TW200540472A - Antistatic optical film, antistatic adhesive-type optical film, method for manufacturing them and image display device - Google Patents

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200540472 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】

本發明係關於在光學薄膜至少單面上，疊層著抗靜電層 的抗靜電性光學薄膜。此外，本發明係關於在上述抗靜電 性光學薄膜的抗靜電層上，疊層著黏著劑層的抗靜電性黏 著型光學薄膜。另外亦關於使用上述抗靜電性光學薄膜、 抗靜電性黏著型光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝 置、P D P等影像顯示裝置。上述光學薄膜可舉例如：偏光 板、相位差板、光學補償薄膜、輝度提昇薄膜，以及該等 所疊層者等。 【先前技術】 液晶顯示器等就從影像形成方式而言，在液晶單元二側 配置偏光元件係屬必要不可缺，一般係黏貼著偏光板。而 且在液晶面板上，除偏光板之外，尚有為提昇顯示器的顯 示品質而使用各種光學元件。例如使用防止著色的相位差 板、改善液晶顯示器視野角的視野角擴大薄膜，以及提高 顯示器對比的輝度提昇薄膜等。該等薄膜統稱為「光學薄 膜」。 該等光學薄膜通常於送達消費者手中之前的期間，為避 免在輸送或製造步驟中造成光學薄膜表面遭受損傷或髒 污，便在表面上貼合著表面保護薄膜。該表面保護薄膜在 貼合於LCD等之後，將有剝離，或暫時剝離之後又再度貼 合同一（或其他）表面保護薄膜的情況。然而，在剝離該表 面保護薄膜之際將發生靜電，因此靜電便有LCD面板等的 5 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

電路遭受破壞的問題發生。而且將對LCD面板内部的陣列 元件（A r r a y E 1 e m e n t )造成影響，此情況更將對液晶的配向 造成影響而衍生不良狀況的問題發生。另外，表面保護薄 膜不僅在剝離時將發生問題，亦將依製造步驟或消費者使 用方法而造成光學薄膜間相互摩擦而發生同樣的問題。為 解決上述問題，便有提案對偏光板等的光學薄膜賦予抗靜 電性。例如有揭示在光學薄膜表面上設置抗靜電層之具有 抗靜電層光學薄膜，或者在光學薄膜單側或二側設置透明 導電層。 另一方面，當將光學薄膜貼附於液晶單元之際，通常係 使用黏著劑。此外，光學薄膜與液晶單元、或光學薄膜間 的黏著，通常為降低光損失，便將各個材料使用黏著劑進 行密接。此種情況下，因為在使光學薄膜固接時將有不需 要乾燥步驟等的優點，因而一般均使用預先將黏著劑在光 學薄膜單側設製成黏著劑層的黏著型光學薄膜。 上述黏著型光學薄膜在使用之際，便裁剪為顯示器大 小。當在使用步驟中施行處理之際，若黏著型光學薄膜的 端部（裁斷部）接觸到身體或裝置，便將造成此部分發生黏 著劑脫落的情況。依此若將黏著劑有脫落的黏著型光學薄 膜貼附於液晶單元上，因為此脫落部分將無法密接，因而 此部分便將反射著光導致發生顯示缺陷的問題。特別係最 近朝顯示器窄邊框化演進，因上述端部所發生的缺失亦將 導致顯示品質明顯降低。此外，在將上述黏著型光學薄膜 貼附於液晶面板之後，當因異物混入等理由而從面板上剝 6 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 4 200540472 落的情況時，最好不致發生在面板側殘留黏著劑（所謂「殘 膠現象」）的不良情況，即重工性良好。

相關上述黏著型光學薄膜亦有賦予抗靜電性的提案。例 如有提案使偏光板表面的防眩層含導電性粒子而對防眩層 賦予抗靜電性，並在其背面形成黏著劑層（專利文獻 1 )。 但是，專利文獻1的方法較難維持防眩層的特性，缺乏安 定性。而且當在黏著型光學薄膜上設置抗靜電層時，為解 除因面板内部所發生電壓的施加而衍生的液晶單元配向不 良狀況，最好在光學薄膜與黏著劑層之間設置抗靜電層。 此外，在光學薄膜與黏著劑層之間設有抗靜電層的抗靜電 性黏著型光學薄膜，將有黏著劑缺損、殘膠的問題，以及 重工性方面的問題。另外，對光學薄膜賦予抗靜電機能的 方法，有提案使黏著劑層含有導電性物質的方法（專利文獻 2 )。但是，專利文獻2的方法較難維持防眩層的特性，缺 乏安定性。 Φ (專利文獻1 )日本專利特開平1 0 - 2 3 9 5 2 1號公報 (專利文獻2 )日本專利特開2 0 0 3 - 2 9 4 9 5 1號公報 【發明内容】 (發明所欲解決之問題） •本發明之目的在於提供一種在光學薄膜至少單面上，疊 . 層著抗靜電層的抗靜電性黏著型光學薄膜，在該抗靜電層 上形成黏著劑層的抗靜電性黏著型光學薄膜，屬於不易發 生黏著劑缺損狀況，重工性良好者。此外，本發明之目的 亦在於提供該等的製造方法。且本發明之目的亦在於提供 7 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332

200540472 使用該抗靜電型光學薄膜的影像顯示裝置。 (解決問題之手段） 本發明者等為解決上述問題而經深入鑽研結果 述抗靜電性光學薄膜及抗靜電性黏著型光學薄膜 發明。 換句話說，本發明係在光學薄膜至少單面上疊 電層的抗靜電性光學薄膜， 上述抗靜電層係包含水溶性或水分散性導 物；及黏結劑成分。 上述抗靜電性光學薄膜中，水溶性或水分散性 合物最好為聚°塞吩系聚合物。 上述抗靜電性光學薄膜中，上述黏結劑成分最 基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂及丙烯酸系樹脂所 中，至少選擇1種的樹脂。 上述抗靜電性光學薄膜中，上述抗靜電層的表 φ 最好在1χ1012Ω/□以下。 再者，本發明係關於在上述抗靜電性光學薄膜 層之與光學薄膜相反側的面上，更疊層著黏著劑 電性黏著型光學薄膜。 。上述本發明的抗靜電性黏著型光學薄膜，係認 . 缺損及液晶面板重工時的殘膠發生主因，係因抗 設置造成光學薄膜與黏著劑層間的密接性降低 果，藉由在抗靜電層使用水溶性或水分散性導電 及黏結劑成分，便可提升密接性。藉此，當處置 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-06/94105332 .，發現下 遂完成本 層著抗靜 電性聚合 導電性聚 好從聚胺 構成組群 面電阻率 之抗靜電 層的抗靜 為黏著劑 靜電層的 所致。結 性聚合物 抗靜電性 8

