高指數光學層厚度之約1〇倍)、由另一擠 壓機以11磅/小時之速率遞送的四氟乙烯、六氟丙烯及偏 二氟乙烯之共聚物(以商標「DYNEONTHVP 2030GX」由 Dyneon,LLC·出售)及由另一擠壓機以1〇磅/小時之速率遞 送用於表層之PVDF共擠壓通過一多層聚合物熔體歧管以 形成一具有151個層且具備PVDF邊界及表層之多層熔體❹ 流。將此多層共擠熔體流係以〇·95公尺/分鐘(m/min)澆鑄 至冷卻輥上,形成29密耳(約〇.74 mm)厚且65吋(約165 cm)寬之夕層洗鑄網狀物。在第二次試作中,將多層共擠 熔體流以3.1 m/min澆鑄至冷卻輥上,形成9密耳(約〇23 mm)厚且5.75吋(約μ·5 cm)寬之多層澆鑄網狀物。 使用實驗室拉伸裝置拉伸該多層洗鑄網狀物,該裝置使 用縮放儀來夾持網狀物之方形截面且沿兩個方向以均勾速 度同時拉伸該網狀物。將4吋(約1〇 cm)方形之29密耳多層❹ 淹禱網狀物置放於拉伸架中且在烘箱巾在9〇秒内加熱至 。隨後以50%/秒(基於原始尺寸)拉伸該多層澆鑄網 狀物直至網狀物被拉伸至原始尺寸之約4x4倍。在拉伸後 — 立即自拉伸裝置中取出多層光學琪且在室溫下冷卻。在冑 , 一次试作中,將4吋(約1〇 cm)方形之9密耳多層澆鑄網狀物 置放於拉伸架_且在供箱中在3G秒内力。熱至。隨後 、/私(基於原始尺寸)拉伸該多層澆鑄網狀物直至網狀 I45536.doc -28- 201033007 物被拉伸至原始尺寸之約4x4倍。在拉伸後立即自拍^申裝 置中取出多層光學膜且在室溫下冷卻。 實例14 :遵循與實例13中相同之程序,以六氟丙稀、四 氟乙烯及乙烯之共聚物(HTE,以商標「dyne〇N hte 1705」由Dyneon LLC·出售)以及乙烯及四氟乙烯之共聚物 (以商標「DYNEON ET 6218X」由Dyneon LLC.出售)來構 造具有151個層且以HTE為邊界及表層的多層澆鑄網狀 物。將此多層共擠熔體流以〇.75 m/min澆鑄至冷卻輥上, ® 形成30密耳(約0_76 mm)厚且6.75吋(約17 cm)寬之多層澆 鑄網狀物。 熟I此項技術者應顯而易知,可對本發明進行可預見到 之修改及變化而不背離本發明之範圍及精神。本發明不應 爻限於在本申請案中出於說明目的而闡述明之實施例。 【圖式簡單說明】 圖1A為根據本發明之一個例示性實施例的多層光學膜 100之示意侧視圖;及 ❹ 圖1B為在多層光學膜100中所包括之雙組分光學堆疊14〇 之示意側視圖。 【主要元件符號說明】 100 多層光學膜 120 保護邊界層 122 保護邊界層 130 表層 140 光學堆疊 145536.doc •29· 201033007 150 160 160a 160b 160n 162 162a 162b 162n 表層 第一 第一 第一 第一 第二 ^ 一 弟—— 第二 第二 光學層 光學層 光學層 光學層 光學層 光學層 光學層 光學層 145536.doc
Claims (1)
- 201033007 七、申請專利範圍: 1. 一種包含光學堆疊 含: μ切膜,其巾該光學堆疊包 a)包含第-氟聚合材料之第一光學層;及 .)i含第—氟聚合材料之第^光學層, 其中該等第—来與恳, 二光子層之至少一部分與該等第二光學層 至夕部分緊密接觸。 ❿ 3. .之多層光學膜’其中該第一氟聚合材料與該 第^聚合材料之間的折射率差小於0.20。 4. 如刖述清求項中任一項之多層光學膜,其中該第一氟聚 合=料與該第二氣聚合材料之間的折射率差小於〇 1〇。 如則述請求項中任—項之多層光學膜,其中該氟聚合材 料包含由以下單體中之至少—者之互聚合單元獲得的均 聚物或共聚物:TFE、VDF、VF、HFp、CTFE '氟烷基 乙烯基醚、氟烷氧基乙烯基醚、氟化苯乙烯、Ηρρ〇、 ❹ 氟化矽氧烷或其組合。 5.如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該氟聚合材 料係選自由以下組成之群:乙烯及四氟乙烯之共聚物; 四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物;偏二氟乙 烯之均聚物’偏二氟乙稀之共聚物;四氟乙稀及丙婦之 共聚物,四II乙稀及全氟乙稀基醚之共聚物;六說丙 烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物;氣三氟乙烯之均聚物; 乙烯及氯三氟乙烯之共聚物;六氟環氧丙烷之均聚物; 4-氟_(2_三氟甲基)苯乙烯之均聚物;以及四氟乙烯及降 145536.doc 201033007 冰片烯之共聚物。 