BR112020012247A2 - películas plásticas para documentos de id com melhor clareza de hologramas em relevo - Google Patents
películas plásticas para documentos de id com melhor clareza de hologramas em relevo Download PDFInfo
- Publication number
- BR112020012247A2 BR112020012247A2 BR112020012247-5A BR112020012247A BR112020012247A2 BR 112020012247 A2 BR112020012247 A2 BR 112020012247A2 BR 112020012247 A BR112020012247 A BR 112020012247A BR 112020012247 A2 BR112020012247 A2 BR 112020012247A2
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- poly
- layer
- dicarboxylic acid
- copoly
- layered structure
- Prior art date
Links
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 title description 25
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 title description 20
- 239000012815 thermoplastic material Substances 0.000 claims abstract description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 17
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 161
- -1 polypropylene Polymers 0.000 claims description 123
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 91
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 59
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 56
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 claims description 49
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 claims description 47
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 claims description 46
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 claims description 46
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 claims description 46
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 43
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 40
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 36
- 229920005644 polyethylene terephthalate glycol copolymer Polymers 0.000 claims description 36
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 35
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 claims description 31
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 30
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 30
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 claims description 28
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 claims description 25
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 24
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 claims description 23
- OTSSKELQKOKVFV-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl naphthalene-1-carboxylate Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)OCCO)=CC=CC2=C1 OTSSKELQKOKVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 21
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 20
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 claims description 19
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 17
- KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C21 KYTZHLUVELPASH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 15
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 14
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 14
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 claims description 12
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 claims description 12
- FQXGHZNSUOHCLO-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4-tetramethyl-1,3-cyclobutanediol Chemical compound CC1(C)C(O)C(C)(C)C1O FQXGHZNSUOHCLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 claims description 11
- 239000004433 Thermoplastic polyurethane Substances 0.000 claims description 11
- LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N [3-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCCC(CO)C1 LUSFFPXRDZKBMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 claims description 11
- 229920002397 thermoplastic olefin Polymers 0.000 claims description 11
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims description 11
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N naphthalene-acid Natural products C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 9
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 8
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 7
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 6
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 6
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 claims description 5
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000000041 C6-C10 aryl group Chemical group 0.000 claims description 5
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 5
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 5
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 4
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 4
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 3
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 claims description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 claims 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims 2
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical class COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hcl hcl Chemical compound Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 abstract description 20
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 26
- 238000004049 embossing Methods 0.000 description 22
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 21
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 14
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 14
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 13
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 13
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000005028 dihydroxyaryl group Chemical group 0.000 description 12
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 10
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 10
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 9
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1 ABMFBCRYHDZLRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 7
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 7
- DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-dicarboxylic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1C(O)=O DFFZOPXDTCDZDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-N perfluorooctane-1-sulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F YFSUTJLHUFNCNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 1-[2-(2,4-dichlorophenyl)pentyl]1,2,4-triazole Chemical compound C=1C=C(Cl)C=C(Cl)C=1C(CCC)CN1C=NC=N1 WKBPZYKAUNRMKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 6
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 6
- NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 NEQFBGHQPUXOFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000006085 branching agent Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 5
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- QPGBFKDHRXJSIK-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butylbenzene-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=C(C(O)=O)C=CC=C1C(O)=O QPGBFKDHRXJSIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 3-Pentadecylphenol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(O)=C1 PTFIPECGHSYQNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XKACUVXWRVMXOE-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-carboxyphenyl)propan-2-yl]benzoic acid Chemical compound C=1C=C(C(O)=O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 XKACUVXWRVMXOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 4
- ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N diphenyl carbonate Chemical compound C=1C=CC=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ROORDVPLFPIABK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000010147 laser engraving Methods 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 4
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 4
- WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 4-(4-carboxyphenoxy)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1OC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 WVDRSXGPQWNUBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 238000010330 laser marking Methods 0.000 description 3
- 238000007648 laser printing Methods 0.000 description 3
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 150000003504 terephthalic acids Chemical class 0.000 description 3
- DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N tetrabutylammonium Chemical compound CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DZLFLBLQUQXARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N tetrapropylammonium Chemical compound CCC[N+](CCC)(CCC)CCC OSBSFAARYOCBHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1Cl RFFLAFLAYFXFSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RQTVIKMRXYJTDX-UHFFFAOYSA-N 1-(4-methylphenyl)sulfonyl-4-phenylpiperidine-4-carbonitrile Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1S(=O)(=O)N1CCC(C=2C=CC=CC=2)(C#N)CC1 RQTVIKMRXYJTDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 1H-indene Chemical compound C1=CC=C2CC=CC2=C1 YBYIRNPNPLQARY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 2,4-dihydroxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1O UIAFKZKHHVMJGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZEKCYPANSOJWDH-UHFFFAOYSA-N 3,3-bis(4-hydroxy-3-methylphenyl)-1H-indol-2-one Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C2(C3=CC=CC=C3NC2=O)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 ZEKCYPANSOJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 3-Ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=CC(O)=C1 HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HVXRCAWUNAOCTA-UHFFFAOYSA-N 4-(6-methylheptyl)phenol Chemical compound CC(C)CCCCCC1=CC=C(O)C=C1 HVXRCAWUNAOCTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxyphenyl)-diphenylmethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 BATCUENAARTUKW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 4-[1,1-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BRPSWMCDEYMRPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BWCAVNWKMVHLFW-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)cyclohexyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C2(CCCCC2)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 BWCAVNWKMVHLFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZRMMDTUHWYZHEW-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-naphthalen-1-ylethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 ZRMMDTUHWYZHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BKDNAFSPZHUMRZ-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-1-naphthalen-2-ylethyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=C2C=CC=CC2=CC=1)(C)C1=CC=C(O)C=C1 BKDNAFSPZHUMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 ODJUOZPKKHIEOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YQUQWHNMBPIWGK-UHFFFAOYSA-N 4-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(O)C=C1 YQUQWHNMBPIWGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSBDGXGICLIJGD-UHFFFAOYSA-N 4-phenoxyphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=CC=C1 ZSBDGXGICLIJGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 QHPQWRBYOIRBIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- ZCTQGTTXIYCGGC-UHFFFAOYSA-N Benzyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCTQGTTXIYCGGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N Bisphenol AP Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 VOWWYDCFAISREI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N Bisphenol Z Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)CCCCC1 SDDLEVPIDBLVHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YFDUWSBGVPBWKF-UHFFFAOYSA-N Butyl salicylate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1O YFDUWSBGVPBWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001634 Copolyester Polymers 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N Isosorbide Chemical compound O[C@@H]1CO[C@@H]2[C@@H](O)CO[C@@H]21 KLDXJTOLSGUMSJ-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MHFGNKMUCULCRW-UHFFFAOYSA-N bis(4-phenylphenyl) carbonate Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1OC(=O)OC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 MHFGNKMUCULCRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WMEZDESZXBGWCU-UHFFFAOYSA-N bis(4-tert-butylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(C(C)(C)C)C=C1 WMEZDESZXBGWCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N methyl salicylate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1O OSWPMRLSEDHDFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DBLKSQITUIDPOE-UHFFFAOYSA-N phenyl (4-phenylphenyl) carbonate Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 DBLKSQITUIDPOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 2
- LZFIOSVZIQOVFW-UHFFFAOYSA-N propyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound CCCOC(=O)C1=CC=CC=C1O LZFIOSVZIQOVFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N tetrapentylammonium Chemical compound CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC GJSGYPDDPQRWPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 2
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N (+)-propylene glycol Chemical compound C[C@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- RHAHBJPEAVBNMC-UHFFFAOYSA-N (2-methylphenyl) phenyl carbonate Chemical class CC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 RHAHBJPEAVBNMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N (2s)-hexane-1,2,6-triol Chemical compound OCCCC[C@H](O)CO ZWVMLYRJXORSEP-LURJTMIESA-N 0.000 description 1
- MXTIGIDKHNHSED-UHFFFAOYSA-N (3-pentadecylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(OC(=O)OC=2C=CC=CC=2)=C1 MXTIGIDKHNHSED-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTZJDCCKHCMKHB-UHFFFAOYSA-N (4-butylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 HTZJDCCKHCMKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIHCJORBJZVIBD-UHFFFAOYSA-N (4-cyclohexylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound C1=CC(OC(=O)O)=CC=C1C1CCCCC1 MIHCJORBJZVIBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQWWPFLBEQBEFN-UHFFFAOYSA-N (4-ethylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 KQWWPFLBEQBEFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ASEOUYVSVADLDF-UHFFFAOYSA-N (4-hexylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(CCCCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 ASEOUYVSVADLDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLISELOTIKXBBD-UHFFFAOYSA-N (4-naphthalen-1-ylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OC1=CC=C(C=C1)C1=CC=CC2=CC=CC=C12 LLISELOTIKXBBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRXQMERDIBTXCG-UHFFFAOYSA-N (4-naphthalen-2-ylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound C1=C(C=CC2=CC=CC=C12)C1=CC=C(C=C1)OC(O)=O GRXQMERDIBTXCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVYPDHRDVGEOHW-UHFFFAOYSA-N (4-pentylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(CCCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 VVYPDHRDVGEOHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNHXMQFSRNROAJ-UHFFFAOYSA-N (4-phenoxyphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC=CC=2)C=CC=1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 WNHXMQFSRNROAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKGJRLOHQGKFI-UHFFFAOYSA-N (4-propan-2-ylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound CC(C)C1=CC=C(OC(O)=O)C=C1 PYKGJRLOHQGKFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZUVLSPXCZYMIM-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(OC(O)=O)C=C1 RZUVLSPXCZYMIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYVUVANBHSZJDU-UHFFFAOYSA-N (4-tert-butylphenyl) phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 AYVUVANBHSZJDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYQKERPCDGZFPD-UHFFFAOYSA-N (4-tritylphenyl) hydrogen carbonate Chemical compound C1=CC(OC(=O)O)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SYQKERPCDGZFPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical compound C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 1,3-propanediol Substances OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RKMNQXFECVRTNI-UHFFFAOYSA-N 1-methylcyclohexa-2,4-dien-1-ol Chemical compound CC1(O)CC=CC=C1 RKMNQXFECVRTNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIYBRXKMQFDHSM-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxybenzophenone Chemical class OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O YIYBRXKMQFDHSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,3-diol Chemical compound CC(C)C(O)C(C)(C)CO JCTXKRPTIMZBJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPVTXVHUJHGOCM-UHFFFAOYSA-N 2,4-bis[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 VPVTXVHUJHGOCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQMFBWXZYVCCHG-UHFFFAOYSA-N 2,4-dimethylphenol;4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=C(O)C(C)=C1 UQMFBWXZYVCCHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VXHYVVAUHMGCEX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenoxy)phenol Chemical class OC1=CC=CC=C1OC1=CC=CC=C1O VXHYVVAUHMGCEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfanylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1SC1=CC=CC=C1O BLDLRWQLBOJPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSVZEASGNTZBRQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfinylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1S(=O)C1=CC=CC=C1O XSVZEASGNTZBRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUWAJPZDCZDTJS-UHFFFAOYSA-N 2-(2-hydroxyphenyl)sulfonylphenol Chemical class OC1=CC=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O QUWAJPZDCZDTJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MHQOYFOLCFUDCH-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropoxy)benzoic acid;phenyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OC1=CC=CC=C1.CC(C)COC1=CC=CC=C1C(O)=O MHQOYFOLCFUDCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYGLCUAXJICESS-UHFFFAOYSA-N 2-[2,3-di(propan-2-yl)phenyl]phenol Chemical class CC(C)C1=CC=CC(C=2C(=CC=CC=2)O)=C1C(C)C KYGLCUAXJICESS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical class CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKQPHJLIVKHAQA-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(2-hydroxyethyl)-2,4,8,10-tetraoxaspiro[5.5]undecan-9-yl]ethanol Chemical compound C1OC(CCO)OCC21COC(CCO)OC2 VKQPHJLIVKHAQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDLBRIMYNHHTSE-UHFFFAOYSA-N 2-butoxybenzoic acid;phenyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OC1=CC=CC=C1.CCCCOC1=CC=CC=C1C(O)=O RDLBRIMYNHHTSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLMQAFUQSHSVLF-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxybenzoic acid;phenyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OC1=CC=CC=C1.CCOC1=CC=CC=C1C(O)=O OLMQAFUQSHSVLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexane-1,6-diol Chemical compound CCC(CO)CCCCO AJKXDPSHWRTFOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYFFNAVAMIJUIP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpropane-1,3-diol Chemical compound CCC(CO)CO HYFFNAVAMIJUIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 2-heptene Natural products CCCCC=CC OTTZHAVKAVGASB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DVLQAYXHSPHFLF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxybenzoic acid;phenyl hydrogen carbonate Chemical compound OC(=O)OC1=CC=CC=C1.COC1=CC=CC=C1C(O)=O DVLQAYXHSPHFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNKXKITYRFJDNF-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O.CC1=CC=CC=C1O KNKXKITYRFJDNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 3,3'-Dimethylbisphenol A Chemical compound C1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=CC=2)=C1 YMTYZTXUZLQUSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGUZWBOJHNWZOK-UHFFFAOYSA-N 3,6-dimethylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC1=CC=C(C)C(O)=C1O RGUZWBOJHNWZOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 3,8-dioxabicyclo[8.2.2]tetradeca-1(12),10,13-triene-2,9-dione Chemical compound O=C1OCCCCOC(=O)C2=CC=C1C=C2 WSQZNZLOZXSBHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPHURRLSZSRQFS-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[2-[4-(3-hydroxypropoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]propan-1-ol Chemical compound C=1C=C(OCCCO)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(OCCCO)C=C1 CPHURRLSZSRQFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBQLGIKHSXQZTB-UHFFFAOYSA-N 3-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)C(C)C(C)O RBQLGIKHSXQZTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 4,4'-thiodiphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1SC1=CC=C(O)C=C1 VWGKEVWFBOUAND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDEHXPCZWFXRKC-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylpropyl)phenol Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(O)C=C1 GDEHXPCZWFXRKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUCTVKDVODFXFX-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)sulfonyl-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(S(=O)(=O)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 SUCTVKDVODFXFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLSLBUSXWBJMEC-UHFFFAOYSA-N 4-Propylphenol Chemical compound CCCC1=CC=C(O)C=C1 KLSLBUSXWBJMEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AZZWZMUXHALBCQ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)methyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(CC=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 AZZWZMUXHALBCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-3,3,5-trimethylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1C(C)CC(C)(C)CC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 UMPGNGRIGSEMTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 4-[1-(4-hydroxyphenyl)-4-methylcyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(C)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 IPHDZYSMEITSBA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxycyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1C(C)(C)C1CCC(O)CC1 CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUKMWXLEZOCRSO-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxyphenyl)-1-phenylpropan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C)CC1=CC=CC=C1 DUKMWXLEZOCRSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YICHMIMRBUIUJT-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(C(C)(C)C=2C=C(C=CC=2)C(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 YICHMIMRBUIUJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 4-[2-[3-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenyl]propan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=CC(C(C)(C)C=2C=CC(O)=CC=2)=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 PVFQHGDIOXNKIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RQTDWDATSAVLOR-UHFFFAOYSA-N 4-[3,5-bis(4-hydroxyphenyl)phenyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=CC(C=2C=CC(O)=CC=2)=C1 RQTDWDATSAVLOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBZFGWBLZXIBII-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl)-3-methylbutyl]-2,6-dimethylphenol Chemical compound CC1=C(O)C(C)=CC(CCC(C)(C)C=2C=C(C)C(O)=C(C)C=2)=C1 OBZFGWBLZXIBII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIRYBKWMEWFDPM-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-hydroxyphenyl)-3-methylbutyl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)CCC1=CC=C(O)C=C1 NIRYBKWMEWFDPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CIEGINNQDIULCT-UHFFFAOYSA-N 4-[4,6-bis(4-hydroxyphenyl)-4,6-dimethylheptan-2-yl]phenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)CC(C)(C=1C=CC(O)=CC=1)CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 CIEGINNQDIULCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IQNDEQHJTOJHAK-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4,4-bis(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]propan-2-yl]-1-(4-hydroxyphenyl)cyclohexyl]phenol Chemical compound C1CC(C=2C=CC(O)=CC=2)(C=2C=CC(O)=CC=2)CCC1C(C)(C)C(CC1)CCC1(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 IQNDEQHJTOJHAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIDWAYDGZUAJEG-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)-phenylmethyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=CC=C1 LIDWAYDGZUAJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOCLKUCIZOXUEY-UHFFFAOYSA-N 4-[tris(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 BOCLKUCIZOXUEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAHMVZYHIJQTQC-UHFFFAOYSA-N 4-cyclohexylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1CCCCC1 OAHMVZYHIJQTQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 4-n-Butylphenol Chemical compound CCCCC1=CC=C(O)C=C1 CYYZDBDROVLTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZWBRVPZWJYIHI-UHFFFAOYSA-N 4-n-Hexylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 SZWBRVPZWJYIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 4-n-Pentylphenol Chemical compound CCCCCC1=CC=C(O)C=C1 ZNPSUQQXTRRSBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UEULEVKFYSYUCZ-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-1-ylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC2=CC=CC=C12 UEULEVKFYSYUCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIRHUNSXEDESLN-UHFFFAOYSA-N 4-naphthalen-2-ylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(C=CC=C2)C2=C1 NIRHUNSXEDESLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 4-nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPKXTKKYSKEON-UHFFFAOYSA-N 4-tritylphenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NIPKXTKKYSKEON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QHPSRMZPVOMRDK-UHFFFAOYSA-N C(O)(O)=O.C(C)(C)(C)OC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 Chemical compound C(O)(O)=O.C(C)(C)(C)OC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 QHPSRMZPVOMRDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCKQBWUSACYIF-UHFFFAOYSA-N Ethyl salicylate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1O GYCKQBWUSACYIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 239000004425 Makrolon Substances 0.000 description 1
- HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N N-ethylpiperidine Chemical compound CCN1CCCCC1 HTLZVHNRZJPSMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N Phosgene Chemical compound ClC(Cl)=O YGYAWVDWMABLBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001328 Polyvinylidene chloride Polymers 0.000 description 1
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M Trifluoroacetate Chemical compound [O-]C(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GQILWUUWAFPMPA-UHFFFAOYSA-N [4-(2-methylpropyl)phenyl] phenyl carbonate Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1 GQILWUUWAFPMPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UGKSTGOPBDJAGS-UHFFFAOYSA-N [4-(2-phenylpropan-2-yl)phenyl] hydrogen carbonate Chemical compound C=1C=C(OC(O)=O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 UGKSTGOPBDJAGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FVYXKMAJDVIRJG-UHFFFAOYSA-N [4-(6-methylheptyl)phenyl] hydrogen carbonate Chemical compound CC(C)CCCCCC1=CC=C(OC(O)=O)C=C1 FVYXKMAJDVIRJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N benzene-1,3,5-tricarbonyl chloride Chemical compound ClC(=O)C1=CC(C(Cl)=O)=CC(C(Cl)=O)=C1 UWCPYKQBIPYOLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940114055 beta-resorcylic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000319 biphenyl-4-yl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1C1=C([H])C([H])=C([*])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- POZGCGJFBOZPCM-UHFFFAOYSA-N bis(2-methylphenyl) carbonate Chemical class CC1=CC=CC=C1OC(=O)OC1=CC=CC=C1C POZGCGJFBOZPCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPGAUDBZWZEOJV-UHFFFAOYSA-N bis(3-pentadecylphenyl) carbonate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC1=CC=CC(OC(=O)OC=2C=C(CCCCCCCCCCCCCCC)C=CC=2)=C1 DPGAUDBZWZEOJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKZIIXHETYUAJT-UHFFFAOYSA-N bis(4-butylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(CCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CCCC)C=C1 IKZIIXHETYUAJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZZKLIBVSKXSCF-UHFFFAOYSA-N bis(4-cyclohexylphenyl) carbonate Chemical compound C=1C=C(C2CCCCC2)C=CC=1OC(=O)OC(C=C1)=CC=C1C1CCCCC1 LZZKLIBVSKXSCF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZCHHQPBFVITLD-UHFFFAOYSA-N bis(4-ethylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(CC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CC)C=C1 HZCHHQPBFVITLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTZHJMXWJVRWOI-UHFFFAOYSA-N bis(4-hexylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(CCCCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CCCCCC)C=C1 CTZHJMXWJVRWOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRPCLYWGRZLSOE-UHFFFAOYSA-N bis(4-nonylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(CCCCCCCCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CCCCCCCCC)C=C1 MRPCLYWGRZLSOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAMYXRBOUQOMGA-UHFFFAOYSA-N bis(4-propan-2-ylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(C(C)C)C=C1 FAMYXRBOUQOMGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FTIFDVZEGMYEDJ-UHFFFAOYSA-N bis(4-propylphenyl) carbonate Chemical compound C1=CC(CCC)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CCC)C=C1 FTIFDVZEGMYEDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YASPVARLBMZYDN-UHFFFAOYSA-N bis(4-tritylphenyl) carbonate Chemical compound C=1C=C(C(C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)C=CC=1OC(=O)OC(C=C1)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 YASPVARLBMZYDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHIKOVJJAYAYAV-UHFFFAOYSA-N bis[4-(2-methylpropyl)phenyl] carbonate Chemical compound C1=CC(CC(C)C)=CC=C1OC(=O)OC1=CC=C(CC(C)C)C=C1 HHIKOVJJAYAYAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000402 bisphenol A polycarbonate polymer Polymers 0.000 description 1
- ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N bisphenol AF Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C(F)(F)F)(C(F)(F)F)C1=CC=C(O)C=C1 ZFVMWEVVKGLCIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- PCVVBHUFWPHCAL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol;terephthalic acid Chemical class OCCCCO.OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 PCVVBHUFWPHCAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- XJABGXWHFOUKBO-UHFFFAOYSA-N carbonic acid 2-phenoxybenzoic acid Chemical compound C(O)(O)=O.C1(=CC=CC=C1)OC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 XJABGXWHFOUKBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YAATUNGVTJQQCO-UHFFFAOYSA-N carbonic acid 2-phenylmethoxybenzoic acid Chemical compound C(O)(O)=O.C(C1=CC=CC=C1)OC=1C(C(=O)O)=CC=CC1 YAATUNGVTJQQCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYDIUBRZHJFDFW-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;2-ethoxybenzoic acid Chemical compound OC(O)=O.CCOC1=CC=CC=C1C(O)=O.CCOC1=CC=CC=C1C(O)=O GYDIUBRZHJFDFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZZVTYISHDDTTJ-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;2-hydroxybenzoic acid Chemical compound OC(O)=O.OC(=O)C1=CC=CC=C1O OZZVTYISHDDTTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKOPSNSLUIFZFO-UHFFFAOYSA-N carbonic acid;2-methoxybenzoic acid Chemical compound OC(O)=O.COC1=CC=CC=C1C(O)=O.COC1=CC=CC=C1C(O)=O NKOPSNSLUIFZFO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- HOFIJBMBYYEBNM-UHFFFAOYSA-N copper;oxotin Chemical class [Cu].[Sn]=O HOFIJBMBYYEBNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 1
- HCKMSHYCAFVSGW-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)C1CCCCC1 HCKMSHYCAFVSGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- GJZAMOYERKVOGF-UHFFFAOYSA-N dimethyl-di(propan-2-yl)azanium Chemical compound CC(C)[N+](C)(C)C(C)C GJZAMOYERKVOGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- JDZWVCJFBZHZGS-UHFFFAOYSA-N ethane-1,2-diol;naphthalene-1-carboxylic acid Chemical compound OCCO.C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 JDZWVCJFBZHZGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005667 ethyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- LJKNRSBEKUSSIE-UHFFFAOYSA-N hept-2-ene Chemical compound [CH2]CCCC=CC LJKNRSBEKUSSIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N hexane-2,5-diol Chemical compound CC(O)CCC(C)O OHMBHFSEKCCCBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 1
- 229960002479 isosorbide Drugs 0.000 description 1
- 229960001047 methyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N monopropylene glycol Natural products CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N nifuroxazide Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C(=O)N\N=C\C1=CC=C([N+]([O-])=O)O1 YCWSUKQGVSGXJO-NTUHNPAUSA-N 0.000 description 1
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-methyl phenol Natural products CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012074 organic phase Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N p-Cumylphenol Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 QBDSZLJBMIMQRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008447 perception Effects 0.000 description 1
- JKRYMCASRVELRG-UHFFFAOYSA-N phenyl hydrogen carbonate;2-propoxybenzoic acid Chemical compound OC(=O)OC1=CC=CC=C1.CCCOC1=CC=CC=C1C(O)=O JKRYMCASRVELRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N phloroglucinol Chemical compound OC1=CC(O)=CC(O)=C1 QCDYQQDYXPDABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005496 phosphonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000166 polytrimethylene carbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- XRVCFZPJAHWYTB-UHFFFAOYSA-N prenderol Chemical compound CCC(CC)(CO)CO XRVCFZPJAHWYTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000003503 terephthalic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- QAZYGHLQQPTQAX-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1O QAZYGHLQQPTQAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium Chemical compound CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC DTIFFPXSSXFQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRWBSHMHZBFPMK-UHFFFAOYSA-N tetrahexylazanium tetrapentylazanium Chemical compound CCCCC[N+](CCCCC)(CCCCC)CCCCC.CCCCCC[N+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC MRWBSHMHZBFPMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 229920006352 transparent thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000012463 white pigment Substances 0.000 description 1
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
- VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N yttrium atom Chemical compound [Y] VWQVUPCCIRVNHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
- B32B27/365—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters comprising polycarbonates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/06—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material
- B32B27/08—Layered products comprising a layer of synthetic resin as the main or only constituent of a layer, which is next to another layer of the same or of a different material of synthetic resin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/28—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42
- B32B27/286—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising synthetic resins not wholly covered by any one of the sub-groups B32B27/30 - B32B27/42 comprising polysulphones; polysulfides
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/302—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising aromatic vinyl (co)polymers, e.g. styrenic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/304—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising vinyl halide (co)polymers, e.g. PVC, PVDC, PVF, PVDF
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/30—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers
- B32B27/308—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising vinyl (co)polymers; comprising acrylic (co)polymers comprising acrylic (co)polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/32—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins
- B32B27/325—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyolefins comprising polycycloolefins
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B27/00—Layered products comprising a layer of synthetic resin
- B32B27/36—Layered products comprising a layer of synthetic resin comprising polyesters
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
- B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
- B32B7/023—Optical properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/0041—Optical brightening agents, organic pigments
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/024—Hologram nature or properties
- G03H1/0244—Surface relief holograms
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H1/00—Holographic processes or apparatus using light, infrared or ultraviolet waves for obtaining holograms or for obtaining an image from them; Details peculiar thereto
- G03H1/02—Details of features involved during the holographic process; Replication of holograms without interference recording
- G03H1/0252—Laminate comprising a hologram layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/10—Coating on the layer surface on synthetic resin layer or on natural or synthetic rubber layer
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2255/00—Coating on the layer surface
- B32B2255/20—Inorganic coating
- B32B2255/205—Metallic coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2270/00—Resin or rubber layer containing a blend of at least two different polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2307/00—Properties of the layers or laminate
- B32B2307/30—Properties of the layers or laminate having particular thermal properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B32—LAYERED PRODUCTS
- B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
- B32B2425/00—Cards, e.g. identity cards, credit cards
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03H—HOLOGRAPHIC PROCESSES OR APPARATUS
- G03H2240/00—Hologram nature or properties
- G03H2240/50—Parameters or numerical values associated with holography, e.g. peel strength
Abstract
A presente invenção se refere a uma estrutura em camadas que contém pelo menos uma camada (i) que compreende um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) que compreende um material termoplástico que carrega pelo menos um holograma em relevo, a um processo para produzir tais compósitos de camada e a documentos de segurança, em particular documentos de identificação, tendo a estrutura em camadas de acordo com a invenção.
