TW200903055A - Optical film products and method for producing optical film products - Google Patents

Description

200903055 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本毛明係關於-種於具有光轴之光學薄膜層上積層保護 該光學薄臈層表面之表面保護薄膜而成之光學薄膜體、及 該光學薄膜體之製造方法。 【先前技術】 先則以來’眾所周知有於具有光軸之光學薄臈層上積層 保護該光學薄膜層表面之表面保護薄膜而成之光學薄膜 體。作為該光學薄膜層，例如有用於液晶顯示裝置之偏光 板、相位差板及偏光板與相位差板之積層體等。又，表面 保護薄膜係為保護光學薄膜層之表面而設置者，其以㈣ ::液晶顯示裝置等中時可剝離之方式，#由黏著劑等而 貼δ於光學薄膜層之表面。 又’有時在與上述表面保護薄膜相反側之光學薄膜層表 =上貼合有被稱為隔離膜之薄膜層。該隔離膜與表面二蔓 : 專膜同樣’係以保護光學薄膜層之表面為目的並 :用以與液晶顯示裝置固定之黏著層。該黏著層即使於剝 離了隔離膜之後亦被保持於光學薄媒層表面。 … 上述光學薄臈具有光軸’作為該光軸，例如 =延伸f向平行地形成單轴之絲。於將該^之轴方向 ::而：J於液晶顯不裝置之情形時，則無法發揮作為液 曰曰顯不裝置之功能，故而需設法於 巧仗 薄膜之矣而V·茲予厚膜層之表面保護 :联之表面上精由印記(stamp)等對光轴之 I以便容易判別該轴方向。然而1由印記等實施= 128686.doc 200903055 時，由於係藉由人工進行操作，故而、 於表面保護薄膜上罟 乂 ’、率極差。尤其 蔓独上叹置有聚石夕氧層 時，需要藉由r醢笙 咬战潛之月形 精由乙％荨對剝離處理 鞏效率推而亞儿 叮^拭作業’因此作 系忒羊進而惡化。並且，由於 於壓印標吃之後項Ά乾燥較慢，故而 之後射m紙等，經濟上亦不利 又，為容易判別光軸之軸方向，作為將表示光之 印記形成於表面保護薄膜上之方法， Χψ M ^ m .,. 已知有專利文獻1。 杉據忒專利文獻丨，記載 圮壓印你H — 1史用噴墨機來取代人工印 口匕i印作業而於表面保言舊續 保Μ膜上印刷光軸之軸方向之方 法0 又’眾所周知有於表面保護薄 卞曼浔臊上配置有由UV塗料構 成之識別標識（用以識別光軸 神今 < 知"識）之液晶用光學薄膜 (專利文獻2)。於該專利文獻2中記载有：於可見光下之偏 光薄膜之質量檢查時或將偏光薄膜配置於液晶單元中之液 晶顯示S件之質量檢查時，使用uv塗料形成識別標識， 以使得識別標識不㈣礙檢查H射㈣光軸之轴方 向時’照射黑光以使uv塗料發光，從而可靠地目測識別 標識。 [專利文獻1]日本專利特開2003_14934號公報 [專利文獻2]日本專利特開平1〇_221685號公報 [發明所欲解決之問題] 然而，於上述專利文獻j中，係使用感測器來檢測自上 游運送而來之特定尺寸之帶保護薄膜之偏光板，並根據該 檢測結果，於下一個步驟中停止帶保護薄膜之偏光板之運 128686.doc 200903055 送，並藉由噴墨機於保護薄膜之表面上進行標記 位限定於噴墨之郎刖銘囹 ύ σ, ^ 之印刷乾圍。於為簡單地判別光軸之軸方向 而设置多個標·ίρ邱付夕彳主Ρ 士 ” °。 Μ形時，就印刷作業時間較長以及 生產效率之觀點而言不佳。另―方面，於設置有多個h 機之情形時，就其設備費用、設置面積之觀點而言不^ =發明係將切割成特定尺寸之帶保護薄膜之偏光板 、,、’、、、’亚未考慮對長條狀之帶保護薄膜之偏光板之坯 料（例如，數1 0 m α P 1、 上之卷坯）進行標記之情形。於對卷坯 標記光轴之轴方向之情形時，若直接採用專利文獻i之構 成’則就生產Μ、製造成本之觀點而言並不佳。 又，於專利文獻2之情形時，係將υν塗料用於標記中， 但於印刷至表面保護薄膜上之情形時，如圖5所示，當三 Μ記部分乾燥後，其於可見光下成為白色或者毛破二： 不透月狀（圖5中之斜線）’從而可簡單地目測到，雖於 較大尺寸之缺陷(例如劃傷、氣泡、異物等)之檢查中不會 造成影響’但於近年來之高精度、高質量之要求中，例如 必須檢查出80 μΐΏ〜150 μιη之範圍之缺陷時，UVS料之白 色化亦會對缺陷檢查造成影響，因而強烈期望得到改善。 ^作為UV塗料’即便使用透明塗料，於表面保護 缚膜上進行印刷時，標記部分仍會變成白色而被簡單地目 測到’從而無法可靠地檢查出與標記部分在垂直方向上重 合之缺陷。 【發明内容】 本發明係有赛於上述實際情況而完成者，其目的在於提 128686.doc 200903055 供-種具有可容易地確認光軸之軸方向、並且以於缺陷檢 查中標記不妨礙檢查之方式構成之光學薄膜體及該光 膜體之製造方法。 / [解決問題之技術手段] 為解決上述課題而反覆進行深入研究，結果完成了以下 發明。即，本發明之光學薄膜體之特徵在於，其係於且有 ^之光學薄膜層上積層保護該光學薄膜層表面之表面保 ί. 而成者，且藉由印刷而將與上述光軸相關之光轴資 刷^成Γ上述表面保護薄膜時，使該印刷之光轴資訊即印 :=Γ部的印刷密度形成為較該印刷形成物之内 邛的印刷密度更小。 η 上述構成之作用效杲士 有具有光軸之光學薄膜声盘”’光學薄膜體上至少積層 保護薄膜，於==護該光學薄膜層表面之表面 而， ' 予/膜層與表面保護薄膜之間藉由印刷 而形成有（印刷形成物）與光轴相關 =印刷 保護薄膜例如薄媒侧。其理由在於:表面 離，若光轴資訊殘留於=不裝置時可從光學薄媒層剥 裝置之功能等。又，/ 4膜層令則無法發揮作為顯示 由黏著劑而介於表，至表面保濩薄膜上之光軸資訊經 轴資訊之形成物之ΓΓΓ联與光學薄旗層之間，因此光 觀目測之情形時，；，钻著劑層所包圍’從而於進行外 尤其，使印刷形成：娜至不妨礙缺陷檢查之程度。 形成物之内部之厚声之周邊端部之厚度形成為較該印刷 八更小，藉此上述黏著劑層與印刷形成 128686.doc 200903055 物之間之界面不會顯眼而且不妨礙外觀檢查 使用例如透明塗料、螢光+ ，即便

