TW200823451A - Micropattern observation device and micropattern correction device using the same - Google Patents

Description

200823451 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 觀武Π明係有關於藉由透射光觀察微細圖案之微細圖案 観"'置及使用該裝置之微細圖案修正裝置 於用以觀窣名Ϊ 、六曰时- H關 ，、在LCD (液Qg顯示裝置）用彩色濾光片之製造

/驟中所發生缺陷之微細圖案觀察裝置及 '細圖案修正裝置。 /戒置之U 【先前技術】 细化隨者LCD (液晶顯示裝置）#大型化、高精 缺二亦隨之增加’因而難以無缺陷地製造㈣， 升良率，用以二 上所示之狀況下，為了提 生缺陷的… ⑶之彩色渡光片的製造步驟中所發 =_心_修正裝置在生產線上逐漸變為不可或 第u圖(a)至(c)係顯示在Lc 驟中所發生缺陷的示意圖 光片係包含：透….，、、弟U圖U)至⑹中，彩色濾、 的格子狀圖荦·複’形成在其表面之被稱為黑矩陣50 = (紅色)像素51、G(綠色)像素 發生：如第1 i圖u ^ 3_ °在彩色據光片之製造步驟中係會 白缺陷54;或如第不:像素或黑矩陣5〇的顏色消失的 或黑矩陣50超出所不，顏色與相鄰像素相混色， 、κ在像素的黑缺陷55 · ϋ楚η闰r 示’異物附著在像素的異物缺陷56 5等或如弟11圖（c)所

2075-9211-PF 5 200823451 « 以用以修正白缺陷54的方法而言’有一種方法係藉由 墨水塗佈機構’使與存在白缺陷54之像素相同顏色的墨水 附者在塗佈針的前端部，將已附著在塗佈針之前端部的墨 水塗佈在白缺陷54而進行修正（例如參照專利文獻！）。 此外’以修正黑缺陷55或異物缺陷的方法而言，有一 種方法係在+將缺陷部分予以雷射切割而形成矩形的白缺陷 、後藉由墨水塗佈機構，將已附著在塗佈針之前端部 L 佈在該白缺pg 54而進行修正（例如參照專利文獻 2) ° ^當對LCD之彩色濾光片的白缺陷54進行修正時，必須 觀’T、白缺54疋發生在彩色濾光片的哪一個顏色部分。而 且’在將修正墨水塗佈在白缺陷54而進行修正以後，為了 確認修正狀態，亦必須觀察該部分。在觀察彩色濾光片的 顏色日守；έτ以入射照明光觀察，由於並無法觀察彩色遽光 片的顏色狀態，因此必須進行透射照明光觀察。以往係將 形成有彩m片的被修正對象玻璃基板裝載於玻璃平 板’自玻璃平板下方照射透射照明光，且由玻璃平板上方 確認彩色濾光片的顏色狀態。 此外，最近液晶基板的大型化極為顯著，關於製造步 驟中的玻璃基板尺寸，目前製造線的玻璃基板尺寸（第5 世代）為1〇〇〇Xl5〇〇M、下—期之第6世代為l5〇〇xl__、 在第7世代則為！ 700χ2〇〇〇随。隨著如上所示之玻璃基板 的大型化，微細圖案修正裝置亦須大型化，但若以無塵室 (clean room )内的佔右而拉从日曰衫+ < 頁面積的關係來看.，並.不容許單純

