TW200822960A - System and method for processing high purity materials - Google Patents

Description

200822960 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明的至少一實施例係關於用於處理材料的系統和 方法，且更特別地，本發明係關於用於處理例如研磨泥漿 等高純度材料的系統和方法。 【先前技術】 例如製藥、化妝品及半導體工業中，經常需要高純度

勺處里材料。在半導體工業中，典型地使用將原料引進到 们μ 口子系統内的製造系統，而製備出混合好的處理材 料。需要相當的精確性，才能製造出一批混合過的處理材 料丄而這些處理材料須能夠被企圖進行的應用所接受，且 b夠4保批批材料之間的一致性。然後，將一批的材 料進一步往下游處理，例如，在輸送到工具之前，接受過 慮操作或進一步的混合。 ，午夕應用情形中’最好能夠連續地供應混合好的處 理材料到_個使用點上。典型地，使用備用單&，以便促 進將/個或多個處理元件週期性地從生產線上拿下來，以 、—:養然而，即使在與這種過渡情形有關的製程參 口丈1之微小波動，也可能會使高純度材料的連續傳送及/或 :產生月顯的瓦解。例如，在系統内不利的壓力下降， 可能就是很特別的重要因素。 【發明内容】 纟Θ 或多個實施例，本發明係關於用於處 理咼純度材料的系統與方法。 200822960 一依據-個或多個實施例’本發明係關於一種用於處理 二 =料的方法，其包含以下步驟：使第一材料的流動 !_=：單71操作；監控第-單元操作的操作參數；將 弟一早=#作裝填人加M氣體；從該第二單元操作中除去 該加壓氣體；以及，回應於顯示達臨界值的第-單元操作 之操作參數，將該第一材料的流動轉流至第二單元操作。 ，據-個或多個實施例’本發明另外係關於一種用於 處理兩純度材料的备#

^ +的糸、、充，包含：一第一材料供應線路；一 第、Α早70 $作’其係流體式地連接到第-材料供應線路的 下游’一弟二單元操作，其係流體式地連接到第一材料供 j路的下游；一第一感測器，其被設置成用以镇測該第 作：操？參數；一第二感測器，其被設置成用以 “〜弟—早70操作的操作參數；-加職體供應線路， 其係流體式地連接到該第一單元操作及第二單元操作一 出口、’其係流體式地連接到該第一單元操作及第二翠元操 作以及&制益’其係與該第一感測器、第二感測器及 出相連結。该控制器被設置用以產生：一第一控制信號， 以便將該第二單元操作震填滿來自加壓氣體供應線路的加 職體；—第二控制㈣，以用於將第-材料的流動從第 一單元操作經由第二罝★ 一、 一早疋知作而轉流至出口，以回應於顯 示達臨界值的第_咸：目，丨盟、. .、、 弟 α，則态，以及一第三控制信號，用以在 加壓氣體已經從第二單元操作中被排除之後，經由第二 兀操作將第-材料的流料弓丨朝向一工具。 從以下伴隨附圖所作的本發明之詳細說明中，可以更 7 200822960 加清楚地了解本發明的其他優點，新穎特色及目的。 【實施方式】 以下的附圖並未依照比例繪製。在該等圖式中，於不 同圖式中所圖示說明的相同或幾乎相同之構件，係以類似 的元件符號加以標示。為求簡潔起見，並未在各圖式中= 示出所有的構件。以下，將參考附圖說明本發明的較佳: 限定性實施例。 1 w 本發明並未侷限於以下的說明或圖式中所顯示 與其構件的構造與配置方法而已。本發明具有其他的“ 例，且能夠以其他不同的方式實施出來。 户理明一或多個實施例，本發明係關於-種用於 方#的一個或多個系統和方法。以下所敘述的 糸先和方法，例如可被運用於製備在諸如化妝品 半導體工業等廣泛工業範圍的應用情形中之材料，以及 他可能需要連續及/或正確地供應高純度材料的應用情形:、 本發明的實施例大致涉及將材料的流動引進到『 元: 桑作内。此單元操作可以包含具有-個待被填滿的體； 之任何處理構件，此單元操作可以藉由例如纟且合、 分離製程等方式而作用於此材料上。在―些實_中錢 兀刼作可以包含一過濾器，例如過濾器 早 性的過濾器可以階段式地過濾此材料之系二不同夕孔 被處理的材料及想要的應用情 摆可以根據待 夕孔性。可以包括其他的單元操作，例、 磨器、加熱設備或冷卻設備等。 又、研 8 200822960

