TW200944790A

TW200944790A - Method and system of manufacturing test strip lots having a predetermined calibration characteristic

Info

Publication number: TW200944790A
Application number: TW98101451A
Authority: TW
Inventors: Gavin Macfie; Robert Marshall; Manuel Alvarez-Icaza; Kevin Delaney; Keith Duffus; Tim Jarvis; Martin Lamacka; Nicholas Phippen; Robert Russell
Original assignee: Lifescan Scotland Ltd
Priority date: 2008-01-18
Filing date: 2009-01-16
Publication date: 2009-11-01
Also published as: US20090208734A1; EP2245445A1; CN101978258A; WO2009090392A1; EP2278315A1; EP2245445B1; EP2284528A1; AR070190A1; ES2626637T3; US20120261258A1; EP2284527A1

Description

200944790 六、發明說明：【發明所屬之技術領域】本申請案係關於以下共同待審專利申請案：2008年1 月18日申請之美國專利申請案序號第61/022218號（代理 5 人案號 DDI5156USPSP )，發明名稱為” a Method of Manufacturing Test Strip Lots Having A Predetermined Calibration Characteristic” ；及 2008 年 2 月 15 日申請之美國專利申請案序號第61/029301號（代理人案號 DDI5159USPSP)，發明名稱為” A Method of Preparing Test ίο Strip Lots Having A Signal Response With A Reduced

Variability” ； 2008年4月7曰申請之美國專利申請案序號第61/043080號（代理人案號DDI5165USPSP)，發明名稱為，，Method and System of Manufacturing Test Strip Lots Having A Predetermined Calibration Characteristic” ； 2008 15 年4月7日申請之美國專利申請案序號第61/043086號（代理人案號 DDI5166USPSP )，發明名稱為” Test Strips Having Low-Variability in Screen-Printing of Electrode Patterns with Method Therefore” ； 2008年5月7曰申請之美國專利申請案序號第61/051285號（代理人案號DDI5167USPSP)，發 2〇明名稱為” Method and System of Manufacturing Test Strip

Lots Having a Predetermined Calibration Characteristic” ； 2008年6月10曰申請之美國專利申請案序號第61/060353 號（代理人案號DDI5156USPSP1)，發明名稱為” Method and System of Manufacturing Test Strip Lots having a 200944790

Predetermined Calibration Characteristic” ；以上專利申請案之内容以引用的方式併入本文中。【先前技術】電化學葡萄糖試紙、譬如用在由LifeScan，Inc.出品之 5 〇neT〇uch®Ultra®全血測試套組的試紙係經設計用於測量取自糖尿病患者之一血樣中的葡萄糖濃度。葡萄糖的測量可為基於葡萄糖被酵素葡萄糖氧化酶（GO)之選擇性氧化鬱作用。在一葡萄糖試紙中發生的反應可總括為以下方程式i 和2 〇 10 式 1 Glucose + GO㈣ + Gluconic Acid+ G0_ 式 2 GO(red)+ 2Fe(CN>63*->GO(ox) +2Fe(CN)64* 如方程式1所示，葡萄糖被葡萄糖氧化酶之已氧化形式（GC^a)氧化成葡萄糖酸。應注意〇〇(。幻亦可被稱為一” 氧化態酵素”。在方程式1的反應當中，氧化態酵素G〇(t)x) 15 被轉變成其已還原狀態，此被標示為GO(red)(亦即，，還= ❹ 態酵素’’）。接下來，還原態酵素因如方程式2所示與Fe(CN)63·(稱為氧化態媒介或鐵氰化物）之反應而被再氧化變回GO&X；)。在GO^e#再生變回其已氧化狀態g〇(m) 期間，Fe(CN)63·還原成Fe(CN)64-(稱為還原態媒^或亞= 20 氣化物）。當上述反應係在有一測試電壓施加於兩電極之間的條件下進行時，可因電極表面處之還原態媒介之電化學再氧化作用而產生一測試電流。因此，由於在一理想環境中於上述化學反應期間產生的亞鐵氰化物量係與被放在電極之 7 200944790 ”中之葡萄糖量成正比’產生的測本之葡萄糖含量成比例。諸如鐵氰化物的—媒^與讀樣合物’其接受來卜酵素譬如㈣橋氧化酶的電子，化這些電子送給-電極。隨著縣中之葡萄糖濃 ^將成的還原祕介量也會提高；故在㈣職媒介形作用產生的測試電流與葡萄糖濃度之間有—直 ^氣化 10 15 20 定言之’電子橫跨電介面的轉移造成—測試電流的沪叙。特莫耳葡萄糖被氧化會得到2莫耳電子）。因此，每導入而造成的測試電流可被稱為葡萄糖電流。糠之〇由於知道血中葡萄糖濃度可能非常重要，對於患者來說尤其如此，頃已利用上述原理開發出測試病般人能夠取樣並測試他們的血液以在任何給定時間斷一們的葡萄糖濃度。產生的葡萄糖電流被測試儀偵測到^ 用一演算法轉變成一葡萄糖濃度讀數，該演算法係經由」簡單數學公式建立該測試電流與一葡萄糖濃度之關聯。— 般而言，測試儀係搭配一拋棄式試紙工作，該試紙除了酵素（譬如葡萄糖氧化酶）和媒介（譬如鐵氰化物）外還可包含一樣本接收室和設置在該樣本接收室内的至少二個電極。使用時’使用者刺破手指或其他方便之處以造成出二且將一血樣引導至該樣本接收室，從而起動上述化學反應。就電化學方面來說，該儀器的功能是雙重的。首先，其提供一極化電壓（在〇neT〇uch®Ultra®之例中是大約4〇〇 mV) ’該極化電壓使電介面極化且允許電流在碳工作電極表面流動。其次，其測量在外部電路中於陽極（工作電極） 8 200944790 與陰極（參考電極）之間流動的命、、& 視為是-種以-雙電極模式運作：二:：此’測試儀可被務上來說可使用第三甚至第四電柄曰早學系統，但實測試儀中執行其他魏。電極叫㈣糖難且/或在如已知 ❹ 10 』仗㈣紙進行葡萄試紙批判::批r資訊譬如批斜率=距= 斷-血糖濃度。錢，當使用者制—特定試紙批進行葡萄糖測試時，必該批斜率和抵截距資訊輸人到一測試儀内。在-種情況中，使用者可用—按钮選擇—測試儀上之-校正碼，其中該校正销應於賴之批斜率和批截在另一種情況中，使用者可將一電腦晶片輸入到測試距儀内，其中該電腦晶片具有試紙之對應批斜率和截距。在這兩種情況中，使用者必須記得輸入正確的校正資訊。如 15 果使用者在使用一批新的试紙時忘記考慮校正因子改變，則有可能發生不正確的分析物結果。更進一步的背景可見：2003年1〇月30曰申請之PCT 公開案序號第 WO2004/040287號（代理人案號 DDI5019PCT ) ’ 發明名稱為 Splicing/Unsplicing Substrate in a Process for the Manufacture of Electrochemical

Sensors” ； 2003年10月30日申請之PCT公開案序號第 W02004/040948號（代理人案號DDI5020PCT )，發明名稱

為” Apparatus and Method for Controlling Registration of Print Steps in a Continuous Process for the Manufacture of Electrochemical Sensors” ； 2003 年 10 月 30 日申請之 PCT 20 200944790 公開案序號第W02004/040005號（代理人案號 DDI5021PCT)，發明名稱為” Cooling Stations for Use in a Web Process for the Manufacture of Electrochemical Sensors” ； 2003年10月30日申請之PCT公開案序號第 5 W02004/039600號（代理人案號DDI5022PCT)，發明名稱為” Enzyme Print Humidification in a Continuous Process for Manufacture of Electrochemical Sensors” ； 2003 年 10 月30日申請之PCT公開案序號第W02004/040290號（代理人案號DDI5023PCT )，發明名稱為” Moveable Flat ίο Screen Printing for Use in a Web Process for the Manufacture of Electrochemical Sensors” ； 2003 年 10 月 30 日申請之 PCT 公開案序號第 W02004/040285號（代理人案號 DDI5024PCT )’ 發明名稱為” Pre-conditioning of a Substrate in a Continuous Process for Manufacture of Electrochemical 15 Sensors” ； 2003年10月30日申請之PCT公開案序號第 W02004/039897號（代理人案號DDI5025PCT)，發明名稱為 ’’ Fast Ink Drying in a Continuous Process for Manufacture of Electrochemical Sensors” ；及 2001 年 3 月 28 日申請之 PCT公開案序號第W02001/73109號（代理人案號 2〇 DDI0010PCT )，發明名稱為” Continuous Process for Manufacture of Disposable Electrochemical Sensors” 。 2007年10月30曰申請且2008年3月20曰公開之美國專利申請案序號第US2008/0066305號描述一種感測器，該感測器經校正調整，且描述一種製造感測器的方法。2005 200944790 年2月4日申凊之美國專利申請案序號第脱術觸號描述當作生物感測H之1部參考物的物質及一種使用方法。【發明内容】 5 ❹ 10 15 ❹ 本申明人已發j見種技術的許多實施例，在此技術中 :裝備不需要使黯在進行—測朗量之前輸人任何校正 =訊的試紙批。特定言之’本中請人已發現在—大致受到良^控制的試紙製程中，得以製造出高百分比具有-相對恆定批斜率和批截距的試紙批。 -般而言，每-批會建立—減距和斜率。若一批的距和斜料人與_特定校正碼有關之批斜率和 ’則可將該校正碼及相關校正資訊指派給該相關校正資訊通常包含可被用來取代該確^批斜率和截距之該校正碼的典型批斜率和截距。會免二率:::截距值的試紙給使用者 5, 牡判忒儀翰入权正碼貧訊的需求。因此，得的兮^確葡萄糖濃度的風險會降低，因為當使用一批新碼資訊。仃測試時’使用者不再需要記得輸人正確的校正批截例巾，得自該製㈣試紙具有落人批斜率和和批截標範_、例如落人—預定校正碼之抵斜率和批戴距預定目標範圍内的批斜率和批截距值。手批斜中’得自該製程的試紙具有與預定目標 …預疋目標批截距大致相同的-批斜率和批截距。 20 200944790 在一面向中，提出一種製造一試紙的方法。該方法可藉由以下步驟達成：將一預定量的還原態媒介添加到一試劑墨水，使該試劑墨水沈積在一工作電極上，藉以輸出落入一預定目標批截距範圍内的一批截距；且調整一工作電 5 極面積以輸出落入一預定目標批斜率範圍内的一批斜率。在一面向中，提出一種製造一試紙的方法，該方法可藉由以下步驟達成：將一預定量的還原態媒介添加到一試劑墨水，使該試劑墨水沈積在一工作電極上，藉以輸出大致等於一預定目標批截距的一批截距；且/或調整一工作電 10 極面積以輸出大致等於一預定目標批斜率的一批斜率。在另一面向中，提出一種試紙，其包含第一工作電極且在一範例實施例中包含第二工作電極和一試劑層。該第一和第二工作電極（有第二工作電極時）二者具有約0.55 公釐至約0.85公釐或是約0.6公釐至約0.8公釐的一寬度。 15 該試劑層被設置在該工作電極附近。該試劑層包含一氧化態媒介、一還原態媒介、及一酵素。該還原態媒介不超過該還原態媒介和該氧化態媒介之總和重量的約0.6%，使得該試紙具有一預定目標批斜率和預定目標批截距。在更另一面向中，提出一種試紙，其包含第一工作電 20 極且在一範例實施例中包含第二工作電極和一試劑層。該第一和第二工作電極（有第二工作電極時）二者具有約0.44 平方公釐至約0.68平方公釐或是約0.48平方公釐至約0.64 平方公餐的一面積。該試劑層被設置在該工作電極附近。該試劑層包含一氧化態媒介、一還原態媒介、及一酵素。 12 200944790 ‘ 該還原態媒介不超過該還原態媒介和該氧化態媒介之總和重量的約0.8%，使得該試紙具有一預定目標批斜率和預定目標批截距。在更另一面向中，提出一種製造複數個試紙的方法。 5 該方法可藉由以下步驟達成：製造第一複數個試紙，每一試紙包括具有一第一面積的一工作電極；校正該第一複數個試紙以判定一第一斜率和一第一截距；根據該第一斜率 φ 和一預定目標斜率計算一第二面積；製造第二複數個試紙，每一試紙包括具有該計算所得第二面積的一工作電極。 10 在更另一面向中，本申請人已發現一種技術的許多實施例，在此技術中可製備具有降低變化性的信號響應之一試紙批。特定言之，本申請人已發現藉由控制一試劑調配物的密度可製造出高百分比具有相對恆定批斜率的一試紙批。降低批斜率中之變化性會減少用以特徵化試紙批之校 15 正碼的數量。在一實施例中，一種製造一試劑調配物的方法可藉由以下步驟達成：（i)混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量；（ii)測量該溶液之密度；（iii)若該密度不超過一閾值，繼續混合該試劑調配物一預定時間量使得該密度大 2〇約等於或大於該閾值；且（iv)在該密度大約等於或大於該閾值後，將一媒介和一酵素摻入該溶液以形成該試劑調配物。在另一實施例中，一種製造複數個試紙的方法可藉由以下步驟達成：將一膠體分散物之密度調整成一目標密 13 200944790 度；添加一媒介和一酵素至該膠體分散物以形成一試劑調配物；在該複數個試紙之每一試紙之一工作電極上設置該試劑調配物；校正該複數個試紙以決定一批斜率；且輸出大致等於一目標批斜率的一批斜率。 5 在更另一實施例中，一種製造一試劑調配物的方法可藉由以下步驟達成：（i)混合包含一流變控制劑、一媒介和一酵素的一溶液一預定時間量；（ii)測量該溶液之密度；且（iii)若該密度不超過一閾值，繼續混合該溶液一預定時間量致使該密度大約等於或大於該閾值。 10 在更另一實施例中，一種製造一試劑調配物的方法可藉由以下步驟達成：（i)混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量；（ii)測量該溶液之密度；且（Hi)若該密度不在一目標範圍内，繼續混合該溶液一預定時間量致使該密度處於該目標範圍内；且（iv)在該密度處於該目標範圍 15 内後，將一媒介和一酵素摻入該溶液以形成該試劑調配物。在更另一實施例中，一種製造複數個試紙的方法可藉由以下步驟達成··製造第一複數個試紙，每一試紙包括一經具有一第一密度之試劑調配物塗布的一工作電極；校正該第一複數個試紙以判定一第一斜率；根據該第一斜率和 20 一目標斜率計算一第二密度；製造第二複數個試紙，每一試紙包括經一具有該第二密度之試劑調配物塗布的一工作電極。在更另一範例實施例中，藉由混合或文中所述其他方式調整密度的步驟可為在使用之前進行。此外，在一範例 14 200944790 ❹ ίο 15 ❹ 20 實施例中，添加媒介和—酵素之預期使用（例如24小時以乍可為在該試劑調配物約4到6小時以内）立即進行=佳U小時以内或更佳要活性成分（媒介和酵素）對於本申請人已確知主整密度之步驟與添加成分之步影響微小，促成調調配物之壽命自活性成分添加起就變〜:二開。由於該試劑了-半試劑調配物製程的能二限’此種事先進處。 T於製程之組織化呈現一益在另一面向中，本申請人例，在此技術中可f備呈^一 Χ現一種技術的許多實施紙批。特定言之，^申請人低，化性的信號響應之試關之各種參數、試紙美^ 現藉由控制與絹印程序有出高百分比具有相對i定批斜數和組份可製造之變化性會減少心特徵化觀。降低批斜率中在一面向中，接出一錄=抵之权正碼的數量。藉由以下步驟達成.it—試紙的方法。該方法可 r... ^達成.（1)在一金屬篩網上施配一導雷黑火. 幻將-基板定位在該金屬筛二冷，使該導電墨水轉移到該基板上;(二】^ 等於一預定目標批斜率的一 =鼻導致批斜率大致墨水轉移刭邕作電極面積；（V)使一絕緣的在層更上:：具，和（V)之後添加步驟（vif和可在上述步驟㈤預定目標批戴距的—還㈣導致批截距大致等於一的退原癌媒介置，·及（vii)使—試劑墨 15 200944790 =該工作電極上’該試劑墨水包含該計算所得還原在另一面向中，提出一種製造一試紙的方法。該方法可藉由以下步驟達成：（i)在一篩網上施配一二 =當遭受大於4巴之壓力(例如從4巴到機;極’:) :::不可逆地變形的一材料製成;(ii)將一基板定位在二師，近；（iii)用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板。更進-步的步驟可包含（iv)計算—導致批斜率大於預定目標批斜率的-工作電極面積；（v)使導電層上以形成具有該計算所得"'作電極面積的一作電極。除此之外或另一選擇，可進一步包含以 2)1十算導致批截距A致等於—預定目榡抵戴距的-還原丨置；及（Vii)使一試劑墨水轉移到該工 '，、 15 20 該試劑墨水包含該計算所得還㈣媒介 ; 雜定抵斜率的試紙批。降低批斜率中之，匕性會減少用以特徵化試紙批之校正碍的數量。形成—試:：上出方：二電二二印到-基板上以次j错由以下步驟達成：（丨）在一 200944790 f屬篩網上施配該導電墨水；（ii)將該基板定位在該金屬師網附近；且（Hi)用一硬度高於55度蕭式（Shore hardness ) A硬度的塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上。、，在另一面向中，提出一種使導電墨水絹印到一基板上 5 以开f成一試紙的方法。該方法可藉由以下步驟達成：（i)在二篩網上施配一導電墨水，該篩網係由當遭受大於4巴之壓力G列如從4巴到機器極限）時不會不可逆地變形的一 © 材料製成，（11)將該基板定位在該篩網附近；且（出）用更又馬於55度蕭式a硬度的塗刷器使該導電墨水轉 1〇該基板上。。在更另一面向中，提出一種用於使圖像印到一基板上的員^裝置。該裳置包含一滾輪、金屬筛網、碳墨水和一塗刷盗。該滚輪經組構用以支撐及輸送該基板。另一選擇，可用平坦壓板取代—滾輪。該金屬f帛網有-形成於其上 15 ^電極跡_像掩模’⑽帛、網與緊鄰該滚輪的該基板接 ❹ 觸。，佳來說，該碳墨水被設置在該篩網上，該墨水具有 =每秒1〇,〇〇〇百分史托克（centist〇kes)至約每秒4〇〇〇〇百分史托克轉度。較絲說，該塗刷器包含具有大於％ 2〇 ^式A硬度特徵的一材料，且經組構用以藉由超過4巴

f力施加^該塗刷器迫使該碳墨水穿過該!$網以在該A 電極跡線之一圖像。較佳來說’該裝置經組構ΐ 场成祕跡線之—圖像致使碳電極跡線 %舉例來說，碳工作電極的長度可為沿一垂直於該 17 200944790 碳工作電極之兩側緣的—假想線鱗的距離。較佳來說，該裝置經I财式_或_纽構使縣二電跡^之間的任何最小間隙相較於—狀間隙變動不超過約在-範例實施例中，該塗刷器具有—介於55 度之間的蕭式A硬度，在另—實施例中有—介於介=55产和85度之間的蕭式A硬度，在更另—實施例中有一介ς 60^和80度之_蕭式Α硬度，在再更另—實有一介於55度和75度之間的蕭式a硬度。有 10 15 在另一面向中，提出一種分析物試紙，其包含一 =由-塗刷II透過-金屬篩網沈積在該基板上用以ς定石反電極跡線的碳墨水，其中每—碳電極跡線沿—縱向轴線延伸使得在-試紙中沿在—碳電極跡線之兩側緣之間垂直於該縱向減的-假想線測得之碳電極跡線長度相較定試紙樣本之其他試紙巾之—碳電極跡線長度的任何變化小於約2.5%。在更另一面向中，提出一種分析物試紙，其包含一某◎ 板和複數個碳電極跡線，該等碳電極跡線係經由用—硬2 高於5 5度蕭式Α硬度的塗刷器使碳墨水穿過一金屬篩網ς 積的作用設置在該基板上，使得任二工作電極跡線間之任何最小間隙相較於一預定值不會變動超過30%。在更另面向中，提出一種分析物試紙，其包含一基板及藉由一刷器透過一金屬篩網沈積在該基板上用以界定至少一碳' 極跡線的破墨水，該至少一碳電極跡線具有一沿—在兮至 20 200944790 少一跡線之兩側緣之間垂直於縱向軸線的假想線延伸之長度，其中該長度相較於至少一其他試紙之另一印刷碳跡線之另一長度的任何變化小於約2.5%。在一面向中，提出一種製造一試紙批的方法。該方法 5 可藉由以下步驟達成：根據一目標斜率和一前批斜率計算一工作電極面積，該前批斜率係從一批先前製造的試紙批獲得；將該工作電極面積調整成該計算所得工作電極面 _ 積。較佳來說，該方法亦包含根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距計算還原態媒介之添加 10 量；且將該量的還原態媒介添加到一試劑墨水。在另一面向中，提出一種製造複數試紙批的方法，其中每一試紙批有一目標斜率和一目標截距。該方法可藉由以下步驟達成：於一段時間内製備第一複數試紙批；校正該第一複數試紙批以判定每一試紙批之一批斜率和一批截 15 距；根據該目標斜率和一前批斜率計算一第一工作電極面積，該前批斜率係從一批先前製造的試紙批獲得；根據該 # 目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距計算還原態媒介之一第一添加量；製備一包含該還原態媒介第一添加量的第一試劑墨水；製備具有該計算所得第一工作 20 電極面積和該第一試劑墨水的第二複數個試紙；校正該第二複數個試紙以判定一第二批斜率和一第二批截距；若該第二批斜率和該第二批截距大致等於該目標斜率和該目標截距，則利用該計算所得第一工作電極面積和該第一試劑墨水製備第三複數試紙批。在更進一步的實施例中，若該 19 200944790 第二批斜率實質不等於該目標斜率，則該方法更包含根據該第二批斜率與該目標斜率間之一差計算一第二工作電極面積，然後製備第四複數個試紙以包含該計算所得第二工作電極面積。在更進一步的實施例中，若該第二批截距實 5 質不等於該目標截距，則該方法更包含根據該第二批截距與該目標截距間之一差計算還原態媒介之一第二添加量，然後製備該第四複數個試紙以包含一具有該還原態媒介第二添加量之第二試劑墨水。在更進一步的另一範例實施例中，若該第二批截距實 10 質不等於該目標截距，則該方法可另一選擇或除此之外還包含根據該目標截距、一還原態媒介雜質百分比及一背景截距計算還原態媒介之一第二量。在更進一步的實施例中，該背景截距及/或一係數常數，若有需要，經調整以計入該計算所得第二工作電極面積。 15 在更另一面向中，提出一種製造複數試紙批的方法，其中每一試紙批有一目標斜率。該方法可藉由以下步驟達成：於一段時間内製備第一複數試紙批；校正該第一複數試紙批以判定每一試紙批之一批斜率；根據該目標斜率和一前批斜率計算一第一工作電極面積，該前批斜率係從一 20 批先前製造的試紙批獲得；製備具有該計算所得第一工作電極面積的第二複數個試紙；若該第二批斜率大致等於該目標斜率，則利用該計算所得第一工作電極面積製備第三複數試紙批。在更進一步的實施例中，若該第二批斜率實質不等於該目標斜率，則該方法更包含根據該第二批斜率 20 200944790 與該目標斜率間之一差計算一第二工作電極面積，然後製備第四複數個試紙以包含該計算所得第二工作電極面積。在更另一面向中，提出一種製造複數試紙批的方法，其中每一試紙批有一目標截距。該方法可藉由以下步驟達 5 成：於一段時間内製備第一複數試紙批；校正該第一複數試紙批以判定每一試紙批之一批截距；根據該目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距計算還原態媒介 _ 之一第一添加量；製備一包含該還原態媒介第一添加量的第一試劑墨水；製備具有該第一試劑墨水的第二複數個試 10 紙；校正該第二複數個試紙以判定一第二批截距；若該第二批截距大致等於該目標截距，則利用該第一試劑墨水製備第三複數試紙批。在更進一步的實施例中，若該第二批截距實質不等於該目標截距，則該方法更包含根據該第二批截距與該目標截距間之一差計算還原態媒介之一第二添 15 加量，然後製備該第四複數個試紙以包含一具有該還原態媒介第二添加量之第二試劑墨水。在更另一面向中，提出一種製造具有一目標斜率和目標截距之試紙批的方法。該方法可藉由以下步驟達成：（i) 在一金屬篩網上施配一導電墨水；（ii)將一基板定位在該 20 金屬篩網附近；（iii)用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上以形成一導電層；（iv)根據該目標斜率和一前批斜率計算一工作電極面積，該前批斜率係從一批先前製造的試紙批獲得，使得所得批斜率大致等於該目標斜率；（v)使一絕緣墨水轉移到導電層上以形成具有該計算所得工作電 21 200944790 極面積的一工作電極；（Vi)根據該目榡戴距、一還原態媒川雜質百分比、及一背景截距計异還厚態媒介之一添加量，使得所得批截距大致等於該目標哉靼；（vi〇製備一包含該計算所得還原態媒介添加量的試劑墨水；（viii)若該試劑墨水不具有一處於一目標範圍内的密度藉由滿合該試劑墨水一段時間且/或添加一流變控制劑二方式調整該試劑之费度；且（ix)使該試劑墨水轉移到該工作電椏上。 10 15 〇在更另一面向中，提出一種製造酵素墨水的方法。該方法可藉由以下步驟達成：根據一目襟截距、一還原態媒，雜質百分比、及—背景截距計算還原態媒介的量；直將該還原態媒介量添加到該酵素墨水。 0 在更另一面向中’提出複數試紙抵，其中每/試紙包含一基板、—導電層、及一試劑層。該導電層係設置在該基板上。該試劑層係設置在該導電層上。該試劑層包含一還”加量Fadd’使得每一試紙抵之二批截距大致等於一目標截距Btarget，該還原態媒介添加量f…大體上由一 _式定義〜，其中B。是一背景截距， Ϊ態:二t且F-是與氧化態媒介相關當作-雜質之還含一is另一：向中’提出複數試紙批，其中每-試紙包基板：。該試添丨電層：及一試劑層。該導電層係設置在該 _ 媒介每 22 20 ίο 15 鲁 20 200944790 截距有-小於約+或—15%之變化。在另一面向中，一種系統經組馗田，、；、日，旦 :系統包含-測試儀和-試紙。分析物。 =、1理器、一_、及:=包=試紙埠連〜:=顯二=紙包含-基板;-設置，層包含一還原態媒介二==的試劑層，約=或〜15%之變化。使件複數批截距有-小提出—種進行一分析物測量驟達成:將一試紙插。：方法可藉由以至少-預定校樓作，儀經組構樣的計算所 W5式紙具有—暴露於一血區的還原態媒介添加^及;'暴露於該計算所得酵素工作 ^〜旦-血樣被施= 於被校正成該預定校正農度。較佳來說，該方^^之—入口即測量一分析物不〜t析物濃度。Λ匕3在該测試儀之-顯示器上顯種法可藉由以，有-暴譬如—校正輪入值運作，該於讀計算所得酵素，的计鼻所得酵素工作區及-暴露破校正成該預定U區的還原態媒介添加量使得該試紙 S入口即測量一八2入，—旦一血樣被施加於該試紙之預設於該儀器内農度。較佳來說，至少-校正輸入 23 200944790 提出一種經組構用以測量分析物的系統。該系統包含一儀器和一試紙。該儀器經組構為使用至少一預定校正輸入運作。該試紙具有一暴露於一血樣的計算所得酵素工作區及一暴露於該計算所得酵素工作區的還原態媒介添加量 5 使得該試紙被校正成該預定校正，·一旦一血樣被施加於該試紙之一入口即測量一分析物濃度。以上和其他實施例、特徵及優點將在熟習此技藝者夂考本發明以下更詳細說明及在最後簡略敘述之隨附圖變得明顯。 0 ^在一第一面向中’提出一種製造複數個試紙的方法， s玄方法包括··調整一工作電極面積以輸出—落入一預定目標批斜率範圍内的批斜率；且/或調整一試劑墨水中之—媒介量以輸出一落入一預定目標批截距内的批截距。、在另一面向中，提出一種製造複數個試紙的方法，該 15 方法包括：調整一工作電極面積以輸出一大致等於一預定目標批斜率值的批斜率；且/或調整一試劑墨水中之一媒介置以輸出一大致等於一預定目標批截距值的批截距。在本發明之任一面向中’提出一範例實施例’其中該，目標批斜率是一目標批斜率值或一目標批斜率值範圍。在 -〇本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該目襟批截距是一目標批載距值或一目標批截距值範圍。 ▲ 在本發明之任一面向中，該試紙包括複數層，且調整该工作電極面積包括該複數層之一層的過程中調整。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該 24 200944790 調整2包括將—預定量的媒介添加到―試劑墨水。讲之任一面向中’提出―範例實施例，其中兮 5周王步驟包括調整一還原態媒介。該 5 10 15

