TWI393925B - 抗靜電性黏著型偏光板及其製造方法，液晶面板，及液晶顯示裝置 - Google Patents

Description

抗靜電性黏著型偏光板及其製造方法，液晶面板，及液晶顯示裝置

本發明係關於在光學薄膜至少單面上，疊層著抗靜電層的抗靜電性光學薄膜。此外，本發明係關於在上述抗靜電性光學薄膜的抗靜電層上，疊層著黏著劑層的抗靜電性黏著型光學薄膜。另外亦關於使用上述抗靜電性光學薄膜、抗靜電性黏著型光學薄膜的液晶顯示裝置、有機EL顯示裝置、PDP等影像顯示裝置。上述光學薄膜可舉例如：偏光板、相位差板、光學補償薄膜、輝度提昇薄膜，以及該等所疊層者等。

液晶顯示器等就從影像形成方式而言，在液晶單元二側配置偏光元件係屬必要不可缺，一般係黏貼著偏光板。而且在液晶面板上，除偏光板之外，尚有為提昇顯示器的顯示品質而使用各種光學元件。例如使用防止著色的相位差板、改善液晶顯示器視野角的視野角擴大薄膜，以及提高顯示器對比的輝度提昇薄膜等。該等薄膜統稱為「光學薄膜」。

該等光學薄膜通常於送達消費者手中之前的期間，為避免在輸送或製造步驟中造成光學薄膜表面遭受損傷或髒污，便在表面上貼合著表面保護薄膜。該表面保護薄膜在貼合於LCD等之後，將有剝離，或暫時剝離之後又再度貼合同一（或其他）表面保護薄膜的情況。然而，在剝離該表面保護薄膜之際將發生靜電，因此靜電便有LCD面板等的電路遭受破壞的問題發生。而且將對LCD面板內部的陣列元件(Annay Element)造成影響，此情況更將對液晶的配向造成影響而衍生不良狀況的問題發生。另外，表面保護薄膜不僅在剝離時將發生問題，亦將依製造步驟或消費者使用方法而造成光學薄膜間相互摩擦而發生同樣的問題。為解決上述問題，便有提案對偏光板等的光學薄膜賦予抗靜電性。例如有揭示在光學薄膜表面上設置抗靜電層之具有抗靜電層光學薄膜，或者在光學薄膜單側或二側設置透明導電層。

另一方面，當將光學薄膜貼附於液晶單元之際，通常係使用黏著劑。此外，光學薄膜與液晶單元、或光學薄膜間的黏著，通常為降低光損失，便將各個材料使用黏著劑進行密接。此種情況下，因為在使光學薄膜固接時將有不需要乾燥步驟等的優點，因而一般均使用預先將黏著劑在光學薄膜單側設製成黏著劑層的黏著型光學薄膜。

上述黏著型光學薄膜在使用之際，便裁剪為顯示器大小。當在使用步驟中施行處理之際，若黏著型光學薄膜的端部（裁斷部）接觸到身體或裝置，便將造成此部分發生黏著劑脫落的情況。依此若將黏著劑有脫落的黏著型光學薄膜貼附於液晶單元上，因為此脫落部分將無法密接，因而此部分便將反射著光導致發生顯示缺陷的問題。特別係最近朝顯示器窄邊框化演進，因上述端部所發生的缺失亦將導致顯示品質明顯降低。此外，在將上述黏著型光學薄膜貼附於液晶面板之後，當因異物混入等理由而從面板上剝落的情況時，最好不致發生在面板側殘留黏著劑（所謂「殘膠現象」）的不良情況，即重工性良好。

相關上述黏著型光學薄膜亦有賦予抗靜電性的提案。例如有提案使偏光板表面的防眩層含導電性粒子而對防眩層賦予抗靜電性，並在其背面形成黏著劑層（專利文獻1）。但是，專利文獻1的方法較難維持防眩層的特性，缺乏安定性。而且當在黏著型光學薄膜上設置抗靜電層時，為解除因面板內部所發生電壓的施加而衍生的液晶單元配向不良狀況，最好在光學薄膜與黏著劑層之間設置抗靜電層。此外，在光學薄膜與黏著劑層之間設有抗靜電層的抗靜電性黏著型光學薄膜，將有黏著劑缺損、殘膠的問題，以及重工性方面的問題。另外，對光學薄膜賦予抗靜電機能的方法，有提案使黏著劑層含有導電性物質的方法（專利文獻2）。但是，專利文獻2的方法較難維持防眩層的特性，缺乏安定性。