Description
Relatório Descritivo da Patente de Invenção para “PELÍCULAS PLÁSTICAS PARA
[001] A presente invenção se refere a uma estrutura em camadas contendo pelo menos uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico que carrega pelo menos um holograma em relevo, a um processo para produzir tais compósitos de camada e a documentos de segurança, em particular documentos de identificação, tendo a estrutura em camadas de acordo com a invenção.
[002] Para a produção de documentos de segurança, películas tipicamente feitas de PETG ou PVC para o núcleo do documento de segurança e películas a base de policarbonatos nas camadas externas são combinadas para disponibilizar uma pilha de películas, e, em uma prensa de laminação, comprimidas sob pressão e temperatura para disponibilizar um compósito de camada sólida. Esses documentos de segurança podem ser personalizados como desejado ou providos com elementos de segurança que são tipicamente introduzidos no compósito de camada antes da laminação. Entretanto, o núcleo de tais documentos de segurança pode também conter películas de policarbonato.
[003] Hologramas em relevo em documentos de segurança, preferivelmente documentos de identificação, são um elemento bem conhecido para aumentar a segurança antifalsificação dos documentos. Segurança antifalsificação é alcançada quando o examinador do documento pode determinar por inspeção visual do holograma em relevo sozinho se um holograma em relevo original ou falsificado é envolvido.
[004] WO-A 2010/091796 revela a produção de um compósito de camada laminada em que pelo menos uma camada base e pelo menos uma camada adicional tendo uma parte de componente arranjada entre ambas e compostas de dois materiais termoplásticos tendo diferentes temperaturas de amolecimento Vicat B/50 são laminadas em um processo de dois estágios para disponibilizar um compósito de camada, em que o material termoplástico tendo a menor temperatura de amolecimento envelopa o componente no compósito de camada laminada.
[005] WO-A 2012/164011 revela a transferência de um holograma em relevo de uma película carreadora para uma película de policarbonato, e subsequentemente gravação desse holograma em relevo em um compósito de camada.
[006] Dois tipos de hologramas em relevo podem ser usados em documentos de segurança: O primeiro tipo são os assim chamados hologramas em relevo de transferência. Esses são gravados em relevo em uma película plástica separada e subsequentemente a parte em relevo da película plástica é ligada à película plástica da qual o documento de segurança é feito e subsequentemente laminada.
[007] Hologramas em relevo de transferência são geralmente fabricados de uma película de poliéster particularmente fina, na faixa de espessura de 5- 25 µm. As nanoestruturas que refratam luz após metalização da película são gravadas em relevo na película por meio de rolos rotatórios. Os rolos de gravação em relevo são revestidos com o assim chamado “mestre”, que é uma folha metálica que carrega as estruturas em relevo incorporadas. Após gravação em relevo, os hologramas são providos com uma metalização que varia em sua opacidade dependendo da aparência desejada do holograma em relevo. Assim, hologramas em relevo podem ser mantidos aproximadamente transparentes, ou ter uma aparência metálica opaca. Subsequentemente, uma camada adesiva fina é aplicada ao lado em relevo e metalizado dos hologramas em relevo. Essa é geralmente um adesivo termicamente ativável que torna possível fazer com que os hologramas em relevo adiram às películas plásticas dos documentos de segurança - assim chamados “hologramas em relevo de transferência”. O holograma em relevo é colocado sobre a película plástica com seu lado revestido com adesivo e é subsequentemente ligado à película plástica com um laminador de rolos. A temperatura de ativação da camada adesiva é menor que a temperatura de amolecimento da película do holograma, de maneira que não pode ocorrer nenhuma deformação das nanoestruturas do holograma em relevo. Os rolos de laminação aquecidos são geralmente rolos macios fabricados de borracha ou silicone de maneira que as nanoestruturas dos hologramas em relevo não podem ser danificadas.
[008] No segundo tipo de hologramas em relevo, um assim chamado mestre grava em relevo as nanoestruturas dos hologramas diretamente na superfície de uma película usada para produzir os documentos de segurança, por exemplo, na superfície de uma película de policarbonato tendo uma espessura de 30 µm ou mais.
[009] Na produção de documentos de segurança, diferentes películas plásticas podem ser colocadas uma por cima da outra em uma pilha de duas ou mais películas plásticas, geralmente três a quinze películas plásticas, e laminadas para disponibilizar um compósito de camada sólida. A pilha de películas pode ter películas plásticas brancas colocadas nas lâminas do meio e películas plásticas transparentes colocadas nas lâminas externas. O holograma em relevo é idealmente aplicado a uma película plástica transparente que posteriormente também forma o lado frontal do documento de segurança e uma película plástica transparente adicional para proteção do holograma em relevo é colocada por cima para proteger o holograma em relevo. Essa pilha de películas plásticas é normalmente alinhada, fixada e prensada em uma prensa de laminação sob a ação de calor e pressão por um certo período de tempo, assim formando um compósito monolítico das camadas de película, um assim chamado laminado.
[010] Nesta etapa de laminação, é particularmente importante selecionar a pressão e a temperatura de maneira tal que hologramas em relevo não sejam danificados durante a operação de laminação. Se uma pressão excessiva for escolhida, as nanoestruturas do holograma em relevo são danificadas. A temperatura para a laminação deve ser escolhida de maneira tal que a pilha de películas plástica forme um compósito sólido que subsequentemente não desintegra dentro das camadas individuais novamente. O resultado disso é que hologramas em relevo no documento de segurança diferem notadamente de sua aparência original. Eles parecem foscos, os detalhes de seu formato não são claramente aparentes e a refração de luz diminui significativamente, e as cores ficam apenas fracamente aparentes.
[011] A invenção dessa maneira tem como seu objetivo prover uma estrutura em camadas que permite aplicação de hologramas em relevo cuja gravação em relevo e aparência permanecem virtualmente inalteradas em cor e formato, mesmo após laminação para disponibilizar um compósito de camada sólida. É um objetivo adicional da invenção que essa estrutura em camadas seja facilmente laminável e, após laminação, exiba boa adesão entre as camadas individuais da estrutura em camadas.
[012] Observou-se agora que, surpreendentemente, uma estrutura em camadas contendo pelo menos uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizado em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii) e em que pelo menos um holograma em relevo é aplicado na camada (i) ou (ii) de maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento, mostra um holograma em relevo após laminação em um compósito de camada sólida que está presente no compósito de camada sólida virtualmente inalterada em cor e formato.
[013] A estrutura em camadas de acordo com a invenção pode compreender camadas adicionais. As camadas essenciais (i) e (ii) tipicamente formam camadas externas da estrutura em camadas que podem opcionalmente ser providas com uma camada protetora adicional, uma assim chamada película de sobreposição.
[014] A estrutura em camadas de acordo com a invenção pode ser laminada para disponibilizar um documento de segurança ou material compósito de múltiplas camadas por métodos conhecidos. Isso é tipicamente realizado em uma prensa de laminação na qual o feixe de película é intimamente unido pela ação de pressão e temperatura. Aqui é vantajoso quando pelo menos uma das películas do núcleo ou as películas externas exibe uma propensão a adesão muito boa durante o processo de laminação. Isso torna possível acelerar o processo de produção desses compósitos de película. A adesão das películas externas na película do núcleo é também melhorada. Essa película do núcleo pode ser transparente e/ou colorida e ter boas propriedades mecânicas. As películas externas podem também ser imprimíveis a laser.
[015] No contexto da invenção, ppm deve ser entendido como ppm em peso a menos que de outra forma determinada.
[016] O material termoplástico de pelo menos uma camada (i) e pelo menos uma camada adicional (ii) pode preferivelmente ser pelo menos um plástico selecionado de polímeros de monômeros etilenicamente insaturados e/ou policondensados de compostos reativos difuncionais e/ou produtos de poliadição de compostos reativos difuncionais ou misturas dos mesmos. Para certas aplicações, pode ser vantajoso e, consequentemente, preferido usar um material termoplástico transparente.
[017] Materiais termoplásticos particularmente adequados das camadas (i) e (ii) são policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados.
[018] Materiais termoplásticos preferidos das camadas (i) e (ii) são policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, e de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente, ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC) ou misturas dos supramencionados.
[019] Em uma modalidade preferida, pelo menos uma camada (i) ou (ii) compreende um material termoplástico selecionado do grupo de policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo- hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, preferivelmente ácido policiclo- hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU),
poli(haletos de vinila), preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC) ou misturas dos supramencionados, em que a proporção cristalina dos materiais termoplásticos supramencionados em camada (i) ou (ii) compreende ≤ 40% em peso, preferivelmente 0 a ≤ 30% em peso, de forma particular preferivelmente 0 a ≤ 25% em peso.
[020] Em uma modalidade particularmente preferida, pelo menos uma camada (i) ou (ii) compreende um material termoplástico compreendendo: a) pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol% com base no componente de diol, b) uma mistura de pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono com um ou mais poli ou copolicarbonato(s), em que a proporção de poli ou copolicarbonato (s) nesta mistura é em uma faixa de ≥ 50% a ≤ 90% em peso e em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 75 mol%, de forma particular preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 70 mol%, com base no componente de diol, ou c) uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) 1 1
R R * O C O C * 2
O 2
R R (X) m n 3 4
(II) em que R1 e R2 independentemente um do outro representam hidrogênio, halogênio, preferivelmente cloro ou bromo, alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, arila C6- C10, preferivelmente fenila, e aralquila C7-C12, preferivelmente fenil-C1-C4-alquila, em particular benzila, m é um número inteiro de 4 a 7, preferivelmente 4 ou 5, R3 e R4 individualmente selecionáveis para cada X independentemente um do outro representam hidrogênio ou alquila C1-C6, X representa carbono e n é um número inteiro maior que 20, com a condição de que, para pelo menos um átomo X, R3 e R4 ambos representem alquila.
[021] Os poli ou copolicondensados e a mistura do poli ou copolicondensados e o policarbonatos são mais particularmente descritos a seguir com modalidades preferidas.
[022] O poli ou copolicondensados de um aromático e/ou cicloalquil ácido dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono podem ser produzidos por métodos conhecidos a partir do ácido dicarboxílico correspondente (ou seus derivados reativos) e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono (Kunststoff- Handbuch vol. VIII, p. 695 ff, Karl-Hanser-Verlag, Munich 197). Compostos empregáveis como o ácido dicarboxílico do poli ou copolicondensado incluem pelo menos um composto do grupo de ácido ortoftálico, ácido tereftálico, ácido isoftálico, ácido terc-butilisoftálico, ácido 3,3’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4-benzofenona dicarboxílico, ácido 3,4’-benzofenona dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil éter dicarboxílico, ácido 4,4’-difenilsulfona dicarboxílico, 2,2-bis(4-carboxifenil)propano, ácido trimetil-3-fenilindano-4,5’- dicarboxílico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico,
ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido ciclo-hexano dicarboxílico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, preferivelmente ácido tereftálico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido isoftálico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, de forma particular preferivelmente ácido tereftálico e/ou ácido isoftálico ou seus derivados reativos e de forma muito particular preferivelmente ácido tereftálico ou um derivado reativo de ácido tereftálico.
[023] Além dos ácidos dicarboxílicos supramencionados, o componente de ácido do poli ou copolicondensado pode também conter até 20 mol% de outros ácidos dicarboxílicos aromáticos tendo 8 a 14 átomos de carbono ou ácidos dicarboxílicos alifáticos tendo 4 a 12 átomos de carbono, por exemplo, ácido ftálico, ácido isoftálico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil dicarboxílico, ácido succínico, adípico, sebácico, ácido malônico, ácido glutárico, ácido dodecano dicarboxílico, ácido subérico, ácido pimélico, ácido azeláico, ácido ciclo- hexanodiacético.
[024] O poli ou copolicondensado do ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono preferivelmente compreende uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3-ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente ≥ 25 a ≤ 75 mol% e de forma particular preferivelmente ≥ 25 a ≤ 70 mol% com base no componente de diol.
[025] Compostos empregáveis como o componente de diol do poli ou copolicondensado incluem dióis alifáticos, cicloalifáticos ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, etileno glicol, dietileno glicol, 1,2-propanodiol, 1,3- propanodiol, neopentil glicol, 1,4-butanodiol, 1,5-pentanodiol, 1,6-hexanodiol, p- xilenodiol e misturas de pelo menos dois dos compostos supramencionados, preferivelmente etileno glicol, dietileno glicol, 1,4-butanodiol e misturas de pelo menos dois dos compostos supramencionados.
[026] O componente de diol pode também conter até 10 mol% de outros dióis alifáticos tendo 3 a 12 átomos de carbono ou dióis cicloalifáticos tendo 6 a 21 átomos de carbono, por exemplo, 2-etilpropano-1,3-diol, 3-metilpentano-2,4-diol, 2- metilpentano-2,4-diol, 2,2,4-trimetilpentano-1,3-diol e 2-etil-hexano-1,6-diol, 2,2- dietilpropano-1,3-diol, hexano-2,5-diol, 1,4-di-([beta]-hidroxietóxi)benzeno, 2,2-bis(4- hidroxiciclo-hexil)propano, 2,4-di-hidróxi-1,1,3,3-tetrametilciclobutano, 2,2-bis-(3- [beta]-hidroxietoxifenil)propano e 2,2-bis(4-hidroxipropoxifenil)propano (cf. DE-OS 24 07 674, 24 07 776, 27 15 932), 1,4:3,6-Dianidro-D-sorbitol (isossorbido) e 2,4,8,10- tetraoxaspiro[5.5]undecano-3,9-dietanol e misturas de pelo menos dois dos compostos supramencionados.