然後，此單元操作可以將材料朝下游導引，以用於進 一步的處理、儲存或供末端使用的傳送。被引進到單元操 作内的材料可以包含任何單元操作所想要處理的任何組成 或混合物，例如··化學機械平面化（CMP)泥漿。此材料可 以包含已經被處理過（例如：已混合或分離）且位於單元操 作上游處的組成，或者，可以包含供單元操作初步處理的 原料。本發明的一些實施例可以包括被引進到多個主要單 元操作内的多個材料流，這一點稍後將加以說明。例如早 一第一材料供應線路可以流體式地連接到一第一單元操 作，而一第二材料供應線路可以流體式地連接到一第2= 元操作。在-些實施例中，第—與第二單元操作可以= 本發明的系統也可以包括一個或多個感測器，其能夠 镇測、測ϊ及/或監控—個單元操作的特性或操作來數 如’感測器可以包含一個或多個壓力感測器(例如： 換器）’其被裝設成用以監控橫跨一個單元操作的壓力差 壓力差可以被直接地測量以，或者根據在此單元 游與下游處所取得的讀數而決定。也可以包括其他的操作 :數八例如溫度、導電性、流速或耗電力。在一些 中，感測器可以根據所收集到的資料而產生出一 且還可以將此訊號傳遞至此系統的操作人員或控=上而 -些感測器所收集到的資訊’例如可以有助於評-操作的性能，且評估此單元操作的維修要求。早几 在系統的操作期間，可能會想要或必須將一個單元操 9 200822960 作攸生產線上挪開，以便進 « ^ ^ 、准U保養。一個單元操作可 乂疋期保養，或者回應於顯 給狄y r 逐界值的刼作參數而進行 、准修。例如，與一過濾器組 ψ伽巧矢 相遷結的壓力感測器可以顯示 出一個板跨過濾器的壓力差， 左此屋力差是大於一 界值。此臨界值可以在不同 00 ,Λ _ m ^ 未作人貝之間或者根據想要 的應用6形而加以改變。例 J戈 假如板跨一個全新或P鉍 維修好的單元操作之差異屋 〆^ 白m 1 刀頌不為6PS1的活，則具有9Psi 的差異壓力可以被預定為臨 P ^ μ. ^ ^ 、准修保養一般可以包含 離此早兀插作以及清潔 I 早7°#作的構件。當此 早私作包g例如一過濾器時，唯佟# I 1 ^ $ 才、、隹修保養可能會更明確地 匕括冲洗、反洗（backwashing)，武1 g)或其他本案相關技術中所 热知的清潔方式。 依據本發明之一或多個杳*A 7丨^ _ w 個貫轭例的糸統也可以包含一個 或夕個弟二單元操作，用 用从備伤及/或支援主要單元操作， 以便促進材料下游的連續處 只处理及/或輸运。這類的第二單元 刼作在此可以稱之為備用單 一 干几义9代早兀。當一個主要單 疋#作從生產線上挪開而 αι ^ 用向進仃維修保養時，待被處理的材 L動可以被暫時轉流至一備用單元，以防止打斷處理 t的材料的下游輸送’直到恢復主要單元操作的流動為 一般來說，㈣單以功能上可以等於及/或以其他方 式取代其所支援的主要單 文早兀栋作。依據一些實施例，單一 個備用單元可以Φ接 Am 4r , 平兀」以叉杈一個或多個主要單元操作。 本發明的-個或多個實施例可以進一步包括用以減少 糸統内的線路壓力變化之特徵。當在主要單元操作與備用 200822960 單元操作之間進行隸弒主 寺，例如進行上述的維修時，最好 =防 個卫作中的單元内之壓力下降。並不希望被 ^於特殊理論，在線路|力中的變化可能會不利

