TW201028293A - ID cards having blocked laser engraving writability - Google Patents

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TW201028293A
TW201028293A TW098135691A TW98135691A TW201028293A TW 201028293 A TW201028293 A TW 201028293A TW 098135691 A TW098135691 A TW 098135691A TW 98135691 A TW98135691 A TW 98135691A TW 201028293 A TW201028293 A TW 201028293A
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Heinz Pudleiner
Mehmet-Cengiz Yesildag
Georgios Tziovaras
Dirk Pophusen
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Bayer Materialscience Ag
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Description

201028293 六、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明提供可利用雷射雕刻而寫入的ID卡用疊層結 構’其具有在雕刻後才被施加至卡體上的額外層，此額外 層限制或完全避免雷射雕刻對卡片的後續寫入，因此限制 或完全避免識別資訊的偽造；本發明亦提供一種經雷射雕 刻注記過之疊層結構之雷射雕刻可寫入性的封jj且方法。
【先前技術】 利用雷射雕刻來寫入塑膠薄膜是製造薄膜複合物時的 重要步驟。此些薄膜複合物是識別文件如護照、身分文件、 ID卡或k用卡的重要部分。利用雷射雕刻以黑色與白色來 1人化卡片（即，施加文字或圖像如黑白相片）是習知的。一 =而言，利肖雷射雕刻來進行個人化尤其因為其高防偽安 王哇而有別於其他技術。影像係形成於卡片的内部中，因 此無法移除該影像而產生新影像。在完全由聚碳酸酯所製 成的卡片巾’根本無法藉著將卡片分離為其單獨的膜層而 取得雷射膜層的存取。 塑膠卡片通线藉由疊加複數薄朗㈣。為了能夠 射雕刻來達Ϊ卡片的個人化，沿著整個表面將具有 層。”應添加』的薄膜叠加成為複數膜層卡結構的外部膜 在疊加完成卡片本If你 式的個人資料雷射形成=了纽及/嶋 ρ雕刻）至卡片中。但是在此之後， 201028293 具有雷射添加劑的薄膜層仍具有活性’因此後續仍可對其 提供額外的資料而竄改其内容。這個可能性開啟了後續藉 由添加資料及影像資訊而偽造識別文件(後文稱為ID文件) 的潛在風險。 因此’存在著下列需要：封阻或至少大幅地限制利用 雷射雕刻而對該些複數膜層複合物後續提供資訊，藉此姆 加安全文件較佳為ID文件的防偽安全性。 胃 【發明内容】 · 因此，本發明的目的為找到一種複數膜層複合物复 中後續的雷射雕刻可寫性受到嚴重的降低或被完全封阻、 根據本發明的此目的將以下列方式達成：提供射 =註記過的疊層結構，在被雷射雕刻註記過之後= j射或吸收1r輕射的至少-外部膜層覆蓋全部或部4 在 US 2005/0259326A1 中敘诂 7 ， 光的複數層光學薄膜。ir反應瞑；#中使用反射1R 内部（即，介於卡片中的至少其他置於薄膜複合物的❹ 射1R轄射而允許卡片識別。其亦被5物薄膜之間），以反 卡片4此申請案中並未敘述^^為VLT(可見光穿透） 層以封阻雷射雕刻可寫性。 反應薄膜作為外部膜 【實施方式】 過的疊層結構，其包 因此本發明提供一種經雷射雕刻 4 201028293 含至少一層可由雷射雕刻所註記的熱塑性聚合物層以及在 王°卩或。卩分表面上能反射或吸收IR輻射的外部層。 在此專業領域中且亦在後文中，利用雷射雕刻來註記 塑膠薄獏被簡稱為雷射註記。因此，此後，，雷射註記，，一詞 係指利用雷射雕刻來加以註記。雷射雕刻的處理係為熟知 此項技藝者所熟知且並不會與雷射印表機所為之印刷混 淆。 © 可由雷射雕刻所註記的熱塑性聚合物廣較佳地包含至 少一種雷射感應添加劑。雷射感應添加劑<適合用於暗背 景下的光雷射雕刻註記或光亮背景下的暗雷射雕刻註記或 顏色註記。較佳地為用於光亮背景下之暗雷射雕刻註記的 雷射感應添加劑 例如’適合的雷射感應添加劑為所謂的雷射雕刻註記 添加劑’即’包含欲使用之雷射波長範圍下之吸收劑的添 加劑’較佳地在ND:YAG雷射（摻鉞釔鋁石榴石雷射）的波 參 長範圍下。此些雷射註記添加劑及其在模製組成物中的用 途係敘述於 WO-A 2004/50766 及 WO-A 2004/50767 中，且 可為自於DSM以商品名Micabs®所販售的商品。適合作為 雷射感應添加劑的其他吸收劑例如為DE-A-195 22 397中 所敘述之碳黑、塗佈層矽酸鹽、以商品名Lazerflair®所販 售的商品、US 6,693,657中所敘述之摻銻的錫氧化物、以商 品名Mark-it®所販售的商品及WO-A 2006/042714中所敘 述的含磷的錫-鋁混合氧化物。 雷射感應添加劑的尺寸範圍較佳地自100 nm至10 5 201028293 μιη，尤其有利地介於500 nm至2 μιη的範圍。 最尤其較佳的雷射感應添加劑為碳黑。 