（專利文獻1）日本專利特開平10－239521號公報（專利文獻2）日本專利特開2003－294951號公報

本發明之目的在於提供一種在光學薄膜至少單面上，疊層著抗靜電層的抗靜電性黏著型光學薄膜，在該抗靜電層上形成黏著劑層的抗靜電性黏著型光學薄膜，屬於不易發生黏著劑缺損狀況，重工性良好者。此外，本發明之目的亦在於提供該等的製造方法。且本發明之目的亦在於提供使用該抗靜電型光學薄膜的影像顯示裝置。

本發明者等為解決上述問題而經深入鑽研結果，發現下述抗靜電性光學薄膜及抗靜電性黏著型光學薄膜遂完成本發明。

換句話說，本發明係在光學薄膜至少單面上疊層著抗靜電層的抗靜電性光學薄膜，上述抗靜電層係包含水溶性或水分散性導電性聚合物；及黏結劑成分。

上述抗靜電性光學薄膜中，水溶性或水分散性導電性聚合物最好為聚噻吩系聚合物。

上述抗靜電性光學薄膜中，上述黏結劑成分最好從聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂及丙烯酸系樹脂所構成組群中，至少選擇1種的樹脂。

上述抗靜電性光學薄膜中，上述抗靜電層的表面電阻率最好在1×10^{1 2} Ω/□以下。

再者，本發明係關於在上述抗靜電性光學薄膜之抗靜電層之與光學薄膜相反側的面上，更疊層著黏著劑層的抗靜電性黏著型光學薄膜。

上述本發明的抗靜電性黏著型光學薄膜，係認為黏著劑缺損及液晶面板重工時的殘膠發生主因，係因抗靜電層的設置造成光學薄膜與黏著劑層間的密接性降低所致。結果，藉由在抗靜電層使用水溶性或水分散性導電性聚合物及黏結劑成分，便可提升密接性。藉此，當處置抗靜電性黏著型光學薄膜之際，將可大幅降低觸及薄膜端部所造成的黏著劑部份缺損、或從液晶面板施行重工時所發生的殘膠狀況，可提升抗靜電性黏著型光學薄膜的處理性。此外，因為抗靜電層係設置於光學薄膜與黏著劑層之間，因而抗靜電效果佳，可抑制因表面保護薄膜的剝落而發生靜電、或因光學薄膜的摩擦而發生靜電的狀況，可防止發生電路破損、或液晶配向不良的情況。且光學薄膜、黏著劑層均可維持特性且安定性亦優越。

上述抗靜電性黏著型光學薄膜中，黏著劑層最好包含丙烯酸系黏著劑。

再者，本發明的抗靜電性光學薄膜之製造方法，係用以製造上述抗靜電性光學薄膜的方法，包含有：在光學薄膜至少單面上，塗佈著含有水溶性或水分散性導電性聚合物及黏結劑成分之塗佈液的步驟；以及對上述塗佈液施行乾燥而形成抗靜電層的步驟。

再者，本發明的抗靜電性黏著型光學薄膜之製造方法，係用以製造上述抗靜電性黏著型光學薄膜的方法，包含有：在光學薄膜至少單面上，塗佈著含有水溶性或水分散性導電性聚合物及黏結劑成分之塗佈液的步驟；對上述塗佈液施行乾燥而形成抗靜電層的步驟；以及在該抗靜電層上形成黏著劑層的步驟。

習知在光學薄膜表面上形成抗靜電層的方法，有如利用真空蒸鍍方式、濺鍍方式或離子蒸鍍方式等而形成透明導電層，但是該等方法的製造成本高且生產性差。依照本發明之製法，因為可利用塗佈等塗敷法形成抗靜電層，因而生產性佳。

再者，本發明係關於使用上述抗靜電性光學薄膜、或抗靜電性黏著型光學薄膜的影像顯示裝置。本發明的抗靜電性光學薄膜、抗靜電性黏著型光學薄膜，係配合液晶顯示裝置等影像顯示裝置的各種使用態樣，可使用1片或組合複數片使用。

本發明的抗靜電性黏著型光學薄膜係如圖1所示，在光學薄膜1單面上依序疊層著抗靜電層2、黏著劑層3。另外在圖1中，雖例示在光學薄膜1單面上設置黏著劑層3的情況，但是光學薄膜雙面亦可均設置黏著劑層3。而在另一面之黏著劑層3上具有抗靜電層2亦可。此外，本發明的抗靜電性光學薄膜係圖1中未具黏著劑層3的情況。

本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜的抗靜電層2，係形成抗靜電劑含有水溶性或水分散性導電性聚合物作為抗靜電劑，更含有黏結劑成分。