到精確度相當重IΜ古u A A 室要的回純度處理材料之處理與傳送的正確 性及/或連續性。

因此，依據本發明一個或多個實施例，主要及第二單 -操作可以流體式地連接到一加壓流體來源，例如加壓氣 體以便在單7C #作之間的轉移之前能夠準備好㈣ming)。 Ή地〜被π到生產線上的單元操作可以首先被裝滿 力^孔體’以便達到系統壓力。所運用的加壓氣體可以包 含任何能夠與系統構件相容的氣體，例如加麼氮氣。稍後 將芩考不同的圖式詳細說明，待處理的材料之流動可以被 暫日寸地被轉流到準備好的備用單元操作内，而不會經歷在 線路壓力中顯著的下降。 。此系統也包括一出口，其係流體式地連接到每個單元 麵作上’以當需求時促進將加壓氣體從系統中趕出去。此 系統的-或多個特點，例如與系統内的流動線路結合之各 種閑體（例如針閥），可以被調整及/或被預先設定成能夠限 制及/或控制加壓氣體從—個單元操作巾被排出去的速率。 待處理的材料在—單元操作内使加壓氣體產生移動之速 率β也可以獲得控，以冑防止在單元操#的轉移期間線 路壓力中的任何變化。加壓氣體從一個單元操作中被排出 的速率之調整，係可以直接地控制處理用的材料之流入。 以下，將參考附圖詳細說明本發明的至少一個實施例 11 200822960 ‘作其中粗線是標示系統中的流體流動。 圖1至圖5顯示依據本發明一或多個實施例的系統。 :处理的材料之流動是從—材料供應源、Η 0被引進到第一 :心作120 °離開第操作單元12G的處理過材料，則 是被導引到下游而朝向一工# 13〇,以用於後續的處理。 或者’離開第-單元操# 12〇的處理過材料可以被供應於 4仏半導體生產線。第_單元操作m的—個操作來 文係藉由-個感測器140被監控，例如，差動廢力感測器。 也可以在第—單元操作12G之前或之後設置額外的感測器 (例如：在供應及出口線路）。如® 1所示，-第二單元操 作150被裝滿有來自一加壓氣體來源18〇的加壓氣體，以 達到系統壓力。此準備動作可在第—單元操作i2G正進行 處理材料同時發生。加壓氣體可以如目1所示被保持在第 -單元织乍15〇内’或者也可以如圖2所示經由出口 17〇 而被連續地從糸統10 0排放出去。 々依據一或多個實施例，可以啟動在單元操作之間的轉 =，=回應於顯示達感測器14G所偵測到的就臨界值之 弟-單元操作120的操作參數。或者，此轉移也可以定期 地、間歇性地、或以系，统100之操作人員所決定的預定時 間間隔而發生。在轉移期間’來自材料供應源ιι〇的材料 可以首先被引進到第一與第二單元操# 12〇、15〇内以供 處理。圖3顯示雙重操作的週期’在此期間，離開第二單 =操作150的流體係經由出口 17〇而排放出去，以便將加 壓氣體從此系、统HH)中排出去。—旦加壓氣體已經被充分 12 200822960 地趕出去之後，離開第二單元操作15〇的漭 所示被導引朝向此工具130。 、曰圖4 …、傻何料的流動可LV i ^ 5所示完全祕你楚 ^ . 如圖 叮丁凡王地攸弟一早兀操作120轉流到 1 5 0。可以^>忐/楚 tm - 單疋操作 J以疋成在弟一早π操作120盥 之間的上述變化，而不會打斷wf —早4作150 輸送，且不合使線路壓力;二 料之連續朝下游 不日使線路[力產生明顯的下降，例如小於 弟一早凡刼作150可以被帶回生產線上，同時 単元操作120令的壓力過渡時期。 、 在弟一 第-早το操# 150的一操作參數可 器MO加以監控。+第—| ^ 们第—感測 孤徑田弟一早凡操作15〇在 備用的支援單元處理材料時， —^固 ^ //r 乐早凡細作120可以难# 杨保養。例如，第-單元操作12G也可以與 的其餘部份流體式地隔離開 、，、、、、100 替換。以此m 構件可以被清潔及/或 復… 早70操作120的操作參數可以被恢

