TW200824795A - Method for fabricating thin film-coated film - Google Patents

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200824795 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種製備經薄膜塗覆之膜之方法盆 =用將纔線以螺旋狀捲繞在轴（shaft)之外周的線圈 棒（codbar)來將塗佈液塗佈在三醋酸纖維素等支 表面，並使之乾燥後硬化，而在支持膜上形成_薄膜。、 【先前技術】 以往已製造出一種經薄膜塗覆之膜，係在支持 佈塗佈液（塗覆液），並使之乾燥後硬化，'而在 膜:L形成薄膜’且該薄膜具有各種功能。例如，在 ♦膜等支持膜上形成極薄的超薄膜，而可職予使支持 2表面反射率減少等各種功能。尤其當在大面積的支 佈塗佈液時’已知有滾筒塗佈— 去4作為生產性較高的方法。 緣六^該作用之裝置而；，已知—種例如以螺旋狀將纖 、“U ΐ在圓棒狀桿棒(rod)的塗佈用線棒(wire bar) 之照專利讀υ。將與前述各、狀頂點外接 維ΐ訂在7 μιη以下。接著，在由三醋酸纖 來塗備訾μ持膜上使用正圓度為7 μιη以下的線棒 塗佈1外線硬化顯餘成物並使其硬化，而形成25 二、硬塗膜（hard c〇at film) ’且在該硬塗膜上塗佈含 =錯分散物之組成物，並使其硬化，而形成濕膜厚 的抗反射膜。接著，在專利文獻1中已有記 均Θ塗佈液層進行幾乎沒有條狀或點狀塗佈斑紋的 (專利文獻1)日本專利特開第雇⑶749號公報（第 200824795 2頁、第3頁及第12頁） 然而，在專利文獻1中所記载的塗佈用線棒，係將 線棒的正圓度規定為一假設的圓，具體而言，該正圓度 係桿棒的正圓度及纜線的正圓度相加所得的值（專利文 獻1之弟17頁之第10圖中的試驗1至9)。接著，將桿 棒的正圓度設定為5 μιη以下，纜線的正圓度則設定為2 μιη以下。

但疋’正圓度係表示一與桿棒之旋轉軸呈正交之剖 面（圓）從正圓變形的指標。另一方面，桿棒除了會有 如上所述之從正圓變形的狀況之外，亦會有旋轉軸的偏 移。因此，僅界定相關正圓度，並無法使塗佈液的塗佈 斑紋（尤其疋帶狀斑故）消失。此外，縵線一般係藉由 拉線加工法製作成數千米至數萬米的長度，因此模具 (dies )、的磨耗會使其一端與另一端的直徑發生差異。 因此’塗佈塗佈液所形成之塗佈液層的膜厚度會發生鐵 化，而會產生膜厚度不均一的問題。 又 、本么明之目的在提供一種製備經薄膜塗 方法，其可在支持膜上形成不具帶狀斑紋膜声 一的薄膜。 儿腺7予度均 之 古ίΐΐΐ前述目的，本發明之製備以薄膜塗覆之腺 〜方法係包括下列步驟：以可轉動的方、 (16i，,中前述線圈棒（16)係將纔、線（35)以2 狀捲繞在軸(34)之外周而形成;將塗佈i (二， 線圈棒（16); _面單向搬送支持 ^供給 藉由刖述線圈棒將前述塗佈液塗佈在前述支細（1^ 6 200824795 的表面而形成=液層（27);將前述塗佈液層予以乾 爍及硬化，而士 ^述支持膜上形成薄膜（31);其特徵 為：前述轴的=為i至4〇 mm，前述轴的長度為綱 至3000 mm，前述纜線的直徑為1〇至2〇〇 _，前述轴 之圓筒度的上限叮為8μιη，前述、雙線兩端之直⑴、 D2)差的上限訂為2 μπι。 父23 =第！發明所述之製備以薄膜塗覆之膜 之方^其中别述纜線以固定或連續變化的纜線間隙捲 繞在前述轴上，形成具#_全長（Lc)的線圈（36)， 前述線圈全長當中之前述纔線間隙（地、娜、 上限係訂為2 μπι。 第3發明係如第i或第2發明所述之製備以薄膜塗 覆之膜之方法’其中前述薄膜的乾燥膜厚度為〇〇5至 20 μιη ° 參 ”第4發_如第丨至第3之任—發賴述之製備以 溥膜塗覆之膜之方法，其中前述薄膜係在惰性氣體環境 下對紫外線硬化性組成物照射紫外線、並使其硬化所形 成的膜，該薄膜的乾燥膜厚度為〇 〇5至〇.20111。 ' —第5發明係如第1至第4之任一發明所述之製備以 薄膜塗覆之膜之方法，其中前述塗佈液的黏度為1〇至 10 mPa.s。 (發明之效果） 根據本發明’可發揮如下所示之效果。 在第1發明之製備以薄膜塗覆之膜之方法中，由於 軸之圓筒度的上限訂為8 μη，因此軸之旋轉轴的預定寬 度會抑制軸的偏移，而消除塗佈液的斑紋。此外，由於 200824795 以螺旋狀捲繞之緵線兩端之直徑差的上 晴全長當中之纖線的直徑會均句地形成為:Π; 膜上均勻地㈣塗佈液。因此，可在 = 產生帶，喊、且膜厚度均—的薄膜。娱上I成不會 入且ti2發0狀製備以薄膜塗覆之膜之方法中，線圈 王長虽中之纜線距離⑽、38b、38c)的上限俜、’ 2 T因此除了第β明之效果以外，也可防止^= 2 發生由前述間隙所引起的條狀斑紋。 哥犋上