[027] Em modalidades preferidas da invenção, poli ou copolicondensados adequados de ácido tereftálico são poli(tereftalatos de alquileno). Poli(tereftalatos de alquileno) adequados são, por exemplo, produtos de reação de ácidos dicarboxílicos aromáticos ou seus derivados reativos (por exemplo, dimetil ésteres ou anidridos) e dióis alifáticos, cicloalifáticos ou aralifáticos e misturas desses produtos de reação.
[028] Poli(tereftalatos de alquileno) preferidos são produtíveis a partir do ácido tereftálico (ou derivados reativos do mesmo) e dióis alifáticos, cicloalifáticos ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono por métodos conhecidos (Kunststoff- Handbuch, vol. VIII, p. 695 ff, Karl-Hanser-Verlag, Munich 1973).
[029] Poli(tereftalatos de alquileno) preferidos contêm pelo menos 80 mol%, preferivelmente 90 mol%, de radicais de ácido tereftálico com base no componente de ácido dicarboxílico e ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente ≥ 25 a ≤ 75 mol% e de forma particular preferivelmente ≥ 25 a ≤ 70 mol% de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3- ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3-ciclobutanodiol, preferivelmente 1,4-ciclo-hexanodimetanol e/ou 1,3-ciclo-hexanodimetanol, com base no componente de diol e ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente ≥ 25 a ≤ 75 mol%, de forma particular preferivelmente ≥ 30 a ≤ 75 mol% de etileno glicol, dietileno glicol e/ou 1,4- butanodiol com base no componente de diol.
[030] Os poli(tereftalatos de alquileno) preferidos podem ser ramificados por incorporação de quantidades relativamente pequenas de álcoois tri- ou tetra-hídricos ou ácidos carboxílicos tri- ou tetrabásicos, como descrito, por exemplo, em DE-OS 19 00 270 e US-PS 3 692 744. Exemplos de agentes de ramificação preferidos são ácido trimésico, ácido trimelítico, trimetiloletano e trimetilolpropano e pentaeritritol.
[031] É preferível quando é usado não mais que 1 mol% do agente de ramificação com base no ácido ou no componente de álcool.
[032] Preferência particular é dada a poli(tereftalatos de alquileno) produzidos somente de ácido tereftálico e seus derivados reativos (por exemplo, seus dialquil ésteres) e 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol, etileno glicol e/ou butano-1,4-diol e a misturas desses poli(tereftalatos de alquileno).
[033] Poli(tereftalatos de alquileno) preferidos também incluem copoliésteres produzidos de pelo menos dois dos supramencionados componentes de ácido e/ou de pelo menos dois dos componentes de álcool supramencionados e particularmente copoliésteres preferidos são poli(tereftalatos de (etileno glicol/ciclo- hexano-1,4-dimetanol/butano-1,4-diol)), poli(tereftalatos de (etileno glicol/ciclo- hexano-1,4-dimetanol/dietileno glicol)), poli(tereftalatos de (etileno glicol/ciclo- hexano-1,4-dimetanol)) e/ou poli(tereftalatos de (butano-1,4-diol)).
[034] Os poli(tereftalatos de alquileno) preferivelmente usados como um componente preferivelmente têm uma viscosidade intrínseca de cerca de 0,4 a 1,5 dl/g, preferivelmente 0,5 a 1,3 dl/g, em cada caso medido em fenol/o-diclorobenzeno (1:1 parte em peso) a 25°C.
[035] No contexto da invenção, deve-se entender que policarbonato inclui poli- e/ou copolicarbonato.
[036] Em modalidades preferidas, poli ou copolicarbonatos adequados incluem em particular policarbonatos ou copolicarbonatos aromáticos.
[037] Os policarbonatos ou copolicarbonatos podem ser lineares ou ramificados em modelo conhecido. Esses policarbonatos podem ser produzidos em modelo conhecido a partir de difenóis, derivados de ácido carbônico, opcionalmente terminadores de cadeia e opcionalmente agentes de ramificação. Particulares concernentes à produção de policarbonatos são revelados em muitos documentos de patente abrangendo aproximadamente os últimos 40 anos. Referência é feita aqui meramente a título de exemplo a Schnell, "Chemistry and Physics of Polycarbonates", Polymer Reviews, volume 9, Interscience Publishers, New York, London, Sydney 1964, a D. Freitag, U. Grigo, P. R. Müller, H. Nouvertné, BAYER AG, "Polycarbonates" in Enciclopedia of Polymer Science and Engineering, volume 11, second edition, 1988, pages 648-718 e, finalmente, a Dres. U. Grigo, K. Kirchner and P. R. Müller, "Polycarbonates” in Becker/Braun, Kunststoff-Handbuch, volume 3/1, Polycarbonate, Poliacetale, Poliester, Celluloseester, Carl Hanser Verlag Munich, Vienna 1992, pages 117-299.
[038] Difenóis adequados podem incluir, por exemplo, compostos de di- hidroxiarila da fórmula geral (I), HO-Z-OH (I) em que Z é um radical aromático tendo 6 a 34 átomos de carbono que podem conter um ou mais anéis aromáticos opcionalmente substituídos e radicais alifáticos ou cicloalifáticos ou alquilarilas ou heteroátomos como membros de ligação.
[039] Exemplos de compostos adequados de di-hidroxiarila incluem: di- hidroxibenzenos, di-hidroxidifenilas, bis(hidroxifenil)alcanos, bis(hidroxifenil)cicloalcanos, bis(hidroxifenil)arilas, bis(hidroxifenil) éteres, bis(hidroxifenil) cetonas, bis(hidroxifenil) sulfetos, bis(hidroxifenil) sulfonas, bis(hidroxifenil) sulfóxidos, 1,1'-bis(hidroxifenil)di-isopropilbenzenos e o compostos alquilados com anel e halogenados com anel dos mesmos.
[040] Esses e outros compostos de di-hidroxiarila adequados adicionais são descritos, por exemplo, em DE-A 3 832 396, FR-A 1 561 518, em H. Schnell, Chemistry and Physics of Polycarbonates, Interscience Publishers, New York 1964, p. 28 ff.; p. 102 ff., e em D. G. Legrand, J.T. Bendler, Handbook of Polycarbonates Science and Technology, Marcel Dekker New York 2000, p. 72 ff. beschrieben.
[041] Compostos de di-hidroxiarila preferidos são, por exemplo, ressorcinol, 4,4'-di-hidroxidifenila, bis(4-hidroxifenil)metano, bis(3,5-dimetil-4-hidroxifenil)metano,
bis(4-hidroxifenil)difenilmetano, 1,1-bis(4-hidroxifenil)-1-feniletano, 1,1-bis(4- hidroxifenil)-1-(1-naftil)etano, 1,1-bis(4-hidroxifenil)-1-(2-naftil)etano, 2,2-bis(4- hidroxifenil)propano, 2,2-bis(3-metil-4-hidroxifenil)propano, 2,2-bis(3,5-dimetil-4- hidroxifenil)propano, 2,2-bis(4-hidroxifenil)-1-fenilpropano, 2,2-bis(4- hidroxifenil)hexafluorpropano, 2,4-bis(4-hidroxifenil)-2-metilbutano, 2,4-bis(3,5- dimetil-4-hidroxifenil)-2-metilbutano, 1,1-bis(4-hidroxifenil)ciclo-hexano, 1,1-bis(3,5- dimetil-4-hidroxifenil)ciclo-hexano, 1,1-bis(4-hidroxifenil)-4-metilciclo-hexano, 1,3- bis[2-(4-hidroxifenil)-2-propil]benzeno, 1,1'-bis(4-hidroxifenil)-3-di-isopropilbenzeno, 1,1'-bis(4-hidroxifenil)-4-di-isopropilbenzeno, 1,3-bis[2-(3,5-dimetil-4-hidroxifenil)-2- propil]benzeno, bis(4-hidroxifenil) éter, bis(4-hidroxifenil) sulfeto, bis(4-hidroxifenil) sulfona, bis(3,5-dimetil-4-hidroxifenil) sulfona e 2,2',3,3'-tetrahidro-3,3,3',3'-tetrametil- 1,1'-spirobis[1H-indeno] -5,5'-diol ou di-hidroxidifenicicloalcanos da fórmula (Ia) 1 1
HO C OH 2 2
R R (X) m 3 4
R R (Ia) em que R1 e R2 independentemente um do outro representam hidrogênio, halogênio, preferivelmente cloro ou bromo, alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, arila C6- C10, preferivelmente fenila, e aralquila C7-C12, preferivelmente fenil-C1-C4-alquila, em particular benzila, m é um número inteiro de 4 a 7, preferivelmente 4 ou 5, R3 e R4 individualmente selecionáveis para cada X independentemente um do outro representam hidrogênio ou alquila C1-C6 e X representa carbono, com a condição de que, para pelo menos um átomo X, R 3 e R4 ambos representem alquila. É preferível quando na fórmula (Ia) um ou dois átomo(s) X, especialmente apenas um átomo X, R3 e R4 ambos representem alquila.
[042] Um radical alquila preferido para os radicais R3 e R4 na fórmula (Ia) é metila. Os átomos X alfa no átomo de carbono substituído com difenila (C-1) são preferivelmente não substituídos com dialquila, mas a dissubstituição com alquila beta em C-1 é preferida.
[043] Particularmente, di-hidroxidifenilcicloalcanos preferidos da fórmula (Ia) são aqueles tendo 5 e 6 átomos de carbono X no anel no radical cicloalifático (m = 4 ou 5 na fórmula (Ia)), por exemplo, os difenóis das fórmulas (Ia-1) a (Ia-3), 1 1
HO C OH 2 2
R R H3C CH3 CH3 (Ia-1) 1 1
HO C OH 2 2
R R CH3 CH3 (Ia-2) 1 1
C 2
R 2
R H3C CH3 H3C (Ia-3)
[044] Um di-hidroxidifenilcicloalcano muito particularmente preferido da fórmula (Ia) é 1,1-bis(4-hidroxifenil)-3,3,5-trimetilciclo-hexano (fórmula (Ia-1) onde R1 e R2 representam H).
[045] Tais policarbonatos podem ser produzidos a partir de di- hidroxidifenilcicloalcanos da fórmula (Ia) de acordo com EP-A 359 953.
[046] Particularmente, compostos de di-hidroxiarila preferidos são ressorcinol, 4,4'-di-hidroxidifenila, bis(4-hidroxifenil)difenilmetano, 1,1-bis(4-hidroxifenil)-1- feniletano, bis(4-hidroxifenil)-1-(1-naftil)etano, bis(4-hidroxifenil)-1-(2-naftil)etano, 2,2- bis(4-hidroxifenil)propano, 2,2-bis(3,5-dimetil-4-hidroxifenil)propano, 1,1-bis(4- hidroxifenil)ciclo-hexano, 1,1-bis(3,5-dimetil-4-hidroxifenil)ciclo-hexano, 1,1-bis(4-
hidroxifenil)-3,3,5-trimetilciclo-hexano, 1,1'-bis(4-hidroxifenil)-3-di-isopropilbenzeno e 1,1'-bis(4-hidroxifenil)-4-di-isopropilbenzeno.
[047] Compostos de di-hidroxiarila muito particularmente preferidos são 4,4’-di- hidroxidifenil e 2,2-bis(4-hidroxifenil)propano.
[048] É possível usar tanto um composto de di-hidroxiarila para formar homopolicarbonatos quanto diferentes compostos de di-hidroxiarila para formar copolicarbonatos. É possível usar tanto um composto de di-hidroxiarila da fórmula (I) ou (Ia) para formar homopolicarbonatos quanto dois ou mais compostos de di- hidroxiarila da(s) fórmula(s) (I) e/ou (Ia) para formar copolicarbonatos. Os vários compostos de di-hidroxiarila podem ser ligados um no outro aleatoriamente ou em blocos. No caso de copolicarbonatos compostos de compostos de di-hidroxiarila das fórmulas (I) e (Ia) a razão molar de compostos de di-hidroxiarila da fórmula (Ia) para os compostos de di-hidroxiarila opcionalmente cousável da fórmula (I) é preferivelmente entre 99 mol% de (Ia) a 1 mol% de (I) e 2 mol% de (Ia) a 98 mol% de (I), preferivelmente entre 99 mol% de (Ia) a 1 mol% de (I) e 10 mol% de (Ia) a 90 mol% de (I), e especialmente entre 99 mol% de (Ia) a 1 mol% de (I) e 30 mol% de (Ia) a 70 mol% de (I).
[049] Um copolicarbonato muito particularmente preferido pode ser produzido usando compostos 1,1-bis(4-hidroxifenil)-3,3,5-trimetilciclo-hexano e 2,2-bis(4- hidroxifenil)propano de di-hidroxiarila das fórmulas (Ia) e (I).
[050] Derivados de ácido carbônico adequados incluem, por exemplo, carbonatos de diarila da fórmula geral (III)
O O R' R' R'' R'' (III) em que R, R' e R" são independentemente um do outro idênticos ou diferentes e representam hidrogênio, alquila C1-C3, alquilarila C7-C34 ou arila C6-C34 lineares ou ramificados, R pode adicionalmente também representar -COO-R''', em que R''' representa hidrogênio, alquila C1-C3, alquilarila C7-C34 ou arila C6-C34 lineares ou ramificados.