20 原離以:之任一面向中，一範例實施例包括:將-還約變，批的試致批任一！向中’一範例實施例包括:計算導 '、等於預疋目標批斜率的一工作電極面積。 =本發明之任—面向中，—範例實施例包括：使絕緣 ^移到—導電層上以形成具有該計算所得卫作電積的一工作電極。叫在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：計算導致批截距大致等於—預定目標批截距的—還原態媒介量。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：使該試 J墨水轉移到該工作電極上，該試劑墨水包含該計算還原態媒介量。〜在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：製造第 —複數個試紙，每—試紙包括具有-第-面積的-工作電極面積，杈正該第一複數個試紙以判定一第一斜率和—第戴^ ’根據該第—斜率和一預定目標斜率計算一第二面製造第二複數個試紙，每一試紙包括具有該計算所得第二面積的一工作電極。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：校正第 —複數個試紙以判定一第二斜率和一第二截距，其中該第 25 200944790 二斜率大致等於該預定目標斜率且該第二截距大致等於該預定目標截距。 10 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中一試紙批具有一目標斜率和一目標截距，該方法更包括：於一段時間内製備第一複數試紙批；校正該第一複數試紙批以判定每一試紙批之一批斜率和一批截距；根據該目標斜率和一前批斜率計算一第一工作電極面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得；且/或根據該目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及—背景截距計算還原態媒介之一第一添加量；製備一包含該還原態媒介第一添加量的第一試劑墨水；製備具備該計算所得第一工作電極面積和該第一試劑墨水的第二複數個試紙；校正該第二複數個試紙以判定一第二批斜率和一第二批截距。 15 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中若該第二批斜率及/或第二批截距大致等於該目標斜率及/或邊目標截距，則利用該計算所得第一工作電極面積及/或該第一試劑墨水製備第三複數試紙批。 20 二在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中若該第二批斜率實質不等於該目標斜率，則根據該第二批斜，與該目標斜率間之—差計算-第二工作電極面積，然後裝備第四複數個試紙以包含該計算所得第二工作電極面積。一在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：若該第 -批截距實質不等於該目標戴距，則根據—目標截距、一 26 200944790 還原態媒介雜質百分比及一背景截距計算還原態媒介之一第二添加量，然後製備第四複數個試紙以包含該計算所得第二工作電極面積。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：根據一 5 目標截距、一還原態媒介雜質百分比及一背景截距計算還原態媒介之一添加量；且將該還原態媒介量添加到該試劑墨水。 ^ 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該計算步驟包括根據該目標截距、該還原態媒介雜質百分 10 比、該背景截距及一常數決定該還原態媒介添加量。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：添加一藉由計算該目標截距與該背景截距間之一差、除以一常數、然後減去還原態媒介雜質量決定的還原態媒介量。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該 15 還原態媒介添加量Fadd大體上由一關係式定義：

Btw et - B0 ❿ ^add ~ ^ 仏P，其中Btarget是目標截距，B〇是背景截距，Kint是一常數，且Fimp是與氧化態媒介相關當作一雜質之還原態媒介的量。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該 20 媒介添加量經調整以計入經調整的工作電極面積。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該背景截距及/或該常數經調整以計入經調整的工作電極面積。 27 200944790 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該添加媒介包括亞鐵氰化物或亞鐵氰化鉀。

在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該第一工作電極面積係根據該第一斜率與該預定目標钭率間之差乘以一關聯於每單位斜率之面積變化的值。 S 八，本發明之任一面向中，一範例實施例包括還原態媒二雜質的量包括—大致等於該試劑墨水中之氧化態媒介之置乘以該還原態媒介雜質百分比的量。在本發明之任一面向申，提出一範例實施例，其中該距:戴Γ包括一根據來自先前製造的試紙批之複數個批戴

V tBL 15 20 在本發明之任一面向中，一範例實施例包括若該第二典，距實質不等於該目標截距，則根據第二批截距與-目四、^間之—差计算還原態媒介之一第二量’然後製備第 Z數個試紙以包含1有該媒介第二添加量的第二試劑敕一在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中調二择極及Γ調整~媒介量的一或兩手段經預毁進行 “ ％，一操作循環包括至少二次操作。明之任1向中，提出―範例實施例，其中-%。 7之還原態媒介不超過該試劑墨水之重量的〇2 媒介= 1面向中，—範例實施例包括—還原態 -、媒μ ’其中該還原態媒介不超過該還原態 28 200944790 媒介與該氧化態媒介之總和重量的約〇8%。，上Ϊ發明之任一面向中’提出-範例。實施例，宜中，還原恶媒介不超過該還原態媒介與一中^ 量的約0.6%。 …亥軋化態媒介之總和重 5 ❹ 10 15 ⑩ 20 t發明之任一面向中，提出—範例實施例，其中該整作電極面積係經由修改社作電極之—寬度的方式調工作i本發：之任一面向中，提出一範例實施例，其中該電極的見度係從約0.6公釐至約〇 8公董。工作任一面向中’提出一範例實施例，其中該 ^極的面積係從約〇.44平方公釐至約q说平方約〇·48平方公釐至約0.64平方公釐。一供至=發ΓΓ 一面Γ ’提出一範例實施例，其中提釐至二作且該二電極具有-約〇.55公勺〇.85公釐或約0.6公釐至約0.8公釐的寬度。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該目標截距大於該第一截距。、在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：在該第複數個試紙之工作電極上施加一具有一近似矩形或近似方形之孔隙的絕緣層以形成該計算所得第二面積。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：以約25 微米的增量調整該形狀之一寬度；判定會提供二個最接近，叶算所得第二面積之面積值的二個增量；且選擇會賊予 4叶算所得第二面積之一較大面積的增量。 29 200944790 在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：以約25 微增量觀卿狀之-增量；料會提供二個最接近該计鼻所知·第一面積之面積值的二個増量；且選擇會賦予 S亥计算所得第二面積之一較小面積的増量。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該複數試紙批包括從約10批至約100抵。 ’ 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中藉由校正約5 〇〇個至約6 〇〇個或更多試紙判定批戴距之、一 i 5 %或更小的變化。〇在一第一面向中，提出一種製備一試劑墨水調配物以供用於該方法的方法，其包括：a)製備試劑墨水；b)若該試劑墨水不具有高於一目標閾值或處於一目標範圍内的一密度，則調整該試劑墨水之密度。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括藉由以下方式調整該試劑墨水之密度：混合該試劑墨水或該試劑墨水之一組份一段時間；且/或將一流變控制劑添加到該試劑墨水或該試劑墨水之一組份；且/或使該試劑墨水或該試劑❹ 墨水之一組份遭受一減小壓力（reduced pressure) 〇在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中若 j密度不超過一閾值或不處於一目標範圍内，繼續調整該街度致使該密度大約等於或大於該閾值或是處於一目標範圍内。人在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：丨)混合包含一流變控制劑的一溶液一段預定時間；ii)測量該溶液之 30 200944790 密度；iii)若該密度不超過一閾值或不處於一目標範圍内，繼續混合試劑調配物另一預定時間量致使該密度大約等於或大於該閾值或是處於一目標範圍内。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該 5 混合步驟包括混合包含一流變控制劑、一媒介及一酵素的一溶液一預定時間量。在一第一面向中，提出一種製造複數個試紙的方法， _ 該方法包括：製造第一複數個試紙，每一試紙包括經一有一第一密度之試劑調配物塗布的一工作電極；校正該第一 10 複數個試紙以判定一第一斜率；根據該第一斜率和一目標斜率計算一第二密度；製造第二複數個試紙，每一試紙包括經一有一第二密度之試劑調配物塗布的一工作電極。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括事先製備給定密度的一第一溶液，在使用前製備包括該第一溶液及 15 —酵素和媒介的一第二溶液。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該 ® 第二溶液是在使用前介於1至24小時、1至12小時、1至 6小時、2至6小時、或2至4小時製備。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括該密度大 20 約等於或大於一閾值或是處於一目標範圍内，將一媒介和一酵素摻入該第一溶液以形成該試劑調配物。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括：將膠體分散物之密度調整成一目標密度；將一媒介和一酵素添加到該膠體分散物以形成一試劑調配物；在複數個試紙之每 31 200944790 氏：工作電極上沈積該試劑調配物；校正該複數個试、1判定—批斜率；且輪出大致等於-目標批斜率的- 批斜率。一、f2、明之任一面向中’-範例實施例包括：製造第二物务：紙’每一試紙包括經具有-第一密度之該試劑二、的一工作電極；校正該第一複數個試紙以判定声ιίί」艮據該第—斜率和一目標斜率計算一第二密二译=—複數個試紙，每—試紙包括經—具有一第二後度之试劑調配物塗布的1作電極。轉fit明之面向中’提出—範例實施例’其中該 ^？變一混合持續時間且/或添加額外的一流變控制劑量。曰择it發明之任一面向中，提出-範例實施例，其中該 15 Ο =抢二係藉由以一目標批斜率減去一第二常數然後除以一第三常數的方式計算。 ❹ 在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該目標密度P係由下式計算：p = ~^，其中p是該目標密度=⑶是該目標批斜率，k2是一第二常數，且k3是一第二吊數。發明之任—面向中’提出-範例實施例，其中該 j控制劑包括以基纖維素及/或具有親水性和疏水性基團的一石夕石。在本發明之任—面向中，提出一範例實施例，其中該 32 20 200944790 。時間里疋約3至3G分鐘且/或是約4分鐘或是約 5 e 10 15 Ο 20 在本發明之任一面向中，提出一範目標密度具有-約每立方公分㈣公克的閾值例者^ ，圍是從約每立方公分。.7公克至約每立方= 二οΓΛ—/或是從約每立方公分G.92公克至約每立方公二八八的任—值或是從約每立方公分1公克至約每立一二：打古C克的任—值，或是處於一目標密度值之+或 : 么分G.G15公克或更小的範圍内、譬如介於約每立方〇.7至125公克間之任一值。明之任一面向中’提出-範例實施例，其中該，…驟疋用一約每分鐘3,〇〇〇轉的螺槳攪拌器進行。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該是ί約每分升每毫克16毫微安培至約每分約备二斗卷二微安培的任一值’且/或該第二常數k2是從刀升每*克7毫微安培至約每分升每毫克10毫微安培八二Ϊ Α且第三常數匕是從約每立方公分每公克每 :升母*克10¾微安培至約每立方公分每公克每分升每毫克12毫微安培的任一值。在-第-面向中，提出一種依據以上任一申請專利範圍項之製造複數個試紙的方法或是-種使-導電墨水絹印，-基板上以形成—試紙的方法，該方法包括：丨)在一金屬師網上施配該導電墨水及/或在—㈣上施配該導電墨水，該師網係由當遭受到來自一塗刷器之大於4巴的塵力時會 33 200944790 不可逆地變形的一材料製成；Η)使該基板定位在該筛網附近；iii)利用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上。在本發明之任一面向中，一範例實施例包括利用—硬度高於55度蕭式a硬度的塗刷器使一導電墨水絹印到—基板上以形成一試紙。在本發明之任一面向中’ 一範例實施例包括在一金屬篩網上施配一導電墨水。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該塗刷器包括具有一在約60度至約75度蕭式A硬度範圍内❹ 之硬度的一材料。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該塗刷盗包括具有一約65度蕭式A硬度或約75度蕭式A硬度的一材料。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該塗刷器包括聚胺基甲酸酯。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該導電墨水之轉移包括用一壓力將該塗刷器施加於該篩網，❹ 該壓力係大於約4巴或大於每公尺塗刷器長度27G牛頓（例如塗刷刮刀厚度約為8公釐）。在本發明之任—面向中，提出一範例實施例，其中該電墨水之轉移包括用一壓力施加於該塗刷器，該壓力係大於約5巴。在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該塗刷器包括—斜於-X—;首& 才於该導電墨水所含溶劑具有一低吸收率的 34 200944790 ❹ 10 15 φ 20 材料。在本發明之任一面向中，提— 塗刷器包括一對&例實施例，JL巾# 從對於該導電墨水所含、中該小於約2%或在21小時内小於約恍:吸有-在-小時内 *在本發明之任—面向中，提匕了材料。塗刷器包括—不吸收任何碳材料的材^例實施例’其中該 Α板任"'面向中’提出一範例實施例’盆中今固SI:定:離架於該導電墨水挪固疋距離的範圍在約0.6公釐至約0.75公釐。 ^發明之任—面向中，提出施例，其中該固定距離是約〇 7公釐。在本發明之任—面向中，提出一範例實施例，其中該 :輕接於框架，有一範圍在咖裏約30 N/cm的篩網張力。〜在本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其中該師網之材料當與―碳墨水接觸時不會不#地變形。 f本發明之任一面向中，提出一範例實施例，其㈣金屬師網包括複數個不錄鋼絲，每一銅絲具有一約0.03么髮的直徑，其用約45度_格角度交織一 γ具備每^ * 125個網眼、5〇微開口面積、及大約47微米之網厚度的網。約39/〇在本發明之任-面向中，提出一範例實施例，其中一工作電極之長度（Υ2)包括大約㈣公0/或二或更多工作電極之_财間隙包括大約 150微米。 35 200944790 ^發明之任一面向中’提出—範例實施例，其中（或枯· _ A面向中）提出一種試紙或一種分析物試紙，其包冷接卢土板’及一碳墨水’其由一塗刷器穿過-金屬篩網 =摘基板上㈣每—碳電極跡線界定碳電極跡線’使紙中沿在—碳電極跡線之兩側緣（Μ或i5B) 極:直於軸線⑴或U)的-假想線測得之-碳電石)相較於預定試紙樣本之其他試紙中之一反電極跡線長度的任何變化小於約3 5%或小於約2 5%。 10 15 20 〇 ^本發明之任—面向中，提出—範例實施例，其中該石厌電極跡線是一碳工作電極。 -磁if發明之任一面向中’提出一範例實施例，其中任極跡線之間的任何間隙相較於—預變動不超過約30%。在本發明之任—面向t，—範例實施例包括一使得在一成紙中沿—在-碳電極跡線之兩侧緣之間大致垂直於一軸線的假想_得之碳電極跡線長度相較於—贱長度之任何變化小於約3.5%或小於約2 5%的排列。在本發明之任—面向中，提出—範例實施例，其中（或一第一面向中）提出一種用於使圖像印到一基板上的絹 Ϊ裝置’其包括：—金屬_網，有—電極圖案之一圖像掩，形成於其上·，設置在简網上的碳墨水該墨水具有約母矛y 10,000百分史托克至約每秒4〇,〇〇〇百分史托克的一黏度，塗刷器，其用於藉由壓力施加於該塗刷器迫使該碳墨水穿過該薛網。 36 200944790 t在紅向中，提出一種進行一分析物測量的方法，該方法Ο,：將一試紙插入一測試儀内，組構不接收一校正輪入，蚌詁祕在^ 圍項中任-狀转製造請專利範或在該工㈣極f層巾之媒區及/ ❹ 15 Ο 20 金樣施加於賴紙之—^制量—糾轉;在一在本發明之任—面向中，—範例實施例包二· 、我插入-料儀内觸經組構為使用丄將〜試入運作，該試紙具有_暴露於—血樣的計，定校正輪面積及-絲於料#所私作電極 ^作電杨原態媒介添加量使得該試紙被校預=#|層的還血樣施加於該試紙之一λ彳，預疋杈正值；在在本發明之任ί:二後測Γ分析物濃度。徭，甘6人面向中，一乾例實施例包括· 儀/、包3—試紙埠連接器、一處理.〜測試 :亥處理器輕接於該記憶體;及依據以丄申請專:f，其中 Γ項之方法製造的試紙’其包括-基園項中 ;及—設置在該導電層上的‘亥基變化原_介量使得複數批截距有—切約=劍器，ίΐ:二二一::中’ -範例實施例包括，處理态耦接於該顯示器。颂不俨正之任一面向中’提出-範例實施例，就校正輸入包括校正資訊。其中該在本發明之任一面向中，提出—範例實施其中該 37 200944790 從本質上由下歹，〗物組聚酿，聚對笨二甲酸乙二崎 ^選出的U · 叹Μ上之組合。在本發明之任一面向中，出一基板，哕1 扣出一範例實施例，其中提 35〇微平之5千卷物形式的聚合物，具有-約微水之厚度乘約37〇公着在本發明之任-面向中寬提及出！公尺的長度。試紙之基板包括4致平心^出3例實施例，其中該度、-約5.5公董的寬度、及二二：在本發明之任-面向中，提出71以的長度。導電墨水包括碳墨7卜出—關實施例，其中該在本發明之任一面向中，試劑包括葡萄糖氧化酶。^出一乾例實施例，其中該【實施方式】 15 20 發明^ ^ Ϊ H =成I^書之—部份的隨附圖式例示本 Γ來解釋本發明的特徵，其中以相同數字標示相同元 0 相同式中的 f的實施例且不希望以此恨:本二:i:圖;:，選月以舉例方式而非設限方式例示本發明之原理。，、’、田說讓熟習此技藝者能夠製作姐運用本發明，且福述 '月會數個實施例、適應型、變蜇、替代型及使用，=人=明之認為是實行本發明的最佳模式。 i3當前被 38 200944790 ，，在本說明書中，用於任何數值或範圍的修或近似”係指-允許組件之部分或集合太明書所述之其預期用途的適當尺寸容差。此本， 5 Φ 10 15 ❹ 20 曰中患者、宿主，，和，，受驗者，，意、指任何動物受驗者且不希望將_或方法舰於人喊用缺本發明在一人類患者的使用代表一較佳實施例。，以下，一卷基板係一連續基板件，其可與另一” 卷基板搭接以形成一連續基板薄片，隨後可被分離成卡片，然後再分離成試紙。來自一卷的一組試紙可被稱為一，，批。諸如設定條件等條件及/或墨水等消耗品可在薄片印刷程序期間改變，通常是在”行程”間或是單一，，行程，，之”卷”間改變。-”行程”是薄片印刷程序進行到完成為止的一次連續作業，與”行程，，内的”卷，，數量無關。事實上’-”行程，，可有1至16,，卷”、更常見是i至10” 卷”且更典型是6至8”卷”。圖1是一例示薄片印刷程序之八個區段的示意圖。區段1是一退繞單元1〇1。區段2是一預調節站1〇2。區段3 疋一奴印刷站103。區段4是一絕緣印刷站1〇4。區段5是一第一酵素印刷站105。區段6是一第二酵素印刷站1〇6。區段7是一復捲站107。區段§是一衝床1〇8。熟習此技藝者會理解到儘管以下說明係關於一種提及這八個區段的製程和裝置’本發明之製程和裝置可用更多或較少個區段實施。舉例來說’儘管在此實施例中使用四個印刷站’不脫離本發明之範圍亦可使用一或多個印刷站。在一實施例 39 200944790 中’最少有二個印刷站以供印刷一電極層和一試劑層。在一實施例中，區段1可用一基板材料退繞單元101 施行，例如一由 Rockford, IL 之 Martin Automatic Inc.出品的 Martin Unwinder/Automatic Splice。區段 2、3、4、5、和6可用一改良型Kammann Printer施行，其係由Btinde， Germany 之 Werner Kammann Maschinefabrik Gmbh 出品的型號4.61.35。預調節單元l〇2可用來在印刷之前預調節基板242 ’且區段3、4、5、和6可被用來使碳、絕緣物、第一酵素及第二酵素墨水絹印到一基板上。區段7可包含復捲單元 107，例如由 Rockford, IL 之 Martin Automatic Inc. 出品的Martin Rewinder。基板卷可在退繞單元101或復捲單元107中利用搭接膠帶、例如由intertape Polymer Group 出品之 PS-1 Splicing Flat back Paper Tape 搭接在一起。區段8可包含一衝床，例如由Lenexa，Kansas之Preco Press 出品的Preco衝床，型號為2024-P-40T XYT CCD CE。雖然在此提及指定的裝置型號，這些裝置可如熟習此技藝者所能理解不脫離本發明之範圍被變更、替換、全然省略。圖2A、2B和2C是例示一基板242通過薄片印刷程序之區段1至8時之路徑的示意圖。在一實施例中，基板242 所用材料較佳是呈卷物形式的聚酯材料（商品名Melinex ST328)，其由 DuPont Teijin Films 生產。基板 242 係以一材料卷供給’該卷舉例來說可為標稱350微米厚乘370公釐寬及大約660公尺長。頃發現這些厚度和寬度尺寸特別適合藉由在一基板薄片上絹印的方式製造電化學感測器。 200944790 這是因為用於印刷的材料要求必裝置且有足以容_當❹,j|f數量仍可操縱通過度。基板242可包含一施加於 °可商業化的寬 5 Ο 10 15 ❹ 以增進墨水黏附。聚酯是一較 ^側的丙烯酸類塗層薄片製程期間所用的升高溫度和為其本發明所述說在-實施例中以㈣、特狀Melin ^人滿意。雖可從本文所述說明運用其他二= 較大的寬度或長度提供感測器生產之==二情況中材料厚度的變化有助於預調節或是印刷期間之對位。圖2A是—例示薄片印刷程序之區段1和區段2的示意圖。區段1是-退繞單元1(Π，其可包含—第—退繞心轴 200、第二退繞心軸2〇1、第一搭接單元2〇2、及第一集料器203。請注意心軸亦可被稱為轉轴。區段2是一預調節站 W2，其可包含一第一清潔單元2〇4、通常不被使用的第二搭接單元205、内送壓送滚輪20ό、第二清潔單元207、測力器208、第一印刷滾輪209、第一驅動滾輪210及第一乾综區211。退繞單元 101 舉例來說可為 Martin Unwinder/Automatic Splice，其係用來促成基板242在一大約80牛頓的張力下連續送入預調節站1〇2内。第一退繞心軸200固持一卷基板材料242且將基板242連續地進給至區段2之預調節站1〇2内。第二退繞心軸201固持一卷備 20 200944790 用基板242，其可被自動地搭接到來自第-退繞心軸200 之基板242卷末端，確保基板242之半連續供應。此程序從第-退繞心軸200到第二退繞心軸2〇1重複進行。—基板材料集料盗203貯存預定長度的基板242且當搭接作業 5 於第一搭接單元202内進行（於此期間第-退繞心軸2〇〇和第二退繞心軸201為靜止）的同時將貯存的基板242施配到區段2之預調節站1〇2内。產生的搭接處可為一對接式搭接，在接頭處之材料兩側上有一段搭接膠帶。為確保品質’可丟棄搭接處之兩側大約1〇公尺的印製基板。第—〇 ίο 退繞心軸200和第二退繞心轴201可包含薄片邊緣導件（圖中未示）’其將基板242導入第一搭接單元202内。該等薄片邊緣導件經組構用以防止基板242在饋入第一搭接單元 202内時偏離路徑。大體上來說’本說明書所述實施例之機器係經組立用 15 以在任一時間生產2至10卷、更常見為ό卷的基板。就連接於一連續墨水供應源的印刷站來說，將被使用之卷數量通常不成問題。但對於該二酵素印刷站來說，僅有有限的❹ 墨水量供應給此二站，將被使用之卷數量可為一重要輸入參數。事實上’將被使用之卷數量可決定在印刷程序開始 20 前放到篩網上的墨水量。舉例來說，就一個6卷行程來說，在區段5和6每一者之印刷作業開始前將等值於6(或稍稍超過6)卷的酵素墨水放到篩網上。因此’酵素墨水必須在印刷行程全程中被保持為馬上可供印刷使用以確保酵素於印刷行程全程中一致印刷。一壁已圍繞酵素印刷站中之_ 42 200944790 網設置以確保一足量酵素墨水添加到篩網而不需要在一行

程期間向篩網添注墨水到滿並且降低酵素墨水溢出篩網^ 到於其下方行進之薄片基板的風險。 L 在一情勢中，基板242在進入碳印刷站1〇3之前可藉 5 由將該基板加熱至i85°c使其暴露於一熱穩定程序而不^ 其處於大張力下以嘗試及確保基板242於薄片印刷程序期間經歷最小尺寸扭曲，於薄片印刷程序中可能遭遇到在高 ❹ 達16〇牛頓之張力下介於14(TC至160。〇間的溫度。一般而言，過去用於製作試紙的張力都很小，但足以帶動薄片通 1〇過加熱器。但頃發現儘管有此熱穩定程序，各印刷步驟= 間仍可能發生對位偏差，導致感測器失效。因此，頃已在緊接於印刷之前進行一預調節步驟，此步驟亦包含施加一大張力。如下文所將洋述，在預調節步驟（區段1)中，基板被加熱至一大於其在後續印刷步驟期間遭遇到之任何溫 15 度的溫度（通常是16〇〇C )。於預調節步驟當中，—大張力 ❹ 可為約165牛頓。事實上在此實施例中，高溫與處於張力下的組合已大幅減小印刷對位的偏差且增進所得率。〇口民在圖2Α所示一實施例中，區段2是一預調節站1〇2。 20 預調節程序可在任何圖像被印到基板上之前發生。基板242 經預調節以減小後續薄片處理區段内之膨脹和拉伸量，並且協助基板242通過區段3至ό之對位。預調節站1〇2可將基板242加熱至一溫度，此溫度於後續印刷步驟中不會被超過。舉例來說，基板242可在預調節站211内被加二 43 200944790 至大約航，此例示於圖2A。—般而言，此係在介於i5〇牛頓與180牛頓之間、更典型係約I65牛頓的張力下進行。但在另一實施例中，預調節站102可將基板242加熱至- 足以從基板242去除不可逆拉伸的溫度，同樣視情況處於 5 上述張力下。基板242可在整個製程中被保持在一大約165牛頓的張力下以便維持待印之四層的對位（通常印刷對位容差是約300微米）。基板242亦遭受14〇t>c或較低的不同溫度以便於每一印刷步驟期間乾燥印製墨水。由於此張力和溫0 1〇度，未經預調節程序處理的基板242可能有一於印刷程序期間拉伸或膨脹的傾向且因此超出對位容差以外。事實上，當使用未經預調節的基板時，在各印刷階段之間和各印刷行程之間以及印刷行程本身以内的圖像大小變化是無法預測的。 15 在一實施例中，預調節站1〇2亦包含額外元件，此等元件執行促使一薄片製程正確運作的功能。在預調節單元 102中有二個薄片清潔單元：一第一清潔單元2〇4和一第二❹ 清潔單元207 ’其清理基板242之頂側和底側。第一清潔單元204和第二清潔單元207可使用塗有發黏黏著劑的滾子 20 在任何印刷步驟之前從基板242去除顆粒物。第一清潔單