200540472 黏著型光學薄膜之際，將可大幅降低觸及 的黏著劑部份缺損、或從液晶面板施行重 膠狀況，可提升抗靜電性黏著型光學薄膜 因為抗靜電層係設置於光學薄膜與黏著劑 靜電效果佳，可抑制因表面保護薄膜的剝 或因光學薄膜的摩擦而發生靜電的狀況， 破損、或液晶S己向不良的情況。且光學薄 可維持特性且安定性亦優越。 上述抗靜電性黏著型光學薄膜中，黏著 烯酸系黏著劑。 再者，本發明的抗靜電性光學薄膜之製 製造上述抗靜電性光學薄膜的方法，包含 在光學薄膜至少單面上，塗佈著含有水 導電性聚合物及黏結劑成分之塗佈液的步 塗佈液施行乾燥而形成抗靜電層的步驟。 再者，本發明的抗靜電性黏著型光學薄 係用以製造上述抗靜電性黏著型光學薄膜 在光學薄膜至少單面上，塗佈著含有水 導電性聚合物及黏結劑成分之塗佈液的步 液施行乾燥而形成抗靜電層的步驟；以及 形成黏著劑層的步驟。 習知在光學薄膜表面上形成抗靜電層的 真空蒸鍍方式、濺鍍方式或離子蒸鍍方式 電層，但是該等方法的製造成本高且生產 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94 ] 05332 薄膜端部所造成 工時所發生的殘 的處理性。此外， 層之間，因而抗 落而發生靜電、 可防止發生電路 膜、黏著劑層均 劑層最好包含丙 造方法，係用以 有： 溶性或水分散性 驟；以及對上述 膜之製造方法， 的方法，包含有： 溶性或水分散性 驟；對上述塗佈 在該抗靜電層上 方法 '有如利用 等而形成透明導 性差。依照本發 9 200540472 明之製法，因為可利用塗佈等塗敷法形成抗靜電層，因而 生產性佳。 再者，本發明係關於使用上述抗靜電性光學薄膜、或抗 靜電性黏著型光學薄膜的影像顯示裝置。本發明的抗靜電 性光學薄膜、抗靜電性黏著型光學薄膜，係配合液晶顯示 裝置等影像顯示裝置的各種使用態樣，可使用1片或組合 複數片使用。

【實施方式】 本發明的抗靜電性黏著型光學薄膜係如圖1所示，在光 學薄膜1單面上依序疊層著抗靜電層2、黏著劑層3。另外 在圖1中，雖例示在光學薄膜1單面上設置黏著劑層3的 情況，但是光學薄膜雙面亦可均設置黏著劑層 3。而在另 一面之黏著劑層3上具有抗靜電層2亦可。此外，本發明 的抗靜電性光學薄膜係圖1中未具黏著劑層3的情況。 本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜的抗靜電層2，係形 φ 成抗靜電劑含有水溶性或水分散性導電性聚合物作為抗靜 電劑，更含有黏結劑成分。 水溶性或水分散性導電性聚合物，係光學特性、外觀、 抗靜電效果及抗靜電效果在加熱時、加濕時將呈現良好的 .安定性。導電性聚合物可舉例如：聚苯胺系、聚噻吩系、聚 _ 。比咯系、聚喹啰啉系等聚合物，該等之中，最好使用容易 成為水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物的聚苯 胺、聚噻吩等。特別以聚噻吩為佳。 水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物，可將形 10 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

成抗靜電層時的塗佈液調製成水溶液或水分散液，該塗佈 液並不需要使用非水系有機溶劑，因而將可抑制因該有機 溶劑造成光學薄膜基材變質的情況。另外，水溶液或水分 散液係由密接性而言，以僅有水作為溶劑為佳。另除水之 外，尚可含有水系溶劑於親水性溶劑中。例如：曱醇、乙醇、 正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、 正戊醇、異戊醇、第二戊醇、第三戊醇、1-乙基-1-丙醇、 2-甲基-1-丁醇、正己醇、環己醇等醇類。 上述水溶性或水分散性聚苯胺的聚苯乙烯換算重量平 均分子量，最好在500000以下，尤以300000以下為佳。 水溶性或水分散性聚噻吩的聚苯乙烯換算重量平均分子 量，最好在4 0 0 0 0 0以下，尤以3 0 0 0 0 0以下為佳。若重量 平均分子量超越上述値，將有無法滿足上述水溶性或水分 散性的傾向，當使用此種聚合物調製成塗佈液（水溶液或水 分散液）時，將有該塗佈液中殘存著聚合物的固形份，或形 φ 成高黏度化而較難形成均勻膜厚之抗靜電層的傾向。 所謂「水溶性導電聚合物的水溶性」係指對水 1 0 0 g的 溶解度在5 g以上。上述水溶性導電聚合物對水1 0 0 g的溶 解度最好為2 0〜3 0 g。所謂「水分散性導電性聚合物」係指 - 聚苯胺、聚噻吩等導電性聚合物，依微粒子狀分散於水中， ^ 水分散液不僅液黏度較小、容易施行薄膜塗敷，且塗佈層 均勻性亦優越。其中，微粒子尺寸最好在1 // m以下，較有 利於抗靜電層的均勻性。 再者，上述聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或水 11 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 分散性導電性聚合物，最好分子中具有親水性官能基。親 水性官能基可舉例如：續基、胺基、醯胺基、亞胺基、四級 銨鹽基、羥基、硫醇基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯 基、或該等的鹽等。藉由在分子内具有親水性官能基，便 將容易溶於水中，較容易微粒子狀分散於水中，可輕易的 調製得上述水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合 物。

水溶性導電聚合物的市售物例有如：聚苯胺磺酸（三菱 雷瑩公司製，聚苯乙烯換算重量平均分子量150000)等。 水分散性導電聚合物的市售物例有如：聚噻吩系導電性聚 合物（納佳格姆科技公司製，商品名：得納龍系列）等。 再者，抗靜電層的形成材料在與上述抗靜電劑一起提昇 抗靜電劑的皮膜形成性、對光學薄膜的密接性等目的之 下，亦可使用黏結劑成分。因為抗靜電劑為水溶性導電性 聚合物、或水分散性導電性聚合物，係屬於水系材料，因 φ 而最好使用水溶性或分散性黏結劑成分。黏結劑成分的例 子有如：聚胺曱酸乙酯系樹脂·、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹 月旨、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、環氧 樹脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚苯乙烯系樹脂、聚乙二醇、 季戊四醇等。特別以聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚酯系樹脂、 . 丙烯酸系樹脂為佳。該等黏結劑成分可配合用途而適當的 使用1種或2種以上。黏結劑成分的使用量係依抗靜電劑 種類而異，通常相對於黏結劑成分1 0 0重量份，最好將水 溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物設為 0. 1〜1 0 0 12 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 重量份，尤以1〜5 0重量份為佳。 上述抗靜電層的表面電阻率最好在1 X 1 0 12 Ω / □以下，尤 以1χ10ΜΩ/□以下為佳。當表面電阻率超過1χ1012Ω/口 時，抗靜電機能將嫌不足，有容易發生表面保護薄膜剝離、 因光學薄膜的摩擦而發生靜電並帶電、液晶單元電路遭受 破壞、或液晶配向不良的狀況。

形成本發明抗靜電性黏著型光學薄膜之黏著劑層3的黏 著劑並無特別的限制，可適當的選擇使用以如：丙烯酸系聚 合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚 醚、氟系或橡膠系等聚合物為基底聚合物者。特別以使用 光學透明性優越，顯示出適當濕潤性、凝聚性、黏著性的 黏著特性，且耐候性或耐熱性等者為佳。顯示出此種特徵 者最好使用丙烯酸系黏著劑。 丙烯酸系黏著劑係將以（曱基）丙烯酸烷酯單體單元為 主骨架的丙烯酸系聚合物，當作基底聚合物。另外，（曱基） 丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或曱基丙烯酸酯，本發明的（甲 基）係指相同涵義。構成丙烯酸系聚合物主骨架的（曱基） 丙烯酸烷酯之烷基平均碳數為1〜1 2者，（曱基）丙烯酸烷酯 的具體例，可舉例如··（甲基）丙烯酸曱酯、（甲基）丙烯酸乙 酯、（甲基）丙烯酸丁酿、（曱基）丙烯酸2 -乙基己S旨等，該 等可單獨使用或組合使用。該等之中最好為烷基碳數 1〜9 的（甲基）丙婦酸烧酯。 上述丙烯酸系聚合物中，在以改善黏著性與耐熱性之目 的下，藉由共聚合而導入1種類以上的各種單體。此種共 13 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