2075-9211-PF 6 200823451 蟾 力大t =尺寸，因此必須變更裝置構成而儘量減小裝置尺 1伴ik該it形，玻璃基板為靜止、已裝載雷射裝置或 祭光學系統的頭部為移動的橋門台架（gantry )方式的筆 置已逐漸成為主流。 & 為了利用橋門台架方式實現透射照明光觀察，必須包 .括使配置在麵平板下方的透射照明光源與配置在破璃平 •板-方的觀察光學系統同步移動的機構。因此，無法將支 持構件配置在破璃平板之下，而僅可在周邊部支持玻璃平 警板，因此提高導致玻璃平板彎曲或玻璃平板破損的可能性。 ★因此’已提出-種方法係、在玻璃平板的背面侧形成反 射膜’且由玻璃平板的表面側出射照明光，使用由反射膜 予以反射的光而進行透射照明光觀察（例如參照專利文獻 3)。在該方法中’由於玻璃平板不需要使照明光透射，因 此可利用生屬製架台支持玻璃平板的背面整體，而使玻璃 平板彎曲或破損的可能性降低。 (專利文獻丨）日本專利特開平9-236933號公報 (專利文獻2)曰本專利特開平9-26252〇號公報 (專利文獻3)日本專利特開2〇〇6 —38825號公報 【發明内容】 (發明所欲解決的課題） 此外，在如上所示之微細圖案修正裝置中，係以省人 化、修正效率化為目的而謀求修正自動化，必須進行因晝 像處理所產生之缺陷的辨識、修正後的狀態觀察。 2075-9211-PF 7 200823451 但是，在習知的透射照明觀察方法中，有時會在觀察 畫像發生不均。亦即，在玻璃平板形成有複數個頂料銷孔， 俾以穿通當由機械手在修正裝置接收被修正對象玻璃基板 時f使用的複數個頂料銷（lifter pin)。此外，亦形成 $複數個溝槽或孔洞，俾以將被修正對象玻璃基板吸附固 定在玻璃平板。受到該等孔洞或溝槽的影響，依觀察位置 的不同，會在晝像發生若干不均句情形。該不均句情形係 由作業人貝觀看監視器而進行判斷有無缺陷等時可容許的 夂2 (1 evel) ’但在藉由晝像處理進行判斷時，則會有超 過容許水準而導致錯誤動作的問題。 口此’本發明之主要目的在提供可獲得均㈣察晝像 的也細圖案觀察裝置及使用該裝置之微細圖案修正裝置。 (用以解決課題的手段） 本明之微細圖案觀察步署 且用以觀察至少局部使光透射之微/^透:基板上，而 裝置，其特徵在於包括：用心：：的微細圖案觀察 統;將照明光出射至透明基板的=、=的觀察光學系 明基板的透明平板，透明平板:::成:::::支持透 向㈣的方式而設的複數個副透明平板。 月水千方 最好在各副透明平板設置複數個 段，使複數個副透明平板中經 ：明：包括驅動手 向移動，且使該副透明平板的孔 w最好㈣手段係使複數個料 ^ 副透明平板相對於其他副透 板中、〜擇的 相對下降，而在該副透

2075-9211-PF 8 200823451 明平板與透明基板之間空出間隙。 而且最好包括真空吸附手段.，其透過複數個副透明平 板中未經選擇的至少1個副透明平板的複數個孔洞吸附透 月基板’且將透明基板固定在該副透明平板。 而且最好包括氣料射手段，其透過複數個副透明平 ·=㈣擇的副透明平板的複數個孔洞，將氣體喷射在透 -板，且在該副透明平板與透明基板之間空出間隙。 側包括反射構件’其設在各副透明平板的背面 由光源所出射的照明光反射而照射在微細圖案， ==透::平板的表面側出射照明光，觀察光學系統 透明平板的表面側進行微細圖案之透射照明光觀 察光由副透明平板的一側出射照明光，觀 照:::察係“j透明平板的另-側進行微細圖案之透射 m而且’本發明之微細圖案修正裝置的特徵為包括：上 ?微細圖案觀察裝置^及將修正液塗佈在微細圖!之： 陷部的塗佈手段。 θ木之缺 (發明效果） 在本發明之微細圖案觀察裝置及微細料修正 中，透明平板係分割成複數個副透明平 /衣 係以可朝水平方向移動的方式設置 ’^副透明平板 的下方有副透明平板之頂料鎖孔等時，：可=察位置 明平板移動，而使頂料銷孔等.由觀察位置 直刀離。因此可獲 2075-921 l-pp 200823451 得均勻的觀察晝像 【實施方式】 第1圖係顯示本發明 置之整體構成的斜視圖實施形態之微細圖案修正襄 裳置中，係將雷射襄置！ ？1圖中，在該微細圖案修正 •及墨水塗佈機構4固定在z:察光學系、统2、環形照明器3 ’ 7 ^ , z軸平台5，Z軸平台5係以可朝 Z軸方向（上下方向）移動 朝 朝X轴方向（橫向）移動的方t置5係以可 轴平台6係以可朝Y轴方！式§又置在Χ軸平台6上。X 軸平台7上。 向（橫向）移動的方式設置在γ 在X軸平台6的下太< 士 板8的玻璃平板9 “叹有用以裝載被修正對象玻璃基 ., 玻璃平板9係分割成以各自可朝γ軸 方向移動的方式而設的2張副玻璃平板1〇、u。車 片的it置1係對被修正對象玻璃基板8上之彩色遽光 白缺陷，、二黑缺陷及異物缺陷照射雷射光而轉換成矩形 光而^ /戶斤塗佈之修正墨水中的不需要部分照射雷射 將所攝=除。觀察光學系統2係對缺陷部分進行攝像， 3係將：“象顯示於電視監視器（未圖示）。環形照明器 ^射在被修正對象玻璃基板8及玻璃平板9。墨水 4、構4係將修正墨水塗佈在被修正對象玻璃基板8上 心=光片的白缺陷。所塗佈的修正墨水係藉由紫外線 熱硬化未圖不）或齒素燈照明（未圖示）而予以光硬化或