水溶性或水分散性導電性聚合物，係光學特性、外觀、抗靜電效果及抗靜電效果在加熱時、加濕時將呈現良好的安定性。導電性聚合物可舉例如：聚苯胺系、聚噻吩系、聚吡咯系、聚喹啉系等聚合物，該等之中，最好使用容易成為水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物的聚苯胺、聚噻吩等。特別以聚噻吩為佳。

水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物，可將形成抗靜電層時的塗佈液調製成水溶液或水分散液，該塗佈液並不需要使用非水系有機溶劑，因而將可抑制因該有機溶劑造成光學薄膜基材變質的情況。另外，水溶液或水分散液係由密接性而言，以僅有水作為溶劑為佳。另除水之外，尚可含有水系溶劑於親水性溶劑中。例如：甲醇、乙醇、正丙醇、異丙醇、正丁醇、異丁醇、第二丁醇、第三丁醇、正戊醇、異戊醇、第二戊醇、第三戊醇、1－乙基－1－丙醇、2－甲基－1－丁醇、正己醇、環己醇等醇類。

上述水溶性或水分散性聚苯胺的聚苯乙烯換算重量平均分子量，最好在500000以下，尤以300000以下為佳。水溶性或水分散性聚噻吩的聚苯乙烯換算重量平均分子量，最好在400000以下，尤以300000以下為佳。若重量平均分子量超越上述值，將有無法滿足上述水溶性或水分散性的傾向，當使用此種聚合物調製成塗佈液（水溶液或水分散液）時，將有該塗佈液中殘存著聚合物的固形份，或形成高黏度化而較難形成均勻膜厚之抗靜電層的傾向。

所謂「水溶性導電聚合物的水溶性」係指對水100g的溶解度在5g以上。上述水溶性導電聚合物對水100g的溶解度最好為20~30g。所謂「水分散性導電性聚合物」係指聚苯胺、聚噻吩等導電性聚合物，依微粒子狀分散於水中，水分散液不僅液黏度較小、容易施行薄膜塗敷，且塗佈層均勻性亦優越。其中，微粒子尺寸最好在1μm以下，較有利於抗靜電層的均勻性。

再者，上述聚苯胺、聚噻吩等水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物，最好分子中具有親水性官能基。親水性官能基可舉例如：磺基、胺基、醯胺基、亞胺基、四級銨鹽基、羥基、硫醇基、肼基、羧基、硫酸酯基、磷酸酯基、或該等的鹽等。藉由在分子內具有親水性官能基，便將容易溶於水中，較容易微粒子狀分散於水中，可輕易的調製得上述水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。

水溶性導電聚合物的市售物例有如：聚苯胺磺酸（三菱雷瑩公司製，聚苯乙烯換算重量平均分子量150000）等。水分散性導電聚合物的市售物例有如：聚噻吩系導電性聚合物（納佳格姆科技公司製，商品名：得納龍系列）等。

再者，抗靜電層的形成材料在與上述抗靜電劑一起提昇抗靜電劑的皮膜形成性、對光學薄膜的密接性等目的之下，亦可使用黏結劑成分。因為抗靜電劑為水溶性導電性聚合物、或水分散性導電性聚合物，係屬於水系材料，因而最好使用水溶性或分散性黏結劑成分。黏結劑成分的例子有如：聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂、聚醚系樹脂、纖維素系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、環氧樹脂、聚乙烯基吡咯烷酮、聚苯乙烯系樹脂、聚乙二醇、季戊四醇等。特別以聚胺甲酸乙酯系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂為佳。該等黏結劑成分可配合用途而適當的使用1種或2種以上。黏結劑成分的使用量係依抗靜電劑種類而異，通常相對於黏結劑成分100重量份，最好將水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物設為0.1~100重量份，尤以1~50重量份為佳。

上述抗靜電層的表面電阻率最好在1×10^{1 2} Ω/□以下，尤以1×10^{1 1} Ω/□以下為佳。當表面電阻率超過1×10^{1 2} Ω/□時，抗靜電機能將嫌不足，有容易發生表面保護薄膜剝離、因光學薄膜的摩擦而發生靜電並帶電、液晶單元電路遭受破壞、或液晶配向不良的狀況。

形成本發明抗靜電性黏著型光學薄膜之黏著劑層3的黏著劑並無特別的限制，可適當的選擇使用以如：丙烯酸系聚合物、矽酮系聚合物、聚酯、聚胺甲酸乙酯、聚醯胺、聚醚、氟系或橡膠系等聚合物為基底聚合物者。特別以使用光學透明性優越，顯示出適當濕潤性、凝聚性、黏著性的黏著特性，且耐候性或耐熱性等者為佳。顯示出此種特徵者最好使用丙烯酸系黏著劑。