聚合單體的具體例，可舉例如：（曱基）丙烯酸 2 -羥基乙 酯、（曱基）丙烯酸 2 -羥基丙醋、（曱基）丙烯酸 4 -羥基丁 酯、（曱基）丙烯酸 6 -羥基己醋、（曱基）丙烯酸 8 -羥基辛 酯、（曱基）丙烯酸1 0 -羥基癸酯、（曱基）丙烯酸1 2 -羥基月 桂酯或丙烯酸（4 -羥基曱基環己基）曱酯等含羥基單體；（曱 基）丙烯酸、（曱基）丙烯酸羧乙酯、（曱基）丙烯酸羧戊酯、 衣康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等含羧基單體； 順丁烯二酸酐、衣康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸的己内酯 加成物；苯乙稀項酸或稀丙基續酸、2-(曱基）丙稀醯胺- 2-曱基丙烧石黃酸、（曱基）丙稀醯胺丙烧續酸、項丙基（曱基） 丙烯酸酯、（曱基）丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；磷酸 2 -羥基乙基丙烯醯酯等含燐酸基單體等。 此外，諸如：（甲基）丙烯醯胺、N，N -二曱基（甲基）丙烯 醯胺、N - 丁基（曱基）丙烯醯胺、N -羥曱基（曱基）丙烯醯胺、 N -羥曱基丙烷（曱基）丙烯醯胺等（N -取代）醯胺系單體；（甲 基）丙烯酸胺基乙酯、（曱基）丙烯酸 N，N -二曱基胺基乙 酯、（曱基）丙烯酸第三丁基胺基乙酯等（曱基）丙烯酸烷基 胺基烷酯系單體；（曱基）丙烯酸甲氧基乙酯、（曱基）丙烯酸 乙氧基乙酯等（曱基）丙烯酸烷氧基烷酯系單體；N -(曱基） 丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或 N-(曱基）丙烯醯基-6-氧 六亞曱基琥珀醯亞胺、N-(曱基）丙烯醯基-8-氧八亞曱基琥 珀醯亞胺、N -丙烯醯基嗎啉等琥珀醯亞胺系單體等，亦是 屬於改質目的單體的例子。 此外，亦可使用如：醋酸乙烯S旨、丙酸乙烯S旨、N -乙烯 14 312XP/發明說明_ 補件)/94-06/94105332 200540472

基吡咯烷酮、曱基乙烯基°比咯烷酮、乙烯基σ比啶、乙烯基 哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌畊、乙烯基吡畊、乙烯基 °比ρ各、乙稀基味°坐、乙稀基嗤、乙稀基嗎°林、Ν -乙稀基 羧酸醯胺類、苯乙烯、α -甲基苯乙烯、N -乙烯基己内醯胺 等乙烯系單體；丙烯腈、曱基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單 體；（曱基）丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基丙烯酸系單 體；（甲基）丙烯酸聚乙二醇酯、（甲基）丙烯酸聚丙二醇酯、 (甲基）丙烯酸曱氧基乙二醇酯、（甲基）丙烯酸曱氧基聚丙 二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；（甲基）丙烯酸四氫糠酯、氟 化（曱基）丙烯酸酯、矽酮（曱基）丙烯酸酯或丙烯酸酯2 -甲 氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。 該等之中，就從光學薄膜用途為對液晶單元的黏著性、 黏著耐久性觀點而言，最好使用丙烯酸等含羧基單體。 丙烯酸系聚合物中的上述共聚合單體比率並無特別限 制，但是最好重量比率為0 . 1〜1 0 %程度。 丙稀酸系聚合物的平均分子量並無特別限制，但是最好 重量平均分子量為30萬〜250萬程度。上述丙烯酸系聚合 物的製造可使用各種週知方法進行製造，例如可適當選擇 塊狀聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法等自由基聚合法。 自由基聚合開始劑可使用偶氮系、過氧化物系等各種週知 化合物。反應溫度通常為5 0〜8 0 °C程度，反應時間則為1〜8 小時。此外，上述製造法中最好為溶液聚合法，丙烤酸系 聚合物的溶劑，一般係使用醋酸乙酯、曱苯等。溶液濃度 通常設為2 0〜8 0重量％程度。 15 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 橡膠系黏著劑的基底聚合物，可舉例如：天然橡膠、異 戊二烯系橡膠、苯乙烯-丁二烯系橡膠、再生橡膠、聚異丁 烯系橡膠，以及如：苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯系橡膠、苯乙 烯-丁二烯-苯乙烯系橡膠等。矽酮系黏著劑的基底聚合物 可舉例如.·二甲基聚矽氧烷、二苯基聚矽氧烷等，該等基底 聚合物亦可使用經導入羧基等官能基的聚合物。

再者，上述黏著劑最好為含有交聯劑的黏著劑組成物。 可調配於黏著劑中的多官能基化合物，有如：有機系交聯劑 或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉例如：環氧系交 聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑等。有機系交聯 劑最好為異氰酸酯系交聯劑。多官能性金屬螯合物係多價 金屬與有機化合物形成共價鍵或配位鍵者。多價金屬原子 可舉例如：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、

Mg 、 Μη 、 Y 、 Ce 、 Sr 、 Ba 、 Mo 、 La 、 Sn 、 Ti 等。有機化合 物中形成共價鍵或配位鍵的原子有如氧原子等，有機化合 物可舉例如：烧S旨、醇化合物、叛酸化合物、_化合物、酮 化合物等。 丙烯酸系聚合物等基底聚合物與交聯劑的調配比率並 無特別限制，通常係相對於基底聚合物（固形份）10 0重量 份，最好交聯劑（固形份）0 · 0 1〜10重量份程度，尤以ο · 1〜5 重量份程度為佳。 此外，上述黏著劑中因應需要，亦可適當使用如：由黏 著賦予劑、可塑劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無 機粉末等所構成的填充劑，或如：顏料、著色劑、填充劑、 16 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 抗氧化劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑等，而且在不脫逸 本發明目的之範疇下，亦可適當的使用各種添加劑。另外， 亦可添加含有微粒子且顯示光擴散性的黏著劑層等。 本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜中所使用的光學薄 膜 1，係使用於液晶顯示裝置等影像顯示裝置的形成方 面，其種類並未有限制。光學薄膜可舉例如：偏光板。偏光 板一般係使用在偏光元件的單面或雙面上，為具有透明保 護薄膜者。