訊，亦可於確認光等形成光轴資 … 貝訊並且可使光軸資訊不影變缺P 檢查而能高精度地進行缺陷檢查。 ο 3缺一 又’光學薄膜體既可為切割成特定尺寸者， 長條狀之达料。又，光學薄膜係具有絲H 2 板:相位差板及該等之複合體。又，偏光板中亦可設置= 保濩偏光板之偏光板保護層 有 產（/#膜）又’缺陷”是指作為 產口口而不佳之缺陷，例如可例示光學薄膜層之表 之異物、污物、劃傷、裂痕、氣泡等。 3 又，作為上述本發明之較佳實施形態，較好的是 述印刷形成物之印刷厚度以自内部向周邊端部漸減 :形成。印刷形成物之中央剖面形狀可構成為例如山形； 、:弟形形狀、或者三角形狀。又，於以使上述印刷I;: 成：之了度自内部向周邊端部漸減之方式而形成印刷形 絲之W時，可例示：該漸減構成為直線或曲線。 精由-亥等構成’上述黏著劑層與印刷形成物之間之界 不顯眼，並且不妨礙外觀檢查。 | 又’作為上述本發明之較佳每 ，於使印刷形成物 ^周^的印财度形成為較㈣卿成物之印刷 费度更小時，佶¢)7 丨fly # H Λ ^ 成周邊部的像素密度構成為較 ^印刷形成物内部的像素密度更小。 根據上述構成’可使印刷物之周邊部之像素 刷形成物之内部之像素密度更小，藉此，例如可使印^ 128686.doc -10- 200903055 從而不妨礙外觀 成物與黏著劑層之間之界面變得不顯眼 檢查。 又，作為上述本發明之較佳實施形態，於使印刷形成物 之周邊部的印刷密度形成為較該印刷形成物之内部的印刷 以更小時’使印刷物之周邊部的像素尺寸構成為較該印 刷形成物内部的像素尺寸更小。 根據上述構成’可使印刷物之周邊部之像素尺寸較該印 刷形成物之内部之像素尺寸更小，藉此，例如可使印刷形 成物舆黏著劑層之間之界面變得不顯眼，#而不妨礙外觀 又，料上述本發明之較佳實施㈣，較好的是藉由使 用含有螢光體之塗料將光軸資訊印刷至表面保護薄膜上而 形成光軸資訊。藉此，可使用紫外燈(黑燈)簡單地進行光 軸資訊之確認。螢光體係藉由紫外線照射而發光之物質， 對其並無特別限制，可為無機類4勿質亦可為有機類物質。 含有螢光體之塗料較好的是透明色。作為瑩光塗料用樹 脂，例如可使用聚甲基丙稀酸酿、乙烯基樹脂、醇酸樹脂 又，另一本發明之光學薄膜體之製造

/A 該：學薄膜體係於具有光軸之光學薄膜層上積層保護該光 :溥膜層表面之表面保護薄膜而形成者，該方法至少包 印刷步驟，將與上述光軸相關之光軸資訊印刷於上述表 面保護薄膜；以及 128686.doc 200903055 貼合步驟，於將上述印刷步驟中印刷有光軸資 2護薄膜與上述光學薄模層貼合時，以使該練f訊介於 表面保護薄膜與光學薄膜層之間之方式而進行貼合；且、 於上述印刷步财，使料刷之光軸f訊即印刷形成物 之周邊部的印刷密产开；# 刷密度更小。 元成為較上述印刷形成物之内部的印 5:述構成之作用效果如下。即，本發明之製造方法至少 二·印刷步驟，於表面保護薄臈上印刷與光軸相關之光 之表面保護薄膜與光學薄膜層貼合時，以使該光S二 於表面保護薄膜盥光學薄 貝ofl ;丨 , 、先干4膜層之間之方式來進行貼合。葬 此，先前在製造光學薄膜體 + 曰 面保嗜3 ^ <俊使用印5己、賀墨機等於表 /、44形成光軸資訊，因此作業效率非常差，而太 發明藉由將光軸資1箱止^ 吊差而本 肝尤軸貝δκ預先印刷至表面保護薄膜上 巾-改善作業效率。又’由於係 11 面保護薄膜上之構成，因此對於製貝κ預先印刷至表 之情形有效…作為印刷方光學薄媒體 r /去’藉由採用連續印屈丨j方4- (例如使用回轉輥狀之版進行連續印刷 ？方式 刷速度並降低製造成本。 J)’可提馬印 誤。又，尤盆你太f 、 丨除印把作業之人為失 〃’、1、p刷方法，藉由使印刷形成物之周、蠢A p刷密度形成為較該印刷形成物之内部之e 2邊4 小’從而使得藉由該製造方法所製造 y在度更 舆上述記載之光學薄膜體同樣之作用效^缚膜體可發揮 【實施方式】 I286S6.doc 200903055 以下’對於本發明之較佳實施形態，參照適當附圖進行 詳、說月。圖1表示光學薄膜體之一例。圖2表示光轴資訊 之實施形態例。圖3係對光軸資訊之印刷形成物之剖面形 狀進行說明之圖。 <光學薄膜體> 光學薄膜層’例如由具有光軸之偏光板、相位差板、該 等之積層體構成。圖1所示之光學薄膜體係由偏光板、於 5亥偏光板之一個面上設置之表面保護薄膜以及於偏光板之 另一個面上設置之隔離膜構成，上述偏光板由偏光元件及 於其兩面形成之偏光元件保護層構成。 表面保護薄膜，係於由塑膠薄膜構成之基材薄膜之一個 面上〃有輕剝離性之黏著劑層者，上述輕剝離性之黏著劑 層可剝離地貼合於偏光板之表面上。 子於表面保濩薄膜之基材薄膜，並無特別限制，例如可 使用I丙烯或聚酯等雙軸延伸薄膜。基材薄膜之厚 度雖無特別限制，但較好的是1G〜2GG μιη左右。