—在第3發明之製備以薄膜塗覆之膜之方法中， ，膜的乾㈣厚度為〇 Q5至2G μιη，因此可針對極薄^ 溥膜有效地發揮第i或第2發明之效果。 ^在第4發明之製備以薄膜塗覆之膜之方法中，薄膜 係在h性氣體環境下對紫外線硬化性組成物照射紫外 線、並使其硬化所形成的膜，該薄膜的乾燥膜厚度為〇.05 至〇·2 μιη。因此，除了第1至第3發明中任一項發明之 效果以外，可在更薄的薄膜當中，使聚合硬化反應速度 比自由基消失速度更快，而可獲得經充分硬化的薄膜。 在第5發明之製備以薄膜塗覆之膜之方法中，由於 塗佈液的黏度為1.〇至mPa.s，因此當將塗佈液塗佈 在支持膜上時，塗佈液不會發生起伏或起泡。藉此可防 止條狀斑紋發生。 i 【實施方式】 以下詳加說明本發明之最佳實施態樣。 第四圖係顯示本實施態樣中用以製備以薄膜塗覆 之膜之裝置的概略說明圖，第一圖係顯示在製備以薄膜 塗覆之膜之方法中所用之線圈棒塗佈裝置的剖面圖。如 200824795 第四圖所示’在捲出襄置！！之捲出滾輪 膜13，且透過複數個導引滾輪14予以 上捲％支持 置11的侧方位置（第四圖之左方位=在捲出裝 塗佈裝置15,前述支持膜13係經由導I線圈棒 予以塗佈塗佈液。 輪14达入而 如第一圖所示，線圈棒塗佈裝置15 人· 可轉動之線圈棒16的塗佈頭17;將塗備"、··具備 述線圈棒16的塗佈液供給部19 ;以及一⑽供給至韵 持膜I3、-面進行導引的導引滾輪14早向搬运支 圈棒16會連續地將塗佈液18塗佈在支持膣η 7之線 於前述塗佈頭17中，線圈棒16係可的自^ =支持在讀塊2G卿形成的 在塗佈液供給部19内’在侧壁上設有塗佈液供 ς、、22。在塗佈液供給部19内裝滿塗佈液18。杳ς 圈^供給部19内裝滿塗佈液18時，支持塊20 I之線 轉：16:改在塗佈液18，。接著隨著線圈棒16的 耗動，會一直將塗佈液18供給至線圈棒16的外周面 使浸在塗佈液18中的線圈棒16以一定的轉動速度 衫動，當使以一定速度單向搬送的支持膜13盘 ^接觸時，在支持膜13之進給方向的上 /予側调整球（upstream bead) 23，在下游側形成有下游 側调整球（downstream bead ) 24。透過該等調整球、 ^ ’將塗佈液18連續塗佈在支持膜13。在塗佈液供給 β 19的下方位置配置有塗佈液接收盤25，以接收由塗 佈液供給部19溢出的塗佈液18。貯留在塗佈液接收盤 25的塗佈液18係由排水管26排出。 1 如第四圖所示，於塗佈頭17中塗佈塗佈液18而形 200824795 3佈液層27的支制13係經由複數個料滾輪i4 引至乾燥裝置28 ’且在該處將支持膜13 予以乾燥。支持獏13係由乾燥裝置28通過 二二滾輪29。以與通過冷卻滾輪29上之支持膜13相 ^的方式來配設紫外㈣射裝置3〇。藉由由紫外線 30所照射的紫外線，塗佈液層27會硬化而形^薄 贈由薄膜31所塗覆的支持膜13即以薄膜塗覆^ 、’係透過複數個導引滾輪14而捲繞在捲繞裝 捲繞滾輪33上。 第二圖係顯示在前述線圈棒塗佈裝置15之 了 支持之義棒16的放大剖關。線圈棒16具備 見線35以螺旋狀緊密地纏繞在軸34的外 =36。當在線圈36保持有塗佈液18、而卜= ^移塗佈至在線圈36上所搬送的支持膜13時塗佈 =持膜13上的塗佈液層27的濕膜厚度係由轴34的 徑及纜線35的直徑所決定。因此，軸34的 度及、魏35的直徑係依目標之塗佈液層J的厚 二H定般^言，轴34的直徑設定為ι至麵， &的長度设定為300至3000 mm及缦線35的直徑設 之j^0至200 μΠ1。亚以該等構造為前提，來設定軸34 之®同度及纜線35兩端之直徑的差。 較佳Π至=之[=4限必須為8卿，其上限 34之「圓筒度測定方法瓜3.1」而沿著軸 5個测做5點測定所得之值的平均值。前述的 園（二=立於軸34之旋轉軸ΑΧ的纜線35捲繞範 %為軸有效範圍（與線圈長度LC相同））_央、 200824795 兩端、以及中央與兩端的中點。其中，轴34係圓柱， 但亦可為圓筒，「圓筒度」的用語係適用於圓柱及圓筒 兩者。 以下更進一步說明軸34之圓筒度。如第五圖所示， 當考慮軸34為小圓柱片34a、34b的集合體時，在極端 的情形下，假設在相鄰接之圓柱片3如及圓柱片341)之 間發生偏移，則該偏移量α相當於圓筒度。由於在轴34 發生偏移篁α’塗佈在其外周的塗佈液18會發生帶狀斑