2075-9211-PF 10 200823451 雷射裝置1、觀窣弁與έ „ n 德嫵媸4 7 先予統2、環形照明哭3及黑光泠 佈機構4係安裝在z軸平台5，大 乃时3及墨水塗 修正對象破璃基板8之上， 口此可M任意高度位在被 X軸平台6及Y軸平”且由於z軸平台5係載置於 璃基板8而朝X軸方…軸 及用以控 設t用以控制各機構的控制心腦（未;=移動。此外， 制叙置整體的主電腦（未圖示）。 接著說明該圖案修正裝置的動作

轴平△ 7八如细v a 便X轴平台6及Y 釉十口 7刀別朝X軸方向及 △ R i日7紅士 a # D私動，而且使Z軸平 口 5朝Z軸方向移動，藉由觀察 象玻璃基板8上進行攝傻。η κ< 2而對被修正對 行判斷有無攝仔旦像進 哭，你豐A。及- 所攝侍晝像係顯示於監視 -作業人貝係猎由目測來判斷有無遽光片缺陷。 而棘：Γ出存在遽光片缺陷時，係對缺陷部照射雷射光 :轉換成矩形白缺陷，藉由墨水塗佈機構4將修正墨水塗 佈在該白缺陷，且使其硬化。 / 2圖係顯示進行被修正對象玻璃基板8之透射照明 光觀察之方法的示意圖。於第2圖中，在該微細圖宰修正 裳置中，係在副玻璃平板1G、η的背面形成反射膜12， 並且藉由光纖對齒素燈光進行導光，且將作為該光之出射 端的環形照明器3配置在觀察光學系統2之接物鏡Μ的周 圍。由環形照明器3所出射的環狀光係會聚在接物鏡以之 光軸的1點。由環形照明器3所出射的環狀光係透過被修 正對象玻璃基板8的被觀察部的周邊區域及副玻璃平板