—對於構成介於表面保護薄膜與偏光元件保護層之間之黏 者賓丨！層之黏著劑，雖益4* y,l IJB ^ 雖無特別限制，但可以使用例如丙烯酸 糸 '合成橡膠系、播腴& Λ θ 橡4糸中之任意黏著劑。該等中較好的 疋根據組成而容易批制赴装+ 工制黏者力之丙烯酸系黏著劑。黏著劑 中，根據需要可谪冬枯 田使用父耳外劑、增黏劑、可塑劑、填充 劑=化劑、紫外線吸收劑、錢偶合劑等。於形成黏 =:，可藉由轉印法、直印法、共擠出法等，而於表 '…臈或偏光板上形成黏著劑層。對於黏著劑層之厚 128686.doc -13· 200903055 度（乾操膜厚）並無特別限制，通常為5〜5〇阳左右。 著構f介於偏光元件與偏光元件保護工層之間之接 著:丨：=至例如可使用由乙婦醇類聚合物構成之接 & >由韻或财、戊二醛、三聚氰胺、 聚合物之水溶性交聯剩構成之接著劑。 成 之接著劑層可作為水溶液之塗佈乾燥層等而形 f 加劑或酸等催化劑。 減而要而添加其他之添 光板之構成如圖1所示，於偏光元件之兩面設 执 件保護層。於偏光元件保護層之-個面上，可 '置钻：』層，並可進而設置保護該黏著劑層之隔離膜， =黏者d層用於在構成液晶顯示裝置之破璃基板上貼合 偏光板。 作為偏光元件，祐I姓e，丨 …、特別限制，可使用各種偏光元件。 作為偏光元件，可列叛·认取，β / 牛.於聚乙烯酵糸薄臈、部分曱縮醛 化聚乙烯醇系薄膜、乙烯·醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化 薄膜等之親水性高分子薄膜上，吸附有峨或雙色性染料之 又色1~生物貝後單向延伸而成者；聚乙烯醇之脫水處理物或 4氣乙細之脫鹽酸盧理私# ^g· ^ 文處理物荨聚烯系配向薄膜等。偏光元件 :厚度亦無特別限定，通常為約5〜80 _左右，但並不限 疋於此’ X ’關於調整偏光元件之厚度之方法，亦無特別 限定可使用拉幅器、㈣延伸或I^等常用之方法。 §亥等中’較好的是使用將聚乙烯醇系薄膜延伸後吸附、 配向有雙色性材料(碘、染料)之偏光元件。聚乙烯醇系薄 128686.doc -14. 200903055 =之染色、交聯、延伸之各處理並無必要分別進行，可同 %進订’ x，各處理之順序亦可為任意。又，作為聚乙烯 醇系薄臈，亦可使用實施有膨潤處理之聚乙烯醇系薄膜。 -般而言’將聚乙烯醇系薄膜浸潰於含有碘或雙色性色素 之溶液中，使薄膜吸附碘或雙色性色素而染色後進行洗 淨，再於含有硼酸或硼砂等之溶液中以3〜7倍之延伸倍率 進订單軸延伸，之後進行乾燥。於含有碘或雙色性色素之 /合液中延伸後’再於含有蝴酸或删砂之溶液中進一步延伸 (二級延伸），之後進行乾燥’藉此可提高蛾之配向且使偏 光度特性變好，因此尤佳。 作為上述聚乙烯醇系聚合物，例如可列舉於使醋酸乙婦 酯聚合後進行有皂化處理之材料、於醋酸乙烯酯中共聚有 少量之不飽和羧酸、不飽和磺酸、陽離子性單體等可共聚 之單體者等。I乙烯醇系聚合物之平均聚合度雖並無特別 限制而可使用任意聚合度者，但較好的是1〇〇〇以上更較 好的是2000〜5000。又，聚乙稀醇系聚合物之息化度較好 的是85 111〇1〇/。以上，更較好的是98〜1〇〇111()1〇/。。 對於設於偏光元件之單側或兩側之偏光元件保護膜，可 使用適當之透明薄膜。纟中，較好的是使用由透明性或機 械強度、熱狀性或水分遮蔽性等優異之聚合物構成之薄 膜。作為該聚合物，可列舉如三乙酸纖維素等樹 脂、聚碳酸醋系樹脂、料自旨、聚對苯二甲酸乙二醇酿等 ?“旨類樹脂，聚亞胺系樹脂、聚砜系樹脂、聚醚砜系樹 脂、聚苯乙稀系樹脂、$乙稀、聚丙烯等聚烯㈣樹脂， 128686.doc -15- 200903055 聚乙婦醇系树月曰、聚氯乙婦系樹脂' 聚降冰片稀系樹脂、 聚甲基丙烯酸甲酯系樹脂、液晶聚合物等。薄膜亦可為藉 由洗庄法、麼延法、擠出法中之任-方法而製造者。 又可列舉於曰本專利特開2001-343529號公報（WO 01/37007)中„己載之聚合物薄膜，例如包含⑷於側鏈上具 有取代及/或非取代亞胺基之熱固性樹脂以及（b)於側鏈I -有取代及/或非取代苯基及腈基之熱固性樹脂之樹月旨組 成物。作為具體例，可列舉含有由異丁烯及N_甲基馬來酸 肝縮亞胺構成之交替共聚物以及丙烯腈.苯乙稀共聚物之 樹脂組成物之薄膜。薄膜可使用由樹脂組成物之混合擠出 口口等構成之薄膜。該等薄膜之相位差較小，光彈性係數較 小，因此可消除因偏光板之變形造成之不均等問題，而且 由於透濕度較小，因此加濕耐久性優異。 又’偏光7L件保護層較好的是儘可能無著色。因此，較 好的是使用以Rth=[(nx+ny)/2_nz] . d(其中’ nx、ny為薄臈 平面内之主折射率’ nz為薄膜厚度方向之折射率，d為薄 膜厚度）表示之薄膜厚度方向之相位差值為_9〇 nm〜+75 nm 之保護薄膜。藉由使用該厚度方向之相位差值（Rth)為_9〇 nm +75 nm之保護薄膜’可大致消除由保護薄膜引起之偏 光板之著色（光學著色）。厚度方向相位差值（Rth)進而好的 是-80nm〜+60nm’尤其好的是_7〇nm〜+45nm。 從偏光特性及耐久性等方面而言，較好的是三乙酸纖維 素等醋酸酯系樹脂，尤其好的是將表面以鹼性物質進行有 皂化處理之三乙酸纖維素。 128686.doc -16- 200903055 偏光元件保護層之厚度可為任意值，但一般而言，為實 現偏光板之薄型化等而設為500 μιη以下，較好的是卜3〇〇 μιγ尤其好的是5〜2〇〇㈣。於在偏光薄膜之兩側設置透 明薄膜之偏光元件保護層之情形時，於其表裏可使用由不 同之聚合物構成之透明薄膜。 只要不損害本發明之目的’偏光元件保護層亦可為實施 有硬塗（hard coat)處理、ρ六；5身+/* «β + & 厂处埋防反射處理或者以防黏連、擴散 或防眩為目的之處理之材料。硬塗處理係為防止對偏光板 表面之劃傷等而實施者，例如可利用下述方式而形成， 即：於透明保護薄臈之表面上附加由聚矽氧系等適當之紫 外線硬化型樹脂形成之、硬度及滑性等優異之硬化皮膜。、 另一方面，防反射處理係為防止偏光板表面之外光反射 而實施者’可藉由現有之防反射膜之形成而達成。又，防 黏連係為防止與鄰接層之密著而實施者，防眩處理係為防 j外先於偏光板之表面反射而阻礙偏光板透過光之視認而 只施者’例如可藉由採用喷砂方式或塵紋加工方式之粗面 化方式或添加透明微粒等適當之方式，向透明保護薄膜表 面賦予微細凹凸構造而形成。 對於上述透明微粒，例如可列舉平均粒徑為mo _ 之一氧化石夕或氧化銘、惫介斜~v、长， 〃 乳化鈦或乳化錯、氧化錫或氧化 、氧化錦或氧化錦等，亦可使用具有導電性之無機系微 ，古又：亦可使用由交聯或未交聯之聚合物粒狀物等構成 之有機糸微粒。