元 204 舉例來說可為一由 Glasgow，United Kingdom 之 KSM

Web Cleaners出品之型號WASP400的清潔器。第二清潔單元207舉例來說可為一由Teknek出品的清潔器。預調節站 102可進一步包含内送壓送滾輪206及一測力器208。内送 44 ❹ 15 Φ 20 200944790 壓送滚輪206可被用來控制基板242之張力（特〜古θ 内送壓送滚輪206與-外送壓送滾輪238之間的^ °之= 送壓送滾輪施可經由一控制系統（圖〇力器施。基板242在區段6中被一外送壓賴輪印刷站1G6(見圖2C)。區段2中的測力器208測1基板242通過薄片製程時之張力。内送，施可調整速度以便將張力控制在—預點…薄片製程中之-典型基板張力可為㉟15〇牛頓至約⑽牛頓、較佳為約160牛頓至約17〇牛頓、更佳為約165牛頓。圖2B是-例示薄片印卿序之紐3、區段*和區段 5的不意圖。區段3是—碳印刷站1()3。在印刷之前可使用 :清潔系統（由Meech $品），其利用一真空與刷系統清理土板之頂側（印刷侧）和底側。頂部刷與真空系統251及底部刷與真空系統250可如圖2B所示彼此錯開。頂部刷與真空站250可緊接於冷卻滾輪212和集料器213之前接觸基板且是碳印刷之前最靠近的可近接點。底部刷與真空站 251可緊接於基板離開預調節單元1〇2之後接觸基板。碳印刷站1〇3可包含第一冷卻滾輪212、第二集料器213、第二，刷滾輪214、第一視像感測器215、第二驅動滾輪210、第一乾燥區217、及第二冷卻滾輪218。在圖2B中，區段 4疋絕緣印刷站1〇4。絕緣印刷站1〇4可包含第三冷卻滾輪 U9、第二集料器22〇、第三印刷滾輪221、第二視像感測器222、位置237a處之第一 γ向對位系統（圖中未示）、第二驅動滾輪223、及第二乾燥區224。在圖2B中，區段 45 200944790 5是第一酵素印刷站105。第一酵素印刷站105可包含第四冷卻滚輪225、第四集料器226、第四印刷滾輪227、237b 處之第二Y向對位系統（圖中未示）、第四驅動滚輪229、及第三乾燥區230。在一依據一實施例的製程中，薄片製程之區段3是碳印刷進行之處。當然’熟習此技藝者會理解到印刷程序的數量和種類可有不同而不脫離本發明之範圍。舉例來說，可提供兩次碳印刷’或者可在一或多個印刷步驟中進行一或多-人使用具備金屬顆粒、銀/氯化銀墨水或是金或把基墨〇水或以上之任何組合的碳印刷以在電化學感測器中提供一電極層。絕緣層和試劑層的成分組合、沈積順序、沈積厚度和佈局以及熟習此技藝者從本說明書所述實施例中知曉之其他參數亦可變動。在區段3中，用於電化學感測器的碳圖形可利用絹印術印製。碳印刷站1〇3之基本組件例示於圖3A和3B。特定言之，一依據一實施例的適當印刷站包含一篩網3〇1、下印刷滾輪303、印刷滾輪600、一佈墨片6〇3、一塗刷器支架605、及一塗刷器6〇6。在碳印刷ς 〇 103中，印刷滾輪6〇〇是第二印刷滾輪214。篩網具有大致扁平構造且通常包含一經配置用以提供期望圖形之一負像的網。在印刷_ ’碳墨水被施加到網上且被推穿過該網。在此階段’扁平篩網可能因墨水之重量（這對於酵素印刷步驟來說特別是如此’其中要在整個印刷行程期使用的全部墨水通常在印刷行程開始時就被沈積在^ 上）及來自塗刷器將墨水推穿過印花網模之壓力而梢微變 46 200944790 形偏離扁平形狀。在一注墨循環程序中，篩網301因塗刷器6〇6、佈墨片 6〇3、印刷滚輪6〇〇、及下印刷滾輪3〇3依第一方向6〇8移動而被裝填墨水604，該第一方向對應於基板242之薄片移 5 動方向。於墨水6〇4裝填至篩網301上的注墨循環中，篩、周301依與基板242之第一方向608相反的第二方向go? 移動。在本說明書中，，，塗刷器，，和”刮刀，，係可互換使 © 用以表達該材料係與墨水及篩網接觸。 1 在如圖3B所示之一後續印刷循環程序中，塗刷器6〇6 1〇使墨水604穿過篩網3〇1轉移到基板242上。於印刷循環期間，塗刷器606、佈墨片603、印刷滾輪6〇〇、及下印刷滾輪303全都依與基板242之薄片移動方向相反的第二方向術移動。薛網301依第一方向6〇8移動，其對應於用 15 於印刷循環之基板242的薄片移動方向，期間墨水604被推穿過_網301並沈積到基板242上。因此在印刷循環期 Ο 間，篩網3〇1以與基板相同或非常近似的速度依與薄片基板相同的方向移動。筛網301在休止時是大致扁平的但在使用中其被塗刷n 606推往薄片目而在發生此事時變成 2〇 f微扭曲’且一旦塗刷器_移開即大致回復其原始形狀。然後_ 3〇1纟其再裝填墨水6〇4以供下一個印刷循環使 =時依相反於基板之方向移動。當墨水被裝到篩網3〇1上 ^ ’墨水的重量可能-直使_網稍微彎曲。筛網則對於，開印刷站之薄片行進方向_成-角度。此排列（該角度通常大約1〇至30度且更特定言之侧15度）促進墨水 47 200944790 從篩網釋出到基板上，增進印刷清晰度和可再現性。篩網對基板角度、塗刷器角度、篩網對塗刷器角度、塗刷器對印刷滚輪位置、彈動距離（snap-off distance)、基板與篩網之相對速度、及塗刷器壓力全都可被用來控制並最佳化一卡片上之所得印刷清晰度和一致性。一種絹印機構之一實施例在已授證美國專利第4,245,554號中有更詳細說明，該專利之内容以引用的方式併入本文中。在一特殊實施例中，在碳印刷站103中，所述墨水是碳墨水。適用礙墨水之一實例在下文提出。在本發明此實〇施例中，篩網301先被添注墨水604到滿然後利用塗刷器 606使墨水604穿過篩網轉移到基板242上。沈積在基板 242上的印製碳圖形隨後利用例如i4〇〇c的熱空氣烘乾，該熱空氣係利用苐一乾餘區217 (例不於圖2B )内之四個獨立烘乾機組吹到基板之印製表面上。適合用在碳印刷站的墨水包含但不限於具備金屬顆粒的碳墨水，銀/氣化銀墨水，金基、及把基可印刷導電墨水。在一實施例中’在碳印刷程序之前且緊接於乾燥之後，基〇板242通過一第一冷卻滚輪212’該滚輪經設計用以使基板 242快速地冷卻至一預定溫度、通常是室溫（大約18_21艽且典型是19.5 C +/—0.5°C )。在依據一實施例之薄片製程之一實施例中，第一冷卻滾輪212的表面約為Ι8ΐ。第一冷卻滾輪212可利用例如大約了它之工廠低溫水冷卻至一適當溫度。該滾輪之溫度可藉由控制該工廠低溫水之流率及/或溫度的方式控制。在印製碳圖案於印刷程序中沈積之 48 200944790 後，基板242通過第二冷卻滾輪218。降低基板242之溫度及維持基板242之溫度是有利的，因為較冷溫度降低墨水於印刷期間在筛網上乾掉且在網眼造成堵塞的可能性。依據一實施例在一薄片製程中使用冷卻滾輪的另一好處是因 5 為其減小基板242之拉伸量，減輕對位問題及在過程中修改程序以補償此等問題的需求。在一實施例中，該等冷卻滾輪的溫度被一測量著冷卻 p 滾輪溫度且控制水流量/溫度的反饋回路動態地控制。熟習此技藝者可從本發明書所述實施例採用其他方法使滾輪冷 10 卻’例如電動冷;東單元0 在一依據一實施例的製程中，薄片製程的區段4是進行絕緣印刷之處。在區段4中，電化學感測器之絕緣圖形係利用一使用一大致扁平篩網的絹印術印製。絕緣印刷站 104的基本組件例示於圖3A和3B。特定言之，依據一實 15 施例之一適當印刷站包含一篩網301、下印刷滚輪303、印级刷滾輪600、一佈墨片603、一塗刷器支架605、及一塗刷 606。在絕緣印刷站1 〇4中’印刷滾輪600是第三印刷浪輪 221。在一注墨循環程序中，篩網301因塗刷器606、佈墨片 2〇 603、印刷滾輪600、及下印刷滾輪303依第一方向608移動而被裝填墨水604,該第一方向對應於基板242之薄片移動方向。於墨水604裝填裘篩網301上的注墨循環中，韩網301依與基板242之第一方向608相反的第二方向6〇7 移動。 49 200944790 在如圖3B所示之一後續印刷循環程序中，塗刷器606 使墨水604穿過篩網301轉移到基板242上。於印刷循環期間’塗刷器606、佈墨片603、印刷滾輪6〇〇、及下印刷滚輪303全都依與基板242之薄片移動方向相反的第二方向607移動。篩網301依第一方向6〇8移動，其對應於用於印刷循環之基板242的薄片移動方向，期間墨水6〇4被推穿過篩網301並沈積到基板242上。竭印機構之一實施例在已紐美_κ245,554射有利之内谷以引用的方式併入本文中。 ^本說明書中’ ”塗刷器”和”刮刀”係可互換使用又達塗刷器材料之支架及塗刷器材料二者皆與墨水接觸，或者塗刷器材料與墨水接觸。在可動扁平絹印術中， ’在印刷期間一大致扁平篩網具

變基板與篩網

之相對诖廢备对燃I , / _ _ . Q

望圖形圖像之一負像。藉助於一塗篩網上乾燥形成期 50 200944790 刷器，墨水穿過網模之開口區域到基板上（在基板上形成一由墨水構成的正像）。框架提供一安裝網子的構件，承受由有極小扭曲之拉伸網子施加之力量且承受在印刷期間產生的額外力量。 5 在一特殊實施例中，就絕緣印刷站104來說，所述墨水是一絕緣墨水。適用絕緣墨水之一實例在下文提出。在本發明此實施例中，篩網301先被添注墨水6〇4到滿然後 ❹ 利用塗刷器606使墨水604穿過篩網轉移到基板242上。沈積在基板242上的印製絕緣圖形隨後利用例如M〇°c的 10 熱空氣烘乾，該熱空氣係利用第二乾燥區224 (例示於圖 2B)内之四個獨立烘乾機組吹到基板之印製表面上。適合用在依據一實施例之薄片製程之絕緣印刷站中的墨水實例是 Ercon E6110-116 Jet-Black Insulayer Ink，其可自 Ercon， Inc.購得。在一實施例中，絕緣圖形利用本說明書所述技術 15 在X方向（沿著機器）和y方向（橫越機器）中對準碳圖形。熟習此技藝者可從本發明所述内容理解到可使用其他 φ 類型的絕緣墨水。此外，可用不同層或不同層順序以在生產所得電化學感測器中提供一不同層順序且因此提供不同構造。在一實 2〇施例中，於絕緣印刷程序之前且緊接於乾燥之後，包含印製碳和絕緣圖案的基板242通過第三冷卻滾輪219,該滚輪經§又计用以使基板242快速地冷卻至一預定溫度、通常是室溫（大約17-2rc且典型是19.5°C+/—〇.5。(：）。在薄片製鞮之一實施例中，第三冷卻滾輪的表面溫度約為18°C。第 51 200944790 三冷卻滾輪219可利用例如大約7。(：之工廠低溫水冷卻至一適當溫度。降低基板242之溫度及維持基板242之溫度是有利的，因為較冷溫度降低墨水於印刷期間在篩網上乾掉且在網眼造成堵塞的可能性。依據一實施例在一薄片製 5 程中使用冷卻滚輪的另一好處是因為其減小基板242之拉伸量’減輕對位問題及在過程中修改程序以補償此等問題的需求。在一依據一實施例的製程中，薄片之區段5是進行第一酵素印刷之處。在區段5中，電化學感測器之酵素墨水❹ ίο 圖形係利用如前所述之絹印術和一大致扁平篩網印製。第一酵素印刷站105的基本組件例示於圖3A和3B。特定言之’依據一實施例之一適當印刷站包含一篩網301、下印刷滚輪303、印刷滾輪600、一佈墨片603、一塗刷器支架6〇5、及一塗刷器606。在第一酵素印刷站105中，印刷滾輪6〇〇是第四印刷滚輪227。在一注墨循環程序中，篩網301因塗刷器606、佈墨片 6〇3、印刷滾輪600、及下印刷滚輪303依第一方向608移〇動而被裝填墨水604’該第一方向對應於基板242之薄片移動方向。於墨水604裝填至篩網301上的注墨循環中，筛 20 網301依與基板242之第一方向608相反的第二方向607 移動。在如圖3B所示之一後續印刷循環程序中，塗刷器606 使墨水604穿過篩網301轉移到基板242上。於印刷循環期間’塗刷器606、佈墨片603、印刷滾輪600、及下印刷 52 200944790 滾輪303全都依與基板242之薄片移動方向相反的第二方向607移動。筛網301依第一方向6〇8移動，其對應於用於印刷循環之基板242的薄片移動方向，_墨水6〇4被推穿過筛網3〇1並沈積到基板242上。羯印機構之一實施 5 已授證美國專利第4,245,554號中有更詳細說明，該專利之内容以引用的方式併入本文中。在一特殊實施例中，就第一酵素印刷站1〇5來說，所〇述墨水是一酵素墨水。適用酵素墨水之一實例在下文提出。在此實施例中，篩網301先被添注墨水6〇4到滿然後 10 利用塗刷器606使墨水604穿過篩網轉移到基板242上。沈積在基板242上的印製酵素圖形隨後利用例如5〇〇c的熱空氣供乾，該熱空氣係利用第三乾燥區23〇(例示於圖2B) 内之二個獨立烘乾機組吹到基板之印製表面上。在一實施例中，於第一酵素印刷程序之後且緊接於乾 15 燥之後，包含印製碳和絕緣圖案的基板242通過第四冷卻鬱滚輪225 ’該滾輪經設計用以使基板242快速地冷卻至一預定溫度、通常是室溫（大約17-21°C且典型是19.5°C+/— 0.5C )。在薄片製程之一實施例中，第四冷卻滾輪225的表面約為18°C。第四冷卻滾輪225可利用例如大約7°C之工 20 廠低溫水冷卻至一適當溫度。降低基板242之溫度及維持基板242之溫度是有利的，因為較冷溫度降低墨水於印刷期間在篩網上乾掉且在網眼造成堵塞的可能性。依據一實施例在一薄片製程中使用冷卻滾輪的另一好處是因為其減小基板242之拉伸量，減輕對位問題及在過程中修改程序 53 200944790 以補償此等問題的需求。此外，由於酵素墨水之心移動而造Ϊ之氣流’確保，素墨水不在_網内：上的墨水衫紐在-平使筛網 5 10 20 印刷機）中觀察到的方式乾掉，因$ ΤΤ1ΐ1_平床明書所述各實施例在機器内移動。還上、1不像本說基板在遭遇酵素絹印步驟之前被冷卻至大 ;:裝=素墨水的篩網於印刷期間被加二二中，加濕作用是大致連續的。可能貝她例筛網加濕作用，事實上可能提供這三二底篩網上方、下方及会邊接征一 S排列在水之水含4被賴在-以样。墨件，會取的溫度、印刷滾輪之、接近酵素印刷站時之基板境(未加濕空氣)的;;程對於周遭環或多排孔_管件於㈣之― _中’—具有- 整個底側輪送加濕空氣衝程虽中橫跨筛網之件（圖中未示），機器之上方和靠操作者側的管之所有酵素墨水；在印二:,L:通該次印刷行程所需上。另-選擇，酵专累1仃程之則或開始時被放到篩網酵素墨水亦可為從一貯界以一诖蟢古士你給。由於酵素墨水含有 ^u連續方式供之重量百分比、更=量的水介於鳴65%間行程當中乾掉。此種險分比），墨水易於在几險可稭由在裝有酵素墨水之篩網附 54 200944790 近提供加濕作用予以減輕。另一選擇，或更典型為除此之外基板可在遭遇酵素（或任何）印刷站之前利用本文所述，卻滾輪予以冷卻。一般而言，基板溫度被控制為小於或等於室溫。但基板溫度會被保持在室内氛圍之露點以 5 上。若室内處於60%濕度，則露點可能是15°c。若基板溫度降到此點以下，則可能在基板上發生凝結作用，报可能損及任何後續印刷行程，特別是用到水溶性 ❹ 墨水譬如酵素墨水的任何後續印刷行程。因此，基板溫度 §如在至/凰與硌點之極限之間的控制對於成功的印刷行程 10 來說可能很重要。溫度及/或通過冷卻滾輪212、219、225、及231之時間的控制對於控制基板溫度來說相當重要。可矛J用反饋控制回路測1基板溫度、例如相對於室溫及/或露點（已知室内濕度）’以控制冷卻滾輪之溫度及基板離開滾輪接近下一個印刷站時的基板溫度。 15 圖2C是一例示依據一實施例之薄片印刷程序之區段6 囔和區段7的示意圖。在圖2C中，區段6是第二酵素印刷站 106。第二酵素印刷站1〇6包含第五冷卻滾輪231、第五集料器232、第五印刷滾輪233、第四視像感測器234、第五驅動滾輪235、第五乾燥區236、Y向對位系統237、及外 20 送壓送滾輪238。在圖2C所示發明實施例中，區段7是復捲單元107。復捲單元107包含轉向機構239、第一復捲心轴24〇及第二復捲心軸241。在一依據一實施例的製程中，薄片製程之區段6是進行第二酵素印刷之處。在區段6中，依據 55 200944790 ίΓ月之電化學制11的酵素墨水圖形係利用蜎印術 :=二個酵素墨水塗層的目的是確保碳電極之全文 =使传電極大致平均沒有空洞。第二酵素印刷站1〇6 示於圖3Α和3Β。特定言之’依據本發明之 600 - L包含一篩網3〇 1、下印刷滚輪3〇3、印刷滾輪佈墨片603、一塗刷器支架6〇5、及一在第二酵素印刷站106中，印刷滾輪_是第五印刷滾輪 Ζό5 ° 10 20 在如圖3Β所示之一後續印刷循環程序中，塗刷哭_ =水^穿過筛網301轉移到基板242上。於印;循環滾輪303全都依與基板242之薄片移動方向相反的第二方向術移動。筛網301依第一方向繼移動二 =麵環之基板242的薄片移動方向，期間墨水刚^ 推穿過筛網3(Η並沈積到基板242上。_印機構之例在已授證錢專利第4,245,554射有更詳細說明，利之内容以引用的方式併入本文中。特定言之，在第二酵素印刷站⑽中，所述墨水是一酵素墨水。在本發明此實關巾，_ 3()1先被添注 6〇4到滿然後利用塗刷n 606使墨水6〇4穿過筛網轉移到基板242上。沈積在基板242上的印製酵素圖形隨後利^ 如贼的熱空氣烘乾，該熱空氣係利用第四乾燥區撕例不於圖2C)内之二侧立烘乾機組吹職板之印製表面上。適合用在第二酵素印刷站⑽之墨水之—實例係與用 56 200944790 在第一酵素印刷站中的酵素墨水相同，其見於W〇 2004/040285號之第21頁的表中，該專利之内容以引用的方式併入本文中。第二酵素印刷站106可包含外送壓送滾輪238、檢查對 5 位的檢查系統237、位於237c處的第三Y向對位系統（圖中未示）及條碼站（圖中未示）。外送壓送滾輪238協助控制基板242之張力（特定言之係内送壓送滚輪2〇6與外送 ❹ 壓送滾輪238之間的張力）。基板242被外送壓送滾輪238 以一定速送離第二酵素印刷站1〇6。位於位置237a、237b ίο 和237c處的Y向對位系統（圖中未示）藉由運用例示於圖 7A中之第一 Y向對位記號21〇1、第二γ向對位記號21〇2、第三Y向對位記號2103、第四γ向對位記號2104於印刷期間控制每一印刷循環的γ向對位（亦即橫越薄片在本發明之一實施例中’第一 γ向對位記號21〇1、第二γ向對 15 位記號2102、第三Y向對位記號2103、第四Y向對位記 ❿ 號2104可分別對應於碳印刷站103、絕緣印刷站1〇4、第一酵素印刷站105、第二酵素印刷站1〇6之γ向對位。每一 Y向對位記號包含以一近似一矩形之取向拼接在一起的兩個三角形。在一實施例中，位於位置237a、237b、237c 2〇的 Y 向對位糸統可用 Leopoldshiihe，Germany 之 Eltromat Gmbh 的 Eltromat DGC650 施行。 Y維度中的對位問題〔其在印刷期間可被位於237a、 237b、237c處的對位系統（圖中未示）改變且/或在所有印刷階段完成後被檢查系統237檢查〕可能是因為薄片張力 57 200944790

之變化或基板242之不均勻扭曲而造成。在本發明之一實施例中，該條碼站包含以下市售組件條碼印刷機 (Cambridge, United Kingdom 之 Domino UK Ltd.的 A400 型）、條碼平台知描系統（Perthshire, .Scotland 之 Scottish 5 Robotic Systems)、及條碼讀取器（Canton, ΜΑ 之 RVSI

Acuity CiMatrix)。該條碼站（圖中未示）用二維條碼標明每一列的感測器片2106。這為每一列的感測器提供一獨特識別碼、批次/批號識別、感測器片編號、及列編號。該條碼站亦於印刷之後立即讀取條碼以查驗條碼是否已正確印❹ 1〇製且向機器操作者提供一目視指示。區段2至6的條碼及

製程資訊被貯存在一資料庫中且稍後被用於辨識及後續剔除/接受卡片供未來處理。復捲單元1〇7舉例來說如圖2C 示意圖在區段7中所示由一 Martin Automatic Rewind System 組成。 15 圖5是一例示兩種不同塗刷器角度的示意圖，此圖包含一基板242、印刷滚輪600及塗刷器606。塗刷器角度800 可改變以最佳化印刷區域之清晰度。在本發明之一實施例〇中’塗刷器角度可為15 + /—5度、較佳+ /—1至2度。請注意塗刷器606對印刷滾輪600的接觸點在每一塗布考条 2〇度800都一樣。 ° 圖6A是一例示兩種不同塗刷器位置的示意圖’此圖包含基板242、印刷滚輪600、下印刷滾輪3〇3、塗刷器6〇6、第一塗刷器位置900及第二塗刷器位置901。塗刷器位置是塗刷器相對於印刷滚輪600中心的位置。塗刷器位置對於 58 200944790 印製墨水的厚度有極大影響。塗刷器之位置可改變以最佳化印刷區域之清晰度。 5 ❹ 10 15 ❹ 20 圖6B是一例示一篩網彈動距離（1〇〇〇)的示意圖，此圖包含基板242、印刷滚輪600、下印刷滾輪3〇3、及篩網 3(Π。在本發明之一實施例中，篩網彈動距離（1〇〇〇)是篩網301與基板242間之最短距離。在本發明之一較佳實施例中，篩網彈動設定值（1〇〇〇)可為大約〇.7公釐。若篩網彈動設定值（1〇〇〇)被設定成太大，塗刷器6〇6無法使篩網301充分地撓曲以使墨水6〇4用充足印刷清晰度轉移到基板242上。若篩網彈動設定值（1〇〇〇)被設定成太小，筛網301會使來自前一印刷循環的墨水糊掉，造成不夠好的印刷清晰度。一範例印花網模和網子示於圖6C。圖7Α是一感測器片的實例，圖中有一第一視導2100 和第二視導2002、第一 Υ向對位記號2101、第二Υ向對位記號2102、第三γ向對位記號21〇3、和第四γ向對位記號2104 ;及X向對位記號21〇5。請注意X向對位記號 2105包含碳X向對位記號2107和絕緣X向對位記號 2108。圖7Β是感測器片2106内之一列連同一碳X向對位記號2107和第二視導2002的分解圖。圖7C是感測器片 2106内之一列連同一絕緣X向對位記號2108和第二視導 2002的分解圖。如圖7C所示，絕緣X向記號2108完全包覆碳X向對位記號2107，且如此在原始碳記號2107之前提供一觸發點（譬如記號2108之左手邊）。這意味著後續任一層係相對於第二印製層（在此例中是絕緣層）而非碳 59 200944790 層印刷。這譬如在第二及後續篩網圖形尺寸在χ方向中（沿著薄片）係大於X方向中之第一篩網圖形尺寸的情況中會有幫助。如圖1和2所示，在製程之結尾，包含已印製的感測器之基板242被復捲單元1〇7復捲然後送入衝床1〇8内，該衝床舉例來說可為一 Preco衝床，其被定位在一低濕度環境中。該Preco衝床係一 CCDX、γ、㊀、浮動承樑衝床。 Preco衝床對位系統利用一 CCD視像系統觀看被印在碳印刷站上的’’ Preco點”’這些允許衝床適應於碳印刷且讓該〇衝床能夠衝切”出方形以外的卡片。衝床1〇8的輸出是譬如圖7A所例示之一組衝製卡片。衝製卡片被從衝床1〇8 送到一輸送帶上，此輸送帶將卡片輸送經過一條碼讀取器底下，該條碼讀取器讀取每—^片上之條碼之二者以確認该卡片相對於薄片資料庫是被接受或被剔除。可執行被剔除卡片之自動或手動抽離。然後卡片被--疊起以備進行下個處理步驟。碳印刷站103、絕緣印刷站1〇4、第一酵素印刷站1〇5、〇及第二酵素印刷站106全都具有一用以在印刷處理步驟之後立即分別利用第一視像感測器215、第二視像感測器 222、第三視像感測器228、第四視像感測器234目視地檢查對位。就薄片印刷製程中之每一區段—亦即區段3、4、5、6 來說，會有如圖2B和2C被定位為緊接在印刷處理步驟之後的薄片觀看攝影系統。 200944790 印刷導件例示於圖7A中。為碳印刷對準，利用第二視導2100在基板242通過碳印刷站1〇3時指出相對於基板 242邊緣之碳印刷位置。如圖7A所例示’會有一前導線和一尾跡線。碳印刷被調整直到該等線條指示印刷處對於基板邊緣成直角為止。個別印製層的對位在χ方向（沿著機器長度）和Υ方向（橫越機器寬度）中是必要的。見圖7Α。 X向對位係由機器之内部對位系統控制。其利用在圖7Α、 7Β和7C中標出的印製區域。在碳印刷循環，一碳X向對位記號2107被印在此區域中。絕緣印刷循環係利用感測器對準碳印刷，此等感測器利用碳Χ向對位記號21〇7允許絕緣篩網調整以便將絕緣墨水印在正確位置。為此目的被使用的石反X向對位記號2107隨後被絕緣χ向對位記號2108 套印且被以相同方式使用以正確地對準第一酵素層2〇〇〇和第二酵素層2001與絕緣印刷。γ方向對位係由位於位置 237a、237b、237c的Υ向對位系統（圖中未示）控制，在一實施例中該γ向對位系統可為Leopoldshmie，Germany之型號DGC650的Eltromat對位系統。其運用圖7A所示印製區域2101至2104。在每一印刷循環（碳、絕緣、第一酵素和第二酵素）印出這些記號以使後續印刷在γ方向中經由感測器對準。薄片資料庫記錄印刷期間之製程資訊。記錄在資料庫内的資訊可經由一條碼（在一實施例中係使用一 2D條碼）回溯到每一個別卡片。在一實施例中，薄片製程之輸出是印有圖形的卡片，该圖形包含經印刷彼此對準的碳、絕緣及二個相同酵素層 61 200944790 以形成各含有-電化學感測器及相關接觸電極用以測量血樣中之葡萄糖的試紙。該等試紙係用來搭配—儀器自我臣七測血糖。可想出此等試紙在本發明範_的替代使用，= 如_諸如血液、間質流體、胞漿、尿液等任何體液或^ 5 纟物中之酮類、葡萄糖、膽固醇、果糖胺及其他分析物或指標物。採用數種試紙設計製造。當今，薄片經設計用以製造用於LifeScan，Inc.出品之〇ne T〇uch ultra測試儀的”