2075-9211-PF 11 200823451 10、11而在反射膜12予以反射，且透過副破璃平板1〇、 ::及被修正對象玻璃基板8的被觀察部而入射至接物鏡 13。藉此實現透射照明光觀察。 由此外，如第3圖所示，在副破璃平板1〇、11的各個副 玻璃平板係形成有溝槽14及小孔15，俾以吸附固定被修 正對象玻璃基板8’或喷出空氣而使被修正對象玻璃基板8 上斤。溝槽14係以既定間距設置複數個在副玻璃平板1〇、 的表面。小孔15係形成在各溝槽Π的底部，且以既定 设置複數個在溝槽14的長度方向。在第3圖中係顯干 鏡13位在副玻璃平板10或η之小孔心正上方的 璃二以圖案觀察裝置，係可在背面整體支持副玻 0、11的各個副玻璃平板，因此可將副 10、11分別裝載在γ軸平台16、17。 ⑴在Υ轴平α 16、17係在與副玻璃平板10、11的小孔 15相對應的位置形成 周圍係形成有環狀凹部，:在^氣孔之上側開口部的 18。與複數個小孔15相對岸嵌設有環狀橡膠概塾 16或17内相連通。在:數:: 孔係在Υ軸平台 側開口部係接合有空氣:Γ:9中的1個排氣孔的下 氣軟管20的一端。在、’广妾頭19係連接於空 二氣車人官2 0的另一端传葬由雷法Μ 而選擇性地連接於直+ 为知係猎由電磁閥 圖示）。 ”二泵（未圖示）或空氣供給裝置（未 在如上所示的愔拟 Y軸平台16或17，开此下^由於亦可將空氣接頭19安裝在 此副玻璃平板10、11背面的反射膜

2075-9211-PF 12 200823451 1 2係僅漏掉小孔1 $ 5的4分，由環形照明器3出射的光係 ^ J孔^ 5周圍予以反射’而可確保在觀察透射照明光時充 分的光量。但县太金你人 一 旦像㈢因小孔15與溝槽14而發生若干 氣體供給管材32妓。兮a 卞 材32、、文该氣體供給管材32紋若由作孝 以目測觀察並不合右η % y θ ^ 貝 錯誤動作的原因。 了曰办成 此外，如第4圖所+，+ - ί丄士 口所不在副玻璃平板10、11形成有Tf 料銷孔22，俾以穿读田，、，士 〜风虿頂 ^ 牙透用以在將被修正對象玻璃基板8進行 搬入搬出時谁4子卜與 仃上牛之上舉機構的頂料銷21。頂 及竭孔22係以既定間距設置複數個。在第4圖中係顯 鏡U位於頂料銷孔22之正上方的狀態。在該微二 置中雖在心璃平板1G、U的背面設有反射 =但疋在頂料鎖孔22的部分並無法形成反射膜12。 …無法充分反射由環形照明器3出射的光。因 LED照明光源23配置在頂料銷21的 、 的前端部朝向上方照射光。藉此 員枓銷21 右八M止曰 』馒传嬈察透射照明光時 充刀的先置。但是，在晝像會因頂料鎖孔22而發 體供給官材32紋。該氣體供給管材&紋若由 :、

目測觀察並不會有問題，但是在進 八貝X 誤動作的原因。 進订旦像處理時會形成錯 因此’在该微細圖案修正裝置中，# y 弟5圖（a)戶斤+， 係將玻璃平板g分割成2個副玻璃 ’、 χ Λ Α 双1 υ、11。副玻璁求 板1 0、11的各個副玻璃平板係以可朝 式設置。在副玻璃平㈣在圖中的上方向移動的方 而砟及左端部與副玻

2075-9211-PF 13 200823451 璃平板1G在圖中的左端部合計形成有3個缺口部μ，在 各缺口部24的中心立設有定位銷25。被 ,c 〇 U正對象玻璃基 板8係將其上邊與左邊抵接於3支定 又疋位鈉25而裝載在副玻 离平板10、11，且予以吸附固定。 在被修正對象玻璃基板8的左上角與右下角係分別抓 有對準標記10、M2。藉由觀察光學系統2物標記/ M2進行攝像，根據該攝像結果，對χ軸平台6及γ轴平台 7的座標系統進行補正。藉此可根據來自前段之檢查裝置 之缺陷：位置資料，使觀察光學系統2等移動至缺陷位置。 如第5圖（a)所示，當作為觀窣夯學糸 R 子糸統2之焦點的觀 二置p位於頂料銷孔22的上端部時，由於會發生書像不 均，因此如第5圖⑻所示，僅使副玻璃平板U朝圖中的 下方向移動而使頂料銷孔22由觀察 銳$位置p分離。藉此可使 畫像不均消失。 弟6圖U)至（e)係例示使副玻璃平板1Q、η移動的方 法的示意圖。如第6圖⑷所示，副玻璃平板10、心 別裂載於Y軸平台16、17。Y軸平a 1Γ7 / Y早由十台16、17係按照來自主 腦的控制訊號’沿著軌道26而朝Y方向移動。如第5圖 ㈦所示，當副玻璃平板㈣近副玻璃平板1()時，如第6 圖（b)所示，係使γ軸平台17朝 .^ 切1孕由十台1 6移動。此時， 如第6圖（c)所示，透過副玻璃早杈 、叫敬喁十板1〇的小孔15，將被修 正對象玻璃基板8真空吸附，而政 m ^ 一 附而將被修正對象玻璃基板8 口疋在副玻璃平板1 〇。藉此姑欠 猎此被修正對象玻璃基板8的位 置不會改變，相對於被修正對象 ^主对象破璃基板8 •之副玻璃平板