紋，進而在薄膜31發生帶狀斑紋。因此，圓筒度與正 圓度不均一的概念是不同的。當軸34的圓筒度超過8 日守，會在薄膜31 (尤其是大面積的薄膜31)發生帶狀 斑紋、或者支持膜13兩端部分之薄膜31膜厚度不均一 的程度會變大。其中，圓筒度的上限為8师係指正圓 度的上限亦為8 μιπ。 雨述缓線35兩端之直徑差的上限必須為2 μιη，肩 ί限S為2至1卿。纜線35 一般係藉由拉線加工沒 I以衣作。所謂拉線加工法係指在模具（D預定直 是35空二的情況下，使直徑大於模具之孔編 過’而由數千米拉伸至數萬米的加工力 而慢慢變大。因此，如第六圖⑻所示，相以= 親線％之-端(拉線加工的起端)的直獲== =Γ5、之另一端(拉線加工之末端)二: I例如26 μηι)會變大。 第所不之繞線35捲繞在轴34之外周時，女 ί ^ Γ r係將較小直徑D1魏線35捲繞在線塵 棒16的4 ’而將較大直徑D2之規線35捲繞在線塵 11 200824795 T 16之另一端。此時，線圈棒16之一端的纜線間隙較 小，故保持在纜線間隙中之塗佈液18的量會變少，而 使膜厚度變薄。而在線圈棒16之另-端的鏡線間隙較 大故保持在纜線間隙中之塗佈液18的量會變多，而 使膜厚度變厚。因此，薄膜31之膜厚度會變得不均一。 此外，前述纜線35兩端之直徑差即是所捲繞之纜 線35兩端之各平均直徑的差值。該平均直徑的測定， 2切除纜線35之各端的一部分而得到與纜線35之長軸 _ 呈垂直的剖面，再藉由ISO/ER5460之正圓度測定方法 9·2·1進行。將藉由該測定所得之垂直於纜線35之長邊 耗的圓形剖面1週份的直徑加以平均，而計算出平均直 徑。當纜線35兩端之直徑差超過2 μιη時，在薄膜31 — (尤其是大面積之薄膜31)上會發生帶狀斑紋，或者支 持膜13兩端部分之薄膜31膜厚度不均一的程度會 大。 统線35係以一定的鏡線間隙或連續性變化的縵線 間隙來捲繞在軸3 4上，藉此形成具有線圈全長L c的線 _ 圈36。接著，由防止條狀斑紋的觀點來看，線圈全長 LC之線圈間隙的上限較佳為2 ，其上限為2至1 為更佳。前述線圈間隙係藉由以下方法予以測定。首$ 以雷射顯微鏡測定線圈36的表面形狀，沿著如第二固 所示之軸34的旋轉軸Αχ上的各個位置來描繪纜線& 的剖面曲線37。根據所得之剖面曲線37，求出3個 點之纜線間隙38a、38b及38〇。該測定係沿著軸34 旋轉軸ΑΧ上的5個地點來進行，將合計15個地點之 隙當中的最大值設為線圈棒16之纜線間隙的代表值曰 其中，有5個測定點係位於軸34之旋轉軸Αχ的車=有欵 12 200824795 範圍中央、兩端、以及中央與兩端的中點。 為了使鏡線間隙達到2 μπι以下，軸34之表面粗糙 度Ry (隶大南度，JISB0601-1994)的上限較佳為〇5 μπι。亦即，如第七圖所示，在軸34的外周面^存在複 數個微小的犬起39 ’但捲繞在軸34之外周的鏡線γ會 形成置於軸34之外周面的突起39的最高處，因此使用 了表示突起39之最大高度的Ry。其中，平均粗糙度Ra 係表示存在於軸34之外周面的突起39的平均粗糙度， 即使將Ra變小，也不會使纜線間隙變小。 線圈㈣之軸34及麟35的材質而言，係㊁= 不銹鋼為首的各種金屬，只要滿足強度需求，可使用任 何金屬。 接著，前述薄膜31係如前所述地將塗佈液18塗佈 在支持膜13的表面，並使之乾燥後硬化而形成，且薄 膜31係作為各種功能層。前述之功能層係列舉如易接 著層、抗反射層、硬塗層（hard coat layer)、抗靜電声、 抗糸外線層、防眩層、抗近紅外線層、電磁波遮蔽層等。 其中由於一般在大面積之以薄膜塗覆之膜中的帶曰狀斑 紋、以及在支持膜13兩端部分所塗佈之膜厚度不均一 的f月形車父為醒目，因此在前述功能層之中，抗反射層、 特別是最表面之低折射率層或易接著層因其 = 發揮而為較佳。 果合易 =述支持膜13係指包含薄片（sheet)在内的用語。 若，量產的觀點來看，支持膜13之較佳形狀係為膜。優 ^薄片。以構成支持膜13之材料而言，可列舉如聚對 苯二甲酸乙二酯（polyethylene terephthalate，pET )、聚 碳酸醋（p〇lycarbonate，Pc )、聚甲基丙埽酸甲= 13 200824795 (polymethyl methacrylate，PMMA )，三酷酸纖維素 (triacetyl cellulose，TAC)、聚烯烴、聚醯胺、聚氯乙 烯（polyvinyl chloride，PVC)等合成樹脂等。在前述材 料中，尤其聚對苯二曱酸乙二酯（PET)及三醋酸纖維 素（TAC)在成型容易性、取得容易性及成本方面為較 佳。 支持膜13的厚度以25至400 μπι為較佳，30至2〇〇 μηι為更佳。支持膜π中亦可含有各種添加劑。添加劑 可列舉如抗靜電劑、紫外線吸收劑、安定劑、可塑劑、 滑劑、阻燃劑等。 就作為功此層的前述硬塗層而言，只要可提升表面 硬度或擦傷性，可使用會用於硬塗層之週知的所有樹 脂，由電離放射線硬化型樹脂及金屬氧化物微粒子所^ 成者尤佳。此外，在未損及本發明之效果的範圍内，可 在電離放射線硬化型樹脂中另外添加其他成分。如上所 述之其他成分係列舉如聚合物、聚合起始劑、聚合抑制 釗、抗氧化劑、分散劑、界面活性劑、光安定劑及流平 劑（leveling agent)等添加劑。此外，於濕式塗覆法;， 要在成膜後會使其乾燥，可添加任意量的溶媒。 此外，作為功能層的易接著層係用以提高前述 膜13 (尤其是PET膜與前述硬塗層）之密接性j 只要可提高密接性，可適用具有任意折射率 ^ 劑作為接著劑。易接著層的膜厚度及折射率 膜13與硬塗層的折射率而選定最適值，但當^接著】 =厚ΐ未達5 nm時’由於難以保持支持膜13及硬i ^間的密接性’因此以5 nm以上為較佳。 以下説明作為功能層之抗反射層。 200824795 芦構H射單層構成W層構成。當為單 在硬塗層上形成—層折射率低於該硬塗層 態在硬塗…4射/二層構成時，則係以多層形 居上積宜折射率不同的層。藉由形 硬塗;率。具體而言’抗反射層係由 層形歲:=2率層及低折射率層構成的2 成的。形離〗f if、兩折射率層及低折射率層構 之效果的;形態等所構成。由抗反射 峰吝从η丄，木看係以3層以上的構成為較佳，若由 成為d本的觀點來看，則以單層構成或2層構 厚度、或外〜=千均母層之可見光波長相同的 厗度以下的厚度為較佳。 機材料層的材:斗並未特別限定，但可使用無 鋅、氧化鈦、氧化鈽ϋ材料而言，可列舉如氧化 氧化錯、氧化銦錫笨與r錫、氧化鋁、矽烷氧化物、 基之高折射ίi.60 i BO之硫醇基或笨 或高折射率層之材料早體或聚合物作為黏結劑（binder) 度為之微粒子的平均粒徑係以不大於層的厚 大於0.1 μιη日$ / 乂下為車父佳。當微粒子的平均粒經 層的光學功能二，產生散亂等情形而降低高折射率 各種偶合劑等來修。此外，可視需要而藉由 可列舉如經有機^ 子表面。如上所述之偶合劑係 代之矽化合物、含有鋁、鈦、鍅、銻 200824795 等之金屬烷氧化物的有機酸鹽等。此外，含有前述無機 材料之微粒子的高折射率層係可使用以往週知之有機 單體或聚合物作為濕式塗覆時的黏結劑。