丙烯酸系黏著劑係將以（甲基）丙烯酸烷酯單體單元為主骨架的丙烯酸系聚合物，當作基底聚合物。另外，（甲基）丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明的（甲基）係指相同涵義。構成丙烯酸系聚合物主骨架的（甲基）丙烯酸烷酯之烷基平均碳數為1~12者，（甲基）丙烯酸烷酯的具體例，可舉例如：（甲基）丙烯酸甲酯、（甲基）丙烯酸乙酯、（甲基）丙烯酸丁酯、（甲基）丙烯酸2－乙基己酯等，該等可單獨使用或組合使用。該等之中最好為烷基碳數1~9的（甲基）丙烯酸烷酯。

上述丙烯酸系聚合物中，在以改善黏著性與耐熱性之目的下，藉由共聚合而導入1種類以上的各種單體。此種共聚合單體的具體例，可舉例如：（甲基）丙烯酸2－羥基乙酯、（甲基）丙烯酸2－羥基丙酯、（甲基）丙烯酸4－羥基丁酯、（甲基）丙烯酸6－羥基己酯、（甲基）丙烯酸8－羥基辛酯、（甲基）丙烯酸10－羥基癸酯、（甲基）丙烯酸12－羥基月桂酯或丙烯酸（4－羥基甲基環己基）甲酯等含羥基單體；（甲基）丙烯酸、（甲基）丙烯酸羧乙酯、（甲基）丙烯酸羧戊酯、衣康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸等含羧基單體；順丁烯二酸酐、衣康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸的己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2－（甲基）丙烯醯胺－2－甲基丙烷磺酸、（甲基）丙烯醯胺丙烷磺酸、磺丙基（甲基）丙烯酸酯、（甲基）丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；磷酸2－羥基乙基丙烯醯酯等含燐酸基單體等。

此外，諸如：（甲基）丙烯醯胺、N,N－二甲基（甲基）丙烯醯胺、N－丁基（甲基）丙烯醯胺、N－羥甲基（甲基）丙烯醯胺、N－羥甲基丙烷（甲基）丙烯醯胺等（N－取代）醯胺系單體；（甲基）丙烯酸胺基乙酯、（甲基）丙烯酸N,N－二甲基胺基乙酯、（甲基）丙烯酸第三丁基胺基乙酯等（甲基）丙烯酸烷基胺基烷酯系單體；（甲基）丙烯酸甲氧基乙酯、（甲基）丙烯酸乙氧基乙酯等（甲基）丙烯酸烷氧基烷酯系單體；N－（甲基）丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N－（甲基）丙烯醯基－6－氧六亞甲基琥珀醯亞胺、N－（甲基）丙烯醯基－8－氧八亞甲基琥珀醯亞胺、N－丙烯醯基嗎啉等琥珀醯亞胺系單體等，亦是屬於改質目的單體的例子。

此外，亦可使用如：醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N－乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌、乙烯基吡、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基唑、乙烯基嗎啉、N－乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α－甲基苯乙烯、N－乙烯基己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；（甲基）丙烯酸縮水甘油酯等含環氧基丙烯酸系單體；（甲基）丙烯酸聚乙二醇酯、（甲基）丙烯酸聚丙二醇酯、（甲基）丙烯酸甲氧基乙二醇酯、（甲基）丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯等二醇系丙烯酸酯單體；（甲基）丙烯酸四氫糠酯、氟化（甲基）丙烯酸酯、矽酮（甲基）丙烯酸酯或丙烯酸酯2－甲氧基乙酯等丙烯酸酯系單體等。

該等之中，就從光學薄膜用途為對液晶單元的黏著性、黏著耐久性觀點而言，最好使用丙烯酸等含羧基單體。

丙烯酸系聚合物中的上述共聚合單體比率並無特別限制，但是最好重量比率為0.1~10%程度。

丙烯酸系聚合物的平均分子量並無特別限制，但是最好重量平均分子量為30萬~250萬程度。上述丙烯酸系聚合物的製造可使用各種週知方法進行製造，例如可適當選擇塊狀聚合法、溶液聚合法、懸浮聚合法等自由基聚合法。自由基聚合開始劑可使用偶氮系、過氧化物系等各種週知化合物。反應溫度通常為50~80℃程度，反應時間則為1~8小時。此外，上述製造法中最好為溶液聚合法，丙烯酸系聚合物的溶劑，一般係使用醋酸乙酯、甲苯等。溶液濃度通常設為20~80重量%程度。