6. 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該光學堆疊 包含選自由以下組成之群之層對:偏二氟乙烯之均聚物 與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物)之層 對,(乙烯及氣二氟乙稀之共聚物)與(四氟乙烯六氟丙 烯及偏二氟乙烯之共聚物)之層對;(六氟丙烯、四氟乙 烯及乙烯之共聚物)與(四氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙 烯之共聚物)之層對;(六氟丙烯、四氟乙烯及乙烯之共 7. 8. 9. 10. 聚物)與(乙烯及四氟乙烯之共聚物)之層對;(六氟丙 烯、四氟乙烯及乙烯之共聚物)與(四氟乙烯及降冰片烯 之/、聚物)之層對;及(乙烯及四氟乙烯之共聚物)與(四 氟乙烯、六氟丙烯及偏二氟乙烯之共聚物)之層對。 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該第一氟聚 合材料或該第二氟聚合材才斗中之至少一者為雙折射的。 月J述π求項中任一項之多層光學膜,其中該光學堆疊 包含至少5個第一光學層及至少5個第二光學層。 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該光學堆疊 包含至少50個第一光學層及至少5〇個第二光學層。 如前述請求項中任—項之多層光學膜,其中該多層光學 膜匕3拉伸比,其中該總拉伸比大於3:1 〇11. 12. 如前述請求項中任—項之多層光學膜,其中該總拉伸比 大於4:1。 如刖述明求項中任-項之多層光學膜,其中該總拉伸比 大於6:1。 145536.doc -2- 201033007 13.如前述請求項中任一項之多層光學膜,其進一步包含以 下中之至少一者: a) 印刷物; b) 黏著劑; c) 抗撕裂層; d) UV吸收層; e) 表層;或 f) 保護邊界層。 ® 14_如前述請求項中任一項之多層光學膜,其進一步包含UV 吸收化合物、IR吸收化合物或其組合,其中該等第一光 學層、該等第二光學層或視情況選用之其他層包含該UV 吸收化合物、IR吸收化合物或其組合。 15. 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其進一步視情況 包含功能性添加劑,其中該功能性添加劑為加工添加 劑。 16. 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該多層膜可 W 透射以下中之至少一者: a)約400-700 nm之間的波長之至少一部分; • b)大於約700 nm之波長之至少一部分; c) 小於約300nm之波長之至少一部分;或 d) 約300-400 nm之間的波長之至少一部分。 17. 如前述請求項中任一項之多層光學膜,其中該多層膜可 反射以下中之至少一者: a)約400-700 nm之間的波長之至少一部分; 145536.doc 201033007 b) 大於約700 nm之波長之至少一部分; c) 小於約300nm之波長之至少一部分;或 d) 約300-400 nm之間的波長之至少一部分。 18. 19. 20. 21. 一種物品,其包含如前述請求項中任一項之多層光學 膜。 一種使用多層光學膜之方法,其中如請求項18之物品係 用於以下之至少一者中: a) 太陽能技術; b) 照明應用; c) 抗反射應用;或 d) 工業應用。 一種製造多層光學膜之方法,其包含 a) 提供包含敦聚合材料之第—光學層;及 b) 提供包含氟聚合材料之第二光學層; e)將該第一光學層及該笛_ d) - 5¾ +J, ja jk ^ 〜光學層共擠成網狀物;及 乂替地層疊該等第— 形成多層膜。 學層及該等第二光學層以 如晴求項20之方法, 至少一者為雙折射的 、中第〜光學層或第二光學層中之 145536.doc
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