[051] Carbonatos de diarila preferidos são, por exemplo, carbonato de difenila, carbonatos de metilfenil fenila e carbonatos de di(metilfenila), carbonato de 4-etilfenil fenila, carbonato de di(4-etilfenila), carbonato de 4-n-propilfenil fenila, carbonato de di(4-n-propilfenila), carbonato de 4-isopropilfenil fenila, carbonato de di(4- isopropilfenila), carbonato de 4-n-butilfenil fenila, carbonato de di(4-n-butilfenila), carbonato de 4-isobutilfenil fenila, carbonato de di(4-isobutilfenila), carbonato de 4- terc-butilfenil fenila, carbonato de di(4-terc-butilfenila), carbonato de 4-n-pentilfenil fenila, carbonato de di(4-n-pentilfenila), carbonato de 4-n-hexilfenil fenila, carbonato de di(4-n-hexilfenila), carbonato de 4-iso-octilfenil fenila, carbonato de di(4-iso- octilfenila), carbonato de 4-n-nonilfenil fenila, carbonato di(4-n-nonilfenila), carbonato de 4-ciclo-hexilfenil fenila, carbonato de di(4-ciclo-hexilfenila), carbonato de 4-(1- metil-1-feniletil)fenil fenila, carbonato de di[4-(1-metil-1-feniletil)fenil], carbonato de bifenil-4-il fenila, carbonato de di(bifenil-4-ila), carbonato de 4-(1-naftil)fenil fenila, carbonato de 4-(2-naftil)fenil fenila, carbonato de di[4-(1-naftil)fenila], carbonato de di[4-(2-naftil)fenila], carbonato de 4-fenoxifenil fenila, carbonato de di(4-fenoxifenila), carbonato de 3-pentadecilfenil fenila, carbonato de di(3-pentadecilfenila), carbonato de 4-tritilfenil fenila, carbonato de di(4-tritilfenila), (salicilato de metila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de metila), (salicilato de etila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de etila), (salicilato de n-propila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de n-propila), (salicilato de isopropila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de isopropila), (salicilato de n-butila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de n-butila), (salicilato de isobutila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de isobutila), (salicilato de terc-butila) carbonato de fenila, carbonato de di(salicilato de terc-butila), carbonato de di(salicilato de fenila) e carbonato de di(salicilato de benzila).
[052] Compostos de diarila particularmente preferidos são carbonato de difenila,
carbonato de 4-terc-butilfenil fenila, carbonato de di(4-terc-butilfenila), carbonato de bifenil-4-il fenila, carbonato de di(bifenil-4-ila), carbonato de 4-(1-metil-1-feniletil)fenil fenila, carbonato de di[4-(1-metil-1-feniletil)fenila] e carbonato de di(salicilato de metila).
[053] Carbonato de difenila é muito particularmente preferido.
[054] É possível usar tanto um carbonato de diarila ou diferentes carbonatos de diarila.
[055] Para controlar ou alterar os grupos terminais, é também possível empregar, por exemplo, um ou mais composto(s) de mono-hidroxiarila não usados para produzir o(s) carbonato(s) de diarila como terminadores de cadeia. Esses podem ser selecionados daqueles da fórmula geral (IV)
C (IV) em que RA representa alquila C1-C3, alquilarila C7-C34, arila C6-C34 lineares ou ramificados ou -COO-RD, em que RD representa hidrogênio, alquila C1-C3, alquilarila C7-C34 ou arila C6-C34 lineares ou ramificados e RB, RC são independentemente um do outro idênticos ou diferentes e representam hidrogênio, alquila C1-C3, alquilarila C7-C34 ou arila C6-C34 lineares ou ramificados.
[056] Tais compostos de mono-hidroxiarila são, por exemplo, 1-, 2- ou 3- metilfenol, 2,4-dimetilfenol 4-etilfenol, 4-n-propilfenol, 4-isopropilfenol, 4-n-butilfenol, 4-isobutilfenol, 4-terc-butilfenol, 4-n-pentilfenol, 4-n-hexilfenol, 4-iso-octilfenol, 4-n- nonilfenol, 3-pentadecilfenol, 4-ciclo-hexilfenol, 4-(1-metil-1-feniletil)fenol, 4- fenilfenol, 4-fenoxifenol, 4-(1-naftil)fenol, 4-(2-naftil)fenol, 4-tritilfenol, salicilato de metila, salicilato de etila, salicilato de n-propila, salicilato de isopropila, salicilato de n-butila, salicilato de isobutila, salicilato de terc-butila, salicilato de fenila e salicilato de benzila.
[057] Preferência é dada a 4-terc-butilfenol, 4-iso-octilfenol e 3-pentadecilfenol.
[058] Agentes de ramificação adequados incluem compostos tendo três ou mais grupos funcionais, preferivelmente aqueles tendo três ou mais grupos hidroxila.
[059] Compostos adequados tendo três ou mais grupos hidroxila fenólicos são, por exemplo, floroglucinol, 4,6-dimetil-2,4,6-tri(4-hidroxifenil)hept-2-eno, 4,6-dimetil- 2,4,6-tri(4-hidroxifenil)heptano, 1,3,5-tri(4-hidroxifenil)benzeno, 1,1,1-tri(4- hidroxifenil)etano, tri(4-hidroxifenil)fenilmetano, 2,2-bis(4,4-bis(4-hidroxifenil)ciclo- hexil]propano, 2,4-bis(4-hidroxifenilisopropil)fenol e tetra(4-hidroxifenil)metano.
[060] Outros compostos adequados tendo três ou mais grupos funcionais são, por exemplo, ácido 2,4-di-hidroxibenzoico, ácido trimésico/tricloreto trimesoíla, tricloreto cianúrico e 3,3-bis(3-metil-4-hidroxifenil)-2-oxo-2,3-di-hidroindol.
[061] Agentes de ramificação preferidos são 3,3-bis(3-metil-4-hidroxifenil)-2- oxo-2,3-di-hidroindol e 1,1,1-tri(4-hidroxifenil)etano.
[062] Em uma modalidade, pelo menos uma camada (i) ou (ii) compreende um material termoplástico compreendendo: a) pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol% com base no componente de diol, b) uma mistura de pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono com um ou mais poli ou copolicarbonato(s), em que a proporção de poli ou copolicarbonato(s) nesta mistura é em uma faixa de ≥ 50% a ≤ 90% em peso e em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 75 mol%, de forma particular preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 70 mol%, com base no componente de diol, ou c) uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) 1 1
R R * O C O C * 2
O 2
R R (X) m n 3 4
R R (II) em que R1 e R2 independentemente um do outro representam hidrogênio, halogênio, preferivelmente cloro ou bromo, alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, arila C6- C10, preferivelmente fenila, e aralquila C7-C12, preferivelmente fenil-C1-C4-alquila, em particular benzila, m é um número inteiro de 4 a 7, preferivelmente 4 ou 5, R3 e R4 individualmente selecionáveis para cada X independentemente um do outro representam hidrogênio ou alquila C1-C6, X representa carbono e n é um número inteiro maior que 20, com a condição de que, para pelo menos um átomo X, R3 e R4 ambos representem alquila.
[063] Em uma modalidade da invenção pelo menos uma camada (i) compreende pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico preferivelmente selecionado do grupo de ácido ortoftálico, ácido tereftálico, ácido isoftálico, ácido terc-butilisoftálico, ácido 3,3’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4-benzofenona dicarboxílico, ácido 3,4’-benzofenona dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil éter dicarboxílico, ácido 4,4’-difenilsulfona dicarboxílico, 2,2-bis(4-carboxifenil)propano, ácido trimetil-3-fenilindano-4,5’-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido ciclo-hexano dicarboxílico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, preferivelmente ácido tereftálico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno- 1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido isoftálico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, de forma particular preferivelmente ácido tereftálico e/ou ácido isoftálico ou seus derivados reativos e de forma muito particular preferivelmente ácido tereftálico ou um derivado reativo de ácido tereftálico, e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo- hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3-ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol% com base no componente de diol e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPASTM), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico,
de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato. Nessa modalidade o holograma em relevo é preferivelmente aplicado na forma de um holograma em relevo de transferência de maneira tal que a nanoestrutura do holograma em relevo aponte na direção da camada (i). As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[064] Em uma outra modalidade da invenção pelo menos uma camada (i) compreende pelo menos uma mistura de pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico, preferivelmente selecionado do grupo de ácido ortoftálico, ácido tereftálico, ácido isoftálico, ácido terc-butilisoftálico, ácido 3,3’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4-benzofenona dicarboxílico, ácido 3,4’-benzofenona dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil éter dicarboxílico, ácido 4,4’-difenilsulfona dicarboxílico, 2,2-bis(4-carboxifenil)propano, ácido trimetil-3-fenilindano-4,5’- dicarboxílico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido ciclo-hexano dicarboxílico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, preferivelmente ácido tereftálico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido isoftálico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, de forma particular preferivelmente ácido tereftálico e/ou ácido isoftálico ou seus derivados reativos e de forma muito particular preferivelmente ácido tereftálico ou um derivado reativo de ácido tereftálico, e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono com um ou mais poli ou copolicarbonato(s), em que a proporção de poli ou copolicarbonato(s) nesta mistura é em uma faixa de > 0% a ≤ 90% em peso, preferivelmente > 0% a ≤ 80% em peso, e em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico, preferivelmente ácido ortoftálico, ácido tereftálico, ácido isoftálico, ácido terc-butilisoftálico, ácido 3,3’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil dicarboxílico, ácido 4,4-benzofenona dicarboxílico, ácido 3,4’-benzofenona dicarboxílico, ácido 4,4’-difenil éter dicarboxílico, ácido 4,4’-difenilsulfona dicarboxílico, 2,2-bis(4-carboxifenil)propano, ácido trimetil-3-fenilindano-4,5’- dicarboxílico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido ciclo-hexano dicarboxílico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, preferivelmente ácido tereftálico, ácido naftaleno-1,4-dicarboxílico, ácido naftaleno-1,5-dicarboxílico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e/ou ácido isoftálico ou os derivados reativos dos ácidos dicarboxílicos citados, de forma particular preferivelmente ácido tereftálico e/ou ácido isoftálico ou seus derivados reativos e de forma muito particular preferivelmente ácido tereftálico ou um derivado reativo de ácido tereftálico, e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4- tetrametil-1,3-ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 75 mol%, de forma particular preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 70 mol%, com base no componente de diol e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPASTM), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato.
Nessa modalidade o holograma em relevo é preferivelmente aplicado na forma de um holograma em relevo de transferência de maneira tal que a nanoestrutura do holograma em relevo aponte na direção da camada (i). As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[065] Em uma modalidade adicional da invenção, pelo menos uma camada (i) compreende pelo menos uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) (II) 1 1
R R * O C O C * 2
O 2
R R (X) m n 3 4
R R em que R1 e R2 independentemente um do outro representam hidrogênio, halogênio, preferivelmente cloro ou bromo, alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, arila C6- C10, preferivelmente fenila, e aralquila C7-C12, preferivelmente fenil-C1-C4-alquila, em particular benzila, m é um número inteiro de 4 a 7, preferivelmente 4 ou 5 R3 e R4 individualmente selecionáveis para cada X independentemente um do outro representam hidrogênio ou alquila C1-C6, X representa carbono e n é um número inteiro maior que 20, com a condição de que, para pelo menos um átomo X, R3 e R4 ambos representem alquila, preferivelmente metila, e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato. Nessa modalidade o holograma em relevo pode ser aplicado diretamente na camada (i) com uma estampa de gravação em relevo adequada. As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[066] Em uma modalidade adicional da invenção, pelo menos uma camada (i) compreende pelo menos uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) em que para um a dois átomos X, em particular para apenas um átomo X, R3 e R4 ambos representam alquila, em particular metila, e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato. Nessa modalidade o holograma em relevo pode ser aplicado diretamente na camada (i) com uma estampa de gravação em relevo adequada. As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[067] Em uma modalidade adicional da invenção, pelo menos uma camada (i) compreende pelo menos uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) em que para um a dois átomos X, em particular para apenas um átomo X, R3 e R4 ambos representam alquila, em particular metila, e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato.
Nessa modalidade o holograma em relevo pode ser aplicado diretamente na camada (i) com uma estampa de gravação em relevo adequada. As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[068] Em uma modalidade adicional da invenção o mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) compreende as unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) em uma quantidade de 2% em massa a 60% em massa, preferivelmente de 5% em massa a 55% em massa, de forma particular preferivelmente de 10% em massa a 55% em massa, e pelo menos uma camada adicional (ii) preferivelmente compreende policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo, TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila)
(PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato. Nessa modalidade o holograma em relevo pode ser aplicado diretamente na camada (i) com uma estampa de gravação em relevo adequada. As camadas (i) e (ii) podem também ser transpostas.
[069] Em uma modalidade adicional, pelo menos uma camada (i) e/ou pelo menos uma camada adicional (ii) pode conter um aditivo sensível a laser, preferivelmente um pigmento preto, de forma particular preferivelmente negro-de- fumo. Essa modalidade da invenção é também facilmente acessível à personalização por gravação a laser.
[070] A marcação de películas plásticas por gravação a laser é referida como marcação a laser para simplificação tanto da técnica quanto a seguir. Dessa maneira, a expressão “marcado a laser” a seguir deve ser entendida como marcado por gravação a laser. O processo de gravação a laser é conhecido pelos versados na técnica e não deve ser confundido com impressão usando impressoras a laser.
[071] Aditivos sensíveis a laser adequados incluem, por exemplo, os assim chamados aditivos de marcação a laser, isto é, aditivos compostos de um absorvedor na faixa de comprimento de onda do laser a ser empregado, preferivelmente na faixa de comprimento de onda de lasers Nd:YAG (lasers de granada de ítrio e alumínio dopados com neodímio). Tais aditivos de marcação a laser e o uso dos mesmos em materiais de moldagem são descritos, por exemplo, em WO-A 2004/50766 e WO-A 2004/50767 e são comercialmente disponíveis da DSM sob a marca registrada MicabsTM. Absorvedores igualmente adequados como aditivos sensíveis a laser são negro-de-fumo e óxidos misturados de estanho-cobre contendo fósforo tal como descrito em WO-A 2006/042714, por exemplo.
[072] O aditivo sensível a laser pode estar presente na camada inventiva (i) e/ou (ii) em uma quantidade de 40 a 180 ppm, preferivelmente de 50 a 160 ppm.