橡膠系黏著劑的基底聚合物，可舉例如：天然橡膠、異戊二烯系橡膠、苯乙烯－丁二烯系橡膠、再生橡膠、聚異丁烯系橡膠，以及如：苯乙烯－異戊二烯－苯乙烯系橡膠、苯乙烯－丁二烯－苯乙烯系橡膠等。矽酮系黏著劑的基底聚合物可舉例如：二甲基聚矽氧烷、二苯基聚矽氧烷等，該等基底聚合物亦可使用經導入羧基等官能基的聚合物。

再者，上述黏著劑最好為含有交聯劑的黏著劑組成物。可調配於黏著劑中的多官能基化合物，有如：有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉例如：環氧系交聯劑、異氰酸酯系交聯劑、亞胺系交聯劑等。有機系交聯劑最好為異氰酸酯系交聯劑。多官能性金屬螯合物係多價金屬與有機化合物形成共價鍵或配位鍵者。多價金屬原子可舉例如：Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中形成共價鍵或配位鍵的原子有如氧原子等，有機化合物可舉例如：烷酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。

丙烯酸系聚合物等基底聚合物與交聯劑的調配比率並無特別限制，通常係相對於基底聚合物（固形份）100重量份，最好交聯劑（固形份）0.01~10重量份程度，尤以0.1~5重量份程度為佳。

此外，上述黏著劑中因應需要，亦可適當使用如：由黏著賦予劑、可塑劑、玻璃纖維、玻璃珠、金屬粉、其他無機粉末等所構成的填充劑，或如：顏料、著色劑、填充劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑、矽烷偶合劑等，而且在不脫逸本發明目的之範疇下，亦可適當的使用各種添加劑。另外，亦可添加含有微粒子且顯示光擴散性的黏著劑層等。

本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜中所使用的光學薄膜1，係使用於液晶顯示裝置等影像顯示裝置的形成方面，其種類並未有限制。光學薄膜可舉例如：偏光板。偏光板一般係使用在偏光元件的單面或雙面上，為具有透明保護薄膜者。

偏光元件並無特別的限制，可使用各種偏光元件。偏光元件可舉例如：使聚乙烯醇系薄膜、部分甲縮醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯．醋酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜中，吸附碘或雙色性染料之雙色性物質，再施行單軸延伸者，或者如：聚乙烯醇之脫水處理物、聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中，最好為由聚乙烯醇系薄膜與碘等雙色性物質所構成的偏光元件。該等偏光元件的厚度並無特別限制，一般係5~80μm程度。

將聚乙烯醇系薄膜利用碘染色並施行單軸延伸的偏光元件，例如將聚乙烯醇浸漬於碘的水溶液中而染色，然後再延伸為原長的3~7倍便可製成。因應需要，亦可含硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等，亦可浸漬於碘化鉀等的水溶液中。而且，配合需要，亦可在染色前便將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中施行水洗。藉由對聚乙烯醇系薄膜施行水洗，除可將聚乙烯醇系薄膜表面的髒污或抗結塊劑洗淨之外，尚藉由使聚乙烯醇系薄膜膨潤，而具有防止發生染色斑點等不均勻情況的效果。延伸可在經碘染色後才實施，亦可一邊施行染色一邊施行延伸，此外亦可在延伸之後才利用碘施行染色。亦可在硼酸或碘化鉀等的水溶液或水浴中施行延伸。

形成在上述偏光元件的單面或雙面上，所設置透明保護薄膜的材料，最好為透明性、機械性強度、熱安定性、水分阻斷性、等向性等均優越者。例如：聚對苯二甲酸乙二酯或聚萘二酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯基纖維素或三乙醯基纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物、聚苯乙烯或丙烯腈．苯乙烯共聚物（AS樹脂）等苯乙烯系聚合物；聚碳酸酯系聚合物等。此外，如：聚乙烯、聚丙烯、具環系與降冰片烯構造的聚烯烴、乙烯．丙烯共聚物之類的聚烯烴系聚合物；氯乙烯系聚合物、尼龍或芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物；醯亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、偏氯乙烯系聚合物、乙烯基丁醛系聚合物、芳香酯系聚合物、聚氧亞甲基系聚合物、環氧系聚合物，或上述聚合物的摻合物等亦屬於形成上述透明保護薄膜的聚合物例。透明保護薄膜可形成丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯酸胺甲酸乙酯系、環氧系、矽酮系等熱硬化型、紫外線硬化型樹脂的硬化層。

此外，可舉例如在日本專利特開2001－343529號公報(WO01/37007)中所揭聚合物薄膜，例如含有(A)側鏈具取代及/或非取代醯亞胺基的熱可塑性樹脂、及(B)側鏈具取代及/或非取代苯基及硝基的熱可塑性樹脂之樹脂組成物。具體例有如含有：由異丁烯與N－甲基順丁烯二醯亞胺所構成交叉共聚物、及丙烯腈．苯乙烯共聚物的樹脂組成物薄膜。薄膜係可使用由樹脂組成物之混合擠出物等所構成的薄膜。