透明微粒之使用量—般為，每⑽重量份 之透明樹脂，使用2〜7G重量份之透明微粒，尤其好的是 128686.doc • 17· 200903055 5〜50重量份。 進而，作為添加透明微粒之防眩層，可作為透明保護層 自身而設置，或者可作為透明保護層表面上之塗佈層等而 設置。防眩層亦可兼作使偏光板透過光擴散而擴大視角之 擴散層(視角補償功能等）。再者’上述防反射層或防黏連 層、擴散層或防眩層等亦可作為由設置有該等層之薄片等 構成之光學層，而與透明保護層分開設置。 於形成介於隔離膜與偏光元件保護層之間之黏著劑層， 可使用丙烯酸系、合成橡膠系'橡膠系之各種黏著劑◦作 為隔離膜之構成材料，例如可列舉紙、聚乙烯聚丙烯、 聚對苯二曱酸乙二醇酯等合成樹脂薄膜等。為提高自黏著 劑層剝離之剝離性，亦可根據需要而於隔離膜之表面上實 她聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剥離處理。 <光軸資訊> 本發明之光軸資訊係與光學薄膜之光軸相關之資訊，只 要可判別光軸之方向性，則並無特別限制，如圖2所示， 可為二角（銳角方向指光軸方向）、箭頭（箭頭之方向指光軸 方向）、其他圖形、繪畫、文字等。於圖2中，為便於說 明，將二角與箭頭以虛線表示，但實際上光軸資訊並非可 作為虛線而目測到，於不妨礙高精度之缺陷檢查（例如檢 測80 μίΏ〜ι50 μΐΏ缺陷之檢查）之程度内，光軸資訊可自外 部視認。 又，光軸資訊於整個光學薄膜體上，可於特定位置形 成，亦可任意地形成，可根據製造者或使用者之適宜決定 128686.doc •18- 200903055 而設定其形成位置。於县 長條狀光學溥膜體之情形時， 實現產品化而最終切割成 ”·' 战特疋尺寸之方面考慮，較好的是 以即便是任意之切割位晋 ♦ 一 置仍了形成光軸資訊之方式，而將 光軸資訊形成於整個光學薄膜體上。 又’光軸資訊以介於砉 — ^ ^ 、表面保瘦溥膜與偏光元件保護層 (或者偏光板）之間之方式 飞而形成。並且，於形成有光軸資 訊之表面保護薄膜上形成 "成黏者劑層。尤其，如圖3所示， 所印刷之光軸資訊之印 . 形成物之剖面厚度形成為，越向 周邊端部其厚度越小（薄）於 、内°卩厚度。藉此，於黏著劑層 包圍先軸資訊之印刷形成 ,^ β 攻物時，使得印刷形成物之界面 (广高低差並不顯眼。進而，由於整個印刷形成物為 透明，因此可於不妨礙高精度之缺陷檢查(例如檢測8〇 叫韻陶缺陷之檢查）之程度内自外部視認出光轴資訊。 圖3令，作為印刷形成物之剖面形狀而列舉有剖面與 面，但不特別限定於該等剖面形狀，重要的是印刷 形，物之周邊端部之厚度形成為較其内部厚度更小，更好 的疋以使印刷形成物之印刷展声白向A m ^ 丨刎与度自内部向周邊端部漸減之 万式而形成印刷形成物。 夕r ㈣4而好的疋，於以使印刷形成物 物h 主予度自内部向周邊端部漸減之方式而形成印刷形成 才之十月形時，該逐步減少為直線或者曲線。再者，圖3中 不了沿者印刷形成物之縱橫中央線之剖面形狀，但其他 邛刀之0丨j面形狀亦同樣係以印刷厚产自肉i ,,^ , 丨子厪自内部向周邊端部漸 減之方式而形成。 作為光車由資訊之形成方法，如圖4所示。圖4所示之光軸 128686.doc 19- 200903055 二二之印刷形成物係作為像素（點）之集合而形成。圖*⑷ 系，角形狀之印刷形成物，其周邊部之像素（點）密度較其 内π更小。以此方式形成有時被稱為梯度形成或者梯度印 刷。又，圖4(b)係三角形狀之印刷形成物，其周邊部之像 =(點）尺寸較其内部更小m圖4⑷表示像素密 度於周邊部與内部相同之情形時之三角形狀印刷形成物。 又光車由貧訊較好的是使用透明塗料或者含榮光體之塗 料而形成於表面保護薄膜上，尤其理想的是含榮光體之塗 7 ”原口在於’使用含螢光體之塗料之情形時，藉由背 光燈照射便可簡單、可食 •j罪地進订視認。對於透明塗料或者 含螢光體之塗料並盔特另丨也 4 ‘、、、特別限制，可使用公知者，但就對黏 者劑之耐久性之觀點而言，較好的是選擇更適合者。 作為將光軸資訊形成於表面保護薄膜上之方法，並無特 別限制，可列舉gp q t 2 ' ”J舉印5己方式、噴墨方式、轉印方式、喷塗方 ，卩刷方4作為印刷方式，例如有凸版印刷方式、凹 版印刷方式、絲網印刷方彳 ,,, I利方式，尤其好的是可連續印刷之凸 版印刷方式或者凹版印刷方式。 L x 、又尤其好的是容易進行 上述之梯度形成、像素尺寸 J <又化^/成、像素密度之戀介 形成之凸版印财式或凹版印刷方式。 又’光軸資訊之印刷开4 Λ , , Ρ 成物之印刷厚度，較好的是較黏 者劑層之厚度更薄，例如，复 m由 /、厗度較好的是設為黏著劑層 厚度之0_1〇/〇至10%之範圍。為丨丄 Λ m 例如，於將黏著劑層之平均晟 度例如設為6 μηι之情形時，將 认 r將先軸貧訊之印刷形成物之平 句尽度设定為0.006 pm至〇 & 至0.6 μπ^之範圍。藉由將光軸資訊 128686.doc -20- 200903055 之印刷形成物之厚度設定為黏著劑層厚度之〇1%至ι〇%之 範圍’可使印刷形成物可靠地被黏著劑所包圍，因此較 佳。尤其印刷形成物之厚度形成為越向周邊端部其厚度越 薄於其内部’因此印刷形成物與黏著劑層之邊界部分不顯 眼’從而不妨礙外觀檢查。 <製造方法> 以下δ兄明本發明之長條狀光學薄膜體之製造方法之一 例。首先是⑷得到偏光元件之步驟。此處，將已實施有 染色、交聯及延伸處理之聚乙浠醇(p〇lyvinyi Α“。ι， PVA)缚膜乾燥而得到偏光元件。此處，延伸處理之延伸方 向與光轴方向一致。⑻製造偏光板之㈣。此處，㈣ 光兀件之兩面經由接著劑㈣合三乙酸纖維素⑽

Cellulose，TAC)薄膜而積層 、a堝九兀件保濩層，從而製造偏 光板。此處，於附圖中，對 α T f丨料於其上之TAC_預先實 施有防眩處理。 (C)利用與製造上述偏光