设成小於臨界值。 饭1A 生產線上nt/ ㈣120隨後準備被放回 才。/ 單元㈣15G仍在操作中。第-單元 木作120可以裝填滿來自加 加壓泰駚了 體來源180的加壓氣體。 辽體可以如圖5所不再次地被維 内，成本， 一 散难符在弟一早凡操作120 二’也可以經由出口 17G被連續地排放出去。 4足材料供應源1 1 〇來之样# 至第—罝_ 4σ 纟之待處理材料的流動可以被恢復 王乐 早凡操作12〇。當完志笛 --w ^ 加壓時，…· 田凡成弟…㈣12〇的維修及 …可以轉移回到第_單元操作12〇。或 應於題+炎结_ 了以口 ‘’、、' 預疋臨界值(例如’指出第二單元操作15〇 13 200822960 需要進行維修保養 實施此轉移。從第二f…細作150之監控操作參數而 元操作12〇可以；:：操作150切換或轉移回到第-單 J以類似於起初轉移的 平 料可以被引進到第“也。例如’材 單元操作m的涂μ 早_乍120、150，離開第- # ^ ^ ^ 〇以經由出口 17〇被排放出去，且稍 後虽加I氧體已經被排出時，可以被 2且稍 而且隨後材料的、、a叙了 朝勹工具130， 至第-單元操W可以監控第一單：;:作150轉流 參數，且第二單元摔作15〇叮 …作120的操作 永作1 50可以進行維修與 後根據需要被帶回到生產& 在稍 j生產線上。在上述的處理週期期門 未動作的單元操作一般受到維修至曰 操作參數。 /次被▼回到系統 另-種系統可以進一步包括一第三單元操作22〇， 其係如圖6及圖7所示流體式地連接到一第二材料流供應 源2i0及加壓氣體來源18〇的下游。第一與第二材料供應 源110、=可以包含相同的材料，及/或可以來自相㈣ 來源。一第二感測器240被用於監控第三單元操作的 操作參數。 ^ 離開第三單元操作220的流動可以被往下游傳送到一 第二工具230。依據一或多個實施例，第二單元操作丨5〇 可以被流體式地連接到第一與第二材料供應源^〇、21〇 第 .一 不一丹乐 130、230可以是相同或不同的工具。在—實施例中 以及第一與第二工具130、230上，以便作為用於第一與 三單元操作120、220的備用或替代單元。第一與第 工具 14 200822960 條半導體生 =與第三單元一與22。兩者均供應 在系統200的操作期間，一 地與第二罩开Pi 早兀知作120可以主要 岸源U: 2 同時產生作用。第-或第二材料供 二分別對 以被暫時地轉流到第二單元操作15。， 刀別對弟一與第三單元操作12〇 行維修保養。因此， 二、中之進 ^ T個主要早兀#作的維修之轉 ;;弟二單元操作15〇可以與第-或第三單元操作 、22〇的任—個同時產生作用。在單_作之間的切換 或轉移可以如同上述圖1 _ 5所㈣的系統1(^方式 進仃’以將不利的線路壓力變化減到最小。例#，一個未 動作的單元操作可以被裝填滿加壓㈣ \ 前達_統壓力，而且，在被導引到工具、儲料其2 用3之4離開一個工作中的單元之流動可以經由一出口 排出加壓氣體。在具有兩個或更多主要單元的實施例中， 也可以實施切換而不會重疊轉移中的單元之操作，例如， 透過材料的完全初始轉流，而同時仍保持連續地朝下游輸 运。 如圖6所示之範例’第一與第三單元操作120、220可 以同時地進行操作，以便分別處理來自第一與第二材料供 應源1 10、2 10的材料。第二單元操作丨5〇暫時地離開生 產線，且作為一備用單元。如圖所示，第二單元操作1 5〇 可以被裝填滿來自加壓氣體來源丨8〇的加壓氣體，以達到 糸統壓力。