One Touch Ultra”試紙。製得圖形之一示意樣本見圖7八。此圖例示一完整印製卡片，其含有1〇，，列，，各5〇個，，試❹ 10 紙”。每張卡片總計有5〇〇個，，試紙，，。圖中亦標出印刷取向。藉由平行於印刷方向印刷第〇至9列（每列各5〇個試紙）’製程可輕易延伸至包含一將一列與另一列分開的切割步驟。此外’這意味著由於印刷品質之絲薄變化（垂直於印刷方向）造成的任何有缺㈣可被輕易認出。每一 15 列被賦予一編號（以一條碼辨識）且因此來自薄片上之特定卡片的特定列可在事後參照資料庫辨識並予以排除而不需要剔除-整片。這提高得自製程之可用產品的產量並使〇整個製程更有效率。可動大致扁平篩網與用在電化學感測器之印刷的墨水 2〇 ^貞(固體/液體組合）合作良好。相較於旋轉凹版印刷或滾筒、肩印，可動扁平篩網的使用可使印刷清晰度及電化學感測器所需墨水較厚層之沈積的控制更好。各式各樣的篩網（具備不同網子、網之紗線直徑、紗線間隔、厚度、網眼數）可輕易從市面購得以應付連續薄片印刷程序中之不 62 200944790 同墨水類型（碳、絕緣、酵素）的不同要求。因為扁平篩網、印刷滾輪、基板及一將篩網推往基板之塗刷器的排列，有許多參數可供操縱（篩網對基板角度、塗刷器角度、篩網對塗刷器位置、塗刷器對印刷滚輪位置、 5 彈動距離、基板和篩網和塗刷器等的相對速度）以最佳化電化學感測器之印刷程序。總括而言（圖3-6 )，提供一絹印裝置1 〇3利用碳墨水 φ 604使圖像從一篩網掩模轉移或印到一基板242上。裝置 103包含滚輪303和600、金屬篩網301、碳墨水604、及 ίο —塗刷器606。滚輪303和600經組構用以在該篩網有一電極跡線圖像掩模形成於其上的同時支撐並輸送基板242,該篩網與緊鄰該滚輪的該基板接觸。該碳墨水被施配到篩網 301上然後被塗刷器606強迫穿過篩網301。該碳墨水可包含一碳黑與石墨混合物，其黏度約為每秒10,000百分史托 I5 克至約每秒40,000百分史托克。具有不同物理特性的碳墨 ©水可從位於 Wedgwood Way, Stevenage，Hertfordshire 5

England 的 DuPont UK LTD、位於 Monmouth House， Mamhilad Park, Pontypool，UK 的 LRH LTD 或 Fujifilm-Sericol UK LTD，Pysons Road, Broadstairs，UK 講 20 得。圖4A所示塗刷刮刀606包含具有高於55度之蕭式A 硬度特徵的一適當材料。刮刀606安裝在一支架605上。該到刀有兩部分：一下部較寬部分606-1和一上部大致平坦部分606-2’後者之一上部區段裝入支架605之一凹穴 63 200944790 内。下部較寬部分606-1通常是約6-10公釐寬、更典型為約8公釐寬±〇.6公釐。該上部平坦部分通常約為1 7公餐寬。刮刀606經組構成一大致平坦組態以藉由向塗刷器606 施加大於4巴之壓力（不超過機器極限或是在大於4巴至約6.5巴或介於約4巴至約6巴之範圍内）迫使碳墨水6〇4 穿過篩網301，其中1巴約等於施加於範例塗刷刮刀上的每平方英吋14.5磅。此處所述機器包含篩網、框架、塗刷器及用於藉由塗刷器向篩網施加壓力的機械裝置。在一範例實施例中，就一約8公釐寬的塗刷器使用一每公尺塗刷器〇長度大於270牛頓的壓力。該壓力施加於約37〇公釐長的塗刷刮刀。換句話說，施加於塗刷刮刀的力係大於每公尺 270牛頓。刮刀606導致墨水604流穿過篩網301 (圖4C) 以在基板242上行程一電極跡線圖像（例如圖9 )，使得在一試紙中沿一在一碳電極跡線12或14之兩側緣12E1和 12E2或14E1和14E2之間大致垂直於一輛線。或L2的假想線測付之碳工作電極跡線12和14之長度Y2-12或Y2-14 相較於一預定長度的任何變化小於約35%或小於約❹ %，且使得任二工作電極跡線12和14間之任何最小間隙G 相較於一預定間隙變動不超過約30%。在較佳實施例中，該預定長度是大約0.80、0.82、0.84、或〇.86公釐，且該預疋間隙疋大約150、200、250、或300微米。請注意以上數值疋範例，因為只要數值變化不超過相應百分率變化量即可使用任何數值。參照圖4B和4C’可在筛網301之一部分上看到碳電 64 200944790 極10、12和14之一圖像。特定言之，暗區D 流穿過網眼，而亮區l〇L、12L、14L允許碳墨水流穿過藉以行程一碳導電材料之電極跡線10、12和14。金屬篩網 301之一放大部分示於圖4C，該圖顯示在一實施例中用較 5 佳〇.03公釐直徑的個別金屬絲用一約45度的網格角度交織以提供一具備每公分125個網眼、約50微米之網孔、約39 %之開口面積、及大約47微米之網厚度的網。藉由本說明 ❹ 書所述所示用於製造電化學感測器的組件和系統，薄片於製程中被加熱並安置在張力下時會膨脹或拉伸。印刷站（例 1〇如碳、絕緣、兩酵素）通常各自後面跟著-乾燥站。為使墨水有效率地乾燥，該等乾燥站以相當高的溫度（攝 50-140度）運作。此外，為協助薄片通過每一印刷站之位，薄片被安置在張力下。々基板必須被保持在張力下以於製程内控制對位，因此 15 不^基板在任何時候被加熱例如以在印刷後使墨水乾燥，〇基板會不可預測地拉伸而在後續印刷中造成圖像大小動。在每一印刷站印製之圖像的大小係由數項因子譬如網模大小墨水濃度、相對薄片與網模/篩網速度、及當時的基板拉伸量（可逆和不可逆的拉伸）等。在製程結尾時看 2〇 ^的（不同印刷步驟之間）圖像大小變化被發現會有所不其是不可預測且高於預期，大幅降低良率。若層間圖 i大小之間的失配沿著薄片（X方向）大於獅微米，則無法發揮作用。過量圖像大小變化-般認為是因為薄 65 200944790 (因加熱和張力所致）及片基板之過量且不可預測的拉伸收縮造成。拉伸和張力的問題在平床印刷中不會造成為解決=片製程中之問題，嘗試使用預收縮基在被用於4片製程之料被加熱至大約攝氏18 ^小_，仍是-個問題，且導致良率降低。目前薄= 程的提案J在-第-烘乾機中使用高溫或是在一圖像印到〇基板上之前用一夠高的溫度預調節，使得在一實例中從基板大致去除不可逆拉伸。土 ίο 15 20 在薄片製造機器之一第一處理站中’一烘乾機組將基板加熱至攝氏160度。基板後續在製程中會遭遇到的溫度通常不超過140度。在圖2A中，未印基板遭遇到的第一加熱機組是一熱板。其可為一 Teflon塗覆板，其在薄片運動期間舉起並接觸基板。熱量被導引到基板背面。此時其係以160°C之設定點+/—4°C規格運作。該160°C設定點在統計上提供最佳尺寸控制。計算平均是約161°C。在機組2 中’熱空氣被以160°C之設定點+/—4。(：規格導引到基板正Ο 面。計算平均是約161.3°C。在機組3中，熱空氣被以16〇 C之3又疋點+/ 一 4 C規格導引到基板正面。計算平均是約 161.2°C。在機組4中’熱空氣被以160°C之設定點+/_4 °C規格導引到基板正面。計算平均是約bo.rc。因為薄片張力及烘乾機中導入的熱，薄片基板每經圖形重複被拉伸大約0.7公釐。這是利用站1當作預調節單元使基板在後續印刷站之前穩定的主要原因其中之一。用站1 66 200944790 Ο 10 15 ❿ 20 預調節基板會改善碳和絕緣列長度的穩定度，因為材料之大部分拉伸已於印刷之前從基板去除。在-實施例中，於-第一烘乾機中使用高溫， Μ在任何圖像㈣基板上之前（亦即在基板抵達任何印，站之别）從基板大致去除不可逆拉伸。在—第—處理站中’-烘乾機組將基板加熱至一第—溫度，該第一溫質南於基板會在印刷程序㈣遭棚的任何溫度。舉^ =，如果基板在印刷程序㈣會遭_的最高溫度是大約攝氏Η0度’則該第-溫度可為大約攝氏16〇度。、 …因為薄片張力及烘乾機中導入的熱，薄片基板被預調即，從而減輕在-連續製程之後續處理步驟中的拉伸作用。圖SA是-試紙1〇〇的範例分解透視圖，其可包含咬置 ^基板5上的七層。圖8Β是圖认之各層的範例俯視平面圖。設置在基板5上的七層可為—導電層％ (亦可稱為電極層50)、一絕緣層16、兩重疊試劑層瓜和—、一黏性層60、-親水性層70、及一頂層8〇。試紙可由一系 =的步驟製成’在這些步驟中導電層％、絕緣層16、試劑 g 22、黏性層6G係顧例如1印程序依序沈積到基板$ 士。親水性層70和頂層80可為從一原料卷設置並層壓到基板5上變成-體層壓物或是獨立各層。試紙励如圖8a 所示有一遠端部分3和一近端部分4。試紙刚可包含-樣本接收室92，一血樣可被吸通過該室。樣本接收室92可在-近端包含—人口且在試紙· 之側緣包含一出口，如圖8A杯- 圃所不。一血樣94可施加於該 67 200944790 入口裝滿一樣本接收室92使得葡萄糖可被測量。位於試劑層22旁之一第一黏性墊24和一第二黏性墊26的侧緣各自定義樣本接收室92之一壁，如圖8A所示。樣本接收室92 之一底部部分或”地板”可包含基板5、導電層5〇及絕緣 5 層16之一部分，如圖8A和8B所示。樣本接收室92之一頂部部分或”屋頂，’可包含遠端親水性部分32，如圖8A 和8B所示。就試紙100來說，如圖8A和8B所例示，基板5可當作一協助支撐後續施加之層的基礎。基板5可為呈一聚酯Ο 1〇片之樣式，譬如聚對苯二甲酸乙二酯（PET )材料（由

Mitsubishi供應之Hostaphan PET)。基板5可呈卷物樣式，標稱為350微米厚乘370公釐寬及大約60公尺長。形成可用於葡萄糖之電化學測量的電極必須要有一導電層。導電層50可由一絹印在基板5上的碳墨水製成。在 15 一絹印程序中，碳墨水被裝載到一篩網上然後利用一塗刷器使該碳墨水穿過該篩網轉移。印製的碳墨水可利用約14〇 °C的熱空氣使其乾燥。碳墨水可包含mgh樹脂、碳黑、◎ 石墨（KS15)，及用於樹脂、碳和石墨混合物的一或多種溶劑。更特定言之，碳墨水可納入一約2.90:1之比例的碳黑： 20 VAGH樹脂及一約2.62:1之比例的石墨：碳黑。就试紙100來說，如圖8A、8B和8C所示，導電層5〇可包含一參考電極10、一第一工作電極12、一第二工作電極14、一第一接觸墊13、一第二接觸墊15、一參考接觸墊 11、一第一工作電極跡線8、一第二工作電極跡線9、一參 68 ❹ 10

15 Q 20 200944790 =極:=3試Π:17。，電層― 適於電連料^試儀轉考_塾U可一工作電極12到第-接絲”乍電極跡線8提供一從第第二工作電極猶9提通路。相似地，墊15的電連續通路。相似地，'極14，第二接觸考電極10到參考接觸塾η ^电木跡線7提供—從參電連接至參考接觸墊u。—測紙偵測棒17 正確插入，如圖8A、8B和8C所示。圖8D例示位於試紙1〇〇近端部分4 :丨部'在X方向中’參考電極1〇與第一工作電極‘ 第二工作電極14每一者以一間距χι分開，如圖8〇所示。 ^卜，第-1作電極12在\方向中與第二I作電極以以間距XII分開，如圖8D所示。間距幻和如可為約3〇〇傲米且可以是或不是相等。在γ方向中，參考電極1〇盘第〜工作電極12以一間距Y1分開，如圖8D所示。此外，第-工作電極丨2在Y方向中與第二I作電極14以一間距 Y11分開，如圖8D所示。間距Y1和γι1可為約1〇〇 3〇〇微求’或更佳為i25-200微米，或更佳為約18〇微米，且可以是或不是相同。-般而言，網子上的間隙γ11 (在後文實施例中稱間隙G)的標稱尺寸可為約2〇〇微米，而實除印刷尺寸係較接近150微米。熟習此技藝者會理解到參考電極與H電極的分隔及卫作電極彼此之間（在γ 69 200944790 10 15 方向中）的分隔可為大致相同（例如γι)，然不一〜有此需求。第-工作電極12和第二工作電極14;各自：有一約0.8公釐的長度γ2，如圖8D所示。一般而+，^ 的長=會大致相同，然不—定有此需求（“電= 12的Υ2=電極14的γ2)。參考電極1〇可有的長度Υ3，如圖8D所示。、、’厶楚間距XI及/或X11可被設計成夠大以減輕料導致電極橋接的可能性。應理解到加大間距X〗並不會加大試紙1〇〇之樣本接收室92的容卜間距Y1及/或Y11可經設計小於間距幻=例廷會有其好處，因為較大的間距Y1及/或γ 〆接收室之容積且因此提高所需體液體積。加大樣本如圖8E、8和9所示，絕緣層16可包含一矩形孔18，其暴露參考電極10、第-工作電極12二 :工:電極的一部分以定義第一和第二工作電極之2 素工作區，其可因例如藉由絕緣孔18暴露於 - 被潤濕。視校正輸入而定，該酵素工作，而文所述之計㈣㈣職料41^7^^本 :2:12和第二工作電極14的長度Y2_m較佳係從此工：決I矩形孔18的寬度是X3。在本發明的範圍内亦可相見孔隙之其他形狀，譬如方形、長菱形、三㈣、圓形、印形、多邊形等。工作電極面積的決定是相對簡單的本範例實施例中是（Χ3χΥ2-12)或（χ3χΥ2_14) ❹ ❹ 第一工作電極12之一下周緣與第二工作電極ΐ4 之上 20 200944790 Υ11) 〇^7 線7、8和9。咸作m f防止一液體樣本碰觸到電極跡 _ 。準確地定義一工作電極之作用面積是重比。、舉例來因=電:的強度係與電極之有效㈣^ Μ贿chusetts )、構;:^為可從E腿，1收（W咖am， InSU—-墨水。件之—η E011(M16 如 Ο 15 φ 20 平坦^㈣且在此實_巾是大致矩形且不平-等為小和形狀，譬如圓形、方形、尺寸被稱為#e ’在此細長試紙案例中，沿著試紙的意欲在内=規:的ί:越試紙的尺寸被稱為寬度。此並非 *二圍以外設限。此外，如前所述，試紙二5r形狀’且通常會被調適成 :式)’譬如用於血糖之自我監測_，= = 用_亦可想見有連續的試紙供兩次、多次或真=續：

部八？劑二？設置在導電層5〇基板5及絕緣層16的-77 Λ圖A和8B所示。試劑層22可包含化風物，譬如會與葡《糖反應的酵素和氧化態齡。酵素之二例為葡萄糖氧化酶，且媒介之一實例可為鐵氰化物。在一實施例中：試㈣22彳包含葡萄糖氧化酶（Bi_e Laboratories)、檸檬酸三鈉檸檬酸、聚乙烯 Aldrich)、羥乙基纖維素（Natr〇s〇I 250 G)、亞鐵羞》j DC 1500 (Antifoa, BDH/Merck Ltd) . Cab〇siI 18 ^10 71 200944790 (Cabot Corp., Billerica, Massachusetts, 01821-7001, U.S.A.)、聚乙烯吡咯烷酮醋酸乙烯酯（PVP-VAS-630，ISP Company Ltd )、及 analar 水（BDH/Merck Ltd)。Cabosil TS 610是具有親水性和疏水性基團的表面經處理煙燻矽石。 Cabosil之一替代物咸信是一具有WackerHDK15商品名的類似砍石（由 Wacker Chemie AG，81737 Munchen，Germany 出品）。 10 15 20

適合使用之酵素的實例可包含葡萄糖氧化酶或葡萄糖脫虱S#。更明確地說，葡萄糖脫氫酶可有一他嘻並喧琳酿輔因子（縮寫成PQQ或者可用其俗名meth〇xat i n稱呼）或一黃素腺嘌呤二核苷酸辅因子（縮寫成FAD)。適用之氧化態媒介的實例可包含鐵氰化物或三氯化釕六銨（[RuIn (NH3)6]C13且亦可簡稱為釕六銨）。透過涉及酵素、媒介和基板之反應，可產生一比例量的還原態媒介，然後予以電化學測量以計算一葡萄糖濃度。

試劑層22可由試劑墨水形成，試劑墨水係被設置在導電層5G上’通常亦與絕緣層16重疊然後乾燥。請注試劑墨水亦可被稱為酵素墨水或配物。試劑墨水; 常含有-液體譬如-緩衝劑以供施配且/或溶解用於分? =譬如葡雜之電化學_之材料。在—實施射，兩4 續试劑層22a* 22b可被絹印到導電層5()上，通常也割 ίΓΓΓ6田試劑墨水可被裝載到-筛網上直賴塗㈣使試劑墨水穿過篩網轉移到; 電層50上。沈積後的試劑墨水可利用約5代的献空氣使』 72 200944790 乾燥。試劑層22的面積可大到足以覆蓋矩形孔i8(亦即酵素工作區）的全面積。試劑層22可具有大到足以至少計入可· 用在試紙100中之最大電極面積的寬度和長度。試劑層22 5 的寬度可為大約2公釐，這比矩形孔18之最大寬度X3的兩倍還大。寬度X3例示於圖9且將在下文說明。

今參照圖9’工作電極12和14具有（在一完成試紙中），被絕緣層16覆蓋的側緣15A。工作電極12和14之外露區域具有侧緣15B。可相對於側緣15A或15B定義兩軸線L1 ίο 和L2。在方形或矩形工作電極的案例中，側緣15a和15B 大致平行。工作電極12和14各自的長度Y2-12和Y2-14 可被定義成每一電極在一大致垂直於軸線L1和L2之方向中的長度。在一末端充填型試紙的案例中，血液的方向可工作電極12和14之從邊緣12E1流到邊緣12E2然後流到 15 邊緣14E1和14E2。絕緣孔寬度X3在此範例實施例中是工作電極12和14之外露區域之側緣15B之間在轴線L1和L2 方向中的距離。就試紙100來說，黏性層60可包含第一黏性墊24、第二黏性墊26及第三黏性墊28，如圖8A至8F及9所示。黏 2〇性層60可在試劑層22已沈積之後設置在試紙1〇〇上。第一黏性墊24和第二黏性墊26可被對準成緊鄰、碰觸或局部重疊於試劑層22。黏性層60可包含一水基丙烯酸共聚物壓敏黏著劑’其可自位於Tring，Herts, United Kingdom的 Tape Specialties LTD 取得（部品編號 A6435)。黏性層 60 73 200944790 被没置在絕緣層16、導電層50及基板5的—部分上。層60點結親水性層70於試紙100。生