保護薄膜的厚度雖可適當決定，但是一般就強度或處置性等作業性、薄膜性等觀點而言，最好為1~500μm程度。特別以5~200μm為佳。

保護薄膜就從偏光特性、耐久性等觀點，最好為三乙醯基纖維素等纖維素系聚合物。特別以三乙醯基纖維素薄膜為佳。另外，當在偏光元件二側設置保護薄膜時，亦可表背面均使用由相同聚合物材料所構成的保護薄膜，亦可使用由不同聚合物材料等所構成的保護薄膜。上述偏光元件與保護薄膜通常係透過水系黏著劑等而密接。水系黏著劑可例示如：異氰酸酯系黏著劑、聚乙烯醇系黏著劑、明膠系黏著劑、乙烯系乳膠系、水系聚胺甲酸乙酯、水系聚酯等。

對上述透明保護薄膜未黏貼著偏光元件之一面，可施行硬塗層或抗反射處理，或者施行以防黏、擴散及防眩為目的之處理。

硬塗處理係在防止偏光板表面受損傷等目的下實施，例如可將由丙烯酸系、矽酮系等適當紫外線硬化型樹脂所形成硬度、平滑特性等均優越的硬化皮膜，附加於透明保護薄膜表面的方式等便可形成。抗反射處理係在防止偏光板表面的外光反射之目的下實施，利用習知的抗反射膜等形成方式便可達成。此外，防黏處理係在防止與其他構件等鄰接層間發生密黏之目的下實施。

再者，防眩處理係在防止偏光板表面發生將外光反射，而阻礙偏光板穿透光辨識等目的下實施，利用如砂磨方式或浮雕加工方式形成粗面化方式、或者調配入透明微粒子的方式等適當方式，便可藉此對透明保護薄膜表面賦予細微凹凸構造而形成。形成上述表面細微凹凸構造中所含微粒子，可使用如由平均粒徑0.5~50μm的二氧化矽、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化錫、氧化銦、氧化鎘、氧化銻等所構成具導電性的無機系微粒子，或由交聯或未交聯聚合物等所構成有機系微粒子（包括球珠）等透明微粒子。當形成表面細微凹凸構造時，微粒子使用量係相對於形成表面細微凹凸構造的透明樹脂100重量份，一般為2~50重量份程度，最好為5~25重量份。防眩層亦可兼具將偏光板穿透光擴散而擴大視覺等的擴散層（視覺擴大機能等）。

另外，上述抗反射層、防黏層、擴散層或防眩層等，除可設置於透明保護薄膜上之外，亦可在透明保護薄膜外另外形成為光學層再供設置。

再者，光學薄膜可舉例如：反射板、反穿透板、相位差板（包括1/2波長板或1/4波長板等波長板）、視覺補償薄膜、輝度提昇薄膜等，在形成液晶顯示裝置等元件時所使用之構成光學層者。該等可單獨使用為光學薄膜，亦可在實際使用時便疊層於上述偏光板上，且可使用1層或2層以上。

特別係以在偏光板上更疊層著反射板或半穿透反射板的反射型偏光板或半穿透型偏光板、在偏光板上更疊層著相位差板的橢圓偏光板或圓偏光板、在偏光板上更疊層著視覺補償薄膜的廣視野角偏光板、或在偏光板上更疊層著輝度提昇薄膜的偏光板為佳。

反射型偏光板係屬於在偏光板上設置反射層者，供使用於形成將來自辨識側（顯示側）的入射光反射，並顯示之形式的液晶顯示裝置等方面，可省略內建背光源等光源，具有容易達液晶顯示裝置薄型化等優點。在反射型偏光板的形成方面，配合需要可採行隔著透明保護層等，在偏光板單面上設置由金屬等所構成反射層之方式等適當方式。

反射型偏光板的具體例，有如在因應需要經施行粗糙化處理過的透明保護薄膜單面上，附設由鋁等反射性金屬所構成箔或蒸鍍膜而形成反射層者等。此外，尚可如使上述透明保護薄膜中含微粒子而形成表面細微凹凸構造，形成其上面具有細微凹凸構造反射層的偏光板等。上述細微凹凸構造反射層係防止因將入射光亂反射並擴散，而發生指向性或閃爍外觀狀況，具有能抑制明暗不均的優點等。另外，含微粒子的保護薄膜亦具有更加抑制當入射光及其反射光穿過時，擴散並形成明暗不均狀況的優點等。在反映出透明保護薄膜表面細微凹凸構造的細微凹凸構造反射層形成方面，可採取例如真空蒸鍍方式、離子蒸鍍方式、濺鍍方式或電鍍方式等適當方式，將金屬直接附設於透明保護層表面的方法等。