此加壓氣體可再次如圖所示地被保持在第二單 15 200822960 7L紅：150★内’或者’可以經由出口 i7〇被連續地排放出 去。弟-與第三單元操作J20肖220的操作參數，可以分 由感測器140、240而受到監控，以便例如有助於決 定是否-個或兩個單元操作需要從生產線上挪開，以進行 保養。 圖7顯示相同的系統’但是’第二材料供應源21〇的 流動被暫時地從笫二罝A # & _ 弟一早70刼作220轉流至第二單元操作 (' ?〇，以回應於顯示達臨界值的第三感測器240。第三單元 “作220已經被隔離開來進行維修保養，且將同樣地被填 滿加麼氣體以達到系統麼力。第三單元操作22〇可以被帶 回生產線上，以回應於顯示達臨界值的第二單元操作之操 料力，或者，當完成維修保養及準備好第三單元操作220 日可’將其帶回生產線上。 &在-些應用情形中’對於處理過的材料之下游要求， 二：有：候會縮小或停止。不希望被任何理論所限制，經 I 二固早元操作而再循環的材料，例如經由-個過濾器再 i宝研磨μ ’可能對於此泥裝及/或單元操作的性能有 ，…在廷些情形中，材料流可以被轉流至—旁通迴路， ΠΓ:個相連結的單元操作，直到下游的要求重新恢 :。為了防止線路壓力變化，依據與上述備用 有關的方法，在被帶回生產線上 ’、 被叙滿加壓氣體。 u 透過理高純度材料的方法可以手動方式執行，或者 用“并到此系統内的控制器而自動地實施。例如， 16 200822960 此系統可以包括一個控制器，其係與感測器及流到單元操 作、工具及出口處的流動有關之各種閥體相通訊連結。該 抆制态可以裝設成產生：一第一控制信號，用以使第二單 凡知作裝填有來自加壓氣體供應線路的加壓氣體；一第二 控制信號，用以將第一材料的流動從第一單元操作經由第 一早70操作而轉流至出口，以回應於顯示達臨界值的第一 感測态；以及一第三控制信號，用以在加壓氣體已經從第 一单元操作中被排出之後，將第一材料的流動經由第二單 兀=作而導引朝向一工具。控制器可進一步被裝設成產生 一第四控制信號，用以將第二材料的流動從第三單元操作 孝才机至第一單元操作，以回應於顯示達第二臨界值的第三 感測裔。控制器另外可以被裝設成將該第一單元操作隔離 開=，以便進行維修保養，且使第一材料的流動重新恢復 到第一單元操作，以回應於顯示達第三臨界值的第二感測 器，或回應於顯示低於此臨界值的第一感測器。 可以使用一個或多個電腦系統來實施此控制器，例如， 用 Intel PENTIUM®型處理器、Motorola PowerPC®處理 Sun UltraSPARC®處理器、Hewlett-Packard PA-RISC® 處理姦、或其他任何種類的處理器或其等組合之一般用途 電腦。或者，該電腦系統也可以包含特殊程式化、特殊用 迖的硬體，例如打算用於材料加工系統之特殊應用積體電 路（ASIC)或控制器。 私腦系統也可以包含一個或多個處理器，這些處理器 一般係連接到一個或多個記憶體裝置。記憶體裝置可以包 17 200822960 括例如磁碟機圮 或其他用於儲二4、閃記憶體裝置、RAM記憶體裝置， 型地是用於在姑祖♦ ^ 似飞夕们。己彳思體典 程式及資料。〃处理系統及/或電腦系統的操作期間儲存 參數有關的声：如’記憶體可被用來儲存在一段時間中與 止史貪料以及操作資料。含有可實施出本發明 奎1、私式碼之軟體可被儲存於一個電腦可讀取及/或可 曰寫非易失生0w 錄媒介上，且然後典型地被複製到記憶體 而在此記憶體中可以藉由處理器加以執行。這類 式碼可以Μ ώ夕μ 糟由夕種程式語言寫出，例如：java、Visual