性部ttTt70可包含一遠端親水性部分32和近端親水 1刀34，如圖8A和8B所示。親水性層70可為一 I 一親水性表面譬如防霧塗層的聚S旨，其可自3M取得f有一添加於試紙1〇〇的最終層是頂層80,如圖8a#J8b 頂層80可包含一透明部分36和不透明部分邛，如〇β8Β所示。頂層80被設置並黏附於親水性層7〇。頂 80可為一在一侧上有一黏性塗層的聚酯。 ❹ 10 15 20 :分％大致重疊於遠端親水性部分32,其允許使== ^樣本接收室92可被充分充填。不透明部分38幫助使 == 接收室92内之一有色流體例如血液與不二〇|刀38之間的高對比度。在前進到本發明各種進一步面向之詳細實施例之前先簡早說明校正。一批試紙（通常是來自一行程之一卷卡片或批次，經單一化、穿孔或切割成試紙）依下述方式校正。通常隨機地從該批中選出大約簡個試紙。使來自供給者〇的體液摻和成多種不同分析物水準，通常是六種葡萄糖濃度。-般而言係用來自12位不同供給者的血液摻和成各六 2水準。對八個試紙給予來自相同供給者和水準的血液使付》亥批進行總计12x6x8 = 576個測試。以此對照使用一標準實驗室分析者譬如Yellow Springs Instnimen^YSI) 這些樣本的實際分析物水準（譬如血糖濃度）作為基準。 b1出實測葡萄糖濃度對上實際葡萄糖濃度（或實測電流 74 200944790 對上YSI電流）的曲線圖’且用一最小平方配適於該曲線圖的方程式y = mx+c給出用於該批之剩餘試紙的批斜率m 和批截距c的值。以上已說明試纸100,以下將例示一用於製備具有一預 5 定目標斜率和預定截距值之試紙的實施例，其可包含至少一且較佳為二個變數之使用。第一變數是使試紙批具有一大致等於該預定目標批斜率之批斜率的工作電極面積調 ❿ 整。第二變數是添加到試劑墨水使試紙批具有一大致等於該預疋目標批截距之批截距的還原態媒介預定添加量。因 10 此’利用下述方法調整工作電極面積及/或添加還原態媒介到試劑墨水’可製備出具有預定目標批斜率和截距的試紙批。在一實施例中，工作電極的面積可藉由改變矩形孔18 之面積的方式調整’其可為約0.48平方公爱至約〇·64平方 15 公釐。另一選擇，矩形孔18用於定義工作電極之寬度的寬 ❿ 度X3可為約0.6公釐至約0.8公釐不等。調整工作電極面積成比例地改變批斜率和批截距，因為實測測試電流的強度係正比於工作電極面積。由工作電極面積之變化造成的測試電流比例變化係歸因於法拉第（Faradaic)和電容兩種 20 途徑。法拉第電流係一由還原態媒介之氧化作用造成的電流，而電容電流係因電荷在電極處積累。工作電極面積的增加導致法拉第電流成比例增加，因而導致批斜率成比例增加，因為更多還原態媒介可被每單位葡萄糖濃度一較大 75 200944790 電極面積氧化。圖21確認批斜率Mcal隨著絕緣層16之矩幵> 孔18之寬度X3増加而成比例增加。由於寬度係與電極面積成比例，批斜率Mcal與電極面積Aelec之間的比例關係可由式3定義。在式3及以下等式和說明中，項” 5 Aelec”和用語”電極面積”可包含工作電極被試劑覆蓋且暴露於一測試流體譬如血液的面積。在提供有二或更多工作電極的情況中，項Aelec在一實施例中可為包含來自每一工作電極之貝獻的減紙總工作電極面積，且應當據此解釋以下說明。〇 10 式 3 Mcai = mslopexAelec 項mslope是一已知試劑層的每單位面積葡萄糖靈敏度，其係一與回應於葡萄糖濃度產生還原態媒介之速率成比例的值。每單位面積葡萄糖靈敏度msi〇pe可被計算為一根據在複數個電極面積測得之複數個批斜率的斜率。可能影 15 響葡萄糖靈敏度的因子包含試劑層厚度、酵素活性、氧化態媒介的量、試劑層之組份的分佈、及面際電子交換速率。在某些條件下，較佳試劑調配物的組份譬如鐵氰化物、表❹ 面經處理煙燒石夕石（闢無Cabosil TS610或Wacker H15 )、 PVP-VA S-63G、及葡萄糖氧化酶可脫水變成—可影響亞鐵統狀產生料的異質層。面際電子交換料係指一碳電極在特定激活能量快速地使亞鐵氰化物氧化的能力。當利用式3時’假設印在電極批上的所有試劑層使用相同材料且在關於回應於葡萄糖產生還原態媒介的方面會具有相同表現特徵（亦即葡萄糖靈敏度）。因此，發明人已理解到 76 200944790 式3在一製程受到夠好的控制致使其他因子是相對穩定時特別有用’能夠在面積被調整時產生可再現的結果。舉例來說，可使用一共同碳及/或一共同試劑批且/或一試劑墨水植度可保持相對怪定。這些面向將在下文更詳細說明。每 5 單位面積葡萄糖靈敏度可為約15毫微安培/毫克/分升/平方公釐至約45毫微安培/毫克/分升/平方公釐。在一實施例中’每單位面積葡萄糖靈敏度是約25毫微安培/毫克/分升/ _ 平方公釐。工作電極面積的增加亦導致電容電流成比例地增加。 10 應理解到電容電流隨時間經過快速衰減，且因此在約5秒時進行的電流測量應當有一相較於法拉第電流強度為較小的電谷電流。圖22確認批截距Bcal隨著矩形孔18之一加大寬度X3成比例地增加。本申請人已理解到由於寬度χ3 與電極面積成比例，批截距Bcai與電極面積、之間的比 15 例關係可由式4定義。式 4 Bca^kjXCxAeiec ® 項1^是一具有公釐毫微安培/莫耳單位的常數；項c是一批試紙中一試劑層内之還原態媒介莫耳密度，單位是莫耳/立^公釐；且項Aelee是—批試紙中之卫作電極的電極面 2〇單位是平方錢。因此，財試嶋内之還原離媒介的莫耳密度及工作電極面積直接影響截距。項、的^值取決於可在電極表面被氧化之還原態媒介的分數流量^取決 =原^貯存在酵素財之還原態媒介的擴散係數。項C = 量值是未添加葡萄糖之一批試紙中之試劑層内的每單位體 77 200944790 積還原態媒介量。在一例中，可利用c計入作為雜質存在 =試劑層内之還原態媒介的莫耳密度。歸併項klXC可被計算作為一根據在複數個電極面積測得之複數個批截距的斜，。歸併項klXC可為約1〇〇毫微安培/平方公釐至約1〇〇〇毫微安培/平方公釐，且較佳是約400毫微安培/平方公釐至約1000毫微安培/平方公釐。 10 15 20 還原態媒介可添加至試劑墨水以提高批截距。還原態媒介可為呈亞鐵氰化物、二茂鐵及其衍生物、氫醌、釕六，、餓二吡啶錯合物之形式。當試劑墨水中之還原態媒介❹ 疋鐵氰化鉀時，還原態媒介可為少於試劑墨水之約02% (重置百分比）。另一選擇，鐵氰化鉀之百分率可為少於試劑墨水中存在之媒介總量之約0.8% (重量百分比）。試劑 =中存在之媒介總量可為亞鐵氰化鉀與鐵氰化鉀之合計重 =4。根據一化學計量百分率，相對於試劑墨水中存在之媒 w莫耳總量，試劑墨水可有約少於〇 5% (莫耳百分比）的〇 ^ ^式4所示，批截距Bcai係與試劑層中之還原態媒介莫耳密度c成正比。因此，批截距Beai可因用更多還原離媒介增添於試騎而加大。23A顯示減距隨著亞鐵氰 =物之添加量增加而以，性方式加大。為計人還原態媒之來源，式4可被修改成如式5所示更為明確。式 5 Bcal = k^AelecXCmat + k^Ae^cXCa^ 項cmat代表試劑層中存在之還原態媒介之莫耳穷产，其係歸因於來自氧化態媒介原始來源中存在之雜^因後 78 200944790 5 ❹ 10 15 參 20 續處理產生之雜質而出現在氡化態媒介中的雜質。項Cadd 代表因還原態媒介之添加而出現在試劑層中的還原態媒介的莫耳濃度。圖23A中之線的斜率相當於歸併項klXAelec，其可根據用還原態媒介添加量之一範圍測得之複數個批截距=定。應注意到歸併項代表在不添加還原態媒介的情況下雜#胁縣減衫貢㈣值。由雜質而來之還原態媒介的莫耳密度Cmat可進一步劃分為一作為雜貝存在於用以形成試劑墨水之原料中之還原態媒介的貝獻Cimp (例如存在於氧化態媒介材料譬如鐵氰化物中之還原態媒介譬如亞鐵氰化物），及—因製程中之變動在處理過程中形成之雜質而提供的變動魏cvaf，及類似者，詳士下文。因此，實際截距亦可包含一來自cvar中所含還原悲媒介之另一背景截距B〇的貢獻，其可在一基值附近隨機 =變動且與作為原料中之雜f存在的還原㈣介無關。申 #人已理解到背景截距B。亦是工作電極面積之一函數。圖23B不出從利用一共同材料批（在此為一共同鐵氰 =勿批...28)製造之複數試紙批以總亞鐵氰化物負載量之 3獲㈣批截距、丨。總亞鐵氰化物負載量包含作為雜务Ιΐ於鐵氰化物批中的亞鐵氰化物C_、添加的亞鐵氰八、及因處理而產生的亞鐵氰化物Cvar。點是有0.2 量之69批、有12公克添加量之則比及有3.3公二1之52批的平均。在朝情況中，批截距在求平均之刖已針對絕緣窗口寬度歸一化。如圖23B所示’歸併項klXAelec可被計算為-根據每單 79 200944790 位體積複數種還原態媒介量的斜率。墨〇〇水體積成正比，見圖23Β之X軸單位。在圖加中，電極係有固定面積’具備-固定長度丫2和— = = 零點(零添=原態媒介假設-固定電極面積）之一基線截^或，窗口寬度， Β〇是258毫微安培。因此，基線戴〇此’基線截距於墨水内提供之變動亞鐵氣化物量造因處理過程中來自此來源之-還原態媒介雜中如如所述截距。作貝J燹莫耳密度匕紅得到的還原態媒介的添加在職電流 =的怪定偏*。因此，-額外的還之相對恆定偏…確認 15 0 頃P㈣還祕介之添加量增加影響。說明如何決^=^=戴距_數，以下將媒介量藉啸供落極轉及/或還原態定目栌# 預疋目標斜率和截距範圍内或具有預中，；定目百ζ比試紙批。在-實施例 21 ± 1圍可為約18毫微安培/毫克/分升至約 rn / 克/分升，或者一預定目標斜率值可落入該軌圍内，且一預定曰描必 ^ ;^截距範圍可為約430毫微安培至約一士文培’或者一預定目標截距值可落入此範圍内。在 ^較、佳實施例預定目標斜率可違約20.25亳微安培/毫 /刀升’且預定目襟截距可為、約436毫微安培、487毫微 20 200944790 安培或505毫微安培。但在某些情，批試紙具有不同於預定目標㈣批斜率和d:種製造出不在期魏格内找紙_情絲說段確保下—批試紙會具有夠接近狀目標值的截距。舉例來說，可製造第一試紙批，其中每且備:第-面積以作電極。請注意在此僅述—個工^電極 ❹ 15 以求簡化’且不應解釋為—排他限制。可提供—或一以上的工作電f，，用方法會依文中所述提供數量適當調適。接下來，可=該第一試紙批以給出—第一批斜率和 -第-批截距值。若因任何理由導賴第—批斜等於預定目標批斜率，然後可採取步驟以在開始製作第二批試紙之前調整製程。施例中’可根據該第—批斜率和預定目標斜率值計异一第二面積。更特宏丄々 μ—μ料特该第二面積可為根據該 Γΐ::面二\目標斜率值間之差計算。再更特定言垄乂：二根據預定目標斜率與第-批斜 elec== (Mtarget —] 項ΔΑ*代表電極面積的變化 target ~~ Mcal ) /m 算，如所示广以每單位面積葡萄糖靈敏度值叫丨啊計式6 ΔΑ slope 實例第一試紙抵經校正為具有約18毫微安培/毫克/分 20 200944790 升的批斜率及一約320亳微安培的批截距，如圖3〇和31 中的三角形所例示。第一試紙批具有一由絕緣孔寬度定義之約0.7公釐的電極寬度χ3且不在試劑層添加亞鐵氰化物。接下來製備七批試紙，其中每批試紙具有不同的電極寬度Χ3。所用電極寬度χ3是〇 56、〇 62、〇 66、〇 7〇、及 0.84么釐。這七批試紙每一者有約一公克的亞鐵氰化物添加於試劑墨水〔一批含有標稱14公斤（例如丨365、丨3乃、 1,385、或h395公斤）鐵氰化物的標稱6公斤（例如6.004、 6.017、6.024、6.027、6.034、或 6.037 公斤）墨水〕。實際批斜率和減距錢過—使料有已知㈣糖濃度之血樣的校正作業狀n制之電極寬度的試紙批的實際批斜率和批截距值在圖30和31巾以菱形例示。此外，^ 用式5和6計算-預測批斜率和批截距，如圖3q和^中 15 20 例示。在圖30和31中，預測批斜率和批截距係較接近估汁批斜率和批截距值。已理本發明一面向中於本範例實施例中，發明人絕緣層中之—孔_義—工作電極之寬度 =方便地藉由調整絕緣層中之孔隙來調整卫作電極寬另—選擇（除式6外）’第二面積可由預定目標斜率乘乂第一面積然後除以批斜率的方式計算，如式7所示。式 7 Ae]ec2 = Ae,eclx ( Mtarget/Mcal) 項Aelecl和Adec2分別代表工作電極之第一和第二工面積…般而言’ Aeleel會代表第—批之卫作電極的^工 82 200944790 5 ❹ 10 15 作面積。僅舉例步可藉由測量—行紅每—^―任何其他尺寸每-者上之多個_“^夕個卡片（例如1G個卡片）而接并I 個4紙（例如1〇個試紙）之工作雷描夕面積並求平均料式決定^極之工作將說明，可使用—㈣、“ _貝施例中’如下文所 -批斜率。舉㈣权據複數個第一批斜率之平均的平均第之H)個卡HU 可騎㈣P行觀每一卷上決定。者上之1G贼紙之斜率並求平均的方式在^朗及其他地方將提及目標斜率和截距值以求 :二:=在以下說Γ :在目標斜率或截距值被提 B二二 &些數值可能各為—有—相關誤差條的值或疋一有與各自之末端相關之誤差條的數值範圍。旦算出第二面積’可製造第二批的試紙豆中每一試紙可包含—具有計算所得第二面積的卫作電極。接下來可杈正該第二試紙批以給初一第二抵斜率和一第二批截距，其大致等於預定目標斜率和預定目標在一第一試紙批具有一實質小於預定目標截距之第一批截距BA某些情況中，調整卫作電極面積可能不足以使 20 一試紙批具有預定物標截距值。舉例來說，可利用調適於第二面積入士。2之使用的式8算出預期原始批截距之一估計值。請注意式8可用於判定是否僅調 * 大致等於駭目職距。若是如 (例如藉由改變絕緣孔X3從Aelee】調整成ΑεΐΜ以外的動作）。 83 200944790 式 8 = 〔Aelec2/Aelecl〕 elec2 時之極之'作面積從Aeleel改變成Aele 則可採取步=::截:::顯小於預定目標-截距，，形孔18可藉由網印程序製備。必須在能夠用敫 =極面積絹印絕緣層16之前選擇一具有適當幾何形狀= 印程序具有根據_網開口大小的有限解析度。因 10 15 20 微米2施例中1寬度X3可在使用—絹印程序時二μ W更大的增量改變。在許多情況中’計算所得第二面二::由之變化電極寬度增量之離散面積歇—者&供的面酬好相符。當*具有—精確匹、，會在篩網大小有二個增量提供最接近計算所得第二 =面積值。在-實施例中，可選擇一給出—較大面積 ^ ，因為較大面積會提供一較大測試電流。整體而言，乂大測試電流會有一較佳訊噪比且可在有内因性干擾存 =情財tb較準確。但在另-實施例中，可選擇-給出一 J面積的增里，因為較小面積導致批截距較小。整體 :s，較小截距可能較佳，因為批戴距玎透過還原態媒介的添加而加大。 Θ在另一面向中，一種加大批截距的解決方式是將預定的還原態媒介添加到試劑層。舉例來説，如果製造出具實質不等於預定目標斜率和預定目標截姐值之第一批斜 2和第一批截距值的第一試紙批，則可利用一還原態媒介 '、加量製備使用—計算所得第二面積的第二試紙抵。 84 200944790 現有、面當中已經說明媒介量與試劑層中之的C 密度的關係K—+因雜質而有的var及因故思添加之還原態媒介而有的Cadd)。與二力立，丨層中之還原態媒介㈣在-批試紙之脫水則於3的試劑墨水)以的關聯性。喝巾核—期望莫耳密度之媒介量 10 15 鲁 20 根據面積可t稍早所述利用式6或7 經校正以提供該前批::斜::;施=製:的:式紙批可紙批可為最近製造者^纟—實_中’先前製造的試屬同時期或附近者少就日相來說與欲製造之試紙批可根=;=二:面積的替代方案或除此之外， ⑴還原態媒介雜質百：；=之f加量b:(1)目標截距’ 例實施例中，還原離媼入刀 3)为景戴距。在一範態媒介雜質百分比添加量可為不考慮因子⑵還原零背景截距B。計算。，、W设零雜質且/或不考慮因子⑺ 4 ^#t 3〇0 表（大約）7或8 Π 次相同的多個行程。每一點代示出單位為毫^ _]批號。Υ轴中絕緣孔宽产Χ3\ 線截°。菱形代表循環11，其 :;::::;r,:rX3F：!：：r'5 τ八j被6又疋成750微米 85 200944790 且Fadd是每批墨水0·9公克然後1.2公克。圓形代表循環 14 ’其中X3是725微米且Fadd是每批墨水1.2公克。每一點代表-包括-7或8卷行程的批次，其基線截距&已藉由將批截距難成—鮮I作電極面積、減去亞鐵氛化物添加量及以雜質存在於鐵氰化物材料批中之亞鐵氰化物量 (經測量確立）的方式推估。基線截距Bq在約22s毫微安培與略低於400亳微安培之間廣泛且明顯隨機地變動。然基線截距的分佈係以約3〇〇毫微安培為中心。 μ 式5可被改寫成： 10 15 20 、 ^cal —k^ejecX ( Cjmp + Ca(jd ~l· Cvar )

因實務理由’用—批試水巾之公克單位亞鐵氛化物會比用-最終試紙之賴層中之亞鐵氰化物 C ❹ 方便。這些量是相關的。發明人已理解到添加於試劑^水組份使一液體調配物適用於印刷之水的量後來除且因此可餘略。附帶—提，涉及水的處理步驟^促成Q ’但可以利賴歧據估計職相·線截距Β〇並如本文他處所述減去此部分的另一種方式納入考慮。因此，脫水賴料之還絲齡㈣耳密度c係與試劑墨水批中之_態媒介（在此為亞鐵氰化物）的量關係式關聯：

式 5B C = KinkF 其中C是單位為莫耳/立方公釐的莫耳密度，f是每批 ίi中ΐ公克數的亞鐵氰化物量，且‘是—使每批公克數與-最終試紙巾之單㈣莫耳/立方公釐㈣耳密度關聯 86 200944790 的常數。然後式5可被再改寫成：式 5C Btarget= k2AelecFimp + k2AeleeFadd+ k2AeleeFvar 其中k2 — kixKink ’ Btarget是目標批截距且是存在於組份材料鐵氰化物中之每批墨水雜質公克數。項k ^ 丄 var 5 代表基線截距B〇，亦即因處理過程中從充足鐵氰化物轉變成亞鐵氰化物之變動而對截距的貢獻。因此，式5C可被改寫成： © 式 5D Btarget - B。= k2Aelec ( Fimp + Fadd ) 頃已顯示B〇可從歷史數據（就少量處理中的批次來說 1〇係關於圖23B，或者較大量見圖23C)導出eFirnp可如本文他處所述測量。因此在一較佳實施例中，還原態媒介添加量可藉由計算目標截距與背景截距間之一差除以一常數然後減去還原態媒介雜質量的方式決定。就生產觀點來說這是一種非常務實的方式’因為其給出添加到一批墨水的還原態媒介量 ❿ 而非一批試紙之一脫水試劑層中所需的還原態媒介莫耳密度。、媒介添加量不一定相依於第一批截距&。令人驚奇地’此方法已顯示會給出約±15%低變化度的複數個抵戴距 20 值。因此在一更佳實施例中，還原態媒介添加量F大致如式9A所定義：式 9A Fadd JFimp 項Btarget代表目標截距，b〇代表背景戴距，Kint == k Δ 2 八 elec 87 200944790 代表一，於將電流換算成還原態媒介之量的常數，且Fim ，表與氧化態媒介彳目_為一雜f之還原態媒介的量。: 二為—抵試劑墨水中的公克單位亞鐵氰化物。-β之還原態媒介的總量可包含Fadd和Fimp。 ^int可為—將試劑墨水中之亞鐵氰化物總含量換搞宮^距之變化的經驗推導常數。舉例來說，就工作電又約為7GG微米的試紙批來說，^可為約⑴毫微女°亞鐵氰化物公克數。常數Kint應刻於將要製造之下 = 極寬度歸一化。舉例來說，下一批試紙可被仏、約725微米寬（及一未改變的電極長度）之電極。在此例中’Kim可乘上725/700之比以得到具有約725 微米電，寬度之試紙批的歸一化Kim。具有約 15 20 ύ 決f還原態媒介譬如亞鐵氰化物之適當添加量的另一種，法是根據如式9之相同法則使用@ 32之圖表。該圖針對少種不同工作f；極面積L出每墨水批所需亞鐵氣化物添^里公克數對上作為雜質存在於鐵氰化物巾之亞鐵氛化，量…^言’-批標稱為6公斤的墨水會有標稱為14 公斤的鐵氰化物。藉由測量鐵氰化物中之亞鐵氰化物雜質量’可確認X抽上的位置。—旦（根據目標斜率）選擇一絕緣孔寬度’即可確認圖32中之線的—者，且可確認達到目標所需每墨水桃公克數的亞鐵氰化物添加量。在此假設工作電極具有相同長度Y2，且僅調整絕緣孔寬度χ3以改變面積。其中目襟截距是487毫微安培。包含但不限於436 毫微安培或505毫微安培的其他目標截距亦在本發明範圍 88 200944790 設想之中。附帶-提’圖32亦顯示根據製造商規範的預期亞鐵氰化物雜質水準 Q及㈣原料（㈣量導出）之實際亞鐵氰化物雜質範圍。與氧化祕介之雜質有關的還原態媒介量係與原態媒介雜質百分比成比例。舉例來說，亞鐵氰化物係一還原態媒介且可與氧化態媒介譬如鐵氰化物中之雜質有 ❹ 10 15

20 關。鐵氰化物是可用在試劑墨水中的氧化態媒介之_:實例°視-鐵氰化物關批的來源、、品f及儲存條件而定， ΐ鐵氰化物賴批中會存在某種程度的亞鐵氰化物雜質。到作為-雜質存在的還原態媒介量係等於還原態媒分比乘以試劑墨水抵中之氧化態媒介量。亞鐵氰化物雜質百分比可利用多種分析技術測量，例如υν_可見度學或氧化還原滴定法測量。適用於判定亞鐵氰化物雜貝的/刀析技術可參見” AnalaR Standards for ehemieals ” （咖，1984，工麵 439_4_x)，其内如引用的方式併人本文中。背景截距Bo代表還原態媒介還原態媒介量Fimp以外之多細add和作為雜貝之加IF , Μ二/ 子的歸併。還原態媒介添篁add和作為雜質之运原態媒介距的因子舉例來說包含在仙I 卜促成貪景截態媒介、試劑墨水製備與印^程^合程序中產生之還原墨水印刷程序、及試劑乾燥程序還有存時間、試劑還原態媒介在處理步驟當巾之產 t極面積。除了其他因子為糊料層 89 200944790 10 15 内之可氧化物質的存在。整體而言，—較厚試劑廣總計會有比-具有較少還原態媒介之較薄試劑層多的還原態媒介。存在於血液内的可氧化物質（譬如抗壞血酸鹽、尿酸鹽及對乙喊祕）可紅作f極直接氧化或間接氧化。間接氧化作用發生在可氧化物質使氧化態媒介還原成-還原態媒介之時’而該還原態媒介隨後會在工作電極氧化。如本文所述，有許多因子會影響背景基線截距B〇之量值。、因此’當計算背錢距B。時應當使麟錄試紙，這些試紙批是上述因子的代表。在—實施财，可在例如利用如圖32所不數據計算背景截距B時用約細或更多的試，批:起求平均。這約2⑽或更乡的試紙減當是在製程目對穩定的適當軸當巾製造。可利用統計技術指定為一值及/或可歸因於1殊變化的減距值應被排除在月景截距B。之計算外。當—起求批截距值之平均以計算可1表通用月景#號之背景批截距時，應使每一批截 =值歸彳匕以权可能因每批試紙而異之工作電極面還f態媒介添加量及還原態媒介雜質百分比。亦可使用更大里的歷史數據，譬如圖23C所示者。

面J截距值可經由乘以-電極面積比率的方式針對電極面積歸一化。舉例來說，若批截距係從一具有725微= 之工作電極的試紙批獲得且該_距必須就— /乎工作電極（假設兩電極具有相同長度）歸-化，則距應被乘上700/725之比。 ⑴孩抵戴批戴距值亦可經由從減距減去還原態媒介添加量之 20 200944790 貢獻的方式針對還原態媒介添加量 ::截距係從-具有〇.2公克亞鐵氛化物添加=批; 克亞鐵氰化物）得到131毫微安培 ·5以土女培/么介添加量之影響e b，要就還原態媒毫微安培。知一化’應當從抵截距減去⑴ ❹ 15 ❿ 20 對試從批截距減去雜質之貢獻的方式針二:==物質百分比的試紙批獲得-批算成還原態媒介雜ί量。二將:g气:介雜質百分比換試劑墨水1此如果還㈣齡雜質百 :亞鐵氰化物。接下來=

Kint (在此例中二針對還原態媒介雜質之影此’為使批截距 9〇.7毫微安培。 θ 應攸該批截距減去約 *法以二計算還原態媒介添加量的算所得還原態媒介量、二= 可利用該第二試劍層製造第二試電極。在校正後：所；二面積之工作例令大致等於預定目標會具有近似且在一些案丁率和預疋目標截距值的批斜率和 91 200944790 批截距π人驚奇的是，將目標截距分比及背景基線戴距Bq⑽計算__>_二=

所得複數個批截距值具有—約15%或約…7 US 的低變化度（目標截距是約彻毫微安培）。在-實齡Γ中可能需要約10批至約l0n4L k 貝她例中，每-批來說，可能需要約批截距之低變化度。就校正程序。應理解到還$ 式紙進行一判定批截距的加至預定目標值，但不截的;::效於使批截距増以下說明用以決定製傷具有約： 10 15 20 距Bta咖和約18.4毫微安培/毫克/分升之ΐ標斜;M “截试紙批之試劑墨水所需之丁 ’、…target的實例。利用式6或7，得到—具添加量所包含的計算得電極面積。對於此試劑墨水、、’、、⑻微米寬度的計算所百分比之亞鐵氛化物雜二重量墨水批包含約1385公克的鐵氰化鉀彳此鉀：。又，試劍批相關的亞鐵氰化物雜質量是F〜此，與該鐵氰化物 1385公克鐵氰化物=約i 45 备收％重量百分比χ 當中收集約244個批截距值，其中^在—段時間極面積和一範圍的亞鐵氰化物添加晋4批包3一範圍的電距值之平均且就一約7〇〇微米三經由求取所有抵截約298毫微安培的所得背景截距β ^度歸-化，判定一 700微米的電極寬度，Kint之經驗推°°稍早所述，根據約 /公克亞鐵氰化物。化疋義，可利用+ 丨m及F丨mp今已被量 9A計算U 。 92 200944790

Fadd

B ^arg et ~F. int 487-298 一 — L45Sl.43公克因此，應當在減劑墨水印私作電極上之前肋143公克的亞鐵物摻和於試劑墨水。匕 ❹ 15 tMl 但如果經式6或7判定必須使用約700微米以外的。極寬度，會有必要使背景截距B〇和經驗推導常數Km針= 另一電極寬度歸一化。以下實例說明如何在電極二a的 725微米時計算式 10 (725)= 298毫微安培x(725/700)=約309毫微安培式 11 Kint ( 725 )= 65.5毫微安培/每批墨水公克數“ 725/700) =約67.8毫微安培/公克亞鐵氰化物利用队和Kint之歸一化值計入一約7乃微米的電極寬，可利用式 9A 計算艮度 F〇dd