以形成低折射率層的材料而言，係可使用例如中空 氧化矽、膠體氧化矽（colloidal silica )、氟化鑭（lanthanum fhioiide)、氟化鎂等無機微粒子、或有機聚合物微粒子、 或含氟有機化合物之單體或混合物作為黏結劑或低折 射率層的材料。此外，亦可使用未含有氟之有機化合物 (以下簡稱為非氟系有機化合物）的單體或混合物或聚 合物作為黏結劑樹脂。 前述無機微粒子的平均粒徑係以不大於低折射率 層的厚度為較佳，以〇·1 μπι以下尤佳。當平均粒徑大於 0·1 μπι時，由於會產生光的散亂等情形而降低低折射率 層的光學功能，因此並不理想。此外，可視需要而藉由 各種偶a劑專來修飾微粒子表面。如上所述之偶合劑係 可巧舉如經有機取代之矽化合物。尤其，利用（甲基） 丙烯基等反應性基來修飾表面，藉此可形成硬度較高的 犋。 一。則述之含氟有機化合物並未特別限定，可列舉如含 =官能j甲基）丙烯酸醋、含氟多官能（甲基）丙婦 ^伊康酸酯、含氟馬來酸醋、含氟石夕化合物等 點央/、聚合，等。在前述化合物之中，由反應性的觀 4. . ^以含氟（甲基）丙烯酸酯為較佳，若由硬度及 =率=來看’尤以含氟多官能（甲基）丙烯酸醋為 以等含氣有機化合物硬化，可形成低折射 上述含氟錢化合物之聚合物、或其他含氟有機化 200824795 合物之聚合物係可列墓— 聚物、或其與非心有機化合物之單聚物、共 梳型聚人物：：1展或雜環之聚合物、環狀聚合物、 者，其;舉如單:以i;,化合物可使用以往週知 氧一 CL了=4烯酸醋、四乙

損及太上月反射！中，除了上述化合物以外，在未 之盆#1、八、,it的㈣内含有其他成分亦無妨。前述 取1你、=特別限定，可列舉如無機或有機顏料、 S二1起始劑、光聚合起始劑、聚合抑制劑、抗 ^劑、》散劑、界面活性劑、光蚊劑、流平劑等添 。此外’只要是藉由濕式塗覆法在成膜後使其乾 燦’可添加任意量的溶媒。 取抗反射層係在成膜後，藉由電子射線等高能量線使 ^聚合硬彳t、或者在齡解型聚合絲劑絲聚合起始 劑存在下此之聚合硬化而得^。其巾細將已添加光聚 ^起始劑的紫外線硬化性組成物塗佈在基材表面，在氮 等惰性氣體環境下對所形成的被覆膜照射紫外線而使 其聚合硬化的方法為較佳。 前述光聚合起始劑只要是可藉由照射紫外線來使 之具有聚合起始能者即可。列舉如苯乙_ (acetophenone )糸聚合起始劑、安息香（benz〇in )系 聚合起始劑、二苯基酮（benzophenone)系聚合起始劑、 噻噸酮（thioxanthone)系聚合起始劑等，但並不限定於 此等光聚合起始劑。該等光聚合起始劑係可單獨使用， 或作為混合物使用。 光聚合起始劑的調配比例係以相對於塗佈液中之 17 200824795 固形分的0.1至20質量％為較佳。當光聚合起始劑的調 配比例未達0.1質量％時，聚合硬化會不完全，當超過 20質量％時，由於聚合硬化後之被覆膜的折射率會上 升，故較不理想。用在紫外線照射之紫外線燈的種類若 為一般所使用者，則無特別限定，使用例如低壓水銀 燈、尚壓水銀燈、超高壓水銀燈、金屬氫化物燈、氤燈 等。 且 以紫外線照射的條件而言，照射量以1〇ιη;以上為 較佳，100 mJ以上為更佳。照射量的上限係按照該類紫 外線照射中的慣常方法來決定。當照射線量少於1〇 mJ 時，則在聚合硬化後所得之被覆膜無法獲得充分的硬 度。此外，亦可在聚合硬化後另外藉由紫外線照射進行 後硬化。紫外線照射較佳係在氧濃度經調整後的環境下 進行’而氧濃度在聚合硬化時及後硬化時的任何情形 下，均可藉由喷吹氮、氬等惰性氣體等而抑制在1〇〇〇 ppm以下’從而獲得良好的聚合硬化性，故較為理想。 硬化後之抗反射層的膜厚度一般為〇.01至1〇 μπι，由抗反射的觀點來看，較佳為〇·05至〇·2 μιη。適 用於形成如上所述之膜厚度的薄膜的纜線直徑為1〇至 90 μιη，可根據作為目標的膜厚度與塗佈液的物性來選 擇隶適纟覽線直控。 接著說明作為功能層之近紅外線遮蔽層。 在近紅外線遮蔽層中係加入二亞胺鑌 (diimmonium )鹽或聚曱炔（polymethine )系、花青素 (cyanine )系、酜菁素（phthalocyanine )系、萘酜菁 (naphthalocyanine)系、二硫醇（dithiol)金屬錯鹽系、 萘職（naphthoquinone)系、蒽酿（anthroquinone)系、 18 200824795 一本甲烧系、胺鑌系（aminium)、二亞胺鑌系等色素作 為近紅外線遮蔽劑。在形成近紅外線遮蔽層時，係可使 用會使前述近紅外線吸收色素溶解或分散的聚（甲基） 丙烯酸烧酯等有機黏結劑來進行。