偏光元件並無特別的限制，可使用各種偏光元件。偏光 元件可舉例如：使聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇 系薄膜、乙烯•醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水 性高分子薄膜中，吸附碘或雙色性染料之雙色性物質，再 施行單軸延伸者，或者如：聚乙烯醇之脫水處理物、聚氣乙 烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中，最好 為由聚乙烯醇系薄膜與碘等雙色性物質所構成的偏光元 φ 件。該等偏光元件的厚度並無特別限制，一般係 5〜8 0 // m 程度。 將聚乙烯醇系薄膜利用碘染色並施行單軸延伸的偏光 元件，例如將聚乙烯醇浸潰於碘的水溶液中而染色，然後 再延伸為原長的3〜7倍便可製成。因應需要，亦可含硼酸 ^ 或硫酸鋅、氣化鋅等，亦可浸潰於碘化鉀等的水溶液中。 而且，配合需要，亦可在染色前便將聚乙烯醇系薄膜浸潰 於水中施行水洗。藉由對聚乙炼醇系薄膜施行水洗，除可 將聚乙烯醇系薄膜表面的髒污或抗結塊劑洗淨之外，尚藉 17 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，而具有防止發生染色斑點等不 均勻情況的效果。延伸可在經碘染色後才實施，亦可一邊 施行染色一邊施行延伸，此外亦可在延伸之後才利用碘施 行染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中施行延 伸0

形成在上述偏光元件的單面或雙面上，所設置透明保護 薄膜的材料，最好為透明性、機械性強度、熱安定性、水 分阻斷性、等向性等均優越者。例如：聚對苯二甲酸乙二酯 或聚萘二酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯基纖維素或三 乙醯基纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸曱酯等丙 烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈•苯乙烯共聚物（A S樹 脂）等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。此外，如： 聚乙烯、聚丙烯、具環系與降冰片烯構造的聚烯烴、乙烯· 丙烯共聚物之類的聚烯烴系聚合物；氯乙烯系聚合物、尼 龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物；醯亞胺系聚合物、砜 系聚合物、聚醚砜系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫 系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氣乙烯系聚合物、乙烯基 丁醛系聚合物、芳香酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、 環氧系聚合物，或上述聚合物的摻合物等亦屬於形成上述 透明保護薄膜的聚合物例。透明保護薄膜可形成丙烯酸 系、胺曱酸乙酯系、丙烯酸胺曱酸乙酯系、環氧系、矽酮 系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂的硬化層。 此外，可舉例如在日本專利特開 2 0 0 1 - 3 4 3 5 2 9號公報 (W 0 0 1 / 3 7 0 0 7 )中所揭聚合物薄膜，例如含有（A )側鏈具取代 18 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 及/或非取代醯亞胺基的熱可塑性樹脂、及（B )側鏈具取代 及/或非取代苯基及硝基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物。具 體例有如含有：由異丁烯與 N -曱基順丁烯二醯亞胺所構成 交叉共聚物、及丙烯腈·苯乙烯共聚物的樹脂組成物薄膜。 薄膜係可使用由樹脂組成物之混合擠出物等所構成的薄 膜0

保護薄膜的厚度雖可適當決定，但是一般就強度或處置 性等作業性、薄膜性等觀點而言，最好為1〜5 0 0 // m程度。 特另|J以5〜2 0 0 // m為佳。 保護薄膜就從偏光特性、耐久性等觀點，最好為三乙醯 基纖維素等纖維素系聚合物。特別以三乙醯基纖維素薄膜 為佳。另外，當在偏光元件二側設置保護薄膜時，亦可表 背面均使用由相同聚合物材料所構成的保護薄膜，亦可使 用由不同聚合物材料等所構成的保護薄膜。上述偏光元件 與保護薄膜通常係透過水系黏著劑等而密接。水系黏著劑 可例示如：異氰酸S旨系黏著劑、聚乙婦醇系黏著劑、明膠系 黏著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺曱酸乙酯、水系聚酯等。 對上述透明保護薄膜未黏貼著偏光元件之一面，可施行 硬塗層或抗反射處理，或者施行以防黏、擴散及防眩為目 的之處理。 硬塗處理係在防止偏光板表面受損傷等目的下實施，例 如可將由丙烯酸系、矽酮系等適當紫外線硬化型樹脂所形 成硬度、平滑特性等均優越的硬化皮膜，附加於透明保護 薄膜表面的方式等便可形成。抗反射處理係在防止偏光板 19 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 表面的外光反射之目的下實施，利用習知的抗反射膜等形 成方式便可達成。此外，防黏處理係在防止與其他構件等 鄰接層間發生密黏之目的下實施。

再者，防眩處理係在防止偏光板表面發生將外光反射， 而阻礙偏光板穿透光辨識等目的下實施，利用如砂磨方式 或浮雕加工方式形成粗面化方式、或者調配入透明微粒子 的方式等適當方式，便可藉此對透明保護薄膜表面賦予細 微凹凸構造而形成。形成上述表面細微凹凸構造中所含微 粒子，可使用如由平均粒徑0 . 5〜5 0 // m的二氧化矽、氧化 鋁、二氧化鈦、氧化鍅、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化 銻等所構成具導電性的無機系微粒子，或由交聯或未交聯 聚合物等所構成有機系微粒子（包括球珠）等透明微粒子^ 當形成表面細微凹凸構造時，微粒子使用量係相對於形成 表面細微凹凸構造的透明樹脂1 0 0重量份，一般為2〜5 0 重量份程度，最好為5〜2 5重量份。防眩層亦可兼具將偏光 板穿透光擴散而擴大視覺等的擴散層（視覺擴大機能等）。 另外，上述抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等，除 可設置於透明保護薄膜上之外，亦可在透明保護薄膜外另 外形成為光學層再供設置。 再者，光學薄膜可舉例如：反射板、反穿透板、相位差 板（包括1 / 2波長板或1 / 4波長板等波長板）、視覺補償薄 膜、輝度提昇薄膜等，在形成液晶顯示裝置等元件時所使 用之構成光學層者。該等可單獨使用為光學薄膜，亦可在 實際使用時便疊層於上述偏光板上，且可使用1層或2層 20 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 以上。 特別係以在偏光板上更疊層著反射板或半穿透反射板 的反射型偏光板或半穿透型偏光板、在偏光板上更疊層著 相位差板的橢圓偏光板或圓偏光板、在偏光板上更疊層著 視覺補償薄膜的廣視野角偏光板、或在偏光板上更疊層著 輝度提昇薄膜的偏光板為佳。

反射型偏光板係屬於在偏光板上設置反射層者，供使用 於形成將來自辨識側（顯示側）的入射光反射，並顯示之形 式的液晶顯示裝置等方面，可省略内建背光源等光源，具 有容易達液晶顯示裝置薄型化等優點。在反射型偏光板的 形成方面，配合需要可採行隔著透明保護層等，在偏光板 單面上設置由金屬等所構成反射層之方式等適當方式。 反射型偏光板的具體例，有如在因應需要經施行粗糙化 處理過的透明保護薄膜單面上，附設由鋁等反射性金屬所 構成箔或蒸鍍膜而形成反射層者等。此外，尚可如使上述 透明保護薄膜中含微粒子而形成表面細微凹凸構造，形成 其上面具有細微凹凸構造反射層的偏光板等。上述細微凹 凸構造反射層係防止因將入射光亂反射並擴散，而發生指 向性或閃爍外觀狀況，具有能抑制明暗不均的優點等。另 外，含微粒子的保護薄膜亦具有更加抑制當入射光及其反 射光穿過時，擴散並形成明暗不均狀況的優點等。在反映 出透明保護薄膜表面細微凹凸構造的細微凹凸構造反射層 形成方面，可採取例如真空蒸鍍方式、離子蒸鍍方式、濺 鍍方式或電鍍方式等適當方式，將金屬直接附設於透明保 21 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94 ] 05332