B add p — 487-309 1.45三1.17公克。因此，在製造具有-約725微米之電極寬度的試和於試劑墨水。在-範例實:中可將1 二^公克的麵氰化物添加至—含有M公斤標稱量亞载鼠化物之6公斤標稱量試劑墨水批。以上已說明一種製造複數個試紙的方法，以下說明一 67.8 93 20 200944790 種用於製造具備一經調Μ雪技；„ 之複數試紙批的反如序 n祕介添加量異於目標值之大量試紙批的可能性降低。載距週的彳2,製造複數試紙批之方法2·和_ =進:二=’方法_ -開始包含— 且備& 積和還職媒介添加量。在一 2圖==:，這些亦可為串行進行(方法方法包含預先_ 定電極面積的方法2·_，該選—相對小量的試紙批以提供—前批钭率介承Γί—電極面積的手段（步驟27G8)°為決定還原Ϊ媒分丄/里’該方法包含測量原料批内之亞鐵氰化物雜質百 =驟2702 )’從同時期的第—複數試紙 15 20 二(步驟2703) ’且藉由計算還原態媒介第 = 夂：==步驟2叫步驟2709利用雜質 27〇8、U截。及選定工作電極面積（來自步驟以利用^9Α設定用於截距之手段。因此在步驟27〇9 丄利賴的工作電極面積調整基線截距B。，通常是 '驟2708之-新絕緣窗口寬度調整。又，在步驟謂9 欠利用工作電極面積（通常是絕緣孔窗π寬度）調整常 B(見式9Α)。又，在步驟27〇9中，選初一目標截距 get，利用B。、Kint和Btaj_get計算要添加的還原態媒介量、r add ) 0 今已設定會影響截距和斜率的因子或手段，可進行一 94 200944790 程（步驟271〇)。在該驗證行程期間可製備第二複數率和抵^證料手段設定會提供A致科目標值之批斜 ^ M距。應理解到該預先篩選批次可包含約150,000 5 10 15 ❹ 20 數個試it:程:包含約7，_，_個試紙。該第二複 ,μ ^ 了、^父正以提供複數個第二批斜率和複數個第二於目;^由判疋該等第二批斜率和第二批截距是否大致等斜率方式確認手段設定（步驟2712)。若該等第二批大賴心致等於目標值’職料法會前進並製備第一^f的批次（㈣2714)。在大規模量產期間考利用第三複作電極面積和還原態媒介第—添加量製備二批==實=!於目標斜率，則可根據第第二:率3之差计算一第二工作電極面積。若批截距不特目標截距，則可细式8根據第二 it:間之差或利用式9Α(或圖33)使用第二片離媒介之/據重新計算麵加的㈣氰化物量計算還 2709、麗中以備第加量可施行於步驟遞、段設定是否提供大致^目^紙批藉以驗證經修改的手程可視需要重複進行。選擇之批斜率和批截距。此過有猎由增添還原態媒介之方式使截距朝目標改變 95 200944790 方法2701 (圖27B)與方法27〇〇 (圖27a)相似別在於用於截距的手段2706係不參照用於斜率的手段 2708即设疋。另一種替代方案是使用-根據式8的方法使截距達到目標而非一根據背景基線截距B0和實測雜質水準 5 的方法（譬如像式9A所示）。在-實施例中，可進行一預先試紙筛選程序以減少可和抵戴距實質不等於目標值而被廢棄之試紙的式、氏之夂總成可在該驗證行程和呈—^片成一卷 ^式的大規模量產期間製備。—旦製成該次總成二可將〇 10 份轉變為组裝完成的試紙然後予以校正以確認手否正確。—般而言’這是在步驟2710的驗證行程 ^後進行。然此方案可替代使用或在預先選批次步驟彻或量產批次步驟2714以外使用。若手段設定正確，則可將剩下的次總成轉變為組裝完成的試紙。若手段設定不 15 丨確，則丢_下的次總成且可用經修改的手段設定製造一批新的次總成。在-實施例中，*總成可為呈一試紙前身卡片的樣〇二該5式紙刖身卡片可包含一塗有導電層、絕緣層和試劑，基板，但不包含黏性層、親水性層和頂層。一次總成或卷物可被切割成具有複數個試紙例如約個試紙口’卡片、。舉例來說’於驗證行程中製造之7,〇〇〇,〇〇〇個試紙 J『先被製造，試紙前身卡片的樣式。接下來可將複數個、我卡片之J量取樣經由施加黏性層、親水性層和頂層然後切割該等卡片成個別試紙的方式轉變為約_個組裝完 96 200944790 f的4紙。用複數個（通常為刪個）試紙進行一校正程 =判定批斜率和㈣距是否大致等於目標值。絲斜率 :比截距大致等於目標值，則可將剩下的試紙前身卡片轉文為組裝完成的試紙。若批斜率和批截距實質不等於目標值^則可丢棄剩下的試紙前身卡片。丟棄不具有大致等於 ^標值之批斜率和批截距的試紙前身卡片節省時間和材料’因為省掉-些步驟譬如疊加黏性層、親水性層和頂層 g 以及分割成試紙。在一替代實施例中，取代丟棄不具有大致等於目標值 10 之批斜率和批截距的試紙前身卡片的方式，可將這些試紙前身卡片組裝完成用於需要輸入一校正碼的測試儀了具有大致等於目標值之批斜率和批截距的試紙批可用在不需要輸入一校正碼的測試儀。應理解到大規模量產批次可包含約100,000,000或更 15 多個试紙，這遠多於用在驗證行程中的約7,000,000個試紙。因此，最好利用驗證行程在前進到大規模量產之前確認手段設定提供目標斜率和目標截距。總括而言，方法2700 和2701中涉及手段設定之確認的反饋程序的使用降低製造出不具備大致等於目標值之批斜率和批截距的大量試紙。 20 包含但不限於例如導電（譬如碳）墨水批、氧化態媒介批、酵素墨水密度、混合時間、混合程序、停放時間、塗刷器硬度、塗刷器壓力、基板之預調節、網子類型、網子可變形度、工作電極長度、工作電極間隔及彈動距離等會影響斜率及/或截距的其他因子可經如本說明書所述之程 97 200944790 序之-部分調整。另-選擇’這些因子可經控制以便在每行程期間均充分相似使得這些因子不會顯著景彡響斜率及/ 或截距，允許用於斜率和截距的手段依需要被調整。在一範例實施财，可使用一共同導電（譬如碳）墨水批且/或 5 肖素墨水之密度例如可經由本文強_方法控制。這允許這些手·Μ皮更有效地用於達成_期望斜率及/或截距。通常在設定用於截距的手段之前先設定用於斜率的手段。此係因為當面積被調整以影響斜率時’其亦影響截距，而還原態媒介在一墨水批中的添加僅影響截距而不影響斜率。〇 10 在另一面向中，以下將例示用於製備具有目標密度之試劑調配物的實施例。在一用於製備試劑調配物的實施例中，可製備一包含至少一流變控制劑的第一溶液。接下來可用一媒介和一酵素加到該第一溶液以形成該試劑調配物或酵素墨水。 15 流變控制劑是一種大致提高試劑調配物之黏度且/或修改試劑調配物之流動特質的材料。試劑調配物之流變特質可在採用絹印程序或其他沈積技術譬如非接觸性印刷〇 (例如喷墨印刷）時影響一印製試劑層之厚度。此外，試劑調配物之流變特質可影響脫水試劑層之型態譬如脫水試 20 劑層之孔隙度。實例3 第一溶液可藉由使一經緩衝聚合物溶液與具有親水性和疏水性基團的石夕石混合在一起的方式製備。更特定言 98 200944790 之’可用大約675公克的CabosilTS-610(具有親水性和疏水性基團的表面經處理煙燻矽石）或WackerH15矽石與大約9000公克的經緩衝聚合物溶液混合。該經緩衝聚合物溶 5 液含有以重量百分比表示的下列物：大約0.46%的DC 1500 消泡劑’大約0·91%的PVP-VAS-630，大約0.83%的檸檬酸’大約2.74%的檸檬酸三鈉，大約〇 91%的ρνρ·νΑ ❹ 10 S-630’大約 4 62%的 Natr〇s〇125〇G，及大約 89 52%的水。 Cabosil TS-610可用一 Dispermat混合器以大約每分鐘3,〇〇〇轉運2約16分鐘混合時間使其分散在該經緩衝聚合物溶液内叫注忍本文所述各實施例不侷限於使用螺槳攪拌器進行混合，且可採取其他混合形式譬如均&、分散及接域試劑調配物之組份結合。舉例來說，可用聲裂或超音波混合方式作為本文所述混合技術的另一種選擇。 15

20 申請人已發現第一溶液之密度可有大量變化。第一溶液可顯現從約〇·8公克/立方公分至約0.95公克/立方\、的密度值變動。密度㈣的成因咸信^切石衝聚合物溶液之分散物中的空氣含量的一個變數。此經發現第-紐的密度在測量-分析物時會對 ^庫電流有影響。圖25是-例示第-溶液對於批斜率二二範例圖表。應理解到試劑調配物之密度的量〜s的相近。第一溶液之密度係未使用酵素和媒I制與第一溶液卡）丨製備，#得直與酵素和媒介的混合時間縮短。整體而言， 1之付八被混合時化性較不穩定。圖25顯示抵斜率盘* 媒”在度之間有一線性關係’此可用式12量化插劑調配物密 99 200944790 _ Mcal - k2 P~ k, 5 10 15 式12 項p是目標密度，Mcal是批斜率，k2是一第二常數，且k3是一第三常數。請注意項p的單位是每單位體積重量，與在本說明書中他處提及之單位為每單位體積莫耳的莫耳密度C。第一溶液之目標密度可為約每立方公分0.7公克至約每立方公分1.1公克，且較佳為約每立方公分0.92 公克至約每立方公分0.96公克，更佳係在每立方公分約 1.00±0.015公克或更小的範圍内，或者更佳係在一目標密度值之+ /_每立方公分0.015公克或更小的範圍内，該目標密度值譬如是介於約每立方公分0.7公克與每立方公分1.1 公克之間的任意值。批斜率可為約每分升每毫克16毫微安培至約每分升每毫克30毫微安培。第二常數k2可為約每分升每毫克7毫微安培至約每分升每毫克10毫微安培。第三常數k3可為約每分升每毫克10毫微安培至約每分升每毫克 12毫微安培。實例4 圖2 6是一例示混合時間對於第一溶液之密度之影響的範例圖表，其中製備多種含有不同批Cabosil TS-610的第一溶液。在一段大約10分鐘至約30分鐘的時間當中，第一溶液顯示一隨混合時間近似線性地增加的密度。圖26B 是一例示混合時間對於一批第一溶液之密度的影響的範例圖表，該批第一溶液係使用一替代等級的表面經處理煙燻 100 20 200944790 矽石（WackerH15)。三角形例示平均密度，圓形例示最小密度且方形例示最大密度，單位為每立方公分公克。上和下規範單位的建議值以水平線示出。作為一實驗，利用一約16分鐘的固定混合時間製備複 5 數個第一溶液。當使用一固定混合時間時，第一溶液會有從約0.83公克/立方公分至約0.95公克/立方公分之任一值的密度。在另一實驗中，用一可變混合時間製備複數個第 ❹ 一溶液使得第一溶液可達到從約0.92公克/立方公分至約 0.96公克/立方公分之任一值的目標密度。當使用一可變混 1〇合時間時，混合時間是從約4分鐘至約30分鐘或更佳從約 16刀名里至約30分鐘的任一持續時間。因此，可變混合時間的使用可實質降低第一溶液之密度的所得變化度。在一實施例中，一種製造一試劑調配物的方法包含混合一含有一適當流變組份的第一溶液一預定時間量。流變 15 控制劑可包含具有親水性和疏水性基團的矽石、羥乙基纖 ❹ 維素、或二者之一組合。混合步驟可用一螺槳攪拌器以約每分鐘3000轉進行。預定混合時間量可為約16分鐘。混合程序可導致流變組份與水水合以修改第一溶液之黏度和流體特質。 2〇接下來可取出第一溶液之一等分試樣以測量其密度。费度了為利用一 Cole Parmer 11.5 mi Grease Pycnometer (Cole Parmer Instrument Co. Ltd)測量。基本上來說，可取出一固定體積的第一溶液然後予以秤重以判定質量，如此可δ十异其密度。若密度不超過一閾值，則可用另一段足 101 200944790 以使密度加大至約等於或大於該閾值的時間混合第一溶液。該閾值可為約0.87公克/立方公分。第一溶液之進一步混合可使流變組份與水更進一步平衡。此外，混合可導致受困空氣從第一溶液去除，導致密度提高。用以進一步混 5 合的預定時間量可為約4分鐘。應理解到在以一靜置狀態貯存時，第一溶液的密度不會有大幅變化。因此，在沒有混合的情況下，第一溶液之密度在一段長時間例如大約一週的時間當中是一相對恆定值。在密度約等於或大於該閾值後，可將一媒介和一酵素摻和於第一溶液以形成試劑調 10 配物。在一替代實施例令，該混合步驟可包含使該第一溶液遭受一減小壓力以促進該混合程序並移除空氣。在另一實施例中，一種製造複數個試紙的方法可包含將一膠體分散物之密度調整成一目標密度。該目標密度可 15 為根據目標批斜率計算。舉例來說，式12及相關常數可用於計算該目標密度。密度可藉由改變一混合時間之持續期間的方式調整。舉例來說，混合持續時間可為約10分鐘至約30分鐘。另一選擇，密度可藉由添加一適當流變控制劑 (譬如具有親水性和疏水性基團的石夕石）之一添加量的方 20 式調整。該膠體分散物可為在一缓衝劑内之流變控制劑的分散物。該目標密度可為從約每立方公分0.7公克至約每立方公分1.1公克、較佳從約每立方公分0.92公克至約約每立方公分0.96公克的任一值。接下來可將一媒介和一酵素添 ❹ 10 15 Ο 20 200944790 加至該膠體分散物以形成一試劑調配物。然後可如前所述藉由一適當沈積技術將該試劑調配物設置在該複數之每一試紙之一工作電極上。該等試紙可利用具有—已知葡萄糖濃度的複數個樣本校正以判定一批斜率。因為調整該膠體分散物之密度，所得批斜率會大致特—目標二斜率。此種調整或控制密度使之恆定的方法可搭配本文所述調整批斜率之其他方法或予以取代。、在另一實施例中，一種製造試劑調配物的方法可藉由達成具有一目標範圍而非大於或等於一閾值之密度的方式，得。在此方法中，密度係由一密度下限和一密度上限疋此方法包含混合一含有/流變控制劑的溶液一預定時間夏。接下來測量該溶液之密度。若密度不在—目標範該 β則進步混合該溶液一孩定時間量致使該密度落入 :目標範圍内。在該密度落入该目標範圍内後可將一媒二!!酵素摻人該溶液以形成誠劑調配物。舉例來說，目 1=圍可為從約每立方公分G7公克至約每立方公分每立方公分G.92公克至約每立方公分 -目例實施例中，ϋ液可如本文所述製作成又，且在有需要之前放置一旁。在要使用之前、 C添至6小時(或甚至使用前12或24小時)，丨和酵素以完成試劑調配物之製備以備使用。 -或多向中’於某些料下，#製造大量試紙譬如板之一行程時可能觀察到試紙批間之變化。在 103 200944790 製作這些行㈣，塗㈣麵耻的綠 ^綱個圖像以提供試紙之一，，卡片，，，且每卷基板^ 开用：印製誦至厕個卡片或大約-百萬個電極圖像以 =成大約相同數量的試紙。申請人已發現在使用同一批碳 ^水和酵素墨水製造-目前試紙（亦即6_1()卷基板的生產仃程）的過程中每-I作電極之長度可能在圖像已轉移至基板的次數當中改變。如圖1Q所*，第4作電極或丫⑽ 10 15 20 之平均長度在一個八卷絹印行程的過程當中從〇 835公釐 =變成約G.815公董。此種平均長度γ2的變化亦反映在斜率，應之變化及所得賴之戴距的變化巾，導致所得試紙之k正改變。頃亦已觀察到對應於γ2_ΐ2之變化的第二工作電極平均長度Υ2_ΐ4變化。為求簡潔，以下說明將侷限於一個工作電極，但應理，j此說明同樣可應用在第二卫作電極或複數個電極。複 —個试紙樣本之第作電極的平均長度γ2可藉由從同基板標出五個不同卡片並從每一卡片大約15〇個圖像測量長度Υ2。也就是說，針對每一卷測量大約75〇個試紙。 =將每_卡片之平均長度γ2加到取樣卡片編號並就該旦定基板卷判定—最終平均長度γ2。然後利用侧程序測里後續各卷且如圖10所示標繪平均長度Υ2。

為判斷長度Y2之變化是否因一標準聚酯篩網的使用而來，今進行一實驗。圖1〇示出一 1〇卷行程的標繪圖， 104 200944790 圖中可見平均長度Y2在使用標準聚㈣賴卷i 定地減小量值。然後，在第8卷之後將聚醋筛網換成一ς 的聚醋筛網。從圖中可見平均長度Υ2立刻回復到立 0別7公賴起純。錢在第1G卷將蘭奸的筛網換 5 ㈣前使用的聚_網。儘管平均長度Y2未回復到1在第 8卷的值，平均長度Y2確實在第1()卷顯轉跌，這於為申請人所提出：平均長度之變化係與聚酉旨筛網有某種〇 Μ的假設增添可信度。在判定平均長度的過程中，總計從用於實驗之約7,000,000個試紙取樣525〇個試紙。 1〇帽人已發現藉由將聚酉旨篩網換成-具有不同參數的金屬筛網’申請人能夠減輕在7，卷生產行程中之此均長度Υ2-12和Υ2-Μ的縮減。表1是既有聚醋筛網屬篩網間之差異的列表。材料每公分網眼數每英吋網眼數紗線（鋼絲）直徑 (公釐）開口面積(％) 網厚（微米）

❹ 藉由申請人^㈣網之物理參數的特殊選擇，申請 105 15 200944790 人能夠將一生產行程當中每一碳跡線之此種寬度縮減傾向控制在低於2.5%且在許多案例中係控制在1%或更小。舉 10 15 20 例來說’如圖12所示，在一 10卷行程當中，平均長度Y2 被限制為偏離大約0.84公董之較佳長度於一 5.9微乎範圍内，如藉由實心三角符號” ▲”連接之線所示。控制碳跡線之長度縮減的一個驚異好處是使在整個1〇卷行程（或1〇百萬個試紙）當中取樣之7500個完成試紙的斜率變化被限制在一如藉由實心方塊符號，，_，，連接之線所示的單一校正碼。因此，此種藉由提供一金屬篩網譬如不銹鋼篩網來❹ 控制批戴距及/或斜率的方法可搭配本文所述調 /_或截距=任何其他方法或予以取代。雖說較佳實施例包含 -金屬篩網譬如不錢鋼3〇4的不鐵鋼筛網他 =型的獨鋼，例如316、胤、4〇9、411或416型捕 y k擇亦可使用在塗刷器壓力下不會不可逆地變料。此外，儘管採用約請公餐的較佳長度，至々—明各面向將任何長度用於一或多個工作電極縮減的:向電衫同長度）以料長度在—料行程期間❹ 印刷印製的所得試紙開始顯現-異常之一窄化間隙Γ =顯微圖片例示，如朝向兩工作電極間現在靠近i刷衝指。此外，該印刷缺陷傾向於出上。此窄化^因=由塗髮在基板上造成的基板部分小於期望的值。每使大約微米之期望間隙減至一遠 μ印刷缺陷是一個考量重點，因為此種窄 106 200944790 化間隙可能導致碳電極橋接’得到無法發揮作用的試紙。實例6 進行數項實驗以判定印刷缺陷之來源。如圖14所示， 5 其示出在—片範圍當中的平均間隙縮減率，以約150微米之期望間隙減去實測間隙然後除以期望間隙〔亦即（15〇 —實際間隙)/150xl00〕得到間隙縮減百分率，其中每—卡 ❿ 片是由塗刷器在基板上之每一單次印刷衝程產生。從生產觀點來說，間隙縮減率應當不超過10%以確保間隙橋接不 10 可能發生。如圖14所示’在使用既有塗刷器及4巴壓力的標準設定的情況’電極之間的最小間隙大致從3〇%開始且隨著印製的卡片數量變近’如圖所示間隙縮減百分率從3〇 %提高到約45%。清理金屬篩網沒有幫助，因為間隙縮減率主要在20%至65%範圍内。請注意這些有印刷缺陷的試 15 紙係用既有塗刷器以一大約4巴且通常不高於此極限的壓 ❿ 力運作製造。太高的塗刷器壓力譬如超過4巴已知會造成以下問題：（1 )塗刷器可能彎曲並改變塗刷器角度；（2 ) 導致掩模或網模過早損壞；（3 )拉樓網子導致圖像大小加 2〇大；（4)過早磨損塗刷器同時亦改變塗刷器末稍處之塗刷器角度；（5)因塗刷器末稍過早磨損使得墨水流量增加。 —如預期，加大既有塗刷器上之壓力無法解決此印刷缺陷’如從圖14中之9000至12,000卡片範圍可見。、但令人驚奇的是’頃發現藉由將既有塗刷器換成不同物理參數且搭配一高於4巴接受值的較高塗刷器壓力，申 107 200944790 請人能夠顯著且在大多數情況中消弭此印刷缺陷。特定言之，既有塗刷器被換成一具有不同物理參數的新塗刷器，如表II所列。 108 200944790

表II 參數測試規範單位既有塗刷器新塗刷器刮刀材料類型 Ν/Α N/A 聚氨基甲酸酯聚氨基甲酸酯 Plei-Tech 22 Vulkollan 18/40 蕭式硬度A/D DIN 53505 ShA 55 65 100 %應變的 DIN 53504 MPA N/A 2.5 應力 300 %應變的 DIN 53504 MPA N/A 4 應力抗拉強度 DIN 53504 MPA 18 34 斷裂伸長量 DIN 53504 % 800 520 撕裂傳播阻力 DIN 53515 KN/m 11 15 貝例 ❿ 特定言之，申請人能細立藉由新塗刷器之使用搭配 =較=塗刷器壓力用於金料網，平均間_大小可受控 16 00^=說1如圖15所示，塗刷器壓力在H約有器的愿刮行的行程#巾#所變化。當施加於塗刷至2000)^ ^在4巴間隙縮減率是約3〇% (卡片1000 可看出有而力破加大至5巴（卡片3_至6_)時， ===減率從約·降到小於_決定性的影響，如降到低於3巴以判定對於_縮減率不符期望變成約30%和更高的立即躍人π巴的較高塗刷器壓力，可從卡片9000 109 200944790 至140000看出間隙縮減率之決定性減低。也就是說，在較高壓力下’間隙被縮減的傾向（亦即間隙縮減率）比起使用一較小塗刷器壓力時的情況來得小。因此一較佳壓力範圍是約大於4巴至設備極限。另一較佳範圍是約4巴以上至約7巴。另一較佳範圍是約4巴以上至約6.5巴以下。後續實驗證實此種經申請人發現的驚異現象。實例8 在實驗中，用8批或份不同卡片以每份2000個卡片製❹ 造出總計16,0〇〇個卡片。使用二個新的塗刷器：一者為65 度蕭式A硬度且另一者為75度蕭式A硬度。實驗結果與平均間隙、壓力及硬度有關，示於圖16。數據點16A顯示在65度蕭式A硬度之塗刷器用一 5巴的壓力下，間隙從約 150微米之預期設計間隙大幅降低成從約14〇至約11〇大範圍为政的平均間隙，這不合期望。另一方面，當用於塗刷器的壓力加大至6巴時，出現戲劇性改良，印製的卡片之平均間隙簇集在145微米附近，接近設計間隙。提高5巴❹ 壓力條件下之塗刷器硬度顯示微幅改良，數據點16C簇集在150微米的設計間隙附近。進一步提高壓力至6巴再次顯不更進一步的改良，數據點16D再次簇集在約150微米的設計間隙附近。實例9 為確保經由加大塗刷器壓力改善間隙減小作用不是以 110 200944790 沈積在基板上之碳厚度為代價，測量該8份總計16,〇〇〇個卡片每一者的沈積墨水平均厚度、標繪並與用既有聚酯篩網在約4巴得到的數據作比較。如圖17所示，金屬篩網（在此例中為不銹鋼篩網）的數據顯示沈積墨水厚度確在8_16 5 微米的預期範圍以内。在一實施例中，塗刷器刮刀606可由不會明顯吸收導電墨水内所含溶劑的一材料製成。如果超過可忽略的溶劑，量可能被吸收到塗刷器内，咸信在印刷過程中可能導致塗刷器之硬度降低。咸信塗刷器硬度之一時間相依變化可能 10 導致印刷品質發生不想要的變化。可進行實驗以判斷塗刷器硬度是否會在暴露於導電墨水約1至21小時後降低。整體而& ’當使用一 65度蕭式A硬度塗刷器（聚氨基曱酸酉旨 Vulkollan 18/40)取代一 55度蕭式A硬度塗刷器（聚氨基甲酸醋Plei-Tech 22 )時，咸信塗刷器硬度暴露於導電墨水 15 會比較穩定。 ’ 實例10 已進行實驗以測量因吸收導電墨水中之溶劑造成的塗刷器重量增益。55度蕭式A硬度塗刷器（聚氨基曱酸醋 20 plei_Tech 22)在1小時週期中呈現約3%的重量增益且在 21小時週期中呈現約13%的重量增益。65度蕭式A硬度塗刷器（聚氨基甲酸酯Vulkollan 18/40)在i小時週期中呈現約2%的重量增益且在21小時週期中呈現約的重量增益。因此，65度蕭式A硬度塗刷器（聚氨基甲酸醋 111 200944790

Vulkollan 18/40)相較於55度簫式A硬度塗刷器（聚氨基甲酸酯Plei-Tech22)以一較低速率及一較低可察覺量從導電墨水吸收浴劑。在一範例實施例中，可進行實驗以確認一用於塗刷器中之材料在24小時當中具有一約小於10% 5 的重量增益。圖像之目視檢查顯示令人滿意的印刷清晰度，僅有兩例缺陷。申清人3忍為圖18A-18D中用65度蕭式A硬度塗刷器得到的印刷品質或清晰度是非常好，而圖18E_18H中用75度蕭式A硬度塗刷器於5或6巴下獲得的印刷清晰度Ο 10 是特優。儘管從圖18八至丨811的複製品難以看出，當用肉眼觀看原版時，圖18E至18H中之碳區域之邊界的邊緣會比圖18A至18D清楚。邊緣清晰度可藉由如圖16所示之平均間距變化查證。 15 膏例11 進行額外實驗以進一步確認新揭示之印刷技術和組件的適用性。在這些貫驗中，利用新技術用碳墨水印到基板❹ 上且製造至完成而非只到碳墨水階段。特定言之，採用一 7 卷行程’且最後-個卡片卷卜3和7僅被印製成卡片，得 2〇到15,70〇個完整試紙以供校正。如圖19所示’從僅印有碳的卷1、3和7收集之數據顯不平均間隙介於140微米與145微米之間或間隙縮減率從約7%至約3%。如圖2〇所示，就長度γ2_ΐ2、γ2_ι4及絕緣孔寬度Χ3來說’該7卷行程的變化範圍係大約6微米。 112 200944790 表III顯示在此系列實驗中製造之試紙的校正碼全都通過，7卷當中有6卷係在單一校正碼（碼38)内。每一校正碼對應於一特定斜率和截距。

表III 在驗證用7卷行程中印製之批次的校正測試結果批號批内精確度指定校正碼批次狀態 ----058 1.66 38 通過 ----059 1.53 38 通過 ——060 2.13 33 通過 ----061 1.69 38 通過 ——062 1.86 38 通過 ——064 1.78 38 通過 ----065 1.87 38 通過

表IV顯示處於範圍内之試紙的百分比非常高，有6批是100%且有一批是99%。 113 200944790

表IV 在驗證用7卷行程中印製之批次的範圍設定結果批號： to 對照溶液 :::::::::龜讓固腿 ::v: : ^ 最終結果 ----058 38 中等 100 通過 ----059 38 中等 100 通過 ——060 33 中等 99 通過 ----061 38 中等 100 通過 ——062 38 中等 100 通過 ----064 38 中等 100 通過 ----065 38 中等 100 通過

實例12 5 進行另一實驗以判斷彈動距離和滾輪位置對於譬如在一手動行程建構過程中之碳墨水沈積及塗刷器壓力變化度的影響。彈動距離被定義為基板表面與篩網表面之間的距離。如果彈動距離被設定成對於一已知塗刷器壓力來說太大，塗刷器會難以使篩網撓曲且圖形外緣會不見（通常發 10 生在第偶數次印刷）。如果彈動距離被設定成太小則可能使先前的印刷糊掉（此亦取決於墨水裝載量和塗刷器印刷衝程長度）。隨著彈動距離加大，篩網撓曲量也加大，且因此印刷邊界在橫越篩網和沿著篩網的方向都加大。表V顯示儘管來自各批之校正碼不再集中在單一碼，視塗刷器位 15 置、彈動距離及壓力設定而定，校正分散在兩校正碼之一 114 200944790 者内。表v