心少驟不同之製造線（亦可A 不同之製造場所），製造表 A 坯料連續送出並運輸，於复一 得賦 4难田八M L ，、個表面上例如以凸版印刷方 式使用含螢光體之塗料啖者 訊。 次者透明塗料而連續地形成光軸資 此處’重要的是作為所p P刷之光軸資訊之印刷形成物夕 周邊部之印刷密度形成為料成物之 乂通印刷幵> 成物之内部 + 度更小。例如，光軸資訊 P別费 ;表面保護薄膜上印刷成且右k 圖3所不之剖面形狀， 成/、有如 一 （a)(b)所示之像素密度構 128686.doc 200903055 成。 繼而，貼合形成有弱黏著劑層之制離 面保護薄膜。此時，以以j離4膜（或者紙）與表 M先軸貧訊與弱黏著劑岸介认立，+ 臈與表面保護薄膘之門之…t入 者氣於剥離薄 間之方式貼合併捲繞成輥狀。 ' 面保護薄膜之步驟。於偏井；^ $ 中為上側)上經由於偏光板之-個面(圖！ 於主 弱黏者劑而貼合表面保護薄膜。再者， 於表面保護薄膜上印 劑。-面自表 訊，進而塗佈弱黏著 f 合。於表面伴=護薄膜將剝離薄膜剝離-面與偏光板貼 上印刷塗佈之弱黏著劑與於表面保護薄膜 膜剝離1 “ 印刷形成物）’即便將表面保護薄 :#持破形成於表面保護薄膜上之狀態，實質 上不會轉印至TAC薄膜上。 負 ⑻貼合隔離臈之步驟。於偏光板之—個_ 側）上經由強黏著劑而貼 塗佈有隔離膜上預先 膜剝離後被轉印至布之強黏著劑，在將隔離 步驟（D)與（Ε)可同時進行，亦 可在步驟（D)之前進行步驟（E)。 ° ^/驟’製造長條狀之光學薄膜體。可於上述貼 = ^(D' E)之後切割成特定尺寸而得到特定尺寸之光學 ’亦可將長條狀之光學薄膜體捲繞成辕狀後於另外 之步驟中切割成特定尺寸。 ::以上製造方法，可獲得如下顯著效果：可高效率地 条狀之光學薄膜體，且與先前之製造方法相比可大 。乍業政率’降低製造設備之成本，降低人為失誤 128686.doc -22- 200903055 等 <其他實施形態> f 本發明之光學薄膜體，例如可列舉：對上述透明保護薄 膜（偏光元件保㈣膜）之未黏才妾有偏$元件之一面（未設置 上述接著劑塗佈層之面)上，實施硬塗處理、防反射：理 或者以防黏連'擴散或抗眩為目的之表面處理，或者積層 以視角補償等為目的之配向液晶層之方法。又，亦^ 舉··貼合有i層或2層以上之反射板或半透過板、相位差板 (包括1/2或1/4等波長板㈣））、視角補償薄膜等用於液晶 顯不裝置等之形成之光學薄膜之光學薄膜體。尤其，若光 學薄臈層為偏光板，則可較好地使用積層有反射板或半透 過反射板而形成之反射型偏光板或半透過型偏光板、積層 有=位差板而形成之#圓偏光板或圓偏光板、積層有視角 補，層或視角補償薄膜而形成之廣視角偏光板、或者積層 有免度提高薄膜而形成之偏光板。 、反射型偏光板係'於偏光板上設置有反射層者，可用於形 成使來自不見認側（顯示侧）之入射光反射而進行顯示之類型 之液晶顯示裝置等，並且可省略背光燈等光源之内置，從 而具有易於實現液晶顯示裝置之薄型化等優點。於形成反 射型偏光板時，可利用下述方式而進行1，根據需要經 由透明保層等而於偏光板之—面附設由金屬等構成之反 射層之方式等。 作為反射型偏光板之具體例，可列舉根據需要而於經消 光處理之透日月保護薄膜之—面上，附設由料反射性金屬 1286S6.doc -23- 200903055 構成之箱或蒸錄膜而形成有反射層者等。又，亦可列舉使 上述透明保護薄膜含有微粒而形成表面微細凹凸構造，從 而於其上具有微細凹凸構造之反射層者等。上述之微細凹 凸構造之反射層藉由漫反射而使入射光擴散，從而防止指 向性或外觀閃爍’具有可抑制明暗不均之優點等。又，含 有微粒之保護薄膜亦具有當入射光或其反射光透過其時可 藉由擴散而進-步抑制明暗不均之優點等。反映出透明保 濩薄膜之表面微細凹凸構造之微細凹凸構造反射層之形 成，例如可藉由下述方式而進行，即，利用真空蒸錢方 式、離子鍍方式、⑽方式等蒸鍍方式或者電鑛方式等適 當之方式而於透明保護層之表面上直接附設金屬。 對於反射板而言，可代替將其直接附設於上述偏光板之 透明保護薄膜(偏光元件保護層)上之方式，而使用於以該 透明薄膜為準之適當之薄膜上設置反射層而形成之反射片 等。再者，由於反射層通常由金屬構成，因此就防止因氧 化造成之反射率下降、進而長期維持初期反射率之觀點以 及避免另設保護層之觀點等而言，反射層之使用形態更好 的是’其反射面由透明保護薄膜或偏光板等包覆之狀態。 再者，於上述中，半透過型偏光板可藉由設為利用反射 層來使光反射且透過之半透反射鏡等半透過型反射層而獲 得。半透過型偏光板通常設於液晶單元之背面側，從而可 形成下述類型之液晶顯示裝置等，即：於相對較明亮之環 境令使用液晶顯示裳置等之情形時，使來自視認側:顯： 側）之入射光反射而顯示圖像，而於相對較暗之環境令， 128686.doc -24 - 200903055 使用内4⑨半透過型·光板之背面之I光燈等内置電源來 貝示圖像。即，半透過型偏光板於下述類型之液晶顯示裝 置等之形成中有用，即：於明亮之環境下可節約背光燈等 光源使用之能量，而於相對較暗之環境下亦可使用内置電 源來進行顯示。 、、在偏光板上進而積層相位差板而形成之橢圓偏光 板或圓偏光板進行說明。於將直線偏光改為橢圓偏光或圓