在熱塑性聚合物層中的熱塑性聚合物可較佳地為選自 下列者的至少一熱塑性聚合物：乙烯性不飽和單體及/或雙 官能基反應性化合物的聚縮物及/或雙官能基反應性化合物 的聚縮物及/或雙官能基反應性化合物的聚加成物。對於某 些應用而言，可能有利地因此較佳地使用透明的熱塑性聚 合物。 尤其適合的熱塑性聚合物為以雙酚為基質的聚碳酸g旨. 或共聚碳酸酯、聚丙烯酸酯或共聚丙烯酸酯及聚曱基丙婦 酸甲酯或共聚曱基丙烯酸甲酯例如且較佳地為聚曱基丙歸 酸曱酯(PMMA)、具有苯乙烯的聚合物或共聚物例如且較佳 地為聚苯乙烯(PS)或聚苯乙烯-丙烯腈(SAN)、熱塑性聚胺基 曱酸酯、及聚烯烴例如且較佳地為聚丙烯等級或以環烯煙 為基質的聚烯烴(例如，TOPAS®，Hoechst)、聚對苯二曱酸 乙二酯或共聚對苯二甲酸乙二酯(PET或CoPET)、乙二醇 改質的PET(PETG)、乙二醇改質的聚對苯二甲酸環己二甲Ο 酯或共聚對苯二甲酸環己二曱酯(PCTG)或聚對笨二曱酸丁 二酯或共聚對苯二曱酸丁二酯(PBT或CoPBT)、萘二經酸 的聚縮物或共聚縮物例如且較佳地為聚萘二曱酸乙二醋、 至少一環烷二羥酸的聚縮物或共聚縮物例如且較佳地為聚 環己烷二羥酸環己烷二曱酯(PCCD)、聚颯(PSU)或上述者的 混合物。 較佳的熱塑性聚合物為聚碳酸酯或共聚碳酸酯或包含 6 201028293 至少一聚碳酸酯或共聚碳酸酯的混合物。尤盆 ::歹甲：的混合物:至少一聚碳酸醋或共聚她;，及J 、萘二紐或雜二紐但較佳地為環燒二 之至父一聚縮物或共聚縮物。最尤其較佳地為·尤其具 均分子量^介於至刪000，較佳地自1〇 _、至、肋 000 ’尤其較佳地自15 〇〇〇至40 _的聚碳酸 酸醋或其混合物，以及具有均分子量Mwl 1GGOJr2r〇
❹ 0⑽，較佳地自26 000至120 000的對苯二甲酸的至少一此 縮物或共聚縮物。 〃 在本發明較佳實施例中適合的對笨二曱酸的聚縮物或 共聚縮物為聚對苯二平酸伸烷酯。適合的聚對苯二甲酸伸 烷酯例如為芳香族二羥酸或其反應衍生物（例如，二曱酯或 酐)與脂肪族、環脂族或芳脂族二醇的反應產物及此些反應 產物的混合物。 “ 較佳的聚對苯二甲酸伸燒酯可自對苯二甲酸（或其反 應仿生物)及具有2至10個碳原子之脂肪族或環脂族二醇 以已知的方法（Kunststoff-Handbuch, Vol. VIII，Ρ. 695 ff., Karl-Hanser-Verlag，Munich，1973)所製造。 較佳的聚對苯二曱酸伸烷酯包含：基於二羥酸成分， 至少80莫耳百分比，較佳地9〇莫耳百分比的對苯二甲酸 基團，基於一醇成分，至少80莫耳百分比較佳地至少90 莫耳百分比的乙二醇及/或1,4-丁二醇及/或ι，4-環己烷二曱 醇基團。 較佳的聚對苯二曱酸伸烷酯除了對苯二甲酸基團外可 7 201028293 ; 包含至多20莫耳百分比之下列其他具有 8至14個碳原子 的芳香族二經酸或具有4至12個碳原子的脂肪族二羥酸， 例如鄰苯二曱酸、間笨二曱酸、2,6_萘二羥酸、4,4_聯苯二 羥酸、琥珀酸、己二酸、癸二酸、壬二酸及環己基二乙酸。 較佳的聚對苯二曱酸烯烴酯除了乙烯或匕仁丁二醇基 團外可包含至多80莫耳百分比的其他具有3至12個碳原 子的脂肪族二醇或具有6至21個碳原子的環脂族二醇，例 如1，3-丙二醇、2-乙基十3_丙二醇、新戊二醇、丨，5-戊二醇、 1,6-己二醇、1，4-環己基二曱醇、3_甲基_2,4_戍二醇、2_曱 基-2,4-戊二醇、2,2,4-三甲基]，3_戊二醇及2_乙基μ己二 醇、2,2-二乙基-1，3-而二醇、2,5_己二醇、Μ—二-⑽-經乙 氧基)苯、2,2-二(4-經環己基）丙烧、2,4_二羥基四曱 基環丁烷、2,2-二(3-[β]_羥乙氧基苯基）丙烷及2,2_二(4羥丙 氧基表基）丙烧之基團（Cf DE-OS 24 07 674, 24 07 776, 2 15 932)。 ， 例如DE-OS I9 〇〇 28〇及US-PS 3的2 744中所述，聚 對苯二甲酸烯烴酉旨可藉著包含相對少量的3_或4_元醇或3_ 或4-元羥酸而分支。較佳分支劑的實例為均笨三甲萨、 苯三曱酸、三經甲基乙燒、三經曱基丙燒及季戊四醇。 基於酸成分較佳地使用不超過1莫耳百分比的分支”， 尤其較佳地的聚對苯二曱酸伸烷酯為：僅自對笨一3 酸及其反應衍生物(例如，其二烷酯）與乙二醇及/戈^ 4 二醇及/或1,4-環己基二曱醇基團所製成的聚對笨二甲’酸·甲 烷酯及此些聚對苯二甲酸伸烷酯的混合物。 文伸 201028293 較佳地的聚對笨二曱酸伸烷酯亦為：自上述酸成 至少兩者及/或自上述醇成分的至少兩者所製成的其聚酉曰 類’尤其較佳的共聚酯類為聚對苯二甲酸乙二醋/丨，4-丁一 酯。 聚對苯二甲酸伸烷酯較佳地被用作為，在25 °C下於紛 /鄰二氣苯(1:1之重量份量）中量測到具有约0.4 J· l.5dl/g較 佳地約0.5至1.3dl/g之較佳固有黏度的成分。 & 在本發明尤其較佳的實施例中，至少一聚破酸酯或共 聚碳酸酯與對苯二甲酸之至少一聚縮物或共聚縮物的混合 物為至少一聚碳酸酯或共聚碳酸酯與聚對苯二甲酸丁二酯 或共聚對苯二曱酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二甲酸環 己基一甲醇或共聚對笨二甲酸環己基二曱醇的混合物。