Basic、C、c#、c++、r

如ortran、Pascal、Eiffel、Basic、COBAL 等或其等之各種組合。 、電腦系統的構件可以藉由一個或一個以上的互連機構 被結合在一起，& 沒些互連機構包括一個或更多的匯流排（例 女·正〇於相同裝置中的構件之間）及/或網路（例如：設置 ;刀開不同衣置上的構件之間）。互連機構典型地能夠在電 腦系統的構件之間交換通訊(例如：資料、指令)。 包細系統也可以包括一個或更多的輸入裝置以及一個 或個以上的輸出装置。輸入裝置例如：鍵盤、滑鼠、軌 跡球、麥克風、觸控螢幕及其他人機介面裝置。輸出裝置 包含·列印裝置、顯示螢幕或揚聲器。此外，t腦系統可 以含有一個或一個以上的介面（未顯示），用以將電腦系統 連接到通訊網路（除了網路之外，此通訊網路也可以藉由電 腦系統的一個或一個以上的構件所形成）。 根據本發明一個或一個以上的實施例，一個或一個以 200822960

上的輸入I置可以包括用以測量材料處理系統及/或其構件 的簽數之感測⑨。或者’感測器、計量閥體及/或其他構件 也可以被連接到一個操作式連接到電腦系統的通訊網路。 上述衣置的一種或一種以上均可以被連接到另一電腦系統 或構件上以便在一個或一個以上的通訊網路上與電腦系 、、先產生通Ifl it樣的架構能允許任何感測器或信號產生裝 置被叹置在與電腦系統相隔一段顯著的距離，及/或允許任 何感測器被設置在與任何子“及/或控制器相隔—段顯著 的距離’ ％同時仍可以在兩者之間提供資料。這樣的通訊 機構可以藉由利用任何適當的技術而實施出來，這些技術 包括但不侷限於利用無線通訊協定。 控制器可以包含-個或—個以上的電腦儲存媒體，例 如：可讀取及/或可書寫之非易失性媒體，在此記錄媒體中 可以儲存信號，以定義出一個能夠被—或多個處理器所執 行的程式。此媒體例如可以是一碟片或快閃記憶體。在並 型的操作中’處理器可以使資料（例如：用於實施本發明一 或多個實施例的編碼）能夠從儲存媒體被讀取到一記憶體 中，此記憶體能夠允許藉由-個或多個處理器而比媒體以 更快的速度存取資訊。 5己憶體典型為例如動態隨機存取記 體’或靜態記憶體 回資訊轉移的其他 憶體（DRAM)等的易失性隨機存取記憶 (SRMA)，或者為能夠促進處理器之間來 適當裝置。 以軟體方式或在 一般用途的電腦 要知道的是，本發明並未侷限於上述 電腦系統上實施而已。甚至，除了在例如 200822960 系：上，施之外，控制器、或構件或/及其子區段等也可以 '貝&成丨專屬系統，或作為專屬可程式邏輯控制器 (PL曰C) ’或在一分散式控制系統中被實施。❿且，要知道 疋本I明的-個或多個特徵或型態均可以軟體、硬體、 韋體或其等之任何組合方式被實施出來。例如，可被控 制-執仃的-邏輯運算之_個或多個區段可以在分開的電 腦中執行，且接著可以透過一或更多網路加以通訊。