批號塗刷器位置、: (公釐）彈動距離 (公釐）塗刷器 (巴扮量批内精確度指定校正瑪批次狀態範圍内百分比 718 1.2 0.65 5.0 500 卡片 1.75 33 通過 100 ----721 1.2 0. 65 6.0 500 卡片 1.83 33 通過 100 ----722 1.6 0.65 5.0 500 卡片 2.24 33 通過 99 ——723 1.6 0. 65 6.0 500 卡片 1.93 38 通過 100 ——724 1.4 0.70 5.5 500 卡片 1.91 33 通過 100 ——725 1.2 0. 75 5.0 500 卡片 1.84 33 通過 100 ——726 1.2 0.75 6.0 500 卡片 1.98 33 通過 100 ——727 1.6 0.75 5.0 500 卡片 2.15 38 通過 99 ——341 1.6 0. 75 6.0 500 卡片 1.86 38 通過 100 115 200944790 ® 19和20連同表ΠΙ、Iv和v確認新技術和組件在，極跡線之變化度之控制的適用性，此等技術和組件信會對於試紙之校正碼有較嚴謹控制。、圖28例示—測試儀2800,用於利用一由本發明所述方 5 ^和技術製造之試紙測試一個體之A中葡萄糖水準。測試 4 2800可包含使用者介面輸入（2祕彻8、281〇)，其了呈按紐之形式，用於資料輸人、選單導覽、及指令執行二貧料可包含代表分析物濃度的數值’及/或與-個體之日常生活方式有關的資訊。與日常生活方式有關的資訊可包含〇 1〇 —個體之食物攝取、藥物使用、健康檢查時機、整體健康狀況、及運動程度。測試儀28〇〇亦可包含一顯示器28〇4， $可用來報告實測葡萄糖水準及便於日常生活相關資訊送測試儀2800可包含第一使用者介面輸入28〇6、一第二 15 使用者介面輸人誦、及—第三使用者介面輪人2810。使用者介面輸人28G6、28G8和281G促進貯存在測試裝置内之數據的送入和分析，讓使用者能夠瀏覽顯示在顯示器❹ 2804上的使用者介面。使用者介面輸入28〇6、28⑽和包含一第一標記2807、一第二標記28〇9及一第三桿記 20 2 811，這些標記有助於使使用者介面輪入與顯示器的字符建立關聯。測試儀2800可因一試紙100插入一試紙埠連接器28丄2 内、按壓第一使用者介面輸入28 06並短時間維持/或债測到通過一數據埠2813之數據流而被開機。測試儀28〇〇'可 116 200944790 因移除試紙100、按壓第一使用者介面輸入28〇6並短時間維持、從-主選單螢幕劉覽並選擇一儀器關機選項、或^ 按壓任一按鈕一段預定時間而被關機。顯示器104視兩要可包含一背光源。而 5 在一實施例中，測試儀2800可經組構為當從一第一試紙批切換成一第二試紙批時不接收一例如來自任何外界來源的校正輸入。因此，在一範例實施例中，該儀器經组構 © 不接收一來自外界來源譬如一使用者介面（例如輸入 2806、2808、2810)、-插入的試紙、一獨立編碼餘匙或一 1〇編碼試紙、數據埠2813的校正輸入。當所有試紙批具有一大致一致校正特徵時並不需要此一校正輸入。該校正輸入可為一組歸因於一特定試紙批的數值。舉例來說，該校正輸入可包含一特定試紙批的批斜率和批截距。該校正輸入譬如批斜率和批截距可如下所述係預設在該儀器内。 15 …參照圖29,其示出測試儀2_之-範例内部佈局。測 Q °式儀了包3 —處理器2900’該處理器在本說明書所述一些實施例中是32位元RISC微控制器。在本說明^所述較佳實施例中，處理器2900較佳係從Dalla，Texas之Lxas Instruments生產的MSP 430家族超低功率微控制器當中選 2〇丨。該處理器可、經* 1/0埠別4雙向連接於一記憶體 2902，該δ己憶體在本說明書所述一些實施例中是一 EEPROM。數據埠2813、使用者介面輸入28〇6和28〇8和 2810、及一顯示驅動器2936亦經由[/ο埠2914連接於處理益2900。數據埠2813可連接於處理器29〇〇，藉此讓資 117 200944790 料可在記憶體2902與一外界裝置譬如個人電腦之間轉移。使用者介面輸入2806、2808和2810直接連接於處理器 2900。處理器2900經由顯示驅動器2936控制顯示器2804。記憶體2902可在測試儀2800製造過程中預先載有校正資訊譬如批斜率和批截距值。此預載校正資訊可在經由試紙埠連接器2812從試紙接收一適當信號（譬如電流）後被處理器2900存取使用，以便利用該信號和校正資訊計算一對應分析物水準（譬如血糖濃度）而不從任何外界來源接收校正輸人。 ❹ 在本說明書所述實施例中，測試儀2800可包含一特殊應用積體電路（ASIC) 2904，以便提供用來測量已施加於一插入試紙埠連接器2812内之試紙1〇〇的血液中之葡萄糖水準的電子電路。類比電壓可經由一類比介面29〇5往來於 ASIC 2904。來自類比介面2905的類比信號可被一 a/D轉換器2916轉換成數位信號。處理器2900進一步包含一核心 2908、一 R〇M 291〇 (含有電腦碼）、一 RAM 2912、及一時鐘2918。在一實施例中，處理器2900經組構（或程式❹ 化）以在顯示器單元例如於分析物測量之後一段時間内顯示一分析物值時停用除一單一輸入外的所有使用者介面輸入。在一替代實施例中’處理器29〇0經組構（或程式化）以在顯不器單元顯示一分析物值時忽略除一單一輸入外的所有使用者介面輸入。儘官已就特定變化和例示圖式說明本發明，熟習此技藝者會理解到本發明不侷限於文中或圖式所示變化。此 118 200944790 外，在前述方法和步驟指出以某種順序發生某些事件的情況中，係希望某些步驟不一定要依所述順序進行，而是只要這些步驟允許實施例依其預期目的運作即可以任何順序進行。因此，由於本發明會有變化，這些係在本發明的精 5 神以内或等效於由申請專利範圍項中可見的發明内容，本專利同樣涵蓋這些變型。【圖式簡單說明】 φ 圖1是一例示一薄片印刷程序之八個區段的示意圖。圖2A是一例示該薄片印刷程序之第一和第二區段的 10 示意圖。圖2B是一例示該薄片印刷程序之第三、第四和第五區段的不意圖。圖2C是一例示該薄片印刷程序之第六和第七區段的示意圖。 15 圖3A是一注墨循環的示意圖。圖3B是一印刷循環的示意圖。圖4A是一塗刷器的透視圖。圖4B是一具有一圖形圖案之篩網的俯視圖。圖4C是一該篩網的放大俯視圖。 20 圖5是一例示兩種不同塗刷器角度的示意圖。圖6A是一例示兩種不同塗刷器位置的示意圖。圖6B是一例示一篩網彈動距離的示意圖。圖6C例示一用於相對於該篩網上之圖形固持該篩網的範例框架。 119 200944790 圖7A是一感測器片的實例，具備第一和第二薄向對導件’第-、第二、第三和第四¥向對位記號，及X、位記號。圖7Β是一感測器片内之一列的分解圖，其有向對位記號。圖7C是一感測器片内之一列的分解圖，其有一絕向對位記號塗布在一碳Χ向對位記號上。、圖8Α例示-未組裝試紙之範例俯視分解透視圖。〇 ίο 15 20 圖8Β例示-圖8Α試紙之個別層的範例俯視平面圖8C例示-® 8Α試紙之—導電層之一近端部例俯視平面圖。 ^ 、圖SD例示-圖8八試紙之導電層之一遠端部分的範俯視平面圖。圖8Ε例示一依據圖8八試紙之導電層遠端部分和—絕緣層的範例簡化俯視平面圖。 ''

圖8F例示一依據圖8Α試紙之導電層遠端部分、絕緣層、及一酵素層的範例簡化俯視平面圖。 Q 圖9例示一依據圖8Α試紙之導電層遠端部分及一絕緣層的範例俯視平面圖。圖10例示於一 8卷基板之絹印行程期間在圖9絕緣孔隙附近測得之一工作電極之平均長度（Υ2)的變動，以及同一行程期間之批斜率（亦即每卷）的變動。圖11例示工作電極之平均長度的變動，其中開頭八卷基板是利用標準聚酯篩網絹印且其中在第8卷之後使用一 120 200944790 新的聚酯篩網；及同一行程期間之批斜率的變動。圖12例示金屬篩網之使用確保於一十卷絹印行程期間之工作電極平均長度相較於一期望寬度的變動彳系小於2.5 %。圖中亦顯示同一行程期間的斜率變動。 5 圖13例示因金屬篩網之使用而造成的一個潛在問題，亦即其造成之一圖像缺陷導致兩工作電極間之一間隙減小、亦即工作電極間之一”間隙縮減”。 ❹ 圖14例示當使用不同技術時對於間隙縮減造成的多種變化。 10 圖15例示經由一系列16000個絹印卡片觀察到的電極跡線間平均間隙。就一具有譬如約8公釐或更小之給定寬度的塗刷器來說，當施加於塗刷器之壓力大於4巴或大於母公尺塗刷器長度約270牛頓之力時該平均間隙都不會減小。也就是說，只要使用一小於4巴的塗刷器壓力，間隙 15 都會減小（亦即間隙縮減且只要使用一較大塗刷器遷 ©力，間隙就不會減小。 ' 圖16例示從一實驗獲得的數據，其證實較大塗刷器及一較硬塗刷器材料使得平均間隙群集在一約15〇微米的預定間隙附近。 20 ® 17例示用一聚醋筛網印製之石炭電極的厚度變化可與用一不錄鋼篩網印製之碳電極相當。圖18A-18H是例示得自各實驗中之樣本的印刷品質的顯微照片。圖19例示於-七卷行程當中收集到的數據，顯示用本 121 200944790 10 15 20 發明所述技術和組件在工作電極丨與工作電極2間之最小間隙的極小縮減。圖20例不於-七卷行程當中運用本發日麟述之金屬筛網和塗刷器作業參數在工作電極i、工作電極2之長度γ2 及絕緣孔隙寬度的變化係非常小。片υΓ、?不工作電極寬度（在此相當於絕緣孔隙寬 ^ J忒紙批之—批斜率的影響的範例圖表。度Χ3)對於試紙抵之作^寬度（在此相當於絕緣孔隙寬圖23Α是it :批截距的影響的範例圖表。範例圖表。不添加還原態媒介對於批截距的影響的圖23Β是-例示總還原態媒介（添響的範例圖表，其外插回零還原= 7〇〇微乎之二作電極面積（在此係針對固定長度Υ2和〇〇微未之絕緣寬度Χ3)的基線截距Bg。散布Γ:是點：批的基線截距的添加亞鐵統_料=異。盯。絕緣窗口寬度和圖^^圖^列不添加還原態媒介本質上對於批斜率沒有影響的範例圖表圖25是一例示的範例圖表。弟一溶液之达、度對於一批斜率的影響 122 200944790 水性和疏水性基團之不同批矽石。圖26Α示出Cab〇sil矽石。圖26B示出Wacker矽石。。圖27A是一示出一種製造複數試紙批之方法的範例流程圖。 5 圖例流程 27B是一示出一種製造複數試紙批之替代方法的範圈〇圖28是一測試儀實施例的範例平面圖。 Ο 10 15 ❹ 20 圖29是一例示該測試儀之主要内部組件的範例方塊旦圖3〇和31是例示使用一電極寬度範圍和一固定添加里之，原態媒介製造的試紙批之複數個實際批斜率和截距 (菱形）、對應於該等製造試紙批的預測批斜率和截距值 (方形）、及一參考試紙批之一實際批斜率和截距值（三角形）的範例圖表。声Ώ 32示出對於各種工作電極寬度（相當於絕緣孔隙寬和#3)來說達到—係亞鐵I化物雜質填充量之-函數的目 ^戴距所需之亞鐵氰化物添加量。【主要元件符號說明】 3遠端部分 4近端部分 5基板 7參考電極跡線 8，一工作電極跡線 9第二工作電極跡線 123 200944790 10參考電極 10L党區 11參考接觸墊 12第一工作電極 5 12E1側緣 12E2側緣 12L亮區 13第一接觸墊 14第二工作電極 ίο 14E1側緣 14E2側緣 14L亮區 15第二接觸墊 15A側緣 15 15B側緣 16絕緣層 17試紙偵測棒 18絕緣孔 22a試劑層 20 22b試劑層 24第一黏性墊 26第二黏性墊 28第三黏性墊 32遠端親水性部分 200944790 5 〇 ίο 15

34近端親水性部分 36透明部分 38不透明部分 50導電層（電極層） 60黏性層 70親水性層 80頂層 92樣本接收室 94血樣 100試紙 101退繞單元 102預調節站 103碳印刷站 104絕緣印刷站 105第一酵素印刷站 106第二酵素印刷站 107復捲單元 108衝床 200第一退繞心軸 201第二退繞心軸 202第一搭接單元 203第一集料器 204第一清潔單元 205第二搭接單元 20 200944790 5 10 15 206 内送壓送滾輪 207 第二清潔單元 208 測力器 209 第一印刷滾輪 210 第一驅動滚輪 211 第一乾燥區 212 第一冷卻滾輪 213 第二集料器 214 第二印刷滾輪 215 第一視像感測器 216 第二驅動滾輪 217 第一乾燥區 218 第二冷卻滚輪 219 第三冷卻滚輪 220 第三集料器 221 第三印刷滾輪 222 第二視像感測器 223 第三驅動滾輪 224 第二乾燥區 225 第四冷卻滚輪 226 第四集料器 227 第四印刷滾輪 228 第三視像感測器 229 第四驅動滾輪 20 200944790 230 第三乾燥區 231 第五冷卻滾輪 232 第五集料器 233 第五印刷滾輪 5 234 第四視像感測器 235 第五驅動滾輪 236 第五乾燥區 237 檢查糸統 238 外送壓送滾輪 10 239 轉向機構 240 第一復捲心軸 241 第二復捲心軸 242 基板 250 底部刷與真空系統 15 251 頂部刷與真空系統〇 301 篩網 303 下印刷滚輪 600 印刷滾輪 603 佈墨片 20 604 墨水 605 塗刷器支架 606 塗刷器（刮刀） 606-1下部較寬部分 606-2上部大致平坦部分 127 200944790 2002第二視導 2100第一視導 2101第一 Y向對位記號 2102第二Y向對位記號 5 2103第三Y向對位記號 2104第四Y向對位記號 2105 X向對位記號 2106感測器片 2107碳X向對位記號 10 2108絕緣X向對位記號 2800測試儀 2804顯示器 2806第一使用者介面輸入 2807第一標記 15 20

2808第二使用者介面輸入 2809第二標記

2810第三使用者介面輸入 2811第三標記 2812試紙埠連接器 2813數據埠 2900處理器 2902記憶體 2904特殊應用積體電路（ASIC) 2905類比介面 128 200944790 2908核心 2910唯讀記憶體（ROM) 2912隨機存取記憶體（RAM) 2914 I/O 埠 5 ❹ 10 2916 A/D轉換器 2918時鐘 2936顯示驅動器 D暗區 G間隙

129

Claims

200944790 七、申請專利範圍. 1. 一種製造一試紙的方法，該方法包括：調整一試劑墨水内之一還原態媒介量，該試劑墨水設置於一工作電極上以輸出一批截距，其落入一預定目標批截 5 距範圍内；且調整一工作電極面積以輸出一批斜率，其落入一預定目標批斜率範圍内。 2. —種製造一試紙的方法，該方法包括： 10 添加一還原態媒介預定量至一試劑墨水，該試劑墨水設置於一工作電極上以輸出一批截距，其落入一預定目標批截距範圍内；且調整一工作電極面積以輸出一批斜率，其落入一預定目標批斜率範圍内。 15 3. —種製造一試紙的方法，該方法包括：添加一還原態媒介預定量至一試劑墨水，該試劑墨水設置於一工作電極上以輸出一批截距值，其大致等於一預定目標批截距值；且 20 調整一工作電極面積以輸出一批斜率值，其大致等於一預定目標批斜率值。 4. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該工作電極面積係藉由修改該工作電極之一寬度的方式調整。 130 200944790 5. 如申請專利範圍第丨項之方法，其+該試趣水内的該還原態媒介不超過該試劑墨水的〇 2%重量百分比。 6. =請專利_第i項之方法，其中該試劑墨水包括該還和一氧化態媒介’其中該還原態媒介不超過該還 '、〜、、；1與該氧化態媒介之總和的約〇6%重量百分比。 10 7.如申請專利範圍第1項之方法，從約0.6公釐至約〇.8公釐。其中該工作電極之寬度係 15 Ο 20 種試紙，包括一第，.如申請專利範圍第丨項之從約0.48平方錢絲_平方;^。卫作_之面積係 9.— '工作電極和一第二JL·. «g,,- 公釐至約0.85公釐的寬度"；及€卜二者具有一約0.55 一緊鄰該工作電極設置態媒介、-還原態媒介及一酵;1層二?層包括-氧化過該還原祕讀簡化態媒介之:=，祕介不超分比，使得該試紙具有崎重量百距。铩批斜率和預定目標批截 1〇·—種試紙，包括： 131 200944790 一第一工作電極和一第二工作電極，二者具有一從約 0.48平方公釐至約0.64平方公釐的面積；及一緊鄰該工作電極設置的試劑層，該試劑層包括一氧化態媒介、一還原態媒介及一酵素，其中該還原態媒介不超 5 過該還原態媒介與該氧化態媒介之總和的約0.8%重量百分比，使得該試紙具有一預定目標批斜率和預定目標批截距。 11. 一種製造一試紙批的方法，每一試紙包括複數層，該方法 10 包括·· 根據一目標斜率和一前批斜率計算一工作電極面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得；藉由在該複數層之一層的調整過程中，使該工作電極面積調整成該計算所得的工作電極面積。 15 12. —種製造一試紙批的方法，該方法包括：根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比及一背景截距計算一還原態媒介添加量；且添加該還原態媒介添加量至一試劑墨水。 20 13. —種製造一試紙批的方法，該方法包括：根據一目標斜率和一前批斜率計算一工作電極面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得；將該工作電極面積調整成該計算所得的工作電極面積； 132 200944790 根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比匕距計算一還原態媒介添加量；且一月景戴添加該還原態媒介添加量至一試劑墨水。 5 Ο 10 15 Ο 20 Μ.如申請專利範圍第12或13項之方法，其括一根據來自先前製造的試紙批之複數個批哉距包 15.:申請專利範圍第11或13項之方法，其中該積的調整係藉由在一工作電極上印刷 =面調整之工作電極面積。 ' 嘈以形成该經 16·如申請專·圍第13項之方法其中該目標截距、_原_介雜f百分比根據該計算所得工作電極面積以決定該還原態媒;:^^及 17==:項之方法，其進一步包括校正該試紙距大致等於該目標截^大致等於§亥目標斜率且一所得批截項之方法，其中該還原態媒介添加量以一常數』後ϋ该目標截距與該背景截距間之一差額除 …、唆减去該還原態媒介雜質量。申明專利fc圍第13項之方法’其中該還原態媒介雜質量 133 200944790 包括一大致等於該試劑墨水内之一氧化態媒介量乘以該還原態媒介雜質百分比。 20. 如申請專利範圍第13項之方法，其中該還原態媒介添加量 β 一 B 5 Fadd大致由一關係式= —^定義，其中Btarget 八int 是該目標截距，B〇是該背景截距，Kint是一常數，且Fimp 是與該氧化態媒介相關作為一雜質之一還原態媒介的量。 21. 如申請專利範圍第18或20項之方法，其中該還原態媒介 ίο 添加量亦計入一因該計算所得工作電極面積而有的偏移。 22. —種製造複數個試紙的方法，每一試紙包括複數層，該方法包括：製造一第一複數個試紙，每一試紙包括一具有一第一面 15 積的工作電極；校正該第一複數個試紙以判定一第一斜率和一第一截距；根據該第一斜率和一預定目標斜率計算一第二面積；製造一第二複數個試紙，每一試紙包括藉由該複數層之 20 —層之過程中調整而具有該計算所得第二面積的一工作電極。 2 3.如申請專利範圍第2 2項之方法，其中該第一複數個試紙的 134 200944790 每一試紙進一步包括：緊鄰該工作電極設置的一第一試劑層，該第一試劑層包括一氧化態媒介預定量和一酵素預定量，該方法進一步包括： 5 根據該第一截距和一預定目標截距計算一還原態媒介量；製備包括該計算所得還原態媒介量、該氧化態媒介預定 j 量及該酵素預定量的一第二試劑層；其中該第二複數個試紙之每一試紙進一步包括緊鄰具 10 有該計算所得第二面積之該工作電極設置的該第二試劑層。 24. 如申請專利範圍第23項之方法，其中該還原態媒介量的步驟計算係亦根據該計算所得第二面積。 15 25. 如申請專利範圍第1、2、3、12、13、及23項中任一項之方法，其中該目標截距大於該第一截距。 26. 如申請專利範圍第23項之方法，進一步包括： 20 校正該第二複數個試紙以判定一第二斜率和一第二截距，其中該第二斜率大致等於該預定目標斜率且該第二截距大致等於該預定目標截距。 27. 如申請專利範圍第22或23項之方法，其中該第二面積係 135 200944790 根據該第一斜率與該預定目標斜率間之該差額計算得。 28. 如申請專利範圍第22或23項之方法，其中該第二面積係根據該第一斜率與該預定目標斜率間之該差額乘以與每單 5 位斜率面積之一變化相互關聯的一數值計算得。 29. 如申請專利範圍第22或23項之方法，進一步包括：施加具有一孔隙的一絕緣層，該孔隙具有從由一矩形和一方形組成之群中選出的一近似形狀，在該第二複數個試 1〇紙之工作電極上形成該計算所得之第二面積。 30. 如申請專利範圍第29項之方法，進一步包括：以約25微米的增量調整該孔隙之形狀之一寬度；判定會提供二個最接近該計算所得第二面積之面積值 15 的二個增量；且選擇會賦予該計算所得第二面積一較大面積的增量。 31. 如申請專利範圍第29項之方法，進一步包括：以約25微米的增量調整該矩形形狀之一寬度； 20 判定會提供二個最接近該計算所得第二面積之面積值的二個增量；且選擇會賦予該計算所得第二面積一較小面積的增量。 32. —種製造一複數試紙批的方法，每一試紙批具有一目標斜 136 200944790 率和-目標_，該方法包括：校正^間内製備一第-複數試紙批； -試紙抵以判定該第-複數試紙批之每根據該目標:率和_，；積，該綠斜率雜第^作電極面根據該目標截距、—，摘批之—試紙抵獲得； 10 15 ❿ 20 截距計算—還原態媒介第:^^雜質百分比、及—背景製備一第—續刺里添加量；的； H 其包含該還原態媒介第一添加量製備具有該第一計算所劑墨水的-第二複數個^讀卫作電極面積和該第-試批=該第二複數個試紙以判定-第二批斜率和若該第二抵斜率和該和該目標截距，則利用該計一算致等於該目襟斜率第-試劑墨水製備一第三複數試:::工作電極面積和頡 33.如申請專利範圍第32項少一者：、法，進—步包括下列步驟之至若該第二抵斜率實質不等於批斜率與該目標斜率間之一 χ /二斜率，則根據讀第二積，然後製備包含計算所得額計算一第二工作電^ 複數個試紙；且一工作電極面積的〜第四 137 200944790 若該批截距實質不等於該目標截距，則計算一還原態媒介第二添加量。 34. 如申請專利範圍第32項之方法，進一步包括： 5 若該第二批斜率實質不等於該目標斜率，則根據該第二批斜率與該目標斜率間之一差額計算一第二工作電極面積，然後製備包含該第二計算所得的工作電極面積的一第四複數個試紙；且若該第二批截距實質不等於該目標截距，則根據該第二 10 批截距與該目標截距間之一差額計算還原態媒介之一第二添加量，然後製備該第四複數個試紙以包含具有該還原態媒介第二添加量的一第二試劑墨水。 35. 如申請專利範圍第32項之方法，進一步包括： 15 若該第二批斜率實質不等於該目標斜率，則根據該第二批斜率與該目標斜率間之一差額計算一第二工作電極面積，然後製備包含該第二計算所得的工作電極面積的一第四複數個試紙；且若該第二批截距實質不等於該目標截距，則根據一目標 20 截距、一還原態媒介雜質百分比及一背景截距計算一還原態媒介第二添加量，然後製備該第四複數個試紙以包含一具有該還原態媒介第二添加量的一第二試劑墨水。 36. 如申請專利範圍第35項之方法，其中還原態媒介之該第一 138 200944790 和第二添加量的至少一者Fadd大致由一關係式 τ> ~ R 厂 n target n0 厂，， add — ^ 定義’其中Btarget是該目標截距’ B〇 ^int 是該背景截距，Kint是一常數，且Fimp是與該氧化態媒介相關作為一雜質之還原態媒介的一量額。 5 37.如申請專利範圍第32、34、35、及36項中任一項之方法， ^ 其中該計算還原態媒介之一第二添加量的步驟包括根據該計算所得第二工作面積調整該背景截距。 1〇 38.如申請專利範圍第18或20項之方法，其中該背景截距和該係數常數經調整以計入該第二工作電極面積。 39. 如申請專利範圍第32至36項中任一項之方法，其中計算一還原態媒介第一添加量的該步驟包括調整該背景截距以 15 計入該計算所得第一工作電極面積。 ❿ 40. 如申請專利範圍第39項之方法，其中計算一還原態媒介第一添加量的該步驟包括調整該背景截距和一係數常數以計入該第一工作電極面積。 20 41. 一種製造具有一目標斜率和目標截距之一試紙批的方法，該方法包括： (i) 在一金屬筛網上施配一導電墨水； 139 200944790 (ii) 將一基板定位在該金屬篩網附近； (iii) 用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上以形成一導電層； (iv) 根據該目標斜率和一前批斜率計算一工作電極面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得，使得所得批斜率大致等於該目標斜率； (v) 使一絕緣墨水轉移到該導電層上以形成具有該計算所得工作電極面積的一工作電極； 10 15 (vi) 根據該目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距計算一還原態媒介添加量，使得該所得的批截距大致等於該目標截距； (νϋ) 製備包含該還原態媒介計算所得添加量的試劑墨水； (viii) 若該試劑墨水不具有在一目標範圍内的一密度，藉由混合該試劑墨水一段時間或添加一流變控制劑的方式調整該試劑密度；且 (ix) 使該試劑墨水轉移到該工作電極上。 42.—種製造一酵素墨水的方法，該方法包括： 20 根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距計算一還原態媒介量；且將該還原態媒介量添加至該酵素墨水。 43. —種複數試紙批，每一試紙包括： 140 200944790 一基板；設置在該基板上的一導電層·及媒導電層上的一試‘層，該試劑層包含-還原態媒”添加置Fadd使得每一試紙