聚 石炭酸酯或共聚碳酸酯與聚對苯二甲酸丁二酯或共聚對苯二 曱酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二甲酸環己基二曱醇或 共I對本一甲酸環己基二甲醇的此混合物較佳地具有，1 玄90重量百分比的聚碳酸酯或共聚碳酸酯及99至1〇重量 ❿ 百分比之聚對苯二甲酸丁二酯或共聚對苯二曱酸丁二酯2 乙二醇改質之聚對苯二曱酸環己基二曱醇或共聚對甲 酸環己基二甲醇’較佳地具有1至9G重量百分比的聚碳酸 酯及99至1〇重量百分比的聚對笨二甲酸丁二酿戋乙一〜 改質之聚對笨二曱酸環己基二曱醇，其中所有百曰分比= 為100,量百分比。尤其較佳地’聚碳酸酷或共聚碳酸㊉ 與聚對苯二甲酸丁二酯或共聚對笨二曱酸丁二酯或乙二4 改質之聚對笨二甲酸環己基二曱醇或共聚對苯二甲酸= 9 201028293 基二曱醇的此混合物，可具有20至85重量百分比之聚碳 酸酯或共聚碳酸酯及80至15重量百分比之聚對苯二曱酸 丁二酯或共聚對苯二曱酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二 甲酸環己基二甲醇或共聚對苯二甲酸環己基二甲醇，較佳 地具有20至85重量百分比的聚碳酸酯及80至15重量百 分比的聚對苯二甲酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二甲酸 環己基二甲醇，其中所有百分比加總為1〇〇重量百分比。 最尤其較佳地，聚碳酸酯或共聚碳酸酯與聚對苯二曱酸丁 二酯或共聚對苯二曱酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二曱 酸環己基二曱醇或共聚對苯二曱酸環己基二曱醇的此混合 物，可具有35至80重量百分比之聚碳酸酯或共聚碳酸酯 及65至20重量百分比之聚對苯二曱酸丁二酯或共聚對苯 二曱酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二曱酸環己基二曱醇 或共聚對苯二甲酸環己基二曱醇，較佳地具有35至80重 量百分比的聚碳酸酯及65至20重量百分比的聚對苯二甲 酸丁二酯或乙二醇改質之聚對苯二甲酸環己基二曱醇，其 中所有百分比加總為100重量百分比。在最尤其較佳的實 施例中，其可為上述組成的聚碳酸酯及乙二醇改質之聚對 苯二曱酸環己基二曱酯的混合物。 在較佳實施例中適合作為聚碳酸酯或共聚碳酸酯者尤 其是芳香族聚碳酸酯或共聚碳酸酯。 聚碳酸酯或共聚碳酸酯可為線性或以已知方式分支。 可自二盼、碳酸衍生物、選擇性的鏈終結劑及選擇性 的分支劑以已知的方法製造此些聚碳酸酯。製造聚碳酸酯 201028293
的詳細内容已被許多專利說明書公開了將近40年。例如， 此處僅參考 Schnell，“Chemistry and Physics of Polycarbonates”，Polymer Reviews, volume 9，Interscience Publishers, New York, London, Sydney 1964, to D. Freitag, U. Grigo, P.R. Muller, H. Nouvertne’， BAYER AG, “Polycarbonates” in Encyclopedia of Polymer Science and Engineering, volume 11，Second Edition，1988, pages 648-718 及 Drs. U. Grigo, K. Kirchner and P. R. Mtiller “Polycarbonate” in Becker/Braun, Kunststoff-Handbuch, volume 3/1， Polycarbonate, Polyacetale, Polyester, Celluloseester, Carl Hanser Verlag Munich, Vienna 1992, pages 117-299 。 適合的二酚可例如為通式(I)所示之二羥芳基化合物， HO-Z-HO (I) 其中Z為具有6至34個碳原子的芳香族基團，其可包 含一或多個選擇性取代的芳香環及脂肪族或環脂族基團或 烷基芳基團或異質原子作為橋鏈結。 適合的二羥芳基化合物的實例為··二羥基苯、二羥基 聯苯、二(經苯)燒、二(經苯)環烷、二(經苯)芳基、二@至苯） 鍵、一(羥苯)酮、二(經苯)硫化物、二(經苯)硬、二(經苯） 二甲基亞颯、U-二(經苯)二異丙苯，及其環_烧基化與環_ 鹵化的化合物。 此些及額外適合的其他二經芳基化合物係钦述於例如 DE-A 3 832 396 ^ FR-A 1 561 518, in H. Schnell, Chemistry 201028293 and Physics of Polycarbonates, Intersceience Publishers, New York 1964, p. 28 ff. ； p. 102 ff. and in D.G Legrand, J.T. Bendler, Handbook of Polycarbonate Science and Technology, Marcel Dekker New York 2000, p. 72 ff。 較佳的二羥芳基化合物例如是：間苯二酚、4,4’-二羥 基聯苯、二(4-羥苯）曱烷、二(3,5-二曱基-4-羥苯）曱烷、二 (4-羥苯)二苯基曱烷、u-二(4-羥苯)-1-苯基乙烷、1，1_二(4-羥苯)-1-(1-萘基）乙烷、1，卜二(4-羥苯)-1-(2-萘基）乙烷、2,2-二(4-羥苯）丙烷、2,2-二(3-甲基-4-羥苯）丙烷、2,2-二(3,5-二 曱基-4·羥苯）丙烷、2,2-二(4-羥苯)-1-苯基丙烷、2,2-二(4-羥苯）六氟丙烷、2,4-二(4-羥苯)-2-曱基丁烷、2,4-二(3,5-二 曱基-4-羥苯)-2-曱基丁烷、1,1-二(4-羥苯）環己烷、1，1_二 (3,5-二曱基_4_羥苯）環己烷、1，1_二（4-羥苯）-4-曱基環己 烧、1，3-二[2-(4-羥笨)-2-丙基]苯、1，1、二（羥笨)-3-二異丙 苯、1，Γ-二(4-羥苯)_4_二異丙苯、1，3-二[2-(3,5-二甲基-4-羥苯)-2-丙基]苯、二(4_羥苯)醚、二(4-羥苯)硫化物、二(4_ 經苯）砜、二（3,5-二曱基-4-羥苯μ風及2,2，，3,3，-四氫® -3,3,3’，3’-四曱基螺二·[旧^小以’晒二醇，或通式(Ia) 之二羥聯苯環烷。