偏光，或者將橢圓偏光或圓偏光改為直線偏光，或者改變 :線偏光之偏光方向之情形時，可使用相位差板等。尤 〃乍為將直線偏光改為圓偏光或將圓偏光改為直線偏光 之相位差板’可使用所謂之1/4波長板（亦稱為^板）。μ 波長板（亦料λ/2板）料用於改變直線偏光之偏光方向之 情形時。 橢圓偏光板可有效地用於下述情形等，即補償（防止）超 = = msuperTwistedNematie，STN)型液晶顯示裝置因 液日日層之複折射而產生著 — 者色（藍或黃），從而進行上述盖 者色之白黑顯示。進而’控制好三維折射率者亦聊 (防止）自斜向觀察液晶顯示 貝 而較佳、。_光板例如可有效地用於對圖像為彩色顯示= 反射型液晶顯不裝置之圖像之色調進行調整 且亦具有防止反射之功能。 4而 作為光學薄臈層之其他例。可列舉相位差板。 差板，可列舉對高分子材料 為相位 成之複折射㈣膜、液以人^向或雙向延伸處理而形 曰來合物之配向薄膜、由薄膜支持 128686.doc -25. 200903055 液晶聚合物之配向層者等。延伸處 法、烀具皓柚土 ^ 』如了利用輥延伸 長間隙延伸法、拉幅器延伸法、管式延 行。延伸倍率於單向延伸之情形時，— 力又馬1 · 1〜3俾产 右。對相位差板之厚度亦無特別 。工 μηι，較好的是 20〜100 μπι β ζυυ 作：高分子材料，例如可列舉聚乙烯醇、聚乙烯醇缩丁 二：曱基乙稀謎、聚丙烯酸經乙醋、經乙基' Γ 丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酉 ， ^ ® ^ r 來方知、聚砜、聚 甲…㈣、聚萘二甲酸乙二醇酿、 …、聚苯鍵、聚稀丙基m稀醇、聚酿胺、二 亞胺、聚稀烴、聚氯乙烯、纖維素系聚合物或該等之1元 系、三元系各種共聚物、接枝共聚物、共混物等。該:Γ 分子材料可藉由延伸等而成為配向物（延伸薄膜卜Μ问 •作為液晶聚合物’例如可列舉於聚合物之主鏈或側鏈上 …賦予液晶配向性之共輛性之直線狀 〇neS〇gene)之主鏈型或側璉型之各種聚合物等。作為 型液晶聚合物之具體例，可列舉具有於賦予f曲性之 :域合有直線狀原子團之構造之聚合物，例如向列配向 性…系液晶性聚合物、圓盤狀聚合物或膽留醇型聚人 物等。作為側鏈型液晶聚合物之具體例，可列舉如下之化 將聚彻、聚丙烯酸_、聚曱基丙 作為主鏈骨架’作為側鏈，由共輛性之 原子團構成之間隔部而具有由賦予向列配向性之對位取代 環狀化合物單元構成之直線原子團部之化合物等。 128686.doc -26 - 200903055 晶聚合物例如藉由訂 璃板上之聚航^ 、 去進仃處理，即，在對形成於玻 後之材料^、钭j或聚乙烯醇等薄膜之表面進行摩擦處理 鋪展液晶性有氧切之材料等之配向處理面上， 相位差板二 液後進行熱處理。 適當之相位差者了為各種波長板或具有對應於使用目的之 著色或視角等：’例如用於補償由液晶層之複折射造成之 f 位差等光段姓可為積層2種以上之相位差板而使相 位差#切特性得到控制者。 ，夜補Γ薄膜係於自不垂直於晝面之稍傾斜之方向觀察 及日日顯不裝晉夕查 夕m^ 旦面之h形時亦可使圖像看起來比較清晰 二大視場角之薄膜。作為此種視角補償相位差 1 &於相位差板、液晶聚合物等之配向薄臈或透明 土支擇有液晶聚合物等配向層者等構成。作為通常之 相:差板’使用的是沿其面方向而實施有單向延伸之、具 有複折射之聚合物薄膜，與此㈣，作為用作視角補償薄 、 差板，可使用沿其面方向而實施有雙向延伸之具 有複折射之聚合物薄膜、或者沿其面方向進行單向延伸並 且沿其厚度方向亦進行延伸之可控制厚度方向之折射率並 具有複折射之聚合物或傾斜配向薄膜之類之雙向延伸薄膜 等。作為傾斜配向薄膜，例如可列舉於聚合物薄膜上接著 熱收縮薄膜後在因加熱引起之收縮力之作用下，對聚合物 薄膜進行有延伸處理或/及收縮處理者；使液晶聚合物傾 斜配向而成者等。作為相位差板之原材料聚合物，可使用 與先前之相位差板中說明之聚合物相同之聚合物，可使用 128686.doc -27- 200903055 防止基於由《晶單元造成之相位差而形成之視認角之變 斤引起之著色等或擴大良好視認之視角等為目的之適當 者。 a 就達成良好視έ忍之寬視場角之觀點等而言，較好的 疋使用由三乙酸纖維素薄膜支持有由液晶聚合物之配向 層、尤其圓盤狀液晶聚合物之傾斜配向層構成之光學異向 性層之光學補償相位差板。 字扁光板與冗度提尚薄膜貼合而成之偏光板，通常係設 於液阳早7L之背面側而使用。亮度提高薄膜係呈現下述特 性之薄膜，即’藉由液晶顯示裝置等之背光燈或來自背面 側之反射等’當有自S光人料，將特定偏光軸之直線偏 光或規定方向之圓偏光反射’而使其他光透過，因而將亮 度提阿薄膜與偏光板積層而成之偏光板可使來自背光燈等 2源之光入射而獲得特定偏光狀態之透過光，並且上述特 疋偏光狀態以外之光無法透過而被反Μ。對於由該亮度提 雨薄臈面所反射之光H經由設於其後側之反射層等來 使其反轉，使之再次入射至亮度提高薄膜，使其一部分或 王。卩作為特定偏光狀態之光透過，從而增加透過亮度提高 薄膜之光，並且向偏光元件供給難以吸收之偏光’從而增 大可用於液晶顯示之圖像顯示等中之光量，藉此提高亮 度即，於不使用壳度提高薄膜而利用背光燈等自液晶單 兀之背面側通過偏光元件而使光入射之情形時，具有與偏 光π件之偏光轴不一致之偏光方向之光基本上被偏光元件 所吸收’因而無法透過偏光元件。即，雖會因所使用之偏 128686.doc -28* 200903055 光凡件之特性而不同，但大約有50%之光會被偏光元件所 吸收，從而可用於液晶圖像顯示等中之光量將相應地減 少，從而導致圖像變暗。由於亮度提高薄膜反覆進行如下 操作，即，使具有可被偏光元件吸收之偏光方向之光不入 射至偏光元件，而使其由亮度提高薄膜暫時反射，進而經 由設於其後側之反射層等使其反轉，從而使之再次入射至 冗度提咼薄膜，如此，亮度提高薄膜僅使於該兩者間反 射、反轉之光之偏光方向變為可通過偏光元件之偏光方向 之偏光透過，並將上述光供給至偏光元件，因此可以於液 晶顯不裝置之圖像顯示中有效地使用背光燈等之光，從而 可使晝面明亮。 亦可於党度提高薄膜與上述反射層等之間設置擴散板。 由亮度提高薄膜所反射之偏光狀態之光朝向上述反射層 等’所設置之擴散板可使通過之光均勻地擴散，同時消除 偏光狀態而使之成為非偏光狀態。即，擴散板將偏光恢復 成原本之自然光。反覆進行如下操作，即，該非偏光狀 態，即自然光狀態之光朝向反射層等，經由反射層等被反 射後，再次通過擴散板而再次入射至亮度提高薄膜。如 此’藉由於壳度提高薄膜與上述反射層等之間設置使偏光 恢復成原本之自然光狀態之擴散板，可在維持顯示畫面之 亮度之同時，減少顯示晝面之亮度之不均，從而可提供均 勻並且明凴之晝面。