2075-9211-PF 14 200823451 Π之頂料鎖孔22的位置會改變，而消除晝像不均。 其中，如第δ圖Cd)所示，透過所移動之副坡璃平板 11的小孔1 5，對被修正對象玻璃基板8噴出空_ 礼，在副玻 瑀平板11與被修正對象玻璃基板8之間間隔微小間隙，藉 此可防止在被修正對象玻璃基板8造成損傷。 曰 此外，如第6圖（e)所示，分別以Yz軸平台2?、置 換Υ軸平台16、π，使所移動的副玻璃平板 士一 Ϊ丄·V * I牛’而 在副《平板11與被修正對象玻璃基板8之間間隔微小間 隙’藉此可確實防止在被修正對象玻璃基板8造成損傷。 此時’透過所移動之副玻璃平板η的小孔15，對被^正 對象玻璃基板8噴出既定壓力的空氣，藉此可防止被修正 對象玻璃基板8發生彎曲。

第7圖係例示將被修正對象玻璃基板8吸附在副破璃 平板10、11之真空吸附手段的方塊圖。於第7圖中，真空 吸附手段係包含真空泵別及電磁閥3卜32。真空泵_ 吸入口係透過電磁關而與副玻璃平板1Q的小孔Η群相 連接’並且透過電磁閥32而舆副玻璃平板的小孔^群 相連接。若打開電磁閥3丨、32 ,〇 W之雙方，被修正對象玻璃基 係吸附固定在副破璃平板1〇、u之雙方。若僅打開電 磁間31，被修正對象破璃基板8係僅吸附以在副玻璃平 板10:若们丁開電磁閥32，被修正對象玻璃基板8係僅吸 付口疋在4玻璃平板！ j。若關閉電磁闕^^之雙方， 被修正對象玻職板8並未„固定在副詞平板i〇、u。 弟8圖係例示透過副破璃平板ι〇、η而將空氣喷出至.

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被修正對象玻璃基8之空氣喷出手段的方塊圖。於第8 圖令’空氣噴出手段係包含空氣供給裝置Μ及電 I空氣供給|置33的供給口係透過電磁閥^盘副玻 璃平板10的小孔15群相連接，並且透過電磁間35而盘副 玻璃平板η的小孔15群相連接。朴開電磁閥34、35之 雙方’被修正對象玻璃基板8會上浮，而在被修正對象玻 璃基板8與副破璃平板1G、U之間形成間隙。若僅打開電 磁閥34’被修正對象玻璃基板8會-曲，而在被修正對象 破璃基板8與副玻璃平板1G之間形成間隙。若僅打開電磁 崎35被修正對象玻璃基板8會彎曲，而在被修正對象玻 璃基板8與田J玻璃平板j J之間形成間隙。若關閉電磁闊 之又方在被修正對象玻璃基板8與副玻璃平板1 〇、 11之間並未形成間隙。 、=9圖（a)(b)係顯示本實施形態之比較例的示意圖， 為與第5圖（a)(b)相對比的圖。參照第9圖⑷㈤，該比 較=與實施形態不同之處在於以i張玻璃平板36來置換2 張d玻璃平板10、11，且以可移動的方式設置3個定位銷 第9圖（a)所示’當觀察位置p位於頂料銷孔2 2的 上2部時，由於會發生畫像不均，如第9圖（1))所示，使3 。 •肖2 5被修正對象玻璃基板8及觀察光學系統2朝 圖中的上方向移動而使觀察位置P由頂料銷孔22分離。藉 此可使畫像不均消失。 但疋’在本比較例中’由於係使3個定位銷、被修