其中 12 201028293 R與R2分別代表氫、鹵素較佳地為氯或溴、 基、Cs-Q環烷基、CVCio芳基，較佳地為苯基及<：7_(：12芳 炫基，較佳地為苯基-CVCV烷基，尤其是苯曱基， m代表自4至7，較佳地為4或5的整數， R3與R4可針對每一個X單獨分別選擇，分別代表 CrC6烷基，且 一 X代表碳，
但疋在至少一個X原子上的R3與R4同時代表烧基。 較佳地在通式(la)中，在一或兩個X原子上尤其僅在一個χ 原子上的R3與R4同時代表烷基。 在通式(la)中基團R3與R4的較佳烷基團為甲臭。在以 位置至聯苯取代C原子(CM)間的χ原子較佳地非^二烷基 取代；另一方面，烷基較佳地分佈在β位置至cq門土 通式⑽尤其較佳的二經二苯基環燒為該些在^脂族 中具有5與6環破原子X者(在通式(Ia)中㈣ 通式(Ia-Ι)至(la-3)的雙酚， } 13 201028293
HO
OH
通式(la)最尤其較佳的二羥二苯基環烷為1,1-二(4-羥 苯)-3,3,5-三曱基烷己烷（具有R1與R2等於氫原子的通式 (Ia-Ι))。 根據EP-A 359 953，此類聚碳酸酯可自通式(la)的二羥 二苯基環烷所製成。 尤其較佳的二羥芳基化合物為苯二酚、4,4’-二羥基-二 苯、二(4-羥苯)二苯基甲烷、1，1-二(4-羥苯)-1-苯基乙烷、 二(4-羥苯)-1-(1-萘基）乙烷、二(4-羥苯)-1-(2-萘基）乙烷、2,2-二(4-羥苯）丙烷、2,2-二(3,5-二甲基-4-羥苯）丙烷、1,1-二(4-羥苯)環己烷、1,1-二(3,5-二甲基-4-羥苯)環己烷、1,1-二(4-羥苯)-3,3,5-三甲基環己烷、1,1’-二(4-羥苯)-3-二異丙苯及 1，1’-二(4-羥苯)-4-二異丙苯。 最尤其較佳的二羥芳基化合物為4,4’-二羥二苯基及 14 201028293 2,2-二(4-羥苯）丙烷。
可使用形成均聚碳酸S旨的-種二經芳基化合物，或形 成共聚御請的數種二歸基化合物。可使肖形成均聚碳 酸醋之通別I)或(1咖二料基化合物，或形成共聚碳酸醋 之通式(I)及/或(la)之數種二羥芳基化合物。在此情況下， 數種二羥芳基化合物可隨機地或以塊狀方式連接在一起。 在通式（I)與（la)之二羥芳基化合物的共聚碳酸酯的情況 下，通式(la)之二羥芳基化合物與亦可選擇性地被使用的其 他通式⑴一經芳基化合物的莫耳比係較佳地介於99莫耳百 分比(la)比1莫耳百分比(1)及2莫耳百分比(1幻比卯莫耳百 分比(I)之間，較佳介於99莫耳百分比(1幻比i莫耳百分比 ⑴及10莫耳百分比(Ia)至90莫耳百分比(I)之間且尤其介於 99百分比⑽比！莫耳百分比⑴及3〇莫耳百分比⑽比7〇 莫耳百分比(I)之間。 ^最尤其較佳的共聚碳酸酯可利用通式(la)與(I)之二羥 方基化合物1，1_二(4-羥苯)_3,3,5-三甲基環己烷及2,2 羥苯）丙烷所製成。 適^的碳酸衍生物可例如為通式(11)的二芳基碳酸酯，
、其^ R、R’及R’’為彼此獨立的相同或不同基團，可分 別代表，、線性m的CrC34祕、C：7-C：34炫基芳基或 Q-C34芳基，此外尺亦可代表{〇〇_以，，，，其中尺，，，代表氳、 線性或分支的Cl~C34垸基、C7-C34炫基芳基或C6-C34芳基。 15 201028293 較佳的二芳基碳酸醋例如為：碳酸二苯醋、甲基苯碳 酸苯醋、碳酸二（曱基苯)醋、4-乙基笨基碳酸苯醋、碳酸二 (4-乙基苯)g旨、4-正-丙基苯基碳酸苯醋、碳酸二(4-正_丙基 苯)酯、4-異丙基苯基碳酸笨酯、碳酸二(4-異丙基苯)醋、4_ 兵丁基 正-丁基苯基碳酸苯酯、碳酸二(4-正-丁基苯）酯、 苯基碳酸苯酯、碳酸二(4-異丁基苯)酯、4-第三丁基苯基碳 酸苯酯、碳酸二(4-第三丁基苯）酯、4-正·戊基苯基碳酸笨 酯、碳酸二(4-正-戊基苯）醋、4-正-己基苯基碳酸苯醋、二 破6文(4-正-己基苯）g旨、4-異辛基苯基碳酸苯醋、碳酸二(‘ 異辛基苯）酯、4-正-壬基苯基碳酸苯酯、碳酸二(4_正_壬基 本）S曰4-環己基本基碳酸苯醋、碳酸二⑷環己基苯)自旨、4_(ι_ 甲基-1-苯基乙基）笨基碳酸苯酯、碳酸二[4 (1甲基_丨·苯基 乙基）苯]酯、4-聯苯碳酸苯酯、碳酸二(4_聯苯）酯、4_(1•萘 基）苯基碳酸苯酯、4_(2_萘基)苯基碳酸苯酯、碳酸二[^(卜 f基)苯]酯、碳酸二[4_(2_萘基)苯酯、4_苯氧苯基碳酸苯酯、 石反酸二(4=氧苯)醋、3_十五烧基苯基石炭酸苯醋、碳酸二(3_ 十五=基苯)酯、4_三苯曱基苯基碳酸苯酯、碳酸二三苯 ^基苯）酯、柳酸曱酯碳酸苯酯、二(柳酸曱酯）碳酸酯、柳 二乙8曰碳酉夂笨酿、二(柳酸乙酿)碳酸醋、柳酸正丙醋碳酸苯 =、—(柳酸正丙酯）碳酸酯、柳酸異丙酯碳酸苯酯、二(柳 ^異丙酉曰>反酸酉旨、柳酸正丁醋碳酸苯醋、二⑽酸正丁醋） Z醋、柳酸異丁醋碳_、二(柳酸異丁醋)碳酸醋、柳 二—丁知奴酸苯酯、二(柳酸第三丁酯）碳酸酯、二(柳酸 本酉旨)碳酸醋及二(柳酸笨甲醋)碳酸酿。 16 201028293 基苯基碳酸苯酯、碳酸_ 酉旨 t芳基化合物為：碳酸二苯酯、4-第三丁 醋、碳酸二筐二τ苴+、作 * 一从,u〇 酉复二(4-第三丁基苯）g|、4_旒艾瑞醴芏