[073] O tamanho de partícula do aditivo sensível a laser é preferivelmente na faixa de 100 nm a 10 µm e de forma particular vantajosamente na faixa de 50 nm a 2 µm.
[074] A adição opcional de aditivos sensíveis a laser, preferivelmente pigmentos pretos, de forma particular preferivelmente negro-de-fumo na camada inventiva (i) e/ou (ii) não prejudica o brilho melhorado do holograma em relevo alcançado de acordo com a invenção.
[075] Na estrutura em camadas de acordo com a invenção, pelo menos uma camada (i) e pelo menos uma camada adicional (ii) pode cada uma ter uma espessura de camada na faixa de ≥ 20 a ≤ 200 µm, preferivelmente na faixa de ≥ 25 a ≤ 145 µm, de forma muito particular preferivelmente na faixa de ≥ 30 a ≤ 120 µm.
[076] Em uma modalidade, as camadas (i) e/ou (ii) compreendem monopelículas e/ou películas em múltiplas camadas. De acordo com a invenção as camadas (i) e/ou (ii) podem compreender monopelículas e/ou películas em múltiplas camadas produtíveis por extrusão ou coextrusão e compreendendo os polímeros termoplásticos supramencionados. As camadas (i) e/ou (ii) são preferivelmente monopelículas preferivelmente produtíveis por extrusão.
[077] Em modalidades vantajosas, as camadas (i) e/ou (ii) têm superfícies diferentemente estruturadas. Um lado da camada (i) e/ou (ii) tem uma rugosidade R3z de ≥ 0,5 µm a ≤ 25 µm, preferivelmente ≥ 0,5 µm a ≤ 17 µm, de forma particular preferivelmente ≥ 0,5 µm a ≤ 15 µm. Rugosidade R3z é determinada de acordo com ISO 4287/88. O holograma em relevo é preferivelmente aplicado no lado da camada (i) e/ou (ii) tendo uma rugosidade R3z de ≥ 0,5 µm a ≤ 25 µm, preferivelmente ≥ 0,5 µm a ≤ 17 µm, de forma particular preferivelmente ≥ 0,5 µm a ≤ 15 µm.
[078] Em uma outra modalidade, uma camada adesiva pode ser aplicada na nanoestrutura do holograma em relevo. Isso torna possível melhorar a adesão das camadas individuais no laminado. A presença de uma camada adesiva sobre a nanoestrutura do holograma em relevo não tem nenhum efeito sobre a cor e forma do holograma em relevo. Adesivos adequados incluem todos os adesivos termicamente ativáveis conhecidos pelos versados na técnica. Adesivos termicamente ativáveis, também conhecidos como “adesivos de vedação térmica”, formam revestimentos não bloqueadores em substratos à temperatura ambiente. A ativação é feita por aquecimento e ligação é realizada mediante aplicação de pressão simultânea. Adesivos termicamente ativáveis são geralmente providos com base em poliuretano, poliolefinas, poli(cloreto de vinilideno), poli(acetato de vinila) e poliacrilato como uma dispersão ou em um solvente orgânico.
[079] O processamento é muito similar ao de adesivos de fusão a quente: aquecimento até o amaciamento da camada adesiva, normalmente junto com o segundo parceiro de ligação, ativa o adesivo. Uma vez que molhadura tenha ocorrido, a coesão é constituída por resfriamento sob pressão.
[080] A estrutura em camadas pode opcionalmente compreender camadas adicionais de pelo menos um material termoplástico. Para evitar repetição referência é feita aqui à descrição e modalidades preferidas do material termoplástico descrito a seguir para as camadas (i) e (ii).
[081] Essas camadas adicionais opcionais podem ser películas de camada única ou em múltiplas camadas que podem adicionalmente compreender uma carga, por exemplo. A carga é preferivelmente pelo menos um pigmento de cor e/ou pelo menos uma outra carga para produzir uma translucidez das camadas preenchidas, de forma particular preferivelmente um pigmento branco, de forma muito particular preferivelmente dióxido de titânio, dióxido de zircônio ou sulfato de bário e em uma modalidade preferida dióxido de titânio.
[082] O preenchimento de uma camada adicional na estrutura em camadas de acordo com a invenção com pelo menos uma carga como essa melhora adicionalmente a visibilidade da(s) marcação/imagem(s) incorporada(s), assim também melhorando adicionalmente a percepção de nitidez e resolução melhoradas.
[083] As cargas citadas são preferivelmente adicionadas em quantidades de 2% a 45% em peso, de forma particular preferivelmente de 5% a 30% em peso, com base no total peso da camada contendo a carga que pode ser produzida, por exemplo, por extrusão ou coextrusão.
[084] As camadas inventivas (i) e (ii) preferivelmente não compreendem nenhuma carga e as camadas inventivas (i) e (ii) são de forma particular preferivelmente transparentes. Transparente deve ser entendido como uma transmissão de luz ≥ 75% (determinado de acordo com ISO 13468-2).
[085] A espessura de camada das camadas adicionais opcionalmente presentes na estrutura em camadas de acordo com a invenção pode cada uma ter uma espessura na faixa de ≥ 20 a ≤ 700 µm, preferivelmente na faixa de ≥ 25 a ≤ 250 µm, de forma muito particular preferivelmente na faixa de ≥ 30 a ≤ 120 µm.
[086] A invenção provê adicionalmente um processo para produzir uma estrutura em camadas como descrito anteriormente, compreendendo as etapas de: a) aplicar pelo menos um holograma em relevo a uma camada (i) ou (ii) de uma maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento, em que as camadas (i) ou (ii) cada uma compreende um material termoplástico e em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40°C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 da camada (ii), b) prover opcionalmente uma ou mais camadas adicionais de um material termoplástico, preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas (por exemplo,
TOPAS ™), poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), c) colocar as camadas (i) e (ii) na posição desejada na estrutura em camadas, em que as camadas (i) e (ii) preferivelmente formam camadas externas da estrutura em camadas que podem opcionalmente ser providas com uma camada protetora adicional de um material termoplástico, d) laminar a estrutura em camadas a uma temperatura de 120°C a 210°C, preferivelmente de 130°C a 205°C, de forma particular preferivelmente de 150°C a 200°C, e uma pressão de 10 N/cm² a 400 N/cm², preferivelmente de 30 N/cm² a 300 N/cm², de forma particular preferivelmente de 40 N/cm² a 250 N/cm².
[087] A laminação da estrutura em camadas, que compreende, por exemplo,
uma pilha de duas ou mais películas plásticas, preferivelmente três a quinze películas plásticas, pode ser realizada de acordo com métodos conhecidos. A estrutura em camadas podem ter películas plásticas brancas colocadas nas lâminas do meio e películas plásticas transparentes colocadas nas lâminas externas e preferivelmente essas lâminas externas compreendem pelo menos uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizado em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii) e em que pelo menos um holograma em relevo é aplicado na camada (i) ou (ii) de maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento. Uma película plástica transparente adicional para proteção do holograma em relevo das camadas (i) e (ii) pode opcionalmente ser colocada por cima para proteger o holograma em relevo. Essa pilha de películas plásticas é normalmente alinhada, fixada e prensada em uma prensa de laminação pela ação de calor e pressão por um certo período de tempo, assim formando um compósito monolítico das camadas de película, um assim chamado laminado.
[088] Em uma modalidade, apenas as camadas inventivas (i) e (ii) podem ser laminadas como descrito anteriormente.
[089] A presente invenção provê adicionalmente um documento de segurança, preferivelmente um documento de identidade, contendo a estrutura em camadas supradescritas de acordo com a invenção.
[090] O documento de segurança, preferivelmente documento de identidade, de acordo com a invenção pode compreender adicionalmente camadas adicionais por meio das quais, por exemplo, informação adicional pode ser introduzida no documento de segurança, preferivelmente documento de identidade.
[091] Tal informação adicional pode ser, por exemplo, retratos de personalização ou informação geral de não personalização contidos na mesma forma em cada documento de segurança, preferivelmente documento de identidade, do mesmo tipo.
[092] Tais camadas podem ser, por exemplo, introduzidos no documento de segurança, preferivelmente documento de identidade, de películas previamente conferidas com essa informação por meio de processos de impressão convencionais, preferivelmente impressão por jato de tinta ou laser, de forma particular preferivelmente impressão a cor.
[093] Películas para impressão a jato de tinta são conhecidas per se pelos versados na técnica e podem ser películas compreendendo os materiais termoplásticos supramencionados. Em modalidades particularmente preferidas películas plásticas de cor branca ou translúcida usando cargas tais como, por exemplo, dióxido de titânio, zircônio dióxido, sulfato de bário etc. são empregados para melhor legibilidade da informação impressa.
[094] Películas adequadas para impressão por impressão a laser, em particular. por impressão a laser em cores, são aquelas compreendendo os materiais termoplásticos descritos anteriormente, em particular aqueles tendo uma resistência de superfície específica de 107 a 1013 Ω, preferivelmente de 108 a 1012 Ω. Resistência de superfície específica em Ω é determinada de acordo com DIN IEC 60093 (1993).
[095] Tais películas podem preferivelmente ser películas onde antes da produção de película o plástico foi misturado, por exemplo, com um aditivo selecionado de sais de amônio ou fosfônio terciários ou quaternários, preferivelmente quaternários, de um ácido parcialmente orgânico ou perfluorado ou hexafluorfosfatos de amônio ou fosfônio quaternário, preferivelmente um ácido alquilsulfônico parcialmente ou perfluorado, preferivelmente um ácido perfluoralquilsulfônico, para alcançar a resistência de superfície específica. Esses aditivos podem também estar presentes nas camadas inventivas (i) e/ou (ii).
[096] Preferido amônio ou sais de fosfônio quaternários adequados são: - perfluoroctanossulfonato de tetrapropilamônio,
- perfluorbutanossulfonato de tetrapropilamônio, - perfluoroctanossulfonato de tetrabutilamônio, - perfluorbutanossulfonato de tetrabutilamônio, - perfluoroctanossulfonato de tetrapentilamônio - perfluorbutanossulfonato de tetrapentilamônio - perfluoroctanossulfonato de tetra-hexilamônio - perfluorbutanossulfonato de tetra-hexilamônio - perfluorbutanossulfonato de trimetilneopentilamônio - perfluoroctanossulfonato de trimetilneopentilamônio - perfluorbutanossulfonato de dimetildineopentilamônio - perfluoroctanossulfonato de dimetildineopentilamônio - perfluorbutilsulfonato de N-metiltripropilamônio, - perfluorbutilsulfonato de N-etiltripropilamônio, - perfluorbutilsulfonato de tetrapropilamônio, - perfluorbutilsulfonato de di-isopropildimetilamônio, - perfluoroctilasulfonato de di-isopropildimetilamônio, - perfluoroctilsulfonato de N-metiltributilamônio, - perfluoroctilsulfonato de ciclo-hexildietilmetilamônio, - perfluoroctilsulfonato de ciclo-hexiltrimetilamônio e os sais de fosfônio correspondentes. Os sais de amônio são preferidos.
[097] É também possível empregar um ou mais dos supramencionados quaternário amônio ou sais de fosfônio, isto é, também misturas.
[098] Preferência muito particular é dada a perfluoroctanossulfonato de tetrapropilamônio, perfluoroctanossulfonato de tetrabutilamônio, perfluoroctanossulfonato de tetrapentilamônio, perfluoroctanossulfonato de tetra- hexilamônio e perfluoroctanossulfonato de dimetildi-isopropilamônio e os sais de perfluorbutanossulfonato correspondentes.
[099] Em uma modalidade particularmente muito preferida,
perfluorbutanossulfonato de dimetildi-isopropilamônio pode ser usado como um aditivo.
[0100] Os sais citados são conhecidos ou são produtíveis por métodos conhecidos. Os sais dos ácidos sulfônicos são preparáveis, por exemplo, por combinação de quantidades equimolares do ácido sulfônico livre com a forma hidroxila do cátion correspondente em água à temperatura ambiente e concentração da solução. Outros processos de produção são descritos, por exemplo, em DE-A 1 966 931 e NL-A 7 802 830.
[0101] Os sais citados são preferivelmente adicionados aos materiais termoplásticos em quantidades de 0,001% a 2% em peso, preferivelmente de 0,1% a 1% em peso, antes de modelagem para disponibilizar a película de acordo com a invenção que pode ser realizada, por exemplo, por extrusão ou coextrusão.
[0102] A invenção provê adicionalmente um laminado compreendendo a estrutura em camadas de acordo com a invenção
[0103] A invenção provê adicionalmente o uso de uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizado em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii), para aplicar pelo menos um holograma em relevo, em que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponta na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento.
[0104] A invenção provê adicionalmente o uso de pelo menos uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizado em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii) e em que pelo menos um holograma em relevo é aplicado na camada (i) ou (ii) de maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento, para produzir um compósito de camada, preferivelmente um laminado.
[0105] Os exemplos que seguem são destinados à elucidação exemplar da invenção e não devem ser visto como limitantes.
[0106] Makrolon TM 3108 (M.3108): policarbonato de bisfenol A termoplástico amorfo de alta viscosidade tendo um MVR de 6 g/10 min de acordo com ISO 1133 a 300°C e 1,2 kg da Covestro AG.
[0107] EastarTM DN 010 (DN 010): Poli ou copolicondensado de ácido tereftálico composto de 54,9% em peso de ácido tereftálico, 9,3% em peso (38 mol% com base no componente de diol) de etileno glicol e 35,8% em peso (62 mol% com base no componente de diol) de ciclo-hexano-1,4-dimetanol tendo uma viscosidade inerente de 0,74 dl/g (medida em uma mistura 1:1 de fenol e tetracloroetano a 25°C) da Eastman Chemical Company.