2075-9211-PF 16 200823451 正對象玻璃基板8及觀察光學系統2相對於玻璃平板36移 動，因此必須再度進行對準動作，亦即必須進行對準標= Ml、M2之攝像及平台6、7之座標系統的補正。此外，為 了使被修正對象麵基板8移動，必須暫時解除對玻璃; 板3 6 '附，在再吸附時會耗費時間。此外，當必須防止對 基板8 $面造成損傷時，係由玻璃平板％的整面進行★氣 噴射而使被修正對象玻璃基板8上浮，而更加需要時；： 因此，在本比較例+，由於必須進行對準動作，及必須在 基板8整面進行再吸附，因此與本實施形態相比較，修正 、，在本實施形態中，係將玻璃平板9分割成2張副玻璃 平板1〇、1卜當觀察位置P位於頂料銷孔22或溝槽14或 小孔15的上部時’係可使副玻璃平板1G或11移動，而使 頁料銷孔22或溝槽22或小孔i 5自觀察位置p退避。因此， 了獲付均句的觀察晝像，而可進行畫像處理之自動修正。 此外，由於在利用副玻璃平板1〇、11中的-方副玻璃 平板將被修正對象玻璃基板Μ以固定的狀態下使另一方 =田1】玻璃平板移動，因此在副玻璃平板移動後，亦不需進 行對準動作，而可短縮修正時間。 此外，由所移動之副玻璃平板的各小孔15噴射空氣， ==?反與被修正對象玻璃基板8之間間隔間隙 、^ 八私動，藉此可防止在被修正對象玻璃基板8 :背面造成損傷。此外’藉由使所移動之副玻璃平板下降 移動’可更加確實防止對被修正對象破璃基板8的背面造

2075-9211-PF 17 200823451 成損傷。 此外，隨著玻璃平板9的大型化，使玻璃平板9之加 ^生或衣載於裝置時的處理性惡化，但藉由將玻璃平板^ 为副成2張副破璃平板丨〇、丨丨而予以小型化，可改善玻璃 平板9之加工性及處理性。 其中，在本實施形態中，係就將玻璃平板9分割成2 張副玻璃平板10、11的情形加以說明’亦可將玻璃平板9 分割成3張以上之副玻璃平板。

此外，由於將玻璃平板9分割成2張副玻璃平板1〇、 1_1 ’因此減輕玻璃平板9彎曲的影響。因此，如第W圖所 不，亦可使用將副玻璃平板10、n背面的反射膜12去除， 而由副玻璃平W〇、u的下方出射照明光的方式。副玻璃 平板10、11係分別裝載於邊框狀的Y轴平台2?、 外’= 破璃平U、U下方的聚光透鏡37朝向接物鏡 而:射照明光。聚光透鏡37係透過光纖而與光源相連 接田接物鏡1 3移動時，聚光透浐q 7在矽& 13相對向的位置。 先透鏡37係私動至舆接物鏡 式本實施形態中，係以可朝”由方向移動的方 …11，但亦可以朝χ軸方向移動的方 本」:广朝Χ轴及Υ軸之雙向移動的方式設置。 有所:制者… 干，而Π 圍係藉由申請專利範圍予以揭 不而非稭由上述說明予以揠千工入 乂揭 圍均等的涵義及範圍内之所有變更。3有與申請專利範 2075-92 ll-pp 18 200823451 【圖式間單說明】 弟1圖係顯示本發明之 — 置之整體構成的斜視圖。一貫施形態之微細圖案修正裝 第2圖係顯示進行第 一 之透射照明光觀察之方 图斤示之被修正對象玻璃基板 斤Q ，、 忐的示意圖。 弟3圖係顯示在第 及小孔時的示意圖。_所示接物鏡的正下方具有溝槽 第4圖係顯示在第 逖了丨# & 圖所示接物鏡的正下方且右頂袓 銷孔時的示意圖。 卜万具有頂枓 1圖所示副玻璃平板之使用方 第5圖（a)(b)係顯示第 法的不意圖。 之』二2),係例示第5圖(a)(b)所示副玻璃平板 之驅動方法的示意圖。 第圖係例不將被修正對象玻璃基板吸附在第6圖“） 至（e)所示副玻璃平板之方法的示意圖。 第8圖係例不使被修正對象玻璃基板由第6圖（a)至（e) 所示副玻璃平板上浮的方法的示意圖。 第9圖（a)(b)係顯示本實施形態之比較例圖。 第1 〇圖係顯示本實施形態之變更例圖。 第11圖（a)至（C)係顯示在LCD之彩色濾光片所發生之 缺陷的示意圖。 主要元件符號說明】 1 雷射裝置