200540472 護層表面的方法等。 反射板亦可取代將上述偏光板直接形成於透明 膜上的方式，改為使用在準用為此透明薄膜的適 上，設置反射層的反射薄片等。另外，因為反射 金屬所構成，因而最好為反射面由透明保護薄膜 等被覆狀態的使用形態，對防止因氧化而造成反 低、及長期間持續初期反射率方面，或者避免另 護層方面均具優勢。 另外，半穿透型偏光板係藉由在上述中，形成 將光反射且穿透的半反射鏡等半穿透型反射層便 半穿透型偏光板通常設置於液晶單元背側，當液 置等使用於較明亮環境中之時，便將來自辨識側 的入射光反射並顯示出影像，而當在較閽暗的環 時，便形成使用半穿透型偏光板背後側所内建背 建電源，將影像顯示之形式的液晶顯示裝置等。換 φ 半穿透型偏光板將可有效使用於形成當在較明亮 可節約背光源等光源的使用能源，而當在較閽暗 可使用内建電源之形式的液晶顯示裝置等方面。 針對在偏光板上更疊層著相位差板的橢圓偏光 •偏光板進行説明。當將直線偏光改變為橢圓偏光 . 光，或將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光，或 偏光之偏光方向的情況時，便使用相位差板等。 直線偏光改變為圓偏光，或將圓偏光改變為直線 位差板，將使用通稱的1 / 4波長板（亦稱「λ / 4板 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-06/94105332 保護薄 當薄膜 層通常由 或偏光板 射率降 外設置保 由反射層 可獲得。 晶顯不裝 (顯示側） 境中之 光源等内 句話說’ 環境中便 環境中便 板或圓 或圓偏 改變直線 特別係將 偏光的相 」）。1/2 22 200540472 波長板（亦稱「λ / 2板」）通常係使用於改變直線偏光之偏 光方向的情況。

橢圓偏光板係將因超扭轉向列（S T N )型液晶顯示裝置之 液晶層的複折射，而對所衍生的著色（藍或黄）予以補償（防 止），可有效的使用於當顯示無上述著色狀況的黑白顯示等 方面。此外，最好為控制三次元折射率的偏光板，可對斜 向觀看液晶顯示裝置晝面時所發生的著色狀況進行補償 (防止）。圓偏光板對例如將影像彩色顯示的反射型液晶顯 示裝置，施行影像色調調整等方面頗為有效。且亦具有抗 反射機能。 相位差板可舉例如：對高分子素材施行單軸或雙軸延伸 處理的複折射性薄膜、液晶聚合物的配向薄膜、利用薄膜 支撐著液晶聚合物配向層者等。相位差板厚度亦無特別限 制，一般為2 0〜1 5 0 # m程度。 高分子素材可舉例如：聚乙烯醇、聚乙烯基丁醛、聚甲 基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥基乙基纖維素、羥基丙 基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚砜、聚 對苯二甲酸乙二酯、聚萘二酸乙二酯、聚醚砜、聚苯硫、 聚氧化苯烷、聚烯丙基砜、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、 聚氣乙烯、纖維素系聚合物、降冰片烯系樹脂，或該等的 二元系、三元系等各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。 該等高分子素材係利用延伸等而形成配向物（延伸薄膜）。 液晶聚合物可舉例如：賦予液晶配向性的共輛性直線狀 原子團（中源（m e s 〇 g e n e )，導入於聚合物主鏈或側鏈中的主 23 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

鏈型或側鏈型各種聚合物等。主鏈型液晶聚合物的具體 例，有如將賦予彎曲性間隔物部結合於中源的構造，例如： 向列配向性聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇 型聚合物等。側鏈型液晶聚合物的具體例，有如以聚矽氧 烷、聚丙烯酸酯、聚曱基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨 架，側鏈則透過由共軛性原子團所構成間隔部，具有由向 列配向賦予性對位取代環狀化合物單位所構成中源部的聚 合物等。該等液晶聚合物可例如對玻璃板上所形成聚醯亞 胺或聚乙烯醇等薄膜表面施行研磨處理、或經斜向蒸鍍著 氧化矽等的配向處理面上，展開液晶性聚合物溶液並施行 熱處理而獲得。 相位差板係可在對因各種波長板或液晶層的複折射所 衍生的著色或視覺等進行補償之目的下，配合使用的之具 適當相位差者，亦可疊層著2種以上相位差板而控制著相 位差等光學特性者等。 再者，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係將偏光板 或反射型偏光板、與相位差板適宜組合並疊層者。該橢圓 偏光板等係依形成（反射型）偏光板與相位差板的組合方 式，在液晶顯示裝置的製造過程中依序分別疊層而形成， 但如上述之預先形成橢圓偏光板等光學薄膜者，在品質安 定性與疊層作業性等方面均優越，且具有提昇液晶顯示裝 置等的製造效率之優點。 視覺補償薄膜係供當從非垂直於畫面而是略斜向方向 觀看液晶顯示裝置晝面時，仍可拓廣視野角形成較鮮明觀 24 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

看到影像的薄膜。此種視覺補償相位差板係由如相位差 板、液晶聚合物等配向薄膜、或在透明基材上支撐著液晶 聚合物等配向層者等所構成。通常相位差板係使用朝面方 向施行單軸延伸之具複折射的聚合物薄膜，相對於此，使 用為視覺補償薄膜用的相位差板，則使用朝面方向施行雙 軸延伸之具有複折射的聚合物薄膜，或者朝面方向單軸延 伸且亦朝厚度方向延伸並控制著厚度方向折射率之具複折 射的聚合物，或如傾斜配向薄膜之類的二方向延伸薄膜 等。傾斜配向薄膜可舉例如.·在聚合物薄膜上黏接著熱收縮 薄膜，並在因加熱所產生收縮力的作用下，對聚合物薄膜 施行延伸處理或/及收縮處理者，或者對液晶聚合物施行斜 向配向者等。相位差板的素材原料聚合物係可使用如同之 前在相位差板中所説明的聚合物，可配合防止因液晶單元 所產生相位差造成辨識角變化而衍生著色等狀況、或擴大 良好辨識視野角等目的，使用適當的相位差板。 再者，就達成良好辨識寬廣視野角的觀點等，最好使用 由三乙醯基纖維素薄膜支撐著液晶聚合物配向層（特別係 由圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層所構成光學非等向性層） 的光學補償相位差板。 貼合著偏光板與輝度提昇薄膜的偏光板通常係設置於 液晶單元背後側使用。輝度提昇薄膜係具有若因液晶顯示 裝置等的背光源、或來自背側的反射等原因而射入自然光 時，便將既定偏光軸的直線偏光或既定方向的圓偏光反 射，而其他光則穿透過的特性，而將輝度提昇薄膜與偏光 25 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472