[0108] PocanTM B 1600 (PBT 1600): policondensado não modificado de ácido tereftálico e 1,4-butanodiol como o componente de diol tendo um volume do fluxo de material derretido (MVR) de 14 g/10 min de acordo com ISO 1133 a 260°C e 2,16 kg da Lanxess AG. MATÉRIA-PRIMA 1: PRODUÇÃO DE UM DERIVADO DE
[0109] 205,7 g (0,90 mol) de bisfenol A (2,2-bis(4-hidroxifenil)propano), 30,7 g (0,10 mol) de 1,1-bis(4-hidroxifenil)-3,3,5-trimetilciclo-hexano, 336,6 g (6 mol) de KOH e 2.700 g de água são dissolvidos com agitação em uma atmosfera de gás inerte. Uma solução de 1,88 g de fenol em 2.500 ml de cloreto de metileno é então adicionada. 198 g (2 mol) de fosgeno foram introduzidos na solução bem agitada a pH 13 a 14 e 21°C a 25°C. 1 ml de etilpiperidina é então adicionado e a mistura é agitada por 45 min. A fase aquosa sem bisfenóxido é removida, a fase orgânica é acidificada com ácido fosfórico, neutralizada lavando com água e livre de solvente.
[0110] O derivado de policarbonato A mostrou uma temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) de 183°C.
[0111] O aparelho empregado consiste em * uma extrusora tendo um parafuso de 105 mm de diâmetro (D) e um comprimento de 41xD. O parafuso tem uma zona de desvolatilização; * uma cruzeta; * uma matriz de fenda de extrusão de 1.500 mm de largura; * uma calandra de desempenho de três rolos com orientação de rolo horizontal, em que o terceiro rolo pode girar por +/- 45° com relação à horizontal; * um transferidor de rolos; * um aparelho para aplicação dupla face de película protetora; * um dispositivo de extração; * uma estação de bobinamento.
[0112] O material peletizado foi suprido na tremonha da extrusora. Fusão e transporte do material foram realizados no sistema de plastificação de barril/parafuso. O fundido passou pela matriz sobre a calandra de desempeno. Na calandra de desempeno, o material é submetido a modelamento e resfriamento final. Estruturação das superfícies da película foi alcançada usando um cilindro de aço fosco (superfície nº 6) e um cilindro de borracha finamente fosco (superfície nº 2). A película foi então transportada através de um dispositivo de extração antes de ser bobinada. As composições das películas nos exemplos são descritas na tabela 1.
TABELA 1: COMPOSIÇÃO DE PELÍCULAS DE EXTRUSÃO (EXEMPLOS 1 A 2) Temperatura de VST/B/50 (ISO Formulação fundição 306) Película 1 M.3108 260°C 126°C µm, 80% transparente DN 010 14,3% PBT 1600 5,7% Película 2 Matéria-prima 1 100 330°C 183°C Monopelícula % 100 µm, transparente Película 3 M.3108 100 % 280°C 148°C Monopelícula 100 µm, transparente
[0113] Película 4: Película de poliéster tendo holograma em relevo e camada adesiva no lado sem relevo da película de poliéster, da Krypten. A espessura total da película foi 23 µm.
[0114] Película 5: Película carreadora de poliéster 22 µm tendo uma camada de separação, tendo uma camada de metal e uma camada adesiva que são aplicadas no lado da camada de separação. A camada de metal é depositada com vapor sobra a película carreadora de poliéster tendo uma camada de separação por metalização a vácuo. O revestimento adesivo é subsequentemente aplicado no lado metalizado da película. A camada adesiva é uma camada adesiva fina 1 µm de um adesivo ativável termicamente.
PRODUÇÃO DE ESTRUTURAS EM CAMADAS EXEMPLO 1:
APLICAÇÃO DO HOLOGRAMA NA PELÍCULA 3
[0115] - Película 4 foi colada no lado finamente fosco (lado nº 2) da película 3 e a nanoestrutura foi aplicada na película 4 de maneira tal que essa nanoestrutura ficasse voltada para fora da película 3. Película 3 e película 4 foram ligadas por laminação com cilindros tendo os seguintes parâmetros. Temperatura dos cilindros: 150°C. - Pressão: 5 N/cm2 - Velocidade de laminação: 1 metro/minuto ESTRUTURA EM CAMADAS 1:
[0116] Película 1 foi colocada sobre o compósito da película da película 3 e película 4, com seu lado finamente fosco (lado nº 2) em contato com a película 4 (fig. 1). Essa estrutura em camadas foi laminada em uma prensa de laminação Bürkle com os seguintes parâmetros: - preaquecimento da prensa a 190°C - prensagem por 4 minutos a uma pressão de 15 N/cm² - prensagem por 1 minuto a uma pressão de 200 N/cm² - resfriamento da prensa a 38°C, abertura da prensa e remoção do laminado. EXEMPLO 2 (COMPARATIVO):
[0117] Uma estrutura em camadas adicional 2 foi produzida analogamente ao exemplo 1, mas com a exceção de que a película 3 foi usada em vez da película 1 (fig. 2)
[0118] Avaliação visual dos laminados 1 e 2 mostrou claramente que os hologramas em relevo no laminado inventivo 1 exibem um melhor brilho. Além do mais, os detalhes dos formatos representados e a refração de luz do holograma em relevo foram virtualmente inalterados. EXEMPLO 3:
[0119] No lado finamente fosco (lado nº 2) da película 2, nanogravuras são gravadas em relevo na superfície da película por gravação em relevo a quente.
Antes do processo de gravação em relevo uma camada fina de metal é depositada com vapor sobre a estampa de gravação em relevo em uma espessura de apenas alguns nanômetros por metalização a vácuo. A estampa de gravação em relevo tem um revestimento especial para prevenir adesão permanente da camada de metal na estampa. No lado no qual a gravação em relevo deve ser efetuada a película é provida com uma camada fina de um adesivo ativável termicamente, a saber, com o adesivo do tipo S32380 da Apollo Inks.
[0120] O processo de gravação em relevo da película é realizado em uma câmara a vácuo para permitir metalização contínua da estampa de gravação em relevo e com os parâmetros de gravação em relevo descritos a seguir: Temperatura de estampa de gravação em relevo: 210°C Pressão de gravação em relevo: 500 N/cm² Tempo de gravação em relevo: 1,5 s. ESTRUTURA EM CAMADAS 3:
[0121] Película 3 é colocada com seu lado finamente fosco (lado nº 2) no lado finamente fosco em relevo (lado nº 2) da película 2 em contato com a película 2 (fig. 3). A laminação da estrutura em camadas foi realizada em uma prensa de laminação Bürkle com os seguintes parâmetros: - preaquecimento da prensa a 190°C - prensagem por 4 minutos a uma pressão de 15 N/cm² - prensagem por 1 minuto a uma pressão de 200 N/cm² - resfriamento da prensa a 38°C, abertura da prensa e remoção do laminado. EXEMPLO 4 (COMPARATIVO):
[0122] Uma estrutura em camadas adicional 4 é produzida analogamente ao exemplo 3, mas com a exceção de que a película 3 é usada em vez da película 2 (fig. 4).
[0123] Avaliação visual dos laminados 3 e 4 mostra claramente que os hologramas em relevo no laminado inventivo 3 exibem um melhor brilho. Os detalhes dos formatos representados e a refração de luz do holograma em relevo foram virtualmente inalterados. EXEMPLO 5:
[0124] Película 5 é ligada no lado finamente fosco (lado nº 2) da película 2 e fixada por laminação com cilindros de acordo com os seguintes parâmetros: - Temperatura de rolos: 150°C - Pressão: 5 N/cm2 - Velocidade de laminação: 1 m/minuto
[0125] A película carreadora de 22 µm de espessura da película 5 é subsequentemente removida.
[0126] A gravação em relevo do holograma na película 2 é realizada no lado compreendendo a camada adesiva e de metal transferida da película 5 de acordo com os seguintes parâmetros de gravação em relevo: - Temperatura de estampa de gravação em relevo: 210°C - Pressão de gravação em relevo: 500 N/cm² - Tempo de gravação em relevo: 1,5 s. ESTRUTURA EM CAMADAS 5:
[0127] Película 3 é colocada com seu lado finamente fosco (lado nº 2) sobre a película 2 em relevo em contato com a película 5 (fig. 5). Essa estrutura em camadas é laminada em uma prensa de laminação Bürkle com os seguintes parâmetros: - preaquecimento da prensa a 190°C - prensagem por 4 minutos a uma pressão de 15 N/cm² - prensagem por 1 minuto a uma pressão de 200 N/cm² - resfriamento da prensa a 38°C, abertura da prensa e remoção do laminado. EXEMPLO 6 (COMPARATIVO)
[0128] Uma estrutura em camadas 6 é produzida analogamente ao exemplo 5, mas com a exceção de que a película 3 é usada em vez da película 2 (fig. 6).
[0129] Avaliação visual dos laminados 5 e 6 mostra claramente que os hologramas em relevo no laminado inventivo 5 exibem um melhor brilho. Os detalhes dos formatos representados e a refração de luz do holograma em relevo foram virtualmente inalterados. EXEMPLO 7:
[0130] Um holograma em relevo é aplicado na película 3 como descrito no exemplo 1. ESTRUTURA EM CAMADAS 7:
[0131] Uma camada adesiva do adesivo ativável termicamente ChemipearlTM V200 da Mitsui Chemicals foi aplicada por impressão em tela sobre o compósito da película das películas 3 e 4, a saber, no lado do holograma em relevo da película 4 em uma espessura de camada de cerca de 3 µm (figura 7). Um película adicional 1 foi colocada na camada adesiva de maneira que o lado finamente fosco (lado nº 2) de película 1 fique em contato com a camada adesiva. Essa estrutura em camadas foi laminada em um prensa de laminação Bürkle com os parâmetros ados no exemplo 1. EXEMPLO 8 (COMPARATIVO):
[0132] Uma estrutura em camadas adicional 8 foi produzida como descrito no exemplo 7, mas com a exceção de que a película 3 foi usada em vez da película 1 (figura 8).
[0133] Avaliação visual dos laminados dos exemplos 7 e 8 mostrou claramente que os hologramas em relevo no laminado inventivo do exemplo 7 exibem um melhor brilho. Além do mais, os detalhes dos formatos representados e a refração de luz do holograma em relevo foram virtualmente inalterados. A presença de uma camada adesiva entre o holograma em relevo e a película 1 ou 3 não tem nenhum efeito sobre a aparência do holograma em relevo.
[0134] Figuras 1 a 8 mostram diagramas esquemáticos da estrutura em camadas de laminados 1 a 8 com as películas empregadas em cada caso. Os números no lado esquerdo das camadas individuais da película indicam a estrutura da superfície da película correspondente: Estruturação das superfícies da película foi alcançada usando um rolo de aço fosco (superfície nº 6) e um rolo de borracha finamente fosco (superfície nº 2).
Claims (15)
1. Estrutura em camadas contendo pelo menos uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizada por a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) ser ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii) e em que pelo menos um holograma em relevo é aplicado na camada (i) ou (ii) de maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento.
2. Estrutura em camadas de acordo com a reivindicação 1, caracterizada por as camadas (i) e/ou (ii) compreenderem monopelículas e/ou películas em múltiplas camadas.
3. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 ou 2, caracterizada por o material termoplástico de pelo menos uma camada (i) e pelo menos uma camada adicional (ii) ser pelo menos um plástico selecionado de polímeros de monômeros etilenicamente insaturados e/ou policondensados de compostos reativos difuncionais e/ou produtos de poliadição de compostos reativos difuncionais ou misturas dos mesmos.
4. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 3, caracterizada por o material termoplástico das camadas (i) e (ii) ser selecionado do grupo de policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, preferivelmente poli(metacrilatos de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas, poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados.
5. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 4, caracterizada por o material termoplástico das camadas (i) e (ii) ser selecionado do grupo de policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados.
6. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 5, caracterizada por pelo menos uma camada (i) ou (ii) compreender um material termoplástico compreendendo: a) pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo-hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol% com base no componente de diol, b) uma mistura de pelo menos um ou mais poli ou copolicondensado (s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono com um ou mais poli ou copolicarbonato(s), em que a proporção de poli ou copolicarbonato (s) nesta mistura é em uma faixa de > 0% em peso a ≤ 90% em peso, preferivelmente > 0% em peso a ≤ 80% em peso, e em que o poli ou copolicondensado(s) de um ácido aromático e/ou cicloalquil dicarboxílico e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono compreendem uma proporção de 1,4-ciclo- hexanodimetanol, 1,3-ciclo-hexanodimetanol e/ou 2,2,4,4-tetrametil-1,3- ciclobutanodiol em uma faixa de ≥ 20 a ≤ 80 mol%, preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 75 mol%, de forma particular preferivelmente em uma faixa de ≥ 25 a ≤ 70 mol%, com base no componente de diol, ou c) uma mistura de poli ou copolicarbonatos contendo unidades estruturais de carbonato difuncional da fórmula (II) 1 1
R R * O C O C * 2
O 2
R R (X) m n 3 4
R R (II) em que R1 e R2 independentemente um do outro representam hidrogênio, halogênio, preferivelmente cloro ou bromo, alquila C1-C8, cicloalquila C5-C6, arila C6- C10, preferivelmente fenila, e aralquila C7-C12, preferivelmente fenil-C1-C4-alquila, em particular benzila, m é um número inteiro de 4 a 7, preferivelmente 4 ou 5, R3 e R4 individualmente selecionáveis para cada X independentemente um do outro representam hidrogênio ou alquila C1-C6, X representa carbono e n é um número inteiro maior que 20, com a condição de que, para pelo menos um átomo X, R3 e R4 ambos representem alquila.
7. Estrutura em camadas de acordo com a reivindicação 6, caracterizada por a camada adicional (i) ou (ii) compreender um material termoplástico do grupo de policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas, poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo- hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co- policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC), de forma muito particular preferivelmente pelo menos um policarbonato ou copolicarbonato.
8. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 7, caracterizada por pelo menos uma camada (i) e pelo menos uma camada adicional (ii) terem uma espessura de camada na faixa de ≥ 20 a ≤ 200 µm, preferivelmente na faixa de ≥ 25 a ≤ 145 µm, de forma muito particular preferivelmente na faixa de ≥ 30 a ≤ 120 µm.
9. Estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 8, caracterizada por pelo menos uma camada (i) e/ou (ii) compreender um aditivo sensível a laser, preferivelmente um pigmento preto, de forma particular preferivelmente negro-de-fumo.
10. Estrutura em camadas de acordo com a reivindicação 9, caracterizada por o aditivo sensível a laser estar presente nessa camada em uma quantidade de 40 a 180 ppm.
11. Processo para produzir uma estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 10, caracterizado por compreender as etapas de: A) aplicar pelo menos um holograma em relevo a uma camada (i) ou (ii) de uma maneira tal que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponte na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento, em que as camadas (i) ou (ii) cada uma compreendem um material termoplástico e em que a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) é ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40°C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii), b) prover opcionalmente uma ou mais camadas adicionais de um material termoplástico, preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, e preferivelmente poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli ou copolímeros com estireno, por exemplo, e preferivelmente poliestireno (PS) ou poliestireno acrilonitrila (SAN), poliuretanos termoplásticos e poliolefinas, por exemplo, e preferivelmente, tipos de polipropileno ou poliolefinas com base em olefinas cíclicas, poli ou copolicondensados de um ácido dicarboxílico aromático e dióis alifáticos, cicloalifáticos e/ou aralifáticos tendo 2 a 16 átomos de carbono, por exemplo, e preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido tereftálico, de forma particular preferivelmente poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) (PCTG) ou poli ou copoli(tereftalato de butileno) modificado com glicol (PBT ou CoPBT), preferivelmente poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, de forma particular preferivelmente poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli ou copolicondensado(s) de pelo menos um ácido cicloalquil dicarboxílico, por exemplo, e preferivelmente ácido policiclo-hexanodimetanolciclo-hexano dicarboxílico (PCCD), polissulfonas (PSU), poli(haletos de vinila), por exemplo, e preferivelmente poli(cloreto de vinila) (PVC), ou misturas dos supramencionados, de forma particular preferivelmente policarbonatos ou copolicarbonatos com base em difenóis, poli ou copoliacrilatos e poli ou copolimetacrilatos, por exemplo, poli(metacrilato de metila) (PMMA), poli- ou co-policondensados de ácido tereftálico, por exemplo, poli ou copoli(tereftalato de etileno) (PET ou CoPET), PET modificado com glicol (PETG), poli ou copoli(tereftalato de ciclo-hexanodimetileno) modificado com glicol (PCTG), poli ou copoli(tereftalato de butileno) (PBT ou CoPBT), poli ou copolicondensados de ácido naftaleno dicarboxílico, por exemplo, poli(naftalato de etileno glicol) (PEN), poli(haletos de vinila), por exemplo, poli(cloreto de vinila) (PVC). c) colocar as camadas (i) e (ii) na posição desejada na estrutura em camadas, em que as camadas (i) e (ii) preferivelmente formam camadas externas da estrutura em camadas que pode opcionalmente ser provida com uma camada protetora adicional de um material termoplástico. d) laminar a estrutura em camadas a uma temperatura de 120°C a 210°C, preferivelmente de 130°C a 205°C, de forma particular preferivelmente de 150°C a 200°C, e uma pressão de 10 N/cm² a 400 N/cm², preferivelmente de 30 N/cm² a 300 N/cm², de forma particular preferivelmente de 40 N/cm² a 250 N/cm².
12. Documento de segurança, preferivelmente documento de identidade, caracterizado por conter pelo menos uma estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 10.
13. Laminado caracterizado por compreender uma estrutura em camadas de acordo com as reivindicações 1 a 10.
14. Uso de uma camada (i) compreendendo um material termoplástico e pelo menos uma camada adicional (ii) compreendendo um material termoplástico, caracterizado por a temperatura de amolecimento Vicat B/50 determinada de acordo com ISO 306 (50N; 50°/h) da camada (i) ser ≥ 3°C a ≤ 45°C, preferivelmente ≥ 10°C a ≤ 40 ° C, de forma particular preferivelmente ≥ 15°C a ≤ 30°C, maior ou menor que a temperatura de amolecimento da camada (ii), para aplicar pelo menos um holograma em relevo, em que a nanoestrutura de pelo menos um holograma em relevo aponta na direção da camada tendo a menor temperatura de amolecimento.
15. Uso de acordo com a reivindicação 14, caracterizado por produzir um laminado, preferivelmente um documento de segurança, de forma particular preferivelmente um documento de identidade.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP17209900.4A EP3501819A1 (de) | 2017-12-22 | 2017-12-22 | Kunststofffolien für id-dokumente mit verbesserter helligkeit von prägehologrammen |
EP17209900.4 | 2017-12-22 | ||
PCT/EP2018/084663 WO2019121278A1 (de) | 2017-12-22 | 2018-12-13 | Kunststofffolien für id-dokumente mit verbesserter helligkeit von prägehologrammen |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BR112020012247A2 true BR112020012247A2 (pt) | 2020-11-24 |
Family
ID=60782001
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BR112020012247-5A BR112020012247A2 (pt) | 2017-12-22 | 2018-12-13 | películas plásticas para documentos de id com melhor clareza de hologramas em relevo |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11731411B2 (pt) |
EP (2) | EP3501819A1 (pt) |
KR (1) | KR102631144B1 (pt) |
CN (1) | CN111479692A (pt) |
BR (1) | BR112020012247A2 (pt) |
CA (1) | CA3078159A1 (pt) |
FI (1) | FI3727851T3 (pt) |
WO (1) | WO2019121278A1 (pt) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4073151A1 (de) * | 2019-12-12 | 2022-10-19 | Covestro Intellectual Property GmbH & Co. KG | Folien mit besonderen eigenschaften |
WO2023285358A1 (de) * | 2021-07-14 | 2023-01-19 | Covestro Deutschland Ag | Folienaufbau geeignet zur schnellen lamination |
EP4119344A1 (de) * | 2021-07-14 | 2023-01-18 | Covestro Deutschland AG | Spezielle polymerschichten zur schnelleren laminierbarkeit von mehrschichtaufbauten |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL152889B (nl) | 1967-03-10 | 1977-04-15 | Gen Electric | Werkwijze ter bereiding van een lineair polycarbonaatcopolymeer, alsmede orienteerbare textielvezel van dit copolymeer. |
FR1580834A (pt) | 1968-01-04 | 1969-09-12 | ||
DE1966931C3 (de) | 1969-06-11 | 1978-11-02 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Perfluoralkylsubstituierte, quartäre Ammoniumsalze |
JPS5039599B2 (pt) | 1973-03-30 | 1975-12-18 | ||
DE2407776A1 (de) | 1974-02-19 | 1975-09-04 | Licentia Gmbh | Schaltung zur regelung der betriebsspannung fuer die transistor-zeilenendstufe eines fernsehempfaengers |
DE2715932A1 (de) | 1977-04-09 | 1978-10-19 | Bayer Ag | Schnellkristallisierende poly(aethylen/alkylen)-terephthalate |
NL189707C (nl) | 1978-03-15 | 1993-07-01 | Bayer Ag | Werkwijze voor het bereiden van tetra-ethylammoniumperfluoralkylsulfonaat. |
US4641017A (en) * | 1983-12-15 | 1987-02-03 | Herman Lopata | Fraud resistant credit card system |
EP0339079B1 (en) * | 1987-10-26 | 1997-02-05 | Van Leer Metalliized Products (Usa) Limited | Embossing of coated sheets |
NO170326C (no) | 1988-08-12 | 1992-10-07 | Bayer Ag | Dihydroksydifenylcykloalkaner |
DE3832396A1 (de) | 1988-08-12 | 1990-02-15 | Bayer Ag | Dihydroxydiphenylcycloalkane, ihre herstellung und ihre verwendung zur herstellung von hochmolekularen polycarbonaten |
US5200253A (en) * | 1989-08-09 | 1993-04-06 | Dai Nippon Insatsu Kabushiki Kaisha | Hologram forming sheet and process for producing the same |
DE10007916A1 (de) * | 2000-02-21 | 2001-08-23 | Giesecke & Devrient Gmbh | Mehrschichtige, laminierte Karte mit eingelagertem, Reliefstrukturen aufweisenden Sicherheitselement |
JP3333901B2 (ja) * | 2000-03-01 | 2002-10-15 | ラミネート工業株式会社 | 透明ホログラムラミネート金属板及びその製造方法 |
DE10012421A1 (de) * | 2000-03-15 | 2001-09-20 | Roehm Gmbh | Kunststoffverbunde und Verfahren zu ihrer Herstellung |
JP4683597B2 (ja) * | 2000-06-23 | 2011-05-18 | 大日本印刷株式会社 | ホログラム転写箔 |
US7101644B2 (en) | 2000-06-23 | 2006-09-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Hologram transfer foil |
BRPI0316929B8 (pt) | 2002-12-04 | 2016-05-17 | Dsm Ip Assets Bv | aditivo absorvedor de luz de laser, seu processo de preparação, composição gravável a laser, objeto, pasta ou látex |
CN100595630C (zh) * | 2003-03-12 | 2010-03-24 | 艾利丹尼森公司 | 光透射滤光器及其制造方法 |
DE102004050557B4 (de) | 2004-10-15 | 2010-08-12 | Ticona Gmbh | Lasermarkierbare Formmassen und daraus erhältliche Produkte und Verfahren zur Lasermarkierung |
US20070100122A1 (en) * | 2005-10-28 | 2007-05-03 | Crawford Emmett D | Polyester compositions containing cyclobutanediol and articles made therefrom |
GB2432224A (en) * | 2005-11-15 | 2007-05-16 | Technical Dev & Invest Ltd | Apparatus and method for producing a volume reflection hologram |
EP2042576A1 (en) * | 2007-09-20 | 2009-04-01 | Agfa-Gevaert | Security laminates with interlaminated transparent embossed polymer hologram. |
EP2172336A1 (de) * | 2008-09-24 | 2010-04-07 | Bayer MaterialScience AG | Fälschungssichere Sicherheitsmerkmale in Sicherheits- oder Wertdokumenten |
RU2535713C2 (ru) * | 2009-02-04 | 2014-12-20 | Байер Матириальсайенс Аг | Слоистая структура и пленки для идентификационных документов с улучшенной пригодностью для лазерного гравирования |
EP2218579A1 (de) * | 2009-02-13 | 2010-08-18 | Bayer MaterialScience AG | Verbessertes Verfahren zur Herstellung eines laminierten Schichtverbundes |
DE102009033504A1 (de) * | 2009-07-15 | 2011-01-27 | Mann + Hummel Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Kennzeichnung von Gegenständen, insbesondere von Bauteilen eines Kraftfahrzeugs, mit einem Prägehologramm und derartig gekennzeichnete Gegenstände |
DE102011050746A1 (de) | 2011-05-31 | 2012-12-06 | Hologram Industries Research Gmbh | Mehrschichtkörper, Verfahren zu dessen Herstellung und Herstellung fälschungssicherer Dokumente unter dessen Verwendung |
-
2017
- 2017-12-22 EP EP17209900.4A patent/EP3501819A1/de not_active Ceased
-
2018
- 2018-12-13 US US16/954,023 patent/US11731411B2/en active Active
- 2018-12-13 FI FIEP18814946.2T patent/FI3727851T3/fi active
- 2018-12-13 CA CA3078159A patent/CA3078159A1/en active Pending
- 2018-12-13 KR KR1020207016457A patent/KR102631144B1/ko active IP Right Grant
- 2018-12-13 EP EP18814946.2A patent/EP3727851B1/de active Active
- 2018-12-13 WO PCT/EP2018/084663 patent/WO2019121278A1/de unknown
- 2018-12-13 BR BR112020012247-5A patent/BR112020012247A2/pt not_active Application Discontinuation
- 2018-12-13 CN CN201880083051.1A patent/CN111479692A/zh active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3501819A1 (de) | 2019-06-26 |
KR20200099139A (ko) | 2020-08-21 |
EP3727851A1 (de) | 2020-10-28 |
US20210001614A1 (en) | 2021-01-07 |
WO2019121278A1 (de) | 2019-06-27 |
CN111479692A (zh) | 2020-07-31 |
US11731411B2 (en) | 2023-08-22 |
FI3727851T3 (fi) | 2023-04-03 |
KR102631144B1 (ko) | 2024-01-31 |
CA3078159A1 (en) | 2019-06-27 |
EP3727851B1 (de) | 2023-01-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CA2751201C (en) | Layer structure and films for id documents having improved properties for laser engraving | |
US9079443B2 (en) | ID cards with blocked laser engraving writability | |
US20110193337A1 (en) | Forgery-proof security features in security or value documents | |
BR112020012247A2 (pt) | películas plásticas para documentos de id com melhor clareza de hologramas em relevo | |
CA2752100A1 (en) | Improved method for producing a laminated layer composite | |
JP6101289B2 (ja) | 染料拡散熱転写印刷により印刷するためのプラスチックフィルム | |
KR20210099555A (ko) | 층상 구조물에서의 높은 비캣 연화 온도를 갖는 플라스틱 필름 | |
BR112021008979A2 (pt) | películas plásticas que têm alta opacidade e baixa transparência para documentos de id que têm uma janela transparente | |
CN110088175B (zh) | 具有改进的激光雕刻能力和改进的化学品耐受性的用于id文件的塑料薄膜 | |
CN111542565B (zh) | 具有降低的uv活性的塑料膜 | |
CN117642290A (zh) | 适合于快速层压的膜结构 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B350 | Update of information on the portal [chapter 15.35 patent gazette] | ||
B11A | Dismissal acc. art.33 of ipl - examination not requested within 36 months of filing | ||
B11Y | Definitive dismissal - extension of time limit for request of examination expired [chapter 11.1.1 patent gazette] |