藉由設置該擴散板，可適當增加初次 入射光之重複反射次數，並利用擴散板之擴散功能，可提 供均勻且明亮之顯示晝面。 128686.doc -29- 200903055 —作為上述之亮度提高薄膜，例如可使用：介電質之多層 薄膜或折射率異向性不同之薄膜之多層積層體之類之呈現 出使特定偏光轴之直線偏光透$而將其他光反射之特性 者、膽留醇型液晶聚合物之配向薄膜或於薄膜基材上支持 有該配向液晶層者之類之呈現出將左旋或右旋中之任一種 圓偏光反射而使其他光透過之特性者等適當者。 因此，於上述之使特定偏光軸之直線偏光透過之類型之 亮度提高薄財，使該透過光直接沿著與偏光轴—致之方 向入射至偏光板，藉此可在抑制由偏光板造成之吸收損失 之同時，使光有效地透過。另一方面，膽留醇型液晶層之 類之使圓偏光透過之類型之亮度提高薄膜中，雖可直接使 光入射至偏光元件，然而就抑制吸收損失之觀點而言，較 好的是經由相位差板而使該圓偏光直線偏光化後再入射至 偏光板上。再者’藉由使用1/4波長板作為該相位差板， 可將圓偏光轉換成直線偏光。 於可見光區域等較寬波長範圍中作為1/4波長板而發揮 作用之相位差板，例如可藉由下述方式而獲得，即：將相 對於波長550 nm之淺色光而發揮1/4波長板作用之相位差 板與呈現其他相位差特性之相位差層，例如發揮Μ波長 板作用之相位差層重疊。因此’配置於偏光板與亮度提高 /專膜之間之相位差板可由丨層或2層以上之相位差層構成。 再者’就膽㈣型液晶層而言’亦可設為將不同反射波 ，者組合而構成2層或3層以上重疊之配置構造，藉此可獲 得於可見光區域等較寬之波長範圍内反射圓偏光者，從而 128686.doc •30- 200903055 可藉由其而獲得較寬波長範圍之透過圓偏光。 又，本發明之光學薄膜體（例如偏光板）亦可為將上述偏 光分離型偏光板之類之偏光板與2層或3層以上之光學層積 層而成者。因此，亦可為將上述反射型偏光板或半透過型 偏光板與相位差板組合而成之反射型橢圓偏光板或半透過 型橢圓偏光板等。

於偏光板上積層有上述光學層之光學薄膜體，亦可藉由 於液晶顯示裝置等之製造過程中依次分別積層之方式=形 成，但預先積層而成光學薄膜體者在質量之穩定性或裝配 操作等方面優異，因此具有可改善液晶顯示裝置等之製造 步驟之優點。於積層時可使用黏著劑層等適宜之接著機 構。於接著上述偏光板與其他光學層時，其 據目標相位差特性等而設為適當之配置角度。^了根 於本發明之光學薄臈體（偏光板）或上述積層光學構件 中’亦可設置用以與液晶單元等其他構件接著之黏著層。 對於該黏著層並無特別限可使用@稀酸系等與先:相 同之適當之黏著劑而形成。就防止由吸濕造成之發泡現象 或^離現象、防止由熱膨脹差等造成之光學特性之降低或 液曰曰：兀之翹曲以及形成高質量且耐久性優異之圖像顯示 :置等方面考慮’較好的是吸濕率較低且耐熱性優異之黏 者層。又’可設為含有微粒而呈現出光擴散性之黏著層 等。黏接層根據需要而設置於所需之面上即可，例如，: 於由偏光元件及偏光S件保護層構成之偏光板而言，根棱 需要而於偏光it件保護層之單面或雙面上設置黏著層即 128686.doc -31 - 200903055 可。 _再者，本發明中，形成上述之偏光板之偏光元 疋件保口蒦層、光學薄膜層、或黏著層等各層，亦可為藉 例如用水揚酸醋系化合物或苯并苯紛系化合物、苯并二坐 系:化合物或氰基丙稀酸醋系化合物、鎳絡合鹽系化合：° 紫外線吸收劑進行處理之方式 能力之構件等。 Μ寺方式’而具有紫外線吸收 本發明之光學薄膜體較好的是適用於液晶顯示裝置 機EL顯示裝置、PDP等圖像 置)之形成中。 表置(相當於光學顯示裝 本發明之光學薄㈣較好的是使詩液晶 種裝置之形成等中。、、夜曰顧_ # 各 4中液日日顯不裝置之形成可按先前之方式 進盯。即，一般而言 晶單元“目〜丄 曰曰』不裝置可藉由適當地組合液 日日早疋（相當於光聲gg +苗^ 據兩I 凡）與偏光板或光學薄膜以及根 爆而聲而加入之昭明备姑站从， '、、’、、構成零件並裝入驅動電路等而 ^戚’在本發明中，略7 A m 之卢以外，* 、 本發明之偏光板或光學薄膜 曰Ϊ元而^、無特別限定’可按先前之方式進行。對於液 I:早一，例如可以使™、叫i等任意類 可形成在液晶星；+ 膜之液曰# —側或兩側配置有偏光板或光學薄 腰之液日日顯不裝置、 之f置^ 、“糸統中使用有背光燈或反射板 之忒置#之適當之液晶 .…、袁置。此時，本發明之偏光板 或先干相可②置於以單元之 或光學薄膜設置於A在丨士 乂田例田將偏先板 、兩側時’言亥等既可相同，亦可不同。進 128686.doc -32- 200903055 而’於形成液晶顯示裝置時’可於適當之位置上配置w 或2層以上之例如擴散板、防眩層、防反射膜、保護板γ 棱鏡陣列、透鏡陣列薄片、光擴散板、背光燈等適當之爱 件。 田7 本發明之光學薄膜體較好的是適用於液晶顯示裝置等各 «置之形成等中。液晶顯示裝置可形成為將本發明之光 學薄膜體配置於液晶單元之單側或雙側而成之透過型或反 射型、或者透過·反射兩用型之具有與先前相同之適當構 造之裝置。因此，形成液晶顯示裝置之液晶單元可為任 意，例如亦可使用以薄膜電晶體型為代表之單純矩陣驅動 型之液晶單元等適當類型之液晶單元。 又’於在液晶單元之兩側設置偏光板或光學構件之情形 時，其等既可為相同構件，亦可為不相構件。$而，於形 成液晶顯示裝置時，例如可於適當之位置上設置！層或2層 二上之稜鏡陣列薄片或透鏡陣列薄片、光擴散板或背光燈 等適當之零件。 本發明中，作為光學、策时a 4膜層，對偏光板之例進行了說 明，但本發明不僅限於此 作马先學薄膜，可應用偏光板 與相位差板之積層體’亦可僅應用相位差板。 <實施例> “例中’ m述製造方法（步驟a〜e)製造如圖1所示 偏光板之光學薄膜體，並 且切割成對角長度為6英吋之尺 寸。作為含榮光體之塗料’使用有冷光⑽咖“(大曰本 油土 A司製以）。δ又疋表面保護薄膜之厚度為叫、弱 128686.doc -33· 200903055 黏者層之平均厚度為6㈣，光軸資訊之印刷形成物之平均 旱度為0.01 μηι。如圖4(a)所示，步驟c中形成之光軸資飞 形狀之印㈣成物，其周邊部之像素密度構成為較 σ卩更小，並印刷成以特定間隔形成有若干個。光軸資 訊系整體上大致透明但可於外觀檢查中判別者， = 射背光燈而簡單地確認。 …、 <比較例> 由步驟C形成之光軸資訊係 ，除此以外，以與實施例相 之偏光板之光學薄膜體。