板疊層的偏光板，則使來自背光源等光源的光入射而獲得 既定偏光狀態穿透光，且除上述既定偏光狀態以外的光並 未穿透過而被反射。經此輝度提昇薄膜面所反射的光，更 將經後側所設置反射層等而反転之後，再入射於輝度提昇 薄膜中，其中一部份或全部將形成既定偏光狀態的光並穿 透過，而達增加穿透過輝度提昇薄膜的光量，且供應不易 被偏光元件所吸收的偏光，藉由增加能利用於液晶顯示影 像顯示等之中的光量俾提升輝度。換句話說，當未使用輝 度提昇薄膜，利用背光源等從液晶單元背側射入並通過偏 光元件的光時，具有偏光方向未與偏光元件偏光軸一致的 光，幾乎均被偏光元件所吸收，並未穿透過偏光元件。換 句話說，雖依所使用偏光元件的特性而有不同，但是大致 約 5 0 %的光將被偏光元件所吸收，此部份便將減少能利用 於液晶影像顯示等方面的光量，造成影像變暗。輝度提昇 薄膜係重複著使具有未被偏光元件所吸收之偏光方向的 光，未入射於偏光元件中而由輝度提昇薄膜反射，然後更 透過後側所設置的反射層等進行反轉，並再度入射於輝度 提昇薄膜中，因為輝度提昇薄膜將使在二者間進行反射、 反轉的光，僅偏光方向形成能通過偏光元件之偏光方向的 偏光穿透過，並供應給偏光元件，因而便可將背光源等光 有效的使用於液晶顯示裝置的影像顯示方面，可使畫面變 明亮。 在輝度提昇薄膜與上述反射層等之間亦可設置擴散 板。經輝度提昇薄膜反射的偏光狀態之光將朝向上述反射 26 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332

200540472 層等，而所設置的擴散板則將使所通過的光均勻擴散同 解除偏光狀態，形成非偏光狀態。換句話說，自然光狀 光將重複著朝向反射層等，利用反射層等進行反射，然 再度通過擴散板並再次入射於輝度提昇薄膜中。依此藉 在輝度提昇薄膜與上述反射層等之間，設置將偏光復原 原本自然光的擴散板，便將維持著顯示晝面的明亮度， 時減少顯示晝面的明亮度不均，可提供均勻的明亮晝面 藉由設置該擴散板，第一次的入射光重複反射的次數將 分增加，連帶的亦提昇擴散板的擴散機能，判斷將可提 均勻的明亮顯示畫面。 上述輝度提昇薄膜係可適當的使用如：介電質之多層 膜或折射率非等向性不同的薄膜之多層疊層體，具有穿 過既定偏光軸直線偏光並將其餘的光反射的特性，或者 將膽固醇型液晶聚合物的配向薄膜或其配向液晶層支撐 薄膜基材上，將左旋或右旋中任一圓偏光反射而其餘的 則穿透過的特性等。 所以，上述使既定偏光軸直線偏光穿透過之形式的輝 提昇薄膜，藉由穿透光直接整合偏光軸並射入於偏光 中，便可抑制因偏光板所產生的吸收漏失，可有效率的 透過。另一方面，如膽固醇型液晶層使圓偏光穿透過之 式的輝度提昇薄膜，雖可直接入射於偏光元件中，但是 從抑制吸收漏失的觀點而言，最好使此圓偏光經相位差 直線偏光化之後才射入於偏光板中。另外，藉由此相位 板使用1 / 4波長板，便可將圓偏光轉換為直線偏光。 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 時 態 後 由 為 同 〇 充 供 薄 透 如 於 光 度 板 穿 形 就 板 差 27

200540472 對可見光域等寬廣波長具1 / 4波長板機能的相位 可利用將對如波長5 5 0 n m淡色光具1 / 4波長板機能 差板、與其他相位差特性的相位差層（如具1 / 2波長 的相位差層）重疊的方式等便可獲得。故在偏光板與 昇薄膜間所配置的相位差板，亦可由1層或2層以 位差層所構成。 另外，相關膽固醇型液晶層亦可利用組合著反射 異的層而形成重疊著2層或3層以上的配置構造， 可獲得在可見光域等寬廣波長範圍中將圓偏光反射 並據此可獲得寬廣波長範圍的穿透圓偏光。 再者，偏光板亦可如上述偏光分離型偏光板，由 與2層或3層以上的光學層疊層而成。所以，亦可 反射型偏光板或半穿透型偏光板、與相位差板組合 型橢圓偏光板或半穿透型橢圓偏光板等。 在偏光板上疊層著上述光學層的光學薄膜，可利 晶顯示裝置等的製造過程中依序個別疊層的方式而 而預先疊層形成的光學薄膜，品質安定性與組裝作 面均優越，具有可提升液晶顯示裝置等的製造步驟 點。疊層時可使用黏著層等適當黏著手段。當上述 與其他光學層進行黏著之際，該等光學軸可配合標 差特性等而設定為適當配置角度。 其次，針對抗靜電性光學薄膜、抗靜電性黏著型 膜之調製方法進行説明。 對上述光學薄膜1，利用含有水溶性或水分散性 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 差板， 的相位 板機能 輝度提 上的相 波長互 藉此便 的層， 偏光板 為上述 的反射 用在液 形成， 業等方 之優 偏光板 的相位 光學薄 導電性 28 200540472 聚合物與黏結劑成分的塗佈液，形成抗靜電層2。塗佈液 的固形份濃度最好調整為0 . 5〜5重量％程度。可將該塗佈液 使用逆轉塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、旋塗法、網版塗佈 法、噴射塗佈法、浸塗法、喷塗法等塗敷法施行塗佈，經 乾燥便可形成抗靜電層。

抗靜電層的厚度最好為5〜1 0 0 0 n in。抗靜電層的厚度就從 降低光學特性低的觀點通常設定在5 0 0 0 n m以下，若抗靜電 層厚度變厚，將因抗靜電層強度不夠，而容易在抗靜電層 内引起破壞情況，有無法獲得足夠密接性的情況。抗靜電 劑厚度係500nm以下，最好3 0 0 nm以下，尤以2 0 0 nm以下 為佳。就從確保密接性、抑制剝離帶電的觀點，最好在5nm 以上，尤以1 0 η ni以上為佳。另外，剝離帶電效果雖抗靜電 層厚度越厚越好，但是即便超過 200nm，效果仍與 200nm 以下為同等效果。由此觀點便設定為 5〜5 0 0 nm，最好 10〜300nm，尤以10〜200nm為佳。 在抗靜電層2形成之際，可對光學薄膜1施行活性化處 理。活性化處理可採用各種方法，例如電暈處理、低壓UV 處理、電漿處理等。活性化處理對抗靜電劑為使用含水溶 性導電聚合物之水溶液的情況時特別有效，可抑制塗佈該 水溶液時的抗拒狀況。活性化處理對光學薄膜1為聚烯烴 系樹脂、降冰片稀系樹脂的情況時特別有效。 黏著劑層3的形成係利用疊層於上述抗靜電層2上而實 施。形成方法並無特別的限，有如將黏著劑溶液塗佈於 抗靜電層上並乾燥的方法、利用設有黏著劑層的脫模薄片 29 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332