在該近紅外線遮蔽層中，係除了有機黏結劑以外， 在未抽及本發明之效果的範圍内亦可含有其他成分。前 ，之其他成分並未特別限定，可列舉如聚合抑制劑、抗 氧化劑、分散劑、界面活性劑、表面改質劑、光安定劑 等，加劑等，亦可另外添加任意溶媒。此外，近紅外線 ，蔽層的厚度係以2至2〇 μιη左右為較佳。近紅外線遮 蔽層的厚度未達2 時，由於難以充分呈現近紅外線 ^蔽功能，故較不理想。另—方面，#厚度超過20 μιη =，由於關於具有近紅外線遮蔽層的近紅外線遮蔽材會 產生耐彎曲性降低等問題，故較不理想。 m 著’/塗佈液18的塗佈方法並未限定在如抗反射 】又的超薄膜’亦可適用於前述硬塗層、近紅外線遮蔽 二防眩層、電波遮蔽層等之厚膜的塗佈。適於該等厚 又·至20 μηι)之塗佈的纔線35的直徑為45至2〇〇 Γ、高ίΓ乍為目標之膜厚度與塗佈液18的物性來選擇 35的直徑。此外’在塗佈液18中，為了印： :不二黏度凋整或塗佈後表面流平（levelinS )，只 要不^妨礙反應，亦可使其含有溶媒。 -的黏度’為了不會使其發生條狀斑紋， 以下又為較佳’在乾燥膜厚度為〇.2哗 下之超薄膜中，以！.〇至lOmPa.s為特佳。 合於以電ί:: 膜塗覆之膜係可適用在貼 包水』不面板（PDP)或平面CRT、液晶顯示畫 19 200824795 月 i 而禮〕道 i發射顯示器（FieidEmissi〇nDispiay，FED) 顯^器的表^發射顯4(sed)域表之平面電子