比較例中，如圖4(c)所示， Ρ刷形成物之像素密度相同者 同之製造方法’製造如圖1所示 <評價> 對,述實施例及比較例中得到之光學薄膜體進行缺陷檢 缺陷檢查藉由1〇名外觀檢查員檢查5個光學薄膜體 而進仃it匕日寸’光學薄膜體使用了下述薄膜體，即，以於 5個光學薄膜體中雔 、 〜Dt具有15個缺陷之方式，於光軸資訊 之印刷形成物之周邊邱 Π遺。卩附近隨機配置有缺陷。並且，並不 將光軸資訊之印刷形志私 ^成物之周邊部附近之缺陷總數告知檢 —貝’以比較檢測出缺陷 山六丨曰之概率。其結杲如表1所示。表1 中缺陷檢測率是指斜4五 、卩曰數之檢測概率，於實施例之檢測 之,U形時，10名檢杳昌入 π. / 一、王'^可檢測出光軸資訊下之1 5個缺 缺陷檢測率100〇/〇)， 匕漏檢率為0%。另一方面，比 較例中，漏檢了最多5個 主取少1個缺陷。 128686.doc 200903055 [表l] 實施例 比較例 檢查貝 缺陷檢測率 漏檢率 缺陷檢測率 漏檢率 1 100%(15 個） 0% 73%(11 個） 27% 2 100%(15 個） 0% 80%(12個） 20% 3 100%(15個） 0% 73%(11 個） 27% 4 100%(15 個） 0% 67%(10個） 33% 5 100%(15 個） 0% 87%(13個） 13% 6 100%(15 個） 0% 87%(13個） 13% 7 100%(15 個） 0% 73%(11 個） 27% 8 100%(15 個） 0% 93%(14 個） 7% 9 100%(15 個） 0% 87%(13 個） 13% 10 100%(15 個） 0% 80%(12個） 20% (檢查員由根據公司内部標準認定之合格檢查員者組成） 由以上實施例與比較例之結果可明確，實施例中，藉由 使光軸資訊之印刷形成物之周邊部之印刷密度（像素密度） 形成為較該印刷形成物之内部之印刷密度更小，從而能可 靠地檢查出缺陷，另一方面，比較例中，由於印刷形成物 之周邊部與内部之印刷密度形成為相同之印刷密度，因此 受到光軸資訊之影響而漏檢了缺陷。即，根據本發明之實 施例，可自外部可靠地視認光軸資訊，並且可於高精度之 缺陷檢查中可靠地檢測出缺陷。 【圖式簡單說明】 圖1(a)、（b)係光學薄膜體之說明圖。 128686.doc -35- 印刷形成物之剖面形狀之實施形態 200903055 (a)、（b)係光軸資訊之實施形態例之說明圖 圖3係光軸資訊之 之說明圖。 例 圖 4(a) 、 （b)、（ 几令先軸賢訊之印屈丨 明ISI 。 1咧 說明圖 形 成物 圖5(a) 、 （b)係先 次1則之光學薄骐 圖。 之像素密度之 體上 形成 之標記之說明 128686.doc -36 -

Claims (1)

1. 200903055 十、申請專利範圍： 1. 一種光學薄膜體，其特徵在於， 噠摇a L 尔於具有光軸之光學 溥膜層上積層保護該光學 . 干潯膜層表面之表面保護薄膜而 形成者，且藉由印刷而將 ^ ^ , -+- ^ I亢釉相關之光軸資訊形 成於上述表面保護薄膜時，使該印刷之 形成物之周邊部的印刷 貝δ P P刷 邱w — J在度开/成為較该印刷形成物之内 邛的印刷密度更小。 2. 如請求項1之光學薄膜體，苴 -嘉却AA c 八T使上述印刷形成物之周 邊。卩的印刷密度形成為較 .,,, 巧？又°哀印刷形成物之内部的印刷密 又更小％，使印刷物 1遭端彳之尽度構成為較該印刷 形成物之内部厚度更小。 1 W 3. 如請求項2之光學薄膜體，豆 jk、i声☆ ，、甲便上述印刷形成物之印 子又以自内部向周邊端部漸減之方式形成。 4. =求項3之光學薄臈體，其中上述印刷形成物之 拍形狀為山形形狀、梯形形狀或三角形狀。 、 5·如請求項3之光學薄獏體，苴中於蚀,+ , 印屈，丨戶# ^ /、中於使上述印刷形成物之 P刷厗度以自内部向周邊 ,^, 邊端部漸減之方式而形成印刷形 物盼，該漸減係直線或曲線。 巧邊^貞1之光子相體，其巾於使上述印刷形成物之 密度更小時，使印刷物之用柄沾“ 丨的印刷 Epffil 之周邊邻的像素密度構成為較哆 P刷形成物之内部的像素密度更小。 ° 7·=求項i之光學薄膜體，其中於使上述印 周邊部的印刷密度形成為較該印刷形成物之内部的印： 128686.doc 200903055 又更h時’使印刷物之周邊部的像素尺寸構成為較該 17刷形成物之内部的像素尺寸更小。 月求項1至7中4壬一項之光學薄膜體，其中以含有勞光 體之；ϋ料將上述光軸資訊印刷於上述表面保護薄膜。 9, 如請求们之光學薄膜體，其中上述光軸資訊係介於表 面保護薄膜與光學薄膜層之間。 10. 一種光學薄膜體之製造方法，其特徵在於，該光學薄膜 體係於具有光軸之光學薄膜層上積層保護該光學薄膜層 表面之表面保護薄膜而形成者，該方法至少包含： 印刷步驟，將與上述光軸相關之光軸資訊印刷於上述 表面保護薄膜；及 貼合步驟，於將上述印刷步驟中印刷有光軸資訊之表 面保護薄膜與上述光學薄膜層貼合時，使該光軸資訊介 於表面保護薄膜與光學薄膜層之間而進行貼合；且 於上述印刷步驟中’使該印刷之光軸資訊即印刷形成 物之周邊部的印刷密度形成為較該印刷形成物之内部的 印刷密度更小。 128686.doc