標截距艮 mm《批截距大致等於曰 target㈣原祕麵加量Fadd大致由-關係式 ❹ 15 ❹ 20 ^ 定義，其。是一背景截距，Κω是一關作為一雜質之還原態媒节數且Fimp是與氧化態媒介相介的一量額。 44. 一種複數試紙批，其中每—試紙包括. 一基板；又置在δ亥基板上的一導電層；及媒1_層包含一還原態具有約小於⑽的1化度批之每—試紙批之一批截距 45.如申請專利範圍第44項之複數試紙批，其中添加量係根撼一目棵哉W：還原悲媒介 -背“:;戴距、-還原態媒介雜質百分比、及利範圍第45項之複數試紙批，其中該根據來自先前製造的試紙批之複數個批截距的〜=距疋 141 200944790 47.如申請專利範圍第45項之複數試紙批，其中該還原態媒介雜質百分比是當該試劑層包含一氧化態媒介量時與該氧化態媒介相關作為一雜質之還原態媒介的一比例量。 5 48.如申請專利範圍第45項之複數試紙批，其中該還原態媒介添加量係藉由計算該目標截距與該背景截距間之一差額除以一常數然後減去一還原態媒介雜質量的方式決定。 49.如申請專利範圍第45項之複數試紙批，其中該還原態媒介 β — β 10 添加量Fadd大致由一關係式= i 定義，其中 ^int Btarget是該目標截距，B〇是該背景截距，Kint是一常數’且 F i m p是與氧化態媒介相關作為一雜質之還原態媒介的一量額。 15 50.如申請專利範圍第44項之複數試紙批，進一步包括一工作電極，該工作電極具有根據一目標斜率和一前批斜率計算的一面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得。 51. 如申請專利範圍第50項之複數試紙批，其中該還原態媒介 20 添加量係根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比、一背景截距、及該計算所得的面積。 52. 如申請專利範圍第51項之複數試紙批，其中該還原態媒介 142 200944790 添加量Fadd大致由一關係式匕= ~ 定義，其人int 中Btarget是該目標截距，B〇是該背景截距，Kint是一常數，且F丨m p是與氧化態媒介相關作為一雜質之還原態媒介的一量額，且該背景截距和常數Kint經調整以計入該計算所得 5 的面積。 φ 53.如申請專利範圍第44項之複數試紙批，其中該複數試紙批包括從約10批至約100批。 ίο 54.如申請專利範圍第53項之複數試紙批，其中批截距之15 %或更小的變化度係經由計算約600個或更多個試紙判定。 55. —種複數試紙批，其中每一試紙包括： 15 一基板；及藉由一塗刷器透過一金屬篩網設置在該基板上用以界定至少一個碳電極跡線的碳墨水，該至少一跡線具有沿著該至少一跡線之兩侧緣之間垂直於一軸線的一假想線測得之一長度，其中該長度相較於該複數試紙批中至少一個 20 其他試紙之另一印製碳跡線之另一長度的任何變化小於約 3.5%。 56. —種複數試紙批，其中每一試紙包括： 143 200944790 一基板；及藉由一塗刷器透過一金屬篩網設置在該基板上用以界定至少一個碳電極跡線的碳墨水，該至少一跡線具有一沿著在該至少一跡線之兩側緣之間垂直於一軸線的一假想線測得之一長度，其中該長度相較於該複數試紙批中至少一個其他試紙之另一印製碳跡線之另一長度的任何變化小於約2.5%。 57. —種製造一試劑調配物的方法，該方法包括： 10 ⑴ 混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量； (ϋ) 測量該溶液之一密度； (iii) 若該密度不超過一閾值，繼續混合該試劑調配物一預定時間量使得該密度大約等於或大於該閾值；且 (iv) 在該密度大約等於或大於該閾值後，將一媒介和一 15 酵素摻入該溶液以形成該試劑調配物。 58.如申請專利範圍第57項之方法，其中該流變控制劑包括羥乙基纖維素。 20 59.如申請專利範圍第57項之方法，其中該流變控制劑包括具有親水性和疏水性基團的矽石。 60.如申請專利範圍第57項之方法，其中該流變控制劑包括羥乙基纖維素及一具有親水性和疏水性基團之石夕石。 144 200944790 61.如申請專利範圍第57項之方法，其中該混合步驟包含使該溶液遭受一減小壓力。 5 6 2 ·如申請專利範圍第5 7項之方法，其中該預定時間範圍量從約4分鐘至約30分鐘。 _ 63.如申請專利範圍第61項之方法，其中該預定時間範圍量從約16分鐘至約30分鐘。 10 64.如申請專利範圍第57項之方法，其中該混合步驟首先發生且該摻入步驟係大致緊接於使用印刷該試劑調配物之前發生。 15 65.如申請專利範圍第57項之方法，其中該閾值是大約0.87 公克/立方公分。 ¥% W 66·如申請專利範圍第57項之方法，其中該混合步驟係用一螺槳攪拌器以約每分鐘3000轉進行。 20 67.—種製造複數個試紙的方法，該方法包括：將一膠體分散物之密度調整成一目標密度；添加一媒介和一酵素至該膠體分散物以形成一試劑調配物； 145 200944790 在該複數個試紙之每一試紙之一工作電極上設置該試劑調配物；校正該複數個試紙以決定一批斜率；且輸出大致等於一目標批斜率的一批斜率。 5 68. 如申請專利範圍第67項之方法，其中該目標密度係根據該目標批斜率計算。 69. 如申請專利範圍第67項之方法，其中該目標密度係藉由從 10 該目標批斜率減去一第二常數然後除以一第三常數的方式計算。 70. 如申請專利範圍第67項之方法，其中該目標密度p係由下 M , _ k, 式計算：P = ，其中P是該目標密度，Mcal是該目 15 標批斜率，k2是一第二常數，且k3是一第三常數。 71. 如申請專利範圍第70項之方法，其中該目標密度p是從下列範圍之一者選出的任一值：從約每立方公分0.7公克至約每立方公分1.1公克及從約每立方公分0.985公克至約 20 每立方公分1.015公克。 72. 如申請專利範圍第67至71項中任一項之方法，其中該目標密度是在一目標密度之±每立方公分0.015公克以内的任 146 200944790 一值0 73·如申請專利範圍第70項之方法，其中該目標批斜率Mcal 是ά：約每分升每毫克16毫微安培至約每分升每毫克30毫 5 微安培的任一值。 74. 如申請專利範圍第70項之方法，其中該第二常數k2是從 φ 約每分升每毫克7毫微安培至約每分升每毫克10毫微安培的任一值。 10 75. 如申請專利範圍第70項之方法，其中該第三常數k3是從約10毫微安培/毫克/分升/公克/立方公分至約12毫微安培 /毫克/分升/公克/立方公分的任一值。 15 76.如申請專利範圍第67項之方法，其中該調整包括改變一混 ^ 合時間之一持續期間。 77.如申請專利範圍第67項之方法，其中該調整包括添加一額外量的流變控制劑。 20 7 8 ·如申請專利範圍第7 6項之方法，其中該混合時間持續期間是從約10分鐘至約30分鐘的任一值。 79. —種製造一試劑調配物的方法，該方法包括： 147 200944790 (i) 混合包含一流變控制劑、一媒介和一酵素的一溶液一預定時間量； (ϋ) 測量該溶液之一密度；且 (iii) 若該密度不超過一閾值，繼續混合該溶液一預定時間量使得該密度大約等於或大於該閾值。 80.如申請專利範圍第79項之方法，其中該目標密度是從約每立方公分1公克至約每立方公分1.25公克的任一值。 10 15 81.—種用於塗布在一試紙之一工作電極上的試劑調配物，該試劑調配物包括： (i) 一流變控制劑； (ii) 一媒介；及 (iii) 一酵素，其與該流變控制劑和媒介在一混合物中以大致形成具有一從約每立方公分1公克至約每立方公分1.25公克之任一值之密度的一試劑。 82. —種製造一試劑調配物的方法，該方法包括： ⑴ 混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量； 20 (ϋ) 測量該溶液之一密度； (iii) 若該密度不在一目標範圍内，繼續混合該溶液一預定時間量使得該密度落入該目標範圍内；且 (iv) 在該密度落入該目標範圍内後，將一媒介和一酵素摻入該溶液以形成該試劑調配物。 148 200944790 83.—種製造複數個試紙的方法，該方法包括：製造第一複數個試紙，每一試紙包括塗有具有一第一密度之一試劑調配物的一工作電極； 5 校正該第一複數個試紙以判定一第一斜率；根據該第一斜率和一目標斜率計算一第二密度；製造第二複數個試紙，每一試紙包括塗有具有該第二密 g 度之一試劑調配物的一工作電極。 10 84.如申請專利範圍第83項之方法，進一步包括：校正該第二複數個試紙以判定一第二斜率，其中該第二斜率大致等於該預定目標斜率。 85. —種使一導電墨水絹印到一基板上以形成一試紙的方法， 15 該方法包括： ⑴ 在一金屬篩網上施配該導電墨水； p (ii) 將該基板定位在該金屬篩網附近；且 (iii) 利用具有一高於55度蕭式A硬度之硬度的一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上。 20 86. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該硬度包括大於或等於約65±5度蕭式A硬度的硬度。 87. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該硬度包括在從約 149 200944790 60度至約75度蕭式A硬度範圍内的硬度。 88. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該導電墨水之轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該金屬篩網，該壓力係大於 5 約5巴和約4巴至少之一者。 89. 如申請專利範圍第85或86項之方法，其中該導電墨水之轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該金屬篩網，該壓力係大於每公尺塗刷器長度270牛頓之力。 10 90. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器包括一對於該導電墨水所含溶劑具有低吸收率的一材料。 91. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器包括以在一 15 小時内少於約2%之一速率吸收該導電墨水所含溶劑的一材料。 92. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器包括以在約二十一小時内少於約8%之一速率吸收該導電墨水所含溶 20 劑的一材料。 f 93. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器包括大致不吸收任何碳材料的一材料。 150 200944790 94. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器材料包括具有65度蕭式A硬度之一材料硬度的聚氨基曱酸酯。 95. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該塗刷器材料包括具 5 有75度蕭式A硬度之一材料硬度的聚氨基曱酸酯。 96. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該基板及該金屬篩網 g 之一框架於該導電墨水轉移期間被保持在一固定距離，該固定距離係從約0.65公釐至約0.75公釐。 10 97. 如申請專利範圍第85項之方法，其中該金屬篩網耦接於一框架，有一從約20 N/cm至約30 N/cm的篩網張力。 98. —種使一導電墨水絹印到一基板上以形成一試紙的方法， 15 該方法包括： ^ (i) 在一師網上施配該導電墨水’該師網係由一材料製成，其當遭受到來自一塗刷器之大於4巴的壓力時不會不可逆地變形的； (ii) 將該基板定位在該篩網附近；且 20 (iii) 利用具有一高於55度蕭式A硬度之硬度的一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上。 9 9.如申請專利範圍第9 8項之方法，其中該篩網材料當與碳墨水中之溶劑接觸時不會不可逆地變形。 151 200944790 100. 如申請專利範圍第99項之方法，其中該塗刷器包括一具有65度蕭式A硬度之材料硬度的聚合物。 101. 如申清專利範圍帛99 g之方法，其中該塗刷器包括具有- 75度蕭式A硬度之材料硬度的聚氨基甲酸醋。 102. 一種用於使圖像印到—基板上的絹印裝置，該裝置包括： ❽ 經組構用以支撐及輪送該基板的一滚輪；一金屬篩網，有一電極跡線圖像掩模形成於其上，該篩網與緊鄰該滚輪的該基板接觸；設置在該網上的碳墨水，該墨水具有一約每秒1〇,〇〇〇百分史托克（centistokes)至約每秒4〇,〇〇〇百分史托克的黏度；及 ' 一塗刷器，其包括一具有一高於55之蕭式A硬度特徵的材料且經組構用以藉由超過4巴之壓力施加於該塗刷器〇迫使該碳墨水穿過該篩網以在該基板上形成電極跡線之一圖像’致使該碳電極跡線之沿著在一試紙之一碳電極跡線之兩側緣之間垂直於一轴線的一假想線測得的一長度相較於一預定長度的任何變化會小於約3 5%，且任二個工作電極跡線間之任一間隙相較於一預定間隙偏離不超過約30%。 152 200944790 103. 削於使圖像印到一基板上的頌印裝置，該裝置包經組構=以支樓及輸送該基板的-滾輪； 5 e 10 金屬筛網有—電極跡線圖像掩模形成於其上，該篩網與緊鄰該滾輪的該基板接觸；設置在該網上的碳墨水，該墨水具有-約每秒10,000 百分史托克至約每秒40,000百分史托克的黏度；及 -塗刷器’其包括—具有—高於55之蕭式A硬度特徵的材料且經組構用以藉由超過4巴之壓力施加於該塗刷器迫使該碳墨水？過該_以在該基板上形成電極跡線之一圖像，致使該碳電極跡線之沿著在-試紙之-碳電極跡線之兩侧緣之間垂直於—軸線的―假想線測得的—長度相較於-預定長度的任何變化會小於約2 5%，且任二個 15 〇 104. 如申請專利範圍第1〇3項之裝置，其中該基板包括呈卷物形式的一聚合物，具有約35〇微米之一厚度乘約公董之寬度及約660公尺之長度。 20 105. 如申請專利範圍第1〇4項之裝置，其中該聚合物包括聚酉旨。 106. 如申請專利範圍第1〇2至1〇5項中任一項之裝置，其工作電極跡線間之任—間隙相較於—預定間隙偏離堝約30%。 & 153 200944790 中該金屬篩網包括複數個不銹鋼絲，每一鋼絲具有約0.03 公釐的一直徑，其用約45度的網格角度交織以形成一網具備每公分125個網眼、50微米之網孔、約39%之開口面積、及大約47微米之網厚度。 5 107. 如申請專利範圍第102至105項中任一項之裝置，其中該預定長度包括大約0.84公釐且該預定間隙包括大約 150微米。 ίο 108. 一種分析物試紙，包括：一基板；及藉由一塗刷器透過一金屬篩網設置在該基板上用以界定碳電極跡線的碳墨水，其中每一碳電極跡線沿一縱向軸線延伸使得沿著在一試紙中之一碳電極跡線之兩側緣之 15 間垂直於一軸線的一假想線測得的一碳電極跡線長度相較於試紙之一預定樣本之其他試紙中之一印製碳跡線之一長度的任何變化小於約3.5 %。 109. 一種分析物試紙，包括： 20 一基板；及複數個碳電極跡線，其係經由利用高於55度蕭式A硬度之一塗刷器使碳墨水穿過一金屬篩網沈積的方式設置在該基板上，使得任二工作電極跡線間之任一最小間隙相較於一預定值偏離不超過30%。 154 10 15 ❹ 20 200944790 110. /種分析物試紙，包括：一基板；及藉由一塗刷器透過一金屬篩網設置在該基板上用以界定至少一碳電極跡線的碳墨水，該至少一跡線具有沿著在該至少一跡線之兩側緣之間垂直於一軸線的一假想線測得的一長度，其中該長度相較於至少一其他試紙之另一印製碳跡線之另一長度的任何變化小於約3.5%。 111. 一種分析物試紙，包括：一基板；及藉由一塗刷器透過一金屬篩網設置在該基板上用以界定至少一碳電極跡線的碳墨水，該至少一跡線具有沿著在該至少跡線之兩側緣之間垂直於一軸線的一假想線測得的一長度，其中該長度相較於至少一其他試紙之另一印製碳跡線之另一長度的任何變化小於約2 5%。 U2.如申請專利範圍第108至11丨項中任一項之键中該至少-跡線包括二個印在一基板上用以定義1二間有，’其中該間隙相較:: 113.如申請專利範圍第108至m項中任一項之試中該基板包括一聚合物基板。其 155 200944790 114. 如申請專利範圍第113項之試紙，其中該基板包括從本質上由下列物組成之群中選出的一聚合物：聚酯，聚對苯二曱酸乙二酯，及以上之組合。 5 115. 如申請專利範圍第114項之試紙，其中該基板包括一大致平坦組態，具有大約0.35公釐的一厚度、大約5.5公釐的一寬度、及大約27.5公釐的一長度。 ίο 116. 如申請專利範圍第112項之試紙，其中該預定值包括大約150微米。 117. 一種製造一試紙的方法，該方法包括： (0 在一金屬筛網上施配一導電墨水； 15 (ϋ) 將一基板定位在該金屬篩網附近； (iii) 用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上； (iv) 計算導致批斜率大致等於一預定目標批斜率的一工作電極面積； (v) 使一絕緣墨水轉移到導電層上以形成具有該計算 20 所得工作電極面積的一工作電極； (vi) 計算導致批截距大致等於一預定目標批截距的一還原態媒介量；且 (νϋ) 使一試劑墨水轉移到該工作電極上，該試劑包含該計算所得還原態媒介量。 156 200944790 118. 如申請專利範圍第117項之方法，進一步包括製備該試劑墨水，該試劑墨水之製備包含： (i) 混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量； 5 (ϋ) 測量該溶液之一密度； (iii) 若該密度不在一目標範圍内，繼續混合直到該密度落入該目標範圍内；且 5 (iv) 在該密度落入該目標範圍内後，將一媒介和一酵素 10 推入該溶液以形成該試劑墨水。 119. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該導電墨水包括碟墨水。 120. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器包括 15 具有一高於約55度蕭式A硬度之硬度的一材料。 ❿ 121. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器具有大於或等於約65度蕭式A硬度的一硬度。 2〇 122. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器具有在從約60度蕭式A硬度至約75度蕭式A硬度之範圍内的一硬度。 123. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該導電墨水之 157 200944790 轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該金屬篩網，該壓力係大於約5巴。 124. 如申請專利範圍第120或121項之方法，其中該導電 5 墨水之轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該金屬篩網，該壓力係大於4巴。 125. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器包括 0 一對於該導電墨水所含溶劑具有一低吸收率的材料。 10 126. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器包括以在一小時内少於約2%之一速率吸收該導電墨水所含溶劑的一材料。 15 127. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該塗刷器包括以在約二十一小時内少於約8%之一速率吸收該導電墨水 n ί I 所含溶劑的一材料。 128. 如申請專利範圍第125至127項中任一項之方法，其 2〇中該材料包括具有65度蕭式A硬度之一材料硬度的聚氨基曱酸酯。 129. 如申請專利範圍第125至127項中任一項之方法，其中該材料包括具有75度蕭式A硬度之一材料硬度的聚氨 158 200944790 基曱酸酯。 130. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該金屬篩網耦接於一框架，該基板及該框架於該導電墨水轉移期間被保 5 持在一固定距離，該固定距離係從約0.65公釐至約0.75 公釐。 φ 131. 如申請專利範圍第117項之方法，其中該金屬篩網耦接於一框架，有一從約20 N/cm至約30 N/cm的篩網張力。 132. 一種製造一試紙的方法，該方法包括： ⑴ 在一筛網上施配一導電墨水，該篩網係由當遭受到大於4巴之壓力時不會不可逆地變形的一材料製成； 15 ⑼ 將一基板定位在該篩網附近； ❿ (iii) 用一塗刷器使該導電墨水轉移到該基板上； (iv) 計算導致批斜率大致等於一預定目標批斜率的一工作電極面積； (v) 使一絕緣墨水轉移到導電層上以形成具有該計算 20 所得工作電極面積的一工作電極； (vi) 計算導致批截距大致等於一預定目標批截距的一還原態媒介量；且 (νϋ) 使一試劑墨水轉移到該工作電極上，該試劑包含該計算所得還原態媒介量。 159 200944790 133. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該篩網之材料不會在與該導電墨水中之溶劑接觸時不可逆地變形。 5 10 134. 如申請專利範圍第132項之方法，進一步包括製備該試劑墨水，該試劑墨水之製備包含： (i) 混合包含一流變控制劑的一溶液一預定時間量； (ii) 測量該溶液之一密度； (iii) 若該密度不在一目標範圍内，繼續混合直到該密度落入該目標範圍内；且 (iv) 在該密度落入該目標範圍内後，將一媒介和一酵素推入該溶液以形成該試劑墨水。 135. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該導電墨水是 15 碳墨水。 136. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器具有高於約55度蕭式A硬度的一硬度。 20 137. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器具有大於或等於約65度蕭式A硬度的一硬度。 138. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器具有在從約60度蕭式A硬度至約75度蕭式A硬度之範圍内的 160 200944790 一硬度。 139. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該導電墨水之轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該篩網，該壓力係大 5 於約5巴和約4巴之至少一者。 140. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該導電墨水之 g 轉移包括用一壓力將該塗刷器施用於該篩網，該壓力係大於每公尺塗刷器長度270牛頓之力。 10 141. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器包括對於該導電墨水所含溶劑具有一低吸收率的一材料。 142. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器包括 15 以在一小時内少於約2%之一速率吸收該導電墨水所含溶 p 劑的一材料。 143. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該塗刷器包括以在約二Η —小時内少於約8%之一速率吸收該導電墨水 20 所含溶劑的一材料。 144. 如申請專利範圍第141至143項中任一項之方法，其中該材料包括具有65度蕭式Α硬度之一材料硬度的聚氨基曱酸酯。 161 200944790 145. 如申請專利範圍第141至143項中任一項之方法，其中該材料包括具有75度蕭式A硬度之一材料硬度的聚氨基曱酸酯。 5 146. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該篩網耦接於一框架，該基板及該框架於該導電墨水轉移期間被保持在一固定距離，該固定距離係從約0.65公釐至約0.75公釐。 10 147. 如申請專利範圍第132項之方法，其中該篩網耦接於一框架，有從約20 N/cm至約30 N/cm的一篩網張力。 148. —種經組構用以測量一分析物的系統，該系統包括：一測試儀，包含： 15 一試紙埠連接器，一處理器，一記憶體，及一顯示器，其中該處理器耦接於該記憶體和該顯示器；及 20 一試紙，包含：一基板；設置在該基板上的' —導電層，及設置在該導電層上的一試劑層，該試劑層包含一還原態媒介添加量使得複數個批截距有一小於約15%之變 162 200944790 化度。 149.如巾請專利範圍第148項之系統， :從-第-試紙批切換成一第二d ❹ 10 15夂二1^!"148項之系統，其中該測試儀進-y包3使用者；丨面輸入且該處理器經組 *-分析物值時停用除-單-使用者介面用者介面輸入。卜的所有使 151. 如申請專利範圍第148項之系統，其中該測試儀進一步包含使用者介面輸入且該處理器經組構為在該顯示器顯示一分析物值時忽略來自除一單一使用者介面輪入外之所 15 有使用者介面輸入的任何輸入。 152. 如申請專利範圍第148項之系統，其中該還原態媒介添加量係根據一目標截距、一還原態媒介雜質百分比、及一背景截距。 20 153. 如申請專利範圍第152項之系統，其中該背景戴距包括根據來自先前製造的試紙批之複數個批截距的一平均。 154. 如申請專利範圍第152項之系統，其中該還原態媒介 163 200944790 雜質百分比是當該試劑層包含一氧化態媒介量時與該氧化態媒介相關作為一雜質之還原態媒介的一比例量。 155. 如申請專利範圍第152項之系統，其中該還原態媒介 5 添加量係藉由計算該目標戴距與該背景截距間之一差除以一常數然後減去一還原態媒介雜質量的方式決定。 156. 如申請專利範圍第152項之系統，其中該還原態媒介添加量Fadd大致由一關係式^= 定義，其中人int ίο Btarget是該目標截距，B〇是該背景截距，Kint是一常數，且 F i m p是與氧化態媒介相關作為一雜質之一還原態媒介的量額。 157. 如申請專利範圍第152項之系統，其中該試紙進一步 15 包括一工作電極，該工作電極具有根據一目標斜率和一前批斜率一計算所得的面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲付。 158. 如申請專利範圍第152至157項中任一項之系統，其 20 中該試紙進一步包括一工作電極，該工作電極具有根據一目標斜率和一前批斜率一計算所得的面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得，且其中該還原態媒介添加量係藉由計入該計算所得面積的方式決定。 164 200944790 ^如申請專利範圍第157項之系統，其中該前批斜率不是根據二或更多個批斜率。 5 如申請專利範㈣⑸至l56j員中任一項之系統，其中該試紙進-步包括一工作電極，該工作電極具有根據一 =標斜f和—前批斜率—計算所得的面積，該前批斜率係 © 從一先前製造的試紙批獲得，且其中該還原態媒介添加量係藉由調整該背景截距和該常數以計入該計算所得面積的 10 方式決定。 161·如申請專利範圍第148項之系統，其中用以提供該複數個批截距的複數試紙批包括從約10批至約100批。 15 162.如申請專利範圍第161項之系統，其中具有一15%或 ❿ 更小之批截距變化度的複數試紙批係藉由校正每試紙批約 600個或更多個試紙的方式決定。 163. 如申請專利範圍第148項之系統’其中添加的媒介包 2〇括一還原態媒介。 164. 如申請專利範圍第148項之系統，其中添加的媒介包括亞鐵氰化物。 165 200944790 165. 如申請專利範圍第148項之系統，其中添加的媒介包括亞鐵氰化鉀。 166. —種進行一分析物測量的方法，該方法包括： 5 將一試紙插入一測試儀内，該測試儀經組構不接收一校正輸入，該試紙具有一計算所得酵素工作區及該酵素工作區内之一還原態媒介添加量；在一血樣施加於該試紙之一入口後測量一分析物濃❹ 度；且 10 在該測試儀之一顯示器上顯示該血樣之一分析物濃度。 167. —種進行一分析物測量的方法，該方法包括：將一試紙插入一測試儀内，該測試儀經組構用於一預定校正輸入，該試紙具有暴露於一血樣的一計算所得酵素工 15 作區及暴露於該計算所得酵素工作區的一還原態媒介添加量使得該試紙被校正成該預定校正輸入； ^ 〇在一血樣施加於該試紙之一入口後測量一分析物濃度；且在該測試儀之一顯示器上顯示該血樣之一分析物濃度。 168. 如申請專利範圍第166或167項之方法，進一步包括：詢問一使用者選擇一旗標以使該旗標與該分析物濃度關聯。 166 200944790 169.如申請專利範圍第166或167項之方法，進一步包. 停用複數個使用者介面輸入當中除一單一使用者介面^ · 外之所有使用者介面輸人，該單-使用者介面輪入經組= 用以允許一使用者選擇該旗標。 170 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中該护輸入是一組歸因於一特定試紙批的數值。乂正 ❹ 15 ❹ 20 171. 如申請專利範圍第166或167項之方法，复輸入包括一批截距和一批斜率。、中該校正 172. 如申請專利範圍第166或167項之方態媒介添加量係根據一目標截距、一還原/二中該還原比、及一背景截距。 ’、〜、媒，丨雜質百分 173. 如申請專利範圍第166或167項之方 =包括根據來自先前製造的試紙抵之複數個申請專利範圍第166或167項之方法B 悲媒介雜質百分比是當該試=之方去，其中該還原該氧化態媒介相關作為一雜 =3一氧化態媒介量時與負之還原態媒介的一比例量。 175.如申請專利範園第166或】項之方法，其中該還原 167 200944790 態媒介添加量係藉由計算該目標截距與該背景截距間之一差除以一常數然後減去一還原態媒介雜質量的方式決定。 176. 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中該還原 j-, ^ t arg et τ-ι 5 態媒介添加量Fadd大致由一關係式匕W = 7； Fimp定 Kint 義，其中Btarget是該目標截距，B〇是該背景截距，Kint是一常數，且FimpS與氧化態媒介相關作為一雜質之一還原態媒介的量。 ίο 177. 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中該試紙進一步包括一工作電極，該工作電極具有根據一目標斜率和一前批斜率計算的一面積，該前批斜率係從一先前製造的試紙批獲得。 15 178. 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中該前批斜率不是根據二個或更多個批斜率。 179. 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中用以提供該複數個批截距的複數試紙批包括從約10批至約1〇〇 20 批。 180. 如申請專利範圍第179項之方法，進一步包括校正每試紙批約600個或更多個試紙以判定該600個或更多個試 200944790 紙是否具有一 15%或更小之批截距變化度。 181. 如申請專利範圍第166或167項之方法，其中該添加的還原態媒介包括亞鐵氰化鉀。 182. 如申請專利範圍第166或167項之方法，進一步包括：提示一使用者選擇一旗標以使該旗標與該分析物濃度關

169