酯、 一… 醋。 —1笨基乙基）苯酯及二(柳酸甲酯)碳酸 最尤其較佳的是碳酸二苯酯。 可使用-種二芳基碳酸酯或多種二芳基碳酸醋。 〇 控制或改質終端基團，可額外地使用例如一或多
，早經芳基化合物作為鏈終結劑，其被用於製造所用的二 芳基碳酸醋。此些者可為通式(III)的化合物， R代表線性或分支的CrC34烷基、c7_c34烷基芳基、 C6_C34芳基或_C00_rD，其中rD代表氫、線性或分支的 Cl_C34B燒基C7-C34烷基芳基、C6-C34芳基，且 、R、R彼此獨立地為相同或不同，分別代表氫、線性 或分支的CrC3道基、C7_c34絲芳基或cvc34芳基。 一此類的單羥芳基化合物例如是丨…]-或3_甲基酚、2,4_ 甲基恥4-乙基紛、4-正-丙基紛、4-異丙基紛、4_正-丁 基紛、4-異丁基酚、4_第三丁基酚、‘正-戊基酚、4_正-己 基紛、4-異辛絲、4_正_壬基紛、3叶五统基盼、心環己基 =、Ml-曱基]苯基乙基)盼、4_苯基紛、心笨氧基紛、4_(卜 奈基)酚、4-(2-萘基)酚、4_三苯甲基酚、柳酸甲酯、柳酸乙 17 201028293 酯、柳酸正丙酯、柳酸異丙酯、柳酸正丁酯、柳酸異丁酯、 柳酸第三丁酯、柳酸苯酯及柳酸苯曱酯。 較佳的是4·第三丁基酚、4-異辛基酚及3-十五烷基酚。 適合的分支劑可為具有三與更多官能基團的化合物， 較佳地具有三或更多的羥基團。 具有二或更多齡經基團的適合化合物例如為間苯三 酚、4,4-二曱基_2,4_6_三（4_羥笨基庚烯_2、4,6_二曱基 -2，二，6-三(4-羥苯基)庚烷、丨，3,5_三(4_羥苯基）苯、丨山^三(4· 羥苯基）乙烷、三(4-羥苯基）苯基曱烷、2,2_二[4,4_二(4_羥苯 基)環己基]丙烷、2,4-二(4-羥苯基異丙基)酚及四（4-羥苯基） 甲烷。 具有二及更多官能基團之其他適合化合物例如是2,4-二羥基笨甲酸、均苯三甲酸(三氣化物）、三聚氰酸氯化物及 3,3-二(3-甲基_4_羥苯基)_2_幾基_2,3_二羥吲哚。 較佳的分支劑為3,3_二(3-曱基-4-羥苯基)-2-羰基-2,3-二羥吲哚及1，1，1_三(4-羥苯基）乙烷。 反射或吸收IR輻射的外層較佳地對於自8〇〇至12〇〇 © nm波長範圍内，較佳地自85〇至11〇〇 nm，具有不大於 20%，較佳地不大於15%，尤其較佳地不大於1〇%的輻射 穿透率。反射或吸收IR輻射的外層對於4〇〇至7〇〇 nm波 長範圍内亦具有大於60%，較佳地大於7〇%的穿透率。穿 透率係根據ASTM D 1003所測定。 反射或吸收IR輻射的外層可較佳地包含至少一種IR 吸收添加劑。在此處可較佳地考慮有機的IR吸收添加劑。 201028293 適合的有機IR吸收添加劑為在700至1500 nm間（近紅外 線=NIR)間具有最高可能吸收率的化合物。適合的實例為文 獻已知的遠紅外線吸收劑，例如根據M. Matsuoka，Infrared
Absorbing Dyes, Plenum Press，New York，1990 中之物質族 群所述者。尤其適合的為來自下列者的物質族群··含偶氮、 偶氮曱喊、次甲基、蒽覼、藍蒽親、皮蒽酮、黃蒽酮、苯 嵌蒽酮、酞菁藍、茈、二噁嗪、異吲哚啉、異吲哚啉酮、 ❹ ❹ 喹吖啶酮红、吡咯並吡咯或喹吖酞酮顏料及偶氮、偶氮甲 碱或次曱基染料的金屬錯合物或偶氮化合物的金屬鹽。其 中，酞菁藍及萘酞菁為最尤其適合者。由於其在熱塑性聚 合物中的較佳可溶性，具有A體積縣團祕菁藍及 菁為較佳者。 至於在反應或吸收IR輻射之外層中所包含之IR吸收 =的添加劑含量，只要能保證期望的ir輻射吸收率及 ;、透明度’對其含量並無特別限制。已證明若基於反 ΐίΓΐIR1 畐射之外部膜層的組成總重，反應或吸收ir ο οΓ至包含0.0001至10重量百分比尤其自 =用ί IR，添加劑的混合物。熟知此項技藝者 化近红外！图長乾圍下有不同最大吸收率的染料來最佳 化近、、工外線範圍下的吸收率。 反射或吸收IR輻射的此類薄片 面上購得。 々及溥馭為已知且可自市 反射或吸收m韓射的外層亦較佳地可為多層結構，最 19 201028293 多層聚合物層的共擠出所製成的 多層先子干_。此祕於㈣IR|^ 佳層由於光干涉而具有狹㈣反射制。 #膜的較 此些多層膜係較佳地自透明熱塑性聚合物的數層平行 膜層所建立’上述的熱紐聚合物係適合用於此，直接相 鄰之層係為不同的熱塑性聚合物且彼此間的折射係數差異 至少為0.03,尤其較佳地差異至少為〇〇 型數 膜層薄膜較佳地包含至少10層。 複數 多層膜中的各層較佳地極薄而具有約3〇至5〇〇11111，較❹ 佳地約50至400 nm的膜層厚度範圍，這導致在許多介^ 處反應的光波的強化干涉。根據熱塑性聚合物 及折射係數，主要的波長段會被反射但剩餘的光會; 膜。 反射光的量（反射率）取決於兩折射係數間的差異、薄膜 之光學厚度的比例、薄膜的數目及薄膜厚度的均勻性。 為熟知此項技藝者所知的此類複數膜層薄膜係敘述於 例如 US 3,610,729、US 3,711,176、US 4,446,305、美國專❹ 利 4,540,623、US 5,448,404、US 5,882,774、US 6,531,230、 美國專利 6,783,349、WO-A 99/39224 及 WO-A 03/100521。 