^顯然地，本發明的系統和方法之其他實施例，係可以 超出上述的這些範例性的實施例。 構件 在此所使用的「數個 包含」、「包括」、「 ^係指兩個或更多的項目或 帶有 具有 含 有」及「涉及」等用語，*論在說明書或巾請專利範圍内， 均表示為開放性用語，亦即，意味著「包括但不侷限於」。 因此，使用這類的用語係意指包含以下所列的項目、其等 效’以及額外的項目。關於申請專利範圍，只有「由..、·所 組成」及「主要由·.·所構成」等措詞分別是封閉式的或半 封閉式的措詞。 在申請專利範圍中運用「第一」、「第二」、「第二 等順序的用詞來修改一個請求元件，其本身並」未意味著-一-個請求元件對於另-個請求元件的優先性、位階高低或順 序，或者方法的各個動作所執行的暫時順序，反而僅用以 區別具有某-名稱的請求元件與另一個具有相同名稱的元 件（但其運用順序用語）而已，以便區別所有的請求元件。 對於熟習此項技術者來說，可以理解文中所^的參數 20 200822960 與結構僅為範例，且真正的參數及/或結構將根據本發明的 系統與技術所運用之特殊情$ 而定。熟習此項技術者可以 就能認定出本發明特殊實施例的一 利用一般的實驗過程 些等效貫施例。因此，雖然已經詳細地說明本發明的至少 例之幾個型態、’以，仍可以輕易地產生出不同的 改變、修改及改良。這類的改變、修改與改良仍屬於本發 勺。(Μτ7 ’且仍落在本發明的精神與範圍之内。

【圖式簡單說明】 # " 圖5 ^ π —依據本發明一或多個實施例的系統 及其中不同的流體流動方式。 ^ " 圖7顯不另一依據本發明一或多個實施例的系 、、先及其中不同的流體流動方式。 【主要元件符號說明】 100 系統 U〇 材料供應源 120第一單元操作 13〇 工具 140感測器 〇 第二單元操作 160第二感測器 170 出口 180 加壓氣體來源 200系統 210 第二材料流供應源 21 200822960 220 230 第三單元操作 第二工具 第三感測器 240

Claims (1)

1. 200822960

   十、申請專利範团： i-種用於處理高純度材料的方法 將—第一材料的流動引進到_ /、_匕含以下步驟·· 監控該第-單元操作的一操作參數早作； 第二單元操作裝填加壓氣體； 攸δ亥第二單元操作中清除該加壓氣體. 將該第_封粗从、Α知 孔體’以及 作之摔料數 流動回應⑹達臨界值的第一 ，、乍多數，而轉流至第二單元操作。 早元操 2.如申請專利範圍帛i項之方 該第一單元操作。 ^進 …3·如申請專利範圍g 2項之方法，其 …4·如W專利範圍第2項之方法， 该弟一單元的操作參數料於該臨界值Γ 5·如申請專利範圍第4項之方法，1 作的步驟包含更換-該第—單元操作的構件 ^ 6·如申凊專利範圍第4項之方法，复、 第單元操作裝填加壓氣冑。 $纟包含使該 7 ·如申凊專利範圍第6項之方法 該第—材料的流動到該第一單元操作 8 ·如申凊專利範圍第7項之方法 材：的流動到該第一單元操作之步驟 該第一輩元操作排出去 步包含隔離 步包含沖洗 步包含恢復 恢復參數操 其進一步包含回復 其中，回復該第一 包括將加壓氣體從 9·如申請專利範圍第1項之方法，其進-步包含將 23 200822960 第二材料的流動引進到一 ^ w 一 元操作的-操作參數。 70操作’及li m二單 1 〇.如申請專利範圍第9項之 % ^ U U ^ ^ 、 法，其進一步包含將該 弟一材枓的^動回應顯示 ^ ^ A U ^ ^ 弟一臨界值的第三單元操作 之缸作茶數，而轉流至第二單元操作。 U·如申請專利範圍第1〇 復該第二ϋ π ^ 噌之方法，其進一步包含恢 12:由 的該操作參數至小於該第二臨界值。