當說明本實施態樣之作用時’線圈棒16係藉由將 =線35以螺旋狀相互密接的方式捲繞在軸乂之外周而 此時轴34之圓筒度的上限訂為8μπι，纜線％兩 端之直徑差的上限訂為2 μιη。使用第四圖所示之具 得線圈棒16的塗佈裝置，將線圈棒16一邊浸在&為淹 佈液18之例如硬塗層用之塗佈液18一邊轉動，使作^ 支持膜13之二醋酸纖維素的膜接觸並通過線圈棒ΐ6， 藉此在三醋酸纖維素的膜上形成作為薄膜31的硬塗層。 此時，由於軸34之圓筒度的上限訂為8陣，因曰此 二抑制沿著軸34之旋轉軸Αχ所產生的偏移，而消除塗 !液18的斑紋。此外，由於以螺旋狀捲繞之麟35、兩 ^之直徑差的上限訂為2 μιη，因此纔線35全長當中之 f線35的直徑會均句地形成’而將塗佈液18均句塗佈 =持膜η上。該等作用相乘之後，薄膜31 贡狀斑紋，而且會形成均一的膜厚度。 土 效果以下彙總記載藉由以上之實施態樣所能夠發揮的 •在本^施態樣之製備以薄膜塗覆之膜之方法中， =34之BJ筒度的上限訂為8μιη，纟覽線35 ，不易㈣狀：二。二= #刀之薄膜31膜厚度不均一的程度變得較小。、… •由於線圈全長當中之纜線間隙的上限係訂為2 20 200824795 薄膜31發生條狀 μπι，因此可防止因前述纜線間隙而在 斑紋。 •由於薄膜31乾_厚度為 效果可在極薄的_ 31均到二^ ，別述之 •薄膜3丨係在惰性氣體環境的f揮。 而得之膜，其乾燥膜=·。成5 反應速度比自由基消失速4:::使聚合硬化 的薄膜31。 a更陕’而可獲得經充分硬化 •塗佈液料黏度為u^10mPa.s，藉此可防止 因厨述黏度過低時塗佈液18發生起伏、以及前述黏度 過商時塗佈液18發生起泡的情形，從而可防止在薄膜 31發生條狀斑紋。 實施例 以下列舉製造例、實施例及比較例，更加具體說明 前述實施態樣，但本發明並非限定於該等實施例。於各 例中，份係表示質量份。 (製造例1，硬塗層用塗佈液之製造） 將光聚合性胺基甲酸醋丙婦酸醋（urethane acrylates)(商品名「紫光UV7600B」，日本合成化學工 業（股）製）50份、二季戊四醇六丙烯酸酯 (dipentaerythritol hexaacrylate)(商品名：「DPHA」，曰 本化藥（股）製）20份、光聚合起始劑（商品名： 「IRG ACURE184」，汽巴精化(股）製）3份、異丙醇（IPA ) 30份加以混合，而得硬塗層用塗佈液。 21 200824795 (製造例2，改質中空氧化矽微粒子之製造） 在燒瓶中混合IPA分散中空石夕膠（siiica gei)(商品 名·「ELCOM NY-1001SIV」，平均粒徑60 nm，觸媒化 成（股）製）2000份、γ-丙烯醯氧基丙基三曱氧矽烷 (γ-acryloloxypropyltrimethoxysilane )(商品名： 「ΚΒΜ51〇3」，信越化學(股）製）7〇份、蒸餾水8〇份， 而得改質中空矽膠用塗佈液。之後，進行4小時加熱回 流（反應溫度：77°C )，而進行加水分解反應及縮合反 應。藉由該操作而得改質中空氧化矽微粒子（溶膠 (sol)) 〇 (製造例3，低折射率層用塗佈液之調製） 將 1，2, 9, 10·四丙烯醯氧基-4, 4, 5, 5, 6, 6, 7, 7-八 氟癸烷（l，2,9，10-tetraacryloloxy_4,4,5,5,6,6,7,7· octadecane) 50份、製造例2所記載之改質中空氧化矽 微粒子50份、聚醚改質聚二曱基矽氧烷系表面改質劑 (商品名：「BYK-302」，畢克化學曰本(股)(BYK-Chemie Japan)製）3份、光聚合起始劑（商品名：「IRGACURE 184」，汽巴精化(股）製）6份及異丙醇2000份加以混合， 而調製成低折射率層用塗佈液。 (製造例4，近紅外線遮蔽層用塗佈液之製造） 將作為近紅外線吸收色素的二亞胺鑌鹽〔雙{雙（三 氟曱磺醯基）亞胺酸} -N，N，N’，Ν’-肆{p-二（4, 4, 4-二氟丁基）胺基苯基} -ρ-伸苯基二亞胺鐵 ([bis {bis(trifluoromethanesulfonyl)imidic acid}-N，N，N’， 22 200824795 N’-tetrakis{p_di(4,4,4-trifluorobutyl)aminophenyl}-p-phenylenediimmonium)(商品名··「CIR-1085F」，日本卡 力特（股)(Japan Carlit Co·，Ltd·)製）5·0份、作為黏結劑 樹脂的丙烯醯系樹脂（三菱人造纖維（股）（Mitsubishi Rayon Co” Ltd.)製之製品名：「DIANAL BR-80」100 份、作為溶劑之曱基乙基酮450份及曱苯450份混合攪 拌而溶解，而調製成近紅外線遮蔽層用塗佈液。 (實施例1) 使用第四圖所示之製備以薄膜塗覆之膜的裝置，製 造出以薄膜塗覆之膜。以支持膜13而言，係使用寬1330 mm、厚80 μιη的三醋酸纖維素（TAc)膜（商品名·· 「KC8UY」，柯尼卡美能達精密光學公司（股）（K〇nica MinoltaOpto)製）。 將上述支持膜13安裝在捲出裝置u，一面以線速 度30 m/min搬送，一面利用幫浦使製造例i所記載之 硬塗層用塗佈液在線圈棒塗佈裝置15中進行循環，而 使線圈棒16以周速度3〇 m/min沿著支持膜13的搬送 方向轉動。在此，所使用的線圈棒16係將線徑6() μιη 的纜線35 (SUS304製，纜線兩端之直徑差15 μηι)捲 繞在直徑10mm的軸34(SUS304製，圓筒度8μπι)而 形成。繞線間隙為2 μιη以下。 —之後，使線圈棒16與搬送中的支持膜相接觸， 藉此塗佈硬塗層用塗佈液。接著，利用乾燥裝置以 溫度8G°C的熱風予以乾燥後，使时外線照射裝置3〇 (Fusion UV公司製，24〇w高壓水銀燈），對塗佈液層 27照射300 mj的紫外線，使硬塗層用塗佈液硬化，而 23 200824795 製成在表面形成有作為薄膜 下將其簡稱為HCVTAC膜）。 μιη 〇 31之硬塗層的TAC膜（以 此時之硬塗層的厚度為4.5

接著’將HCVTAC膜安裝在製備以薄膜塗覆之膜的 衣置的捲出衣置11，以線速度如搬送。在線圈 棒塗佈裝置15中利用幫浦使製造例3所記載之低折射 率層用，，液進行循環，而使線圈棒16以周速度30 m /mm石，支持膜13的搬送方向轉動。在此所使用的線 圈棒16/係將線徑45 μιη的纜線％ (SUS3〇4製，纜線兩 端之直，差I·9叩1)捲繞在直徑10 mm的軸34(SUS304 製，圓筒度7·5 μπχ)而形成。纜線間隙固定為1〇 。 —之後，使線圈棒16與搬送中的支持膜13相接觸， 藉此將低折射率層用塗佈液塗佈在HC_TAC膜上， 乾燥裝置28以溫度8(rc的熱風予以乾燥後，利用紫 線照射裝置3〇在氧濃度500 PP㈣氮氣環境下照射3〇〇 mJ的i外線使其硬化，利用捲繞裝置32捲繞， 反射TA—C膜:j：匕時之低折射率層厚度為〇1 _。于几 接著’藉由以下所示之方法，對塗佈面進行 查並測定低折射率層之膜厚度不均一的程 示於表1。 ，、…果顯 (塗佈面之目測檢查） 檢查用光源裝置(利用螢光燈及用以使螢:燈的 切除抗反射TA c膜，以膜背面的總寬度 進給方向以長度_ mm的矩形範圍大小貼合之 1.0%且具有黑色黏著層之PET膜的勒著層侧口 f過率 表面反射而m測檢查。目測檢查係在 你光在 从V术田本漁验番Γ別m狄___ 1 T使目測 散 24 200824795 的礼白色壓克力板構成者）的光以 範圍反射來進行。蕻叉耵月υι16〇的 猎由目測檢查，來計算帶狀斑紋（反