根據本發明的疊層結構較佳地具有包含至少一熱塑性 聚合物及至少一填充劑（填充層）的至少一膜層。上述之熱塑 性聚合物適合用作為此用途之熱塑性聚合物。 填充層中的填充劑較佳地為至少一有色顏料及/或至少 一其他填充劑以產生半透明的填充層，較佳地為二氧化 20 201028293 鈦、二氧化锆、硫酸鋇或玻璃纖維，尤其較佳地為二氧化 鈦。 用以製造的填充層及填充薄膜較佳地在可見光波長範 圍380 nm至780 nm下具有少於50%穿透率，尤其較佳地 具有少於25%穿透率，最尤其較佳地實施例為具有少於 15%穿透率。 在熱塑性聚合物例如藉由被擠出或共擠出而塑形成塑 ❹ 膠薄膜前’基於填充劑與熱塑性聚合物的總重，將上述填 充劑較佳地以自2至45重量百分比的量尤其較佳地以自5 至30重1百分比的量而添加至熱塑性聚合物中。 在本發明的較佳實施例中，填充層可包含其他資訊。 可例如藉由傳統的印刷技術如喷墨、平版印刷或雷射印刷 而施加此其他資訊。 根據本發明的疊層結構可包含其他額外層，藉此可例 如將其他資訊導入至安全文件較佳地為識別文件中。 ❹ 』例如，此其他資訊可為個人照片或非個人化的一般資 。礼’其係以相同的形式而被包含於例如相同類型的任何安 全文件較佳地為識別文件中。 例如可自先前已利用傳統印刷方式較佳地為噴墨或雷 此風道】尤其較佳地為彩色印刷而具有此資訊的薄膜而將此 二入根據本發明的疊層結構中。 技蓺者^、'二由噴墨印刷方法而被印刷的薄膜已為熟知此， 成，、琴斤知且例如可由上述的至少一熱塑性聚合物所製 擇性地包含上述的至少一填充劑。在尤其較佳的實 21 201028293 施例中，為了達到印刷資訊的更佳讀取性，使用利用填充 劑如二氧化鈥、二氧化鍅、硫酸鋇等而上色成白色或半透 明的塑膠薄膜。 針對欲被雷射印刷尤其被彩色雷射印刷的薄膜，尤其 適合的塑膠薄膜係由上述熱塑性聚合物的一者所製成且具 有107至1013Ω較佳地具有1〇8至ι〇ΐ2Ω的表面電阻率。單 位為Ω的表面電阻率係根據din IEC 93所測定。 此些者較佳地可為其中具有選自下列者之添加劑的薄 膜：部分氟化或過氟化有機酸的第三級或第四級較佳地為© 第四級銨或鱗或六氟磷酸第四級銨或鱗、較佳地為部分氟 化或過氟化烷基磺酸、較佳地為過過氟化烷基磺酸；添加 劑被添加至熱塑性聚合物中以達到表面電阻率。 較佳的適合第四級銨或鱗鹽為： •過氟辛烷磺酸四丙基錄鹽 -過氟丁烷磺酸四丙基銨鹽 -過氟辛烷磺酸四丁基銨鹽 -過氟丁烷磺酸四丁基銨鹽 〇 -過氟辛烷磺酸四戊基銨鹽 -過氟丁烷磺酸四戊基鍈鹽 -過氟辛烷磺酸四已基銨鹽 -過氟丁烷磺酸四己基銨鹽 -過氟丁烷磺酸三甲基新戊基銨鹽 -過氟辛烷磺酸三甲基新戊基銨鹽 -過II 丁炫•續酸二曱基二新戊基銨鹽 22 201028293 過氟辛烧橫酸二甲基二新戊基銨鹽 _過氟丁基磺酸-正-甲基三丙基銨 過氟丁基磺酸•正•乙基三丙基銨 -過氟丁基磺酸四丙基録 -過氟丁基續酸二異丙基二曱基銨 _過氟辛基續酸二異丙基二曱基錢 _過氟辛基續酸-正-甲基三丁基銨 -過氟辛基績酸環己基二乙基曱基銨 _過氟辛基橫酸環己墜三甲基按 及相對應的磷鹽。較佳的為銨鹽。 亦可杈佳地使用-或多種上述第四級錄或鱗混 合物）。 最尤其較佳的是過氟辛烷磺酸四丙基銨鹽、過氟辛垸 磺酸四丁基銨鹽、過氟辛烷磺酸四戊基銨鹽、過氟辛烷磺 酸四己基銨鹽及過氟辛烷磺酸二曱基二異丙基銨鹽及對應 的過氟辛烷磺酸鹽類。 在最尤其較佳地的實施例中，可使用過氟丁烷磺酸二 甲基二異丙基銨鹽（過氟丁基磺酸二異丙基二甲基銨)作為 添加劑。 ~ 上述的鹽類為已知且可藉由已知方法所製成。磺酸鹽 類例如:藉著在室溫下將等莫耳量的自由磺酸及羥基形g 的對應陽離子加入水中並濃縮溶液所備製。其他製造方法 例如敘述於 DE-A 1 966 931 與 NL-A 7 802 830 中。 在例如以擠出或共擠出方法將熱塑性聚合物塑形成塑 23 201028293 膠薄膜前’較佳地以0.001至2重量百分比的量較往地以 0.1至1重量百分比的量將上述鹽類添加至熱塑性聚合物 中〇 根據本發明的疊層結構亦可包含具有UV保護剩、可 防止機械損傷的其他額外層如抗刮塗層。 根據本發明的疊層結構可例如以下列方式所製造： •將除了反射或吸收IR輻射之外層外之對應至^層的 薄膜以薄膜堆疊形式放置並疊合成層狀複合物Γ -將欲藉由雷射雕刻施加至疊合之層狀複合物上的資 „ ’較佳地為個人化資料或資訊’以雷射註記方式 導入層狀複合物中，及 冰/接著藉由接合及/或疊^施加反射錢收IR輻射的 夕卜層。 尤1較結構較佳地適合用來增加安全文件 結構最尤其適合用來增性。根據本發明的疊層 複合膜層形式的識別文件的防 識別卡片、護照、駕照、作田上 二卡片例如疋 其他識敎件等。在1料、銀仃卡、縣控制卡或 膜層、具有安全特徵心=下較佳的識!!文件為複數 文件。此些安全特徵部可能照#、生物貞料等的平坦 的。此類的識別文件較佳見的或至少可由外部探詢 寸。此類的識別文件亦可為^"介於支票與護照間的尺 亦包含紙張或硬紙卡件的—部分’例如在 丨之邊照巾由塑膠所製成的識別文 24 201028293 件。 因此本發明亦提供-種安全文件較佳地為識別文件， 其包含至少一根據本發明之雷射註記的疊層结構。 在利用雷射雕刻將疊層結構，較佳地為安全文件或識 別文件個人化後’获射或錄IR歸的外層施加至疊層 結構的整個或部分表面上，以避免後續利用雷射_施加 變造的個人化資料因而增加防偽安全性。 ❹ 目此本發明亦提供-種封隨雷刻註記過之疊層結構 之雷射可註記㈣方法，特徵在於：提供包含至少_層可 由雷射註記之熱塑性聚合物層的經雷射註記後的疊層結 構’在雷射註記後’施加反射或吸收汉輪射的外層於^個 或部分表面上。 在本發明的架構下，封阻雷射可註記性表示大幅降低 更進一步的雷射可註記性及完全避免更進—步的雷射可記 註性。 在雷射註記後，以薄膜形式較佳地以多層膜形式，尤 其較佳地以多層光學干涉薄膜形式將反射或吸收IR輻射的 外層施加至經雷射註記的疊層結構上。 此應用可利用黏著劑及/或疊合方式來實現，在藉由聂 合方式實現的應用中可藉由黏著劑的協助或完全不使用^ 著劑。 - 在使用黏著劑方式實現的應用_，最尤其較佳地使用 潛伏反應性黏著劑。 潛伏反應性黏著劑為熟知此項技藝者所知。較佳的潛 25 201028293 伏反應性黏著劑為涉及水性分散液者，其包含溶點或軟化 點大於3〇°的二或聚異氰義及對聽㈣具有反應性的 聚合物。此類的水性分散液較佳地具有至少2〇〇〇 mPas的 黏度。在此分散液中較佳之對異氰酸g|具有反應性的聚合 物為自結晶化聚合物鏈所建構的聚胺甲酸酯，根據熱機械 分析(TMA)所測得之部分或完全結晶破壞溫度係低於+ 11〇 °C較佳地低於+90°C。TMA之測量係依類似IS〇 11359第 3部「測定摻透溫度」之作法進行。二_或聚異氰酸酯亦較❿ 佳地係選自於由二聚產物、三聚產物及TDI(曱苯二異氰酸 醋）或IPDI(異佛爾_二異氰酸酯）之尿素衍生物所構成的族 群。此類的潛伏反應性黏著劑係例如敘述於DE_a 1 〇 2007 054 046。 經由使用此些潛伏反應性黏著劑，由於水氣及/或空氣 無法經由疊層結構的邊緣擴散進入内部因此無法後續的脫 層，故可額外地增加防偽安全性。不經破壞便無法分離此 些疊層結構。因此，在不破壞整個安全文件或識別文件的 情況下便無法分離反射或吸收IR輻射的外部膜層。又，相 同的原理亦適用於利用疊合方式所施加之反射或吸收瓜輻 射的外部膜層。’ 使用反射或吸收IR輪射之膜來封阻已經雷射註記之疊 層結構，較仏地為女全文件尤其較佳地為識別文件的雷射 可註記性並非過去已知的，因此由本發明提出。 下列實例藉由例示方式來解釋本發明但並應被解讀為 本發明之限制。 26 201028293 實例 用於根據本發明之尋層士 薄膜1-1 :白色埴斧.缉膜 以溶融溫度約為280 °c的擠出方式製造厚度為1〇〇μιη 的聚碳酸s旨薄膜，此薄膜係以來自Ba㈣MateHaiScie· AG的Makrolon 3108®聚碳酸酯及作為白色顏料填充劑之 二氧化鈦（來自Kr〇nos Titan之Kr〇nos® 2230)作為基質且組 0 成為85重量百分比的Makrolon 3108®與15重量百分比的 二氧化鈦。 AM. 1-2..:白色填充蓮膜 製造出組成與薄膜Μ相同的厚度4〇〇 μιη的薄膜。 薄膜2 :可雷射雕刻之薄瞪 以熔融溫度約為280 QC的播出方式製造厚度為5〇 μιη 的聚石厌Ssl S日薄膜’此薄膜係以來自Bayer MaterialScience AG的Makrol〇n3108®聚碳酸酯及作為雷射感應添加劑之 ❿ 平均粒子尺寸為95 nm的碳黑（來自Degussa之Flamrufl 101) 作為基質。為此目的，使用下列化合物：85重量百分比的 Makrolon 3108®與15重量百分比之具有組成為99.004重量 百分比之Makrolon 3108®與0.006重量百分比（60 ppm)之碳 黑的母料。 薄腺3 :透明薄膜 以熔融溫度約為280 °C的擠出方式製造厚度為50 μηι 的聚碳酸酯薄膜，此薄膜係以來自Bayer MaterialScience AG的Makrolon 3108®聚碳酸酯作為基質。 27 201028293 薄膜4 : IR反射薄膜 使用來自3M (3M Vikuiti®透明卡jR濾膜)的市售iR反 射薄膜。其為在85〇至1100 nm波長範圍内穿透率小於 20%(根據ASTMD 1003所測定）的透明IR反射薄膜。； 實例1:製造雷射可寫入之疊層結構 、 自上述所列的薄膜以下方所列者疊合產生ID卡形 雷射可寫入之疊層結構： 式1的 (1) 薄膜 3 : 50 μιη (2) 薄膜 2 : 50 μιη (3) 薄膜 1-1 : 100 μιη (4) 薄膜 1-2 : 400 μιη (5) 薄膜 1-1 : 100 μιη (6) 薄膜 2: 50 μιη (7) 薄膜 3 : 50 μηι 選擇對稱之疊層結構卡片以防止卡片彎折。 為此目的，以上述順序形成堆疊薄膜旅以下列夂 Btirkle疊合壓製設備上進行疊合： > 歎在 -預熱壓製設備至170-180 〇e -在15N/cm2的壓力下壓製8分鐘 •在200 N/cm2的壓力下壓製2分鐘 -將壓製設備冷卻至38 〇c並開啟壓製設備。 =2:在m反射薄膜上製造黏著塗膜以後續疊合至此如 使用上述的薄獏4作為IR反射_。 28 201028293 分： 為了製造用於黏著塗膜用的黏著分散液，使用下列成 A) _聚胺基曱酸酯分崙该: 具有固體含量約45重量百分比的的聚胺基曱酸酯分散 液；在水中有線性聚胺基甲酸酯鏈之對異氰酸酯有反應性 的聚合物