   復· f專利範圍第11項之方法，其進一步包含回 设6亥弟二材料的流動到該第三單元操作。 口 U·如申請專利範圍第丨 二單元；^“ A 貝〈万去，其中，該第一與第 紅作包含過濾器。 U.如申請專利範圍第i項之方 ㈣的操作參數是-個橫跨該第—單_作的壓/差早凡 操作二申請專利讓9項之方法，其中，該第-單元 、W弟二單元操作可同時產生作用。 1 6’ —種用於處理高純度材料的系統，其包含： ^ ~材料供應線路； 線路的：一單元操作’其流體式地連接到該第-材料供應 J卜游； 線路的下：早元操作’其流體式地連接到該第-材料供應 第感测器’其被設置成用以偵測該第一單元極 的—操作參數； 干疋絲作 第二感測器，其被設置成用以偵測該第二單元操作 24 200822960 的一操作參數； 一加壓氣體供應線路’其流體式地連接到該第一單元 操作及該第二單元操作； 一出口，其流體式地連接到該第_單元操作及該 單元操作；以及 一 令工們沿，丹興该第一感測器、該第二感測器及該出 口相連結通訊’而架構成產生：一第一控制信號，盆用於 L 字該第Γ單元操作裝填來自加壓氣體供應線路的加壓氣 :達制！號：其用於將該第一材料的流動回應顯 〇π ' °亥弟一感測器’而從第-單元操作經由第二 早兀刼作轉流至該出口；以及一第三控 加壓氣體已經從第-單亓 工 儿於在 弟-早几知作中被除去之後，經由該第二 早知作而將該第-材料的流動導引朝向一工具。 17.如申請專利範圍第16項之系統，其中 測器包含-壓力差感測器。 °亥弟感 16項之系統，其中該第一與第 16項之系統，其進一步包含一 二材料供應線路流體式地連接至 18. 如申請專利範圍第 一單元操作包含過濾器。 19. 如申請專利範圍第 第二材料供應線路，該第 該第二單元操作的上游。 20·如申請專利範 苐二單元操作，該第 料供應線路的了游。 圍第19項之系統，其進一步包含一 三單元操作流體式地連接至該第二材 21如申請專利範圍第 20項之系統，其進一步包含一 25 200822960 第三感測器，1¾第三感測器被設置成用以偵測該第三單元 操作的一操作參數。 、22.如中Μ專利_帛2Q項之系統，其中，該控制器 被進乂木構成用以產生-第四控制信號，以將第二材料 動回應顯不達第二臨界值的該第三感測器，而從第三 單元操作轉流至第二單元操作。 23·如申凊專利範圍第16項之系統，其中，該控制器 二' ^木構成用以將該第一材料的流動回應顯示達一第 二臨界值的該第二感測器，而回復至第—單元操作。 .. 申明專利乾圍帛16項之系統，其中，該控制器 步架構成用以隔離該第-操作單元，以便進行維修 25 ·如申請專利範 被進—步系統，其中，該控制器 而將兮第' 為小於臨界值的該第-感測器， :亥广材料的流動回復到第-單元操作。 第：單二巾：專利犯圍* 2°項之系統，其中’該第-與 早⑼作被架構成可同時產生作用。 十一、圖式： 如次頁。 26