同、與支持膜13之搬送方向平行、且L ί =的帶狀斑紋)及條狀斑紋（反射色與周圍不 二狀二）之搬送方向平行且寬ο.1至LG mm的 條狀斑紋）的數目。 其目測檢查的範圍為支持膜13中央寬度為 1250

mm的關、以及沿著敎祕方向㈣黑色黏著ρΕτ 膜之長400 mm的矩形範圍。 (膜厚度之不均測定） 利用日本分光(股)製分光光度計v_57〇測定支持膜 13之兩端部分（距離端部50 mm的位置）的反射頻譜， 且求取最小反射率波長。抗反射膜之低折射率層的膜厚 度係與反射頻譜之最小反射率波長呈線性關係，因此將 最小反射率波長的不規則情形視為低折射率層之膜厚 度的不均一。 (實施例2、3、6、7及比較例1至4) 除了將實施例1中軸34之直徑、軸34之圓筒度、 纜線35兩端之直徑差及繞線間隙改變如表1所示以 外，如實施例1同樣地獲得抗反射TAC膜，之後對塗佈 面進行目測檢查並測定低折射率層之膜厚度不均一的 程度。其結果顯示於表1 ° 中軸34之圓筒度、纔線35之直徑、 (實施例4、5及比較例5) 除了將實施例 25 200824795 纜線35兩端之直徑差及纔線間隙改變如表1所示以 外，如實施例1同樣地獲得抗反射TAC膜。就所得之抗 反射TAC膜，對塗佈面進行目測檢查並測定低折射率層 之膜厚度不均一的程度。其結果顯示於表1。其中，在 此所使用之低折射率層用塗佈液係以使低折射率層之 膜厚度為0.1 μπι的方式來調整製造例3之異丙醇添加 量°

26 200824795

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SS 01 0·Ι 6Ί οο冢嫜駟 01 0·ϊ 6·Ι 9军鎵-ΰ 01 0·Ι 6·^-Η 卜冢銻s 200824795 如表1所示，將纜線35的 至3及比較例i2就的實施例1 34的圓筒度為8 _以下時，相比較，可知當軸 超過8 μιη時，則會發生帶 曰發生帶狀斑紋’當 為25叫的實施例線/5的直徑設 狀斑纹，各超i 下時，並不會發生帶 狀斑' 田^過8 μΠ1時’則會發生帶狀斑紋。 此外’㊂將實施例1至3及比較

二兩端，之低折射率層膜厚度不均一的程度= ¥可知’、齡35兩端之直徑差為2帅以下時，低折射 ^層膜厚度不均-的程度為2〇%以下，當超過2帅 則低折射率層膜厚度不均—的程度會超過2 〇%。 在此，低折射率層塗佈液層膜厚度不均一的程度 2.0%以下者較適於作為抗反射膜，其不均一程度&過 2.0%的抗反射膜可目測辨識出反射色的不同，而成為廣 義的帶狀斑紋，在實用上會造成問題。 …貝 此外，若在實施例1至3、實施例6、7中比較條狀 斑紋之發生量可知，纜線間隙為2 μπι以下時，並不會 發生條狀斑紋，但當超過2 μπι時，條狀斑紋的發生會 急遽變多。條狀斑紋和帶狀斑紋或低折射率層膜厚度^ 均一的程度不同，並非致命的缺陷，但還是以發生量較 少者為較佳。 乂 (實施例8及比較例6、7) 除了將實施例1中低折射率層塗佈液的黏度改變如 表1所示以外，如實施例1同樣地獲得抗反射TAC膜。 針對所得之抗反射TAC膜進行塗佈面之目測檢查並测 28 200824795 定低折射率層之膜厚度不均—的程度。其結果顯示 L。/、中’在此所使用之低折射率層用塗佈液的黎度係 糟由將製造例3之異丙醇2_份 = 行調整，實施例8係甲醇200份與2_謂18〇〇^^ 較例6係甲醇1950份與2·丁醇50份，比較例7係甲^ 70份與2-丁醇1930份。 ，表1所示’若將實施例i與比較例6就條狀斑 相比較可知，當低折射率層塗佈液的黏度為10时的 以上時’亚不會發生條狀斑紋，若低於10剛時 會發生條狀贼。此外’將實施例8與比較例7就條狀 斑紋相比較可知，當低折料層塗佈液的黏度為、ι〇 mPa，s以下時，並不會發生條狀斑紋，若超過i〇 mpa,s 時，則會發生條狀斑紋。 (實施例9) 除了使用作為支持膜13之寬133〇mm、厚1〇〇 μιη 的聚對苯二甲酸乙二酯（PET)膜（商品名γΗΒ3」，帝 • 人杜邦薄膜(股）（DuP〇nt Teijin Films)製）以外，如實 施例1同樣地獲得形成有硬塗層及低折射率層的抗反射 PET膜。此時之硬塗層厚度為4·7μιη，低折射率層厚度 為 〇 ·1 μιη。 接著，將抗反射PET膜安裝在製備以薄膜塗覆之膜 的裝置的捲出裝置11，以線速度3〇 m/min進行搬送。 此時，是以使塗佈面成為形成有硬塗層及低折射率層之 面的背面的方式將它安裝在捲出裝置n。在線圈棒塗佈 裝置15中利用幫浦使製造例4所記載之近紅外線遮斷 層用塗佈液進行循環，以周速度30m/min使線圈棒16 29 200824795 沿著支持膜13的搬送方向轉動。在此所使用的線圈棒 將線徑9〇μπι的纜線35 (SUS304製，纜線兩端之 直径差μιη)捲繞在直徑1〇 mm的軸34( SUS304製， 圓筒度3·〇μιη)而形成。纜線間隙固定為ι,2μπι。之後， 使線圈棒16與搬送中的支持膜13相接觸，藉此將近紅 外^遮蔽層用塗佈液塗佈在抗反射ΡΕΤ膜的背面，利用 乾燥裝置28以溫度12(TC的熱風使其乾燥，利用捲繞裝 置32捲繞，而獲得在其中一面形成有抗反射層、且在