反射板亦可取代將上述偏光板直接形成於透明保護薄膜上的方式，改為使用在準用為此透明薄膜的適當薄膜上，設置反射層的反射薄片等。另外，因為反射層通常由金屬所構成，因而最好為反射面由透明保護薄膜或偏光板等被覆狀態的使用形態，對防止因氧化而造成反射率降低、及長期間持續初期反射率方面，或者避免另外設置保護層方面均具優勢。

另外，半穿透型偏光板係藉由在上述中，形成由反射層將光反射且穿透的半反射鏡等半穿透型反射層便可獲得。半穿透型偏光板通常設置於液晶單元背側，當液晶顯示裝置等使用於較明亮環境中之時，便將來自辨識側（顯示側）的入射光反射並顯示出影像，而當在較閽暗的環境中之時，便形成使用半穿透型偏光板背後側所內建背光源等內建電源，將影像顯示之形式的液晶顯示裝置等。換句話說，半穿透型偏光板將可有效使用於形成當在較明亮環境中便可節約背光源等光源的使用能源，而當在較閽暗環境中便可使用內建電源之形式的液晶顯示裝置等方面。

針對在偏光板上更疊層著相位差板的橢圓偏光板或圓偏光板進行說明。當將直線偏光改變為橢圓偏光或圓偏光，或將橢圓偏光或圓偏光改變為直線偏光，或改變直線偏光之偏光方向的情況時，便使用相位差板等。特別係將直線偏光改變為圓偏光，或將圓偏光改變為直線偏光的相位差板，將使用通稱的1/4波長板（亦稱「λ/4板」）。1/2波長板（亦稱「λ/2板」）通常係使用於改變直線偏光之偏光方向的情況。

橢圓偏光板係將因超扭轉向列(STN)型液晶顯示裝置之液晶層的複折射，而對所衍生的著色（藍或黃）予以補償（防止），可有效的使用於當顯示無上述著色狀況的黑白顯示等方面。此外，最好為控制三次元折射率的偏光板，可對斜向觀看液晶顯示裝置畫面時所發生的著色狀況進行補償（防止）。圓偏光板對例如將影像彩色顯示的反射型液晶顯示裝置，施行影像色調調整等方面頗為有效。且亦具有抗反射機能。

相位差板可舉例如：對高分子素材施行單軸或雙軸延伸處理的複折射性薄膜、液晶聚合物的配向薄膜、利用薄膜支撐著液晶聚合物配向層者等。相位差板厚度亦無特別限制，一般為20~150μm程度。

高分子素材可舉例如：聚乙烯醇、聚乙烯基丁醛、聚甲基乙烯醚、聚丙烯酸羥基乙酯、羥基乙基纖維素、羥基丙基纖維素、甲基纖維素、聚碳酸酯、聚芳香酯、聚碸、聚對苯二甲酸乙二酯、聚萘二酸乙二酯、聚醚碸、聚苯硫、聚氧化苯烷、聚烯丙基碸、聚醯胺、聚醯亞胺、聚烯烴、聚氯乙烯、纖維素系聚合物、降冰片烯系樹脂，或該等的二元系、三元系等各種共聚物、接枝共聚物、摻合物等。該等高分子素材係利用延伸等而形成配向物（延伸薄膜）。

液晶聚合物可舉例如：賦予液晶配向性的共軛性直線狀原子團（中源(mesogene)，導入於聚合物主鏈或側鏈中的主鏈型或側鏈型各種聚合物等。主鏈型液晶聚合物的具體例，有如將賦予彎曲性間隔物部結合於中源的構造，例如：向列配向性聚酯系液晶性聚合物、圓盤型聚合物或膽固醇型聚合物等。側鏈型液晶聚合物的具體例，有如以聚矽氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯為主鏈骨架，側鏈則透過由共軛性原子團所構成間隔部，具有由向列配向賦予性對位取代環狀化合物單位所構成中源部的聚合物等。該等液晶聚合物可例如對玻璃板上所形成聚醯亞胺或聚乙烯醇等薄膜表面施行研磨處理、或經斜向蒸鍍著氧化矽等的配向處理面上，展開液晶性聚合物溶液並施行熱處理而獲得。

相位差板係可在對因各種波長板或液晶層的複折射所衍生的著色或視覺等進行補償之目的下，配合使用的之具適當相位差者，亦可疊層著2種以上相位差板而控制著相位差等光學特性者等。