200540472 施行轉印的方法等。黏著劑層厚度並無特別限制，最 定為10〜40//m程度。 脫模薄片的構成材料可舉例如：紙；聚乙烯、聚丙 聚對苯二曱酸乙二酯等的合成樹脂薄膜；橡膠片、紙、 不織布、網、發泡薄片或金屬箔、該等的疊層體等適 片體等。在脫模薄片表面上為提高從黏著劑層3剝離 離性，配合需要亦可施行矽酮處理、長鏈烷基處理、 理等低黏著性剝離處理。 另外，對本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜的光學 或黏著劑層等各層，亦可藉由利用如水揚酸醋系化合 苯并酚系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯 合物、鎳錯合鹽系化合物等之紫外線吸收劑施行處理 種方式，而具有紫外線吸收能力等。 本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜頗適用於液晶 裝置等各種影像顯示裝置的形成等方面。液晶顯示裝 形成可依據習知方法實施。換句話說，液晶顯示裝置 係將液晶單元與抗靜電性黏著型光學薄膜、及配合需 照明系統等構成零件適當組裝，並組裝入驅動電路等 形成，本發明中除使用本發明的光學薄膜之外，其餘 特別限制，可依據習知方法。相關液晶單元亦是可使 TN型或STN型、7Γ型等任意形式等的任意形式液晶單 可形成在液晶單元單側或二側配置抗靜電性黏著 學薄膜的液晶顯示裝置、或者照明系統使用背光源或 板等的適當液晶顯示裝置。此情況下，本發明的光學 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 好設 稀、 布、 當薄 的剝 氟處 薄膜 物、 系化 等各 顯示 置的 一般 要的 便可 並無 用如 元。 型光 反射 薄膜 30 200540472 可設置於液晶單元的單侧或二側。當在二側設置光學薄膜 時，該等可為相同，亦可為互異。此外，當形成液晶顯示 裝置時，可將如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜 鏡陣列、透鏡陣列座、光擴散板、背光源等適當零件，在 適當位置處配置1層或2層以上。

其次，針對有機電激發光裝置（有機 E L顯示裝置）進行 説明。本發明的光學薄膜（偏光板等）亦可使用於有機 E L 顯示裝置方面。一般有機EL顯示裝置係在透明基板上依序 疊層著透明電極、有機發光層及金屬電極，而形成發光體 (有機電激發光發光體）。其中，有機發光層係各種有機薄 膜的疊層體，已知有如：由三苯基胺衍生物等所構成正孔植 入層、與由蒽等螢光性有機固體所構成發光層的疊層體； 或由此種發光層與茈衍生物等所構成電子植入層的疊層 體；或者該等的正孔植入層、發光層及電子植入層的疊層 體等等各種組合構造。 有機 EL顯示裝置係藉由對透明電極與金屬電極施加電 壓，而對有機發光層植入正孔與電子，再藉由該等正孔與 電子的再結合而所產生的能量激發螢光物質，當所激發螢 光物質返回基態時便放射出光的原理進行發光。中途再結 合的機制一般係如同二極體，由此現象可預測電流與發光 強度對施加電壓將隨整流性而顯示出強非線形性。 在有機 EL顯示裝置中為取出有機發光層的發光，不僅 至少其中一電極非為透明，且通常將由氧化銦錫（ΙΤ0)等透 明導電體所形成的透明電極使用作為陽極。另一方面，為 31 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 容易施行電子植入俾提升發光效率，陰極使用功函數較小 的物質將屬重要關鍵，通常係使用M g - A g、A 1 - L i等金屬電 才盈 Ο

在此種構造的有機 EL顯示裝置中，有機發光層係由厚 度1 0 n m程度的極薄膜所形成。因此，有機發光層亦如同透 明電極般，光將幾乎完全穿透過。結果，因為在非發光時 從透明基板表面所入射，經穿透過透明電極與有機發光層 再由金屬電極反射的光，將再度朝透明基板表面側射出， 因而當從外部辨識時，所觀看到的有機EL顯示裝置之顯示 面將如鏡面。 在含有利用電壓施加而發光的有機發光層表面側設置 透明電極，且在有機發光層背面側設置金屬電極之有機電 激發光發光體的有機EL顯示裝置中，可在透明電極表面側 設置偏光板，且在該等透明電極與偏光板間設置相位差板。 相位差板與偏光板係具有對從外部所入射並由金屬電 極反射的光進行偏光的作用，所以藉由此偏光作用，便具 有無法從外部辨識金屬電極鏡面的效果。特別係若相位差 板由1 / 4波長板構成，且將偏光板和相位差板與偏光方向 的夾角調整為7Γ / 4，便可完全遮蔽金屬電極鏡面。 換句話說，入射於此有機 E L顯示裝置中的外部光，將 利用偏光板而僅穿透過直線偏光成分。此直線偏光一般係 利用相位差板形成橢圓偏光，特別係當相位差板為1 / 4波 長板且偏光板及相位差板與偏光方向所成夾角為7Γ /4 時，便將形成圓偏光。 32 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 此圓偏光將穿透過透明基板、透明電極、有機薄膜，再 由金屬電極反射，然後再度穿透過有機薄膜、透明電極、 透明基板，並經由相位差板而再度轉為直線偏光。然後， 因為此直線偏光將正交於偏光板的偏光方向，因而無法穿 透過偏光板。結果，便可將金屬電極鏡面完全遮蔽。 〈實施例〉

以下，藉由實施例對本發明進行具體説明，惟本發明並 不受限於該等實施例。另外，各例中的「份」及「％」均是 屬於重量基準。 〈實施例1 > (光學薄膜之製作） 將厚度80//m的聚乙烯醇薄膜在40 °C碘水溶液中延伸5 倍之後，再於5 0 °C中乾燥4分鐘便獲得偏光元件。在此偏 光元件二側，使用聚乙烯醇系黏著劑黏貼著三乙醯基纖維 素薄膜而獲得偏光板。 (抗靜電層之形成） 使用黏結劑的聚胺曱酸乙酯系樹脂、與水溶性聚噻吩系 導電性聚合物，調製成固形份濃度0 . 8 %的水溶液。另外， 黏結劑與導電性聚合物的比率（重量比）係前者：後者 =1 0 : 1。將該溶液在上述偏光板單面上，塗佈成乾燥後的厚 度1 0 0 nm狀態，然後在8 0 °C中乾燥2分鐘而形成抗靜電層。 (黏著劑層之形成） 基底聚合物係使用將丙烯酸丁酯 9 5份、丙烯酸5份及 過氧化苯甲醯0 . 2份溶解於醋酸乙酯3 0 0份中，在攪拌下 33 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332

200540472 於約6 0 °C中進行反應6小時，而形成含重量平均分子I 萬之丙烯酸系聚合物的溶液（固形份 2 0 % )。在上述丙 系聚合物溶液中，添加相對於聚合物固形份 1 0 0份為 份之屬於異氰酸酯系多官能基性化合物的日本聚胺曱 酯公司製克羅德 L。將該黏著劑溶液利用反向輥式 法，在脫模薄膜（聚對苯二甲酸乙二酯基材：德亞 M R F 3 8，三菱化學聚酯製）上塗佈成乾燥後厚度為2 5 // 狀態，然後再於其上面賦予脫模薄膜並利用經熱風循 烤箱施行乾燥，而形成黏著劑層。 (抗靜電性黏著型光學薄膜之製作） 在上述抗靜電性偏光板表面上所形成的抗靜電層上 合著形成有黏著劑層的脫模薄膜，便製得抗靜電性黏 偏光板。 〈實施例2 > 除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺 φ 乙酯系樹脂改為丙烯酸系樹脂之外，其餘均依如同實 1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。 〈實施例3〉 除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺 乙酯系樹脂改為聚酯系樹脂之外，其餘均依與實施例 -同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。 〈實施例4 > 除在實施例1中，使用下述光學薄膜之外，其餘均 實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 "00 稀酸 0. 5 酸乙 塗佈 赫爾 m的 環式 ，貝占 著型 曱酸 施例 曱酸 1相 依與 34 200540472 (光學薄膜） 在厚度20//m的偏光元件單面上，貼合著厚度80//m的 三乙醯基纖維素薄膜，而另一面則貼合著在厚度8 0 // m的 三乙醯基纖維素薄膜單面上，已形成圓盤型液晶層的薄膜 之三乙醯基纖維素薄膜面，而製成具有光學補償層的偏光 板。將此圓盤型液晶層當作抗靜電層的形成面。 〈實施例5 >