面形成有近紅外線遮蔽層的抗反射•近紅外線遮蔽 複合PEJ膜。此時之近紅外線遮蔽層的厚度為12·0 μιη。 接著進行低折射率層塗佈面之目測檢查、低折射率 =膜厚度*均-的程度測定、近紅外線遮蔽層塗佈面 測f查及近紅外線遮蔽層之料度科—的程度 ，貝J疋，均為良好。 其中’本實_態亦可改變為如下所示而予以具體 界定円工 一干"π 像地進行圓筒度測 且 使轉;口加抑制薄膜31的帶狀斑紋形成 敕形成，而使膜厚度更加均勻。 速度等來抑整 更加均勻。 、、、^r斑紋形成，而使膜厚度 •以一下種記如載第藉 膜塗覆之膜之方丰甘發月中任—項所述之製備以薄 覆膜之方法，其特徵為前述轴的表面粗糖度^ 30 200824795 4Hr以下。此時，除了如申請專利範圍第1項至第 2μ=χζ—項之發顿果以外，亦謂觀_形成為 膜塗·F—^如第士1至第4發明中任—項所述之製備以薄 法’其特徵為前述繞線係藉由拉線加工 衣成。此枯，可使用以高精度予以控制之直徑 勻直徑或連續變化的直徑）的纜線。g 參 【圖式簡單說明】 第—圖係顯示本發明之較佳實施_ __ 塗佈裝置的概略圖。 中之線圈棒 ，二圖係顯示已捲繞纜線之軸的剖面圖。 =三圖係用以說明纜線間隙之線圈棒的放大圖。 以薄C示本發明之較佳實施態樣中用以製備 寻，塗覆之膜之裝置的概略圖。 =五圖係用以說明軸之圓筒度的說 弟圖（a)係以拉線加工法所制 圖’(以已捲繞第6圖⑷之境線線的正視 係的;二圖係顯示在軸之外周面的突起=間的關 16 17 18 19 20 線圈棒 塗佈頭 塗佈液 塗佈液供給部 支持塊 【主要元件符號說明】 ^捲出裝置 12捲出滾輪 13支持膜 H導引滾輪 15線圈棒塗佈裝置 31 200824795 21 V溝 22 塗佈液供給口 23 上游侧調整球 24 下游侧調整球 25 塗佈液接收盤 26排水管 27 塗佈液層 28 乾燥裝置 29 冷卻滾輪 • 30紫外線照射裝置 31薄膜 、 32 捲繞裝置 33 捲繞滾輪 34 軸 34a圓柱片 34b圓柱片 35 纜線 36 線圈 37 剖面曲線 38a纜線間隙 38b纜線間隙 38c纜線間隙 39 突起 AX旋轉軸 D1 纜線兩端之直徑 D2、纜線兩端之直徑 LC線圈全長 Ra 平均粗链度 Ry 表面粗纟造度 α 偏移量 L長度

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Claims (1)

1. 200824795 、申請專利範圍·· 種製備m錢謂之方法，純括下列步驟： =可轉動的方式支持線圈棒（16)，其中前述線 ，tt(16)係將鏡線（35)以螺旋狀捲繞在轴㈤ 之外周而形成； 將塗ϋ液（18)供給至前述線圈棒（16); 浃腺二，單向搬运支持膜（13)、一面藉由前述線圈 _ 佈在前述支持膜(13)的表面而形 成塗佈液層（27); 將前述塗佈液層予以乾燥及硬 膜上形成薄膜（31);其特徵為： 牡別、文行 至3〇1 述轴的直t為1至4〇_’前述轴的長度為300 至30⑼mm，珂述纜線的直徑為1〇至2〇〇 2. 端之度的上限訂為8 _，前述纔線兩 编之直徑㈤，差的上限訂為2μιη。 如：：專：，f!項所述之製備以薄膜塗覆之膜 == 纜定或連續變化的_ 隙（38a、38b、38c)捲繞在前述轴上 圈$長（LC)的線圈（36) ’前述線圈全長：中前 二纜線間隙⑽、通、38c)的上限係訂二以 =利;二=逑之製備，塗覆之 师。方法八中别述涛膜的乾燥膜厚度為⑽至別 利！圍中第1或2項所述之製細薄膜塗覆之 前述塗佈液為紫外線硬化性組成物，· 33 4· 200824795 前述塗佈液層的乾燥及硬化係包含：在惰性氣體 環境下對由前述紫外線硬化性組成物所構成的塗佈 液層照射紫外線，而使前述塗佈液層硬化；以及 前述薄膜的乾燥膜厚度為0.05至0.2 μπι。 5. 如申請專利範圍第1或2項所述之製備以薄膜塗覆之 膜之方法，其中前述塗佈液的黏度為1.0至10 mPa*s。 6. 如申請專利範圍第3項所述之製備以薄膜塗覆之膜 之方法，其中前述塗佈液的黏度為1.0至10 mPa*s。 7. 如申請專利範圍第4項所述之製備以薄膜塗覆之膜 • 之方法，其中前述塗佈液的黏度為1.0至10 mPa*s。 34