B) 增稠劑:Borchi® Gel L 75 N ❹ 非離子性、液態、脂肪族、以聚胺基曱酸酯為基質的 增稠劑：在23 °C下的黏度大於9000 mPas ;非揮發性成分 為50重量百分比 C) 去活性之聚異氰酸酯:Dispercoll®BLXP2514 在水中的表面去活性TDI-脲二酮(TDI二聚物），具有 約4〇重量百分比的固體含量。 為了製造黏著劑分散液，首先將7重量份的增祠劑B) 添加至700重量份的聚胺基曱酸酯分散液A)並同時搜 增加黏度。 1 接著將10重量份的去活性聚異氰酸酯c)添加至 重里伤的此增稠劑分散劑中並同時授拌，以獲得水性分、 接下來，利用繞線塗佈棒將此黏著劑分散液塗佈至I 反射薄膜上，黏著劑分散液的濕膜厚度為100μιη，因此 得乾膜厚度約為30 μιη。後續，在乾燥箱中約35 下= 膜乾燥90分鐘後便備妥以用於疊層令。 主 實例3 29 201028293 在第一疊合步驟中將實例1中所製造之ID卡之膜層（1) 的左半部與自實例2之塗有黏著劑的反射薄膜疊合。 為此目的’在具有下列參數的Btirkle疊合壓製設備上 進行疊合： 預熱壓製設傷至9〇〇c •在15N/cm2的壓力下壓製8分鐘 •將壓製SX備冷卻至38 〇c並開啟壓製設備。 實例4 在自實例3之半邊塗有IR反射薄膜的仍卡上，在F〇ba Ο 雷射設備上以下列參數來進行雷射雕刻： 雷射媒體：Nd:YAG 波長：1064 nm 功率：40瓦 電流：30安培 脈波頻率：14 kHz 進料速率：200毫米/秒 在雷射雕刻期間，僅將資訊寫至Π)卡的雷射可寫薄膜❹ 層（膜層（2))上。欲以雷射雕刻寫入雷射可寫膜層的女士完 整照片為資訊。可得到下列結果： 在ID卡上疊合有IR反射薄膜的左半側上，無法在雷 射可寫薄膜層上進行雷射雕刻。在右手側’可將高對比的 右半邊臉寫入至雷射可寫膜層，其證明了雷射膜層的基本 可寫性。 因此，根據本發明的結構提供了下列可能性：在以雷 30 201028293 射雕刻個人化ID卡後，藉著施加反射或吸收IR輻射的外 部膜層來防止後續的雷射雕刻。 【圖式簡單說明】 無 【主要元件符號說明】 31

Claims (1)

  1. 201028293 七 申請專利範圍： 1. 一種經雷射雕刻註記的疊層結構，其包含： 至^ -可利用雷射雕刻加以註記的熱塑性聚合物層；及 位於整個或部分細上之反射或錄ir輻射的外層。 2. 如申请專利範圍第i項之經雷射雕刻註記的疊層結 構’其特徵在於該可彻雷射_加以註記的熱塑性聚 合物層包含至少一雷射感應添加劑。 3. 如申請專利範圍第2項之經雷射雕刻註記的疊層結❹ 構，其特徵在於該雷射感應添加劑為碳黑。 4. 如申請專利範圍第1至3項中至少一項之經雷射雕刻註 記的疊層結構，其特徵在於該可利用雷射雕刻加以註記 的熱塑性聚合物層的熱塑性聚合物為選擇下列者的至 少一熱塑性聚合物： 乙烯性不飽和單體及/或雙官能基反應性化合物的 聚縮物及/或雙官能基反應性化合物的聚縮物及/或雙官 能基反應性化合物的聚加成物’較佳地為以雙酚為基質〇 的聚碳酸酯或共聚碳酸酯、聚丙烯酸酯或共聚丙烯酸 酯、聚曱基丙烯酸曱酯或共聚曱基丙烯酸曱酯、具有苯 乙烯的聚合物或共聚物、聚胺基甲酸酯、及聚烯烴、對 苯二甲酸的聚縮物或共聚縮物、萘二羥酸的聚縮物或共 聚縮物、至少一環烧二經酸的聚縮物或共聚縮物、聚礙 或其混合物，尤其較佳的是以雙酚為基質的一或多種聚 碳酸酯或共聚碳酸酯或包含至少一聚碳酸酯或共聚碳 32 201028293 酸醋的混合物。 5.如申請專利範圍第1至4項中至少一項之經雷射雕刻註 記的疊層結構，其特徵在於該反射或吸收IR輻射的外 層對於自800至1200 nm波長範圍内，較佳地自850至 1100 nm波長範圍内，具有不大於2〇〇/0，較佳地不大於 15%，尤其較佳地不大於1〇%的穿透率；且對於自4〇〇 至700 nm波長範圍内具有大於60%，較佳地大於70% ❹
    的穿透率。 6.如申請專利範圍第丨至5項中至少一項之經雷射雕刻註 記的疊層結構，其特徵在於該反射或吸收IR輻射的外 層係由夕層結構所構成，較佳地係由多層光學干涉膜戶 構成。 ^申明專利範圍第1至6項中至少一項之經雷射雕刻註 «己的疊層結構，其特徵在於該疊層結構具有包含至少一 熱塑性聚合物及至少—填充物的至少—層（「填充層」）。 8m專利範圍第7項之經雷射關註記的疊層結 徵在於該填充物為彩色顏料或另—填充物以製 域層之透明性，較佳的填充物為二氧化鈦、二 虱化鍅、；ε瓜酸鋇或玻璃纖維。 9 種文全文件’較佳地為識別文 範圍第1至8項中至少, 甲°月專利 疊層結構。、 1之至〉、一經雷射雕刻註記的 種封阻經雷射雕靠記之4層結狀雷射可註記性 33 % 201028293 的方法’其特徵在於：提供包含至少一層可由雷射雕刻 所註記之熱塑性聚合物層的經雷射雕刻註記的疊層結 構’在雷射雕刻註記後，施加反射或吸收IR輻射的外 層於整個或部分表面上。
    11.如申請專利範圍第1〇項之方法，其特徵在於在雷射雕 刻註記後，利用黏著劑或疊合方式將薄膜形式，較佳地 為多層薄膜形式，尤其較佳地為多層光學干涉膜形式之 反射或吸收IR輻射的外層施加至經雷辦雕刻註記的疊 層結構上。。 12·如申請專利範圍第Π項之方法，其特徵在於該黏著劑 為潛伏反應性黏著劑。 13. —種反射或吸收IR輻射之薄膜用以封阻經雷射雕刻註 記後之疊層結構被雷射雕刻再次註記的用途，較佳的最 層結構為安全文件、尤其較佳地為識別文件。
    34 201028293 四、指定代表圖： (一) 本案指定代表圖為：第（無）圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明： 無 五、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 無
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