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2 觀察光學系統 3 環形照明器 4 墨水塗佈機構 5 Z轴平台 6 X軸平台 7^16^ 17 Y軸平台 8 被修正對象玻璃基板 9 > 36 玻璃平板 10 ^ 11 副玻璃平板 12 反射膜 13 接物鏡 14 溝槽 15 小孔 18 橡膠襯墊 19 空氣接頭 20 空氣軟管 21 頂料銷 22 頂料銷孔 23 LED照明光源 24 缺口部 25 定位銷 26 轨道 27 > 28 YZ軸平台 30 真空泵

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3卜 32 > 3 4、3 5 電磁 33 空氣供給裝置 37 聚光透鏡 50 黑矩陣 51 R像素 52 G像素 53 B像素 54 白缺陷 55 黑缺陷 56 異物缺陷 Ml > M2 對準標記 P 觀察位置

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Claims (1)

1. 200823451 十、申請專利範圍·· 種微細圖案觀察裝置，形成在透明基板上，而且 °β务至少局部使光透射之微細圖案， 其特徵在於包括： 觀察光學系統’用以觀察前述微細圖案； 光源’將照明光出射在前述透明基板；以及 f明平板，以水平支持前述透明基板， .式而：：透：平板係分割成以各自可朝水平方向移動的方 | 式而°又的稷數個副透明平板。 2·^請專利範圍第1項所述的微細圖案觀察裝置， 〃中，在各副透明平板設置複數個孔洞， 且包括驅動手段，使前述複數個 的副透明平板朝水平方向㈣“ m二選擇 由觀察位置分離。 動，且使該副透明平板的孔洞 範圍第2項所述的微細圖案觀察裝置， “副透明平板相對；數個副透㈣ 卞敬相對於其他副透明平板相一 透明平板與前述透明基板之間空出間隙/而在該副 ==利範圍第2項所述的微細圖案觀察裝置， 中、未㈣ir吸附手段，其透過前述複數個副透明平板 前述透明基板，且將前二的前述複數個孔洞吸附 &如申請專：第=Γ定在該副一 复 圍弟2項所述的微細圖案觀察裝置， 包括氣體喷射手段，其透過前述複數個副透明平板 2075-9211-PF 22 200823451 ^經選擇的副透明平板的前述複數個孔洞，將氣體喷射在 两述透明基板，且在該副透明平板與前述透明基板之 出間隙。 & 6·如申请專利範圍第J項所述的微細圖案觀察裝置， 其中二包括反射構件，其設在各副透明平板的背面側，且 :由前述光源所出射的照明光反射而照射在前述微細圖 2述光源係由前述副透明平板的表面側出射照明光， =觀察光學系統係由前述副透明平板的表面側進 則述被細圖案之透射照明光觀察。 丁 直中專利議1項所述的微細圖案觀察裝置， /、寸=先源係由前述副透明平板的—側出射照明光， :μ嬈察光學系統係由前述副透明平板的另一側 别述微細圖案之透射照明光觀察。 订 8·種微細圖案修正裝置，其特徵在於包括. 項 微細圖案觀察裝置，如申請專利範圍第至. '中任一項所述者；以及 員至弟 塗佈手段，將修正液塗佈在前述微細圖案之缺陷部e 2075-9211-PF 23