除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺曱酸 乙酯系樹脂改為丙烯酸系樹脂，且光學薄膜使用實施例 4 中所製得薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作 抗靜電性黏著型偏光板。 〈實施例6 > 除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺曱酸 乙酯系樹脂改為聚酯系樹脂，且光學薄膜使用實施例4中 所製得薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗 φ 靜電性黏著型偏光板。 〈比較例 1 > 除在實施例1的抗靜電層形成中，未使用黏結劑的聚胺 曱酸乙酯系樹脂，僅使用水溶性聚噻吩系導電性聚合物之 外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型 偏光板。 〈比較例2 > 除在實施例1的抗靜電層形成中，未使用黏結劑的聚胺 曱酸乙酯系樹脂，僅使用水溶性聚噻吩系導電性聚合物， 35 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 且光學薄膜使用實施例4中所製得薄膜之外，其餘均依與 實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。 針對上述實施例與比較例所獲得抗靜電性黏著型光學 薄膜等，施行下述評估。評估結果如表1所示。 (黏著劑缺損）

將依上述所製得抗靜電性黏著型光學薄膜，利用湯木生 刀刃型穿鑿2 5 m m X 1 5 0 m m大小，並使裁剪端部接觸平滑S U S 板2 0次。然後，目視確認各抗靜電性黏著型光學薄膜的端 部，並依下述基準施行評估。 而且亦指出黏著劑缺損面積。結果如表1所示。 〇：黏著劑無缺損 △:無0 . 3 m m以上的黏著劑缺損。 X :有0 . 3 m m以上的黏著劑缺損。 (黏著劑殘留） 將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為 1 0 0 m m X 1 0 0 m m 大小，並貼附於液晶面板上。將此面板在4 0 °C x 9 2 %的加濕 條件下放置4 8小時後，用手從液晶面板上將抗靜電性黏著 型光學薄膜剝落，並依下述基準施行評估。 〇：無殘留黏著劑。 X :面板上殘留黏著劑。 (密接性） 將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為寬 2 5 mm X長 5 0 m ηι。在其黏著劑層面、與厚5 0 // m的聚對苯二曱酸乙二 酯薄膜表面上，貼合成接觸蒸鐘著铜-氧化錫之蒸經薄膜蒸 36 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 鍍面狀態之後，在2 3 °C / 6 0 % R Η環境下放置2 0分鐘以上。 然後，用手將聚對苯二甲酸乙二酯薄膜端部剝落，經確認 黏著劑已附著於聚對苯二甲酸乙二酯薄膜側之後’使用拉 張試驗機（島津製作所公司製，AautographAG-1)’依180‘ 剝離、拉張速度 3 0 0 m m / in i η，在室溫環境下（2 5 °C )，測定 抗靜電層與黏著劑層間的密接性（N/25 mm)。該密接性 (N/25mm)最好在 15N/25mm 以上。

(抗靜電效果） 將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為 1 OOmmxl 00mm 大小，並貼附於液晶面板上。將此面板放置於1 Ο Ο Ο 0 c d / m2 之具輝度的背光源上，使用靜電產生裝置ESD(SANKI公司 製，ESD-8012A)產生5kv靜電，而引起液晶配向凌亂現象。 使用瞬間複測光檢測器（大塚電子公司製，MCPD- 3 0 0 0 )，測 定因液晶配向凌亂所發生顯示不良的恢復時間（秒）。 (表面電阻値） 使用表面電阻測定器（三菱化學（股）製，H i r e s t a M C P - Η T 4 5 0 )，依施加電壓5 Ο Ο V測定抗靜電層的表面電阻率 (Ω /□)。 (外觀） 〇：抗靜電層表面無不均呈現均勻狀態。 X :抗靜電層表面出現不均，顯示特性發生不佳狀況。 37 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332 200540472 (表1 ) 黏著劑 缺損 黏著劑 殘留 密接性 (N/25mm) 顯示不良恢 復時間（秒） 表面電阻率 (Ω /□) 外觀 實施例1 〇 〇 15 <1 3. OxlO8 〇 實施例2 〇 〇 15 <1 2. OxlO8 〇 實施例3 〇 〇 16 <1 2. OxlO8 〇 實施例4 〇 〇 15 <1 4. OxlO8 〇 實施例5 〇 〇 15 <1 5. OxlO8 〇 實施例6 〇 〇 16 <1 4. 0χ10Έ 〇 比較例1 X X 9 <1 3.0x10' 〇 比較例2 X X 9 <1 4. OxlO9 〇 【圖式簡單說明】 圖1為本發明抗靜電性黏著型光學薄膜剖面圖之一例。

【主要元件符號說明】 1 光學薄膜 2 抗靜電層 3 黏著劑層

38 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94】05332

Claims (1)

1. 200540472 十、申請專利範圍： 1 . 一種抗靜電性光學薄膜，係在光學薄膜之至少單面上 疊層著抗靜電層者，其特徵為， 上述抗靜電層係包含水溶性或水分散性之導電性聚合 物；及黏結劑成分。 2 .如申請專利範圍第1項之抗靜電性光學薄膜，其中， 該水溶性或水分散性之導電性聚合物係聚11塞吩系聚合物。

   3. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性光學薄膜，其中， 該黏結劑成分係從聚胺基曱酸酯系樹脂、聚酯系樹脂及丙 烯酸系樹脂所構成組群中至少選擇1種的樹脂。 4. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性光學薄膜，其中， 該抗靜電層的表面電阻率係1 X 1 0 12 Ω / □以下。 5. —種抗靜電性黏著型光學薄膜，其特徵在於包含：申 請專利範圍第1項之抗靜電性光學薄膜；以及在該抗靜電 性光學薄膜之抗靜電層之與光學薄膜相反側的面上所疊層 的黏著劑層。 6. 如申請專利範圍第5項之抗靜電性黏著型光學薄膜， 其中，該黏著劑層係包含丙烯酸系黏著劑。 7. —種抗靜電性光學薄膜之製造方法，係用以製造申請 專利範圍第1至4項中任一項之抗靜電性光學薄膜者，其 特徵在於包含有： 在光學薄膜之至少單面上，塗佈著包含有水溶性或水分 散性之導電性聚合物、及黏結劑成分之塗佈液的步驟；以 及 39 312XP/發明說明書(補件)/94-06/94105332

   200540472 對所塗佈的該塗佈液施行乾燥而形 8 . —種抗靜電性黏著型光學薄膜之 造申請專利範圍第5或6項之抗靜電 徵在於包含有： 在光學薄膜之至少單面上，塗佈著 散性之導電性聚合物、及黏結劑成分 對所塗佈的該塗佈液施行乾燥而 驟；以及 在該抗靜電層上形成黏著劑層的 9 . 一種影像顯示裝置，係由申請專 任一項之抗靜電性光學薄膜、或申請 之抗靜電性黏著型光學薄膜所製得。 成抗靜電層的步驟。 製造方法，係用以製 性光學薄膜者，其特 包含有水溶性或水分 之塗佈液的步驟； 形成抗靜電層的步 步驟。 利範圍第1至4項中 專利範圍第5或6項

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