再者，上述橢圓偏光板或反射型橢圓偏光板係將偏光板或反射型偏光板、與相位差板適宜組合並疊層者。該橢圓偏光板等係依形成（反射型）偏光板與相位差板的組合方式，在液晶顯示裝置的製造過程中依序分別疊層而形成，但如上述之預先形成橢圓偏光板等光學薄膜者，在品質安定性與疊層作業性等方面均優越，且具有提昇液晶顯示裝置等的製造效率之優點。

視覺補償薄膜係供當從非垂直於畫面而是略斜向方向觀看液晶顯示裝置畫面時，仍可拓廣視野角形成較鮮明觀看到影像的薄膜。此種視覺補償相位差板係由如相位差板、液晶聚合物等配向薄膜、或在透明基材上支撐著液晶聚合物等配向層者等所構成。通常相位差板係使用朝面方向施行單軸延伸之具複折射的聚合物薄膜，相對於此，使用為視覺補償薄膜用的相位差板，則使用朝面方向施行雙軸延伸之具有複折射的聚合物薄膜，或者朝面方向單軸延伸且亦朝厚度方向延伸並控制著厚度方向折射率之具複折射的聚合物，或如傾斜配向薄膜之類的二方向延伸薄膜等。傾斜配向薄膜可舉例如：在聚合物薄膜上黏接著熱收縮薄膜，並在因加熱所產生收縮力的作用下，對聚合物薄膜施行延伸處理或/及收縮處理者，或者對液晶聚合物施行斜向配向者等。相位差板的素材原料聚合物係可使用如同之前在相位差板中所說明的聚合物，可配合防止因液晶單元所產生相位差造成辨識角變化而衍生著色等狀況、或擴大良好辨識視野角等目的，使用適當的相位差板。

再者，就達成良好辨識寬廣視野角的觀點等，最好使用由三乙醯基纖維素薄膜支撐著液晶聚合物配向層（特別係由圓盤型液晶聚合物之傾斜配向層所構成光學非等向性層）的光學補償相位差板。

貼合著偏光板與輝度提昇薄膜的偏光板通常係設置於液晶單元背後側使用。輝度提昇薄膜係具有若因液晶顯示裝置等的背光源、或來自背側的反射等原因而射入自然光時，便將既定偏光軸的直線偏光或既定方向的圓偏光反射，而其他光則穿透過的特性，而將輝度提昇薄膜與偏光板疊層的偏光板，則使來自背光源等光源的光入射而獲得既定偏光狀態穿透光，且除上述既定偏光狀態以外的光並未穿透過而被反射。經此輝度提昇薄膜面所反射的光，更將經後側所設置反射層等而反転之後，再入射於輝度提昇薄膜中，其中一部份或全部將形成既定偏光狀態的光並穿透過，而達增加穿透過輝度提昇薄膜的光量，且供應不易被偏光元件所吸收的偏光，藉由增加能利用於液晶顯示影像顯示等之中的光量俾提升輝度。換句話說，當未使用輝度提昇薄膜，利用背光源等從液晶單元背側射入並通過偏光元件的光時，具有偏光方向未與偏光元件偏光軸一致的光，幾乎均被偏光元件所吸收，並未穿透過偏光元件。換句話說，雖依所使用偏光元件的特性而有不同，但是大致約50%的光將被偏光元件所吸收，此部份便將減少能利用於液晶影像顯示等方面的光量，造成影像變暗。輝度提昇薄膜係重複著使具有未被偏光元件所吸收之偏光方向的光，未入射於偏光元件中而由輝度提昇薄膜反射，然後更透過後側所設置的反射層等進行反轉，並再度入射於輝度提昇薄膜中，因為輝度提昇薄膜將使在二者間進行反射、反轉的光，僅偏光方向形成能通過偏光元件之偏光方向的偏光穿透過，並供應給偏光元件，因而便可將背光源等光有效的使用於液晶顯示裝置的影像顯示方面，可使畫面變明亮。

在輝度提昇薄膜與上述反射層等之間亦可設置擴散板。經輝度提昇薄膜反射的偏光狀態之光將朝向上述反射層等，而所設置的擴散板則將使所通過的光均勻擴散同時解除偏光狀態，形成非偏光狀態。換句話說，自然光狀態光將重複著朝向反射層等，利用反射層等進行反射，然後再度通過擴散板並再次入射於輝度提昇薄膜中。依此藉由在輝度提昇薄膜與上述反射層等之間，設置將偏光復原為原本自然光的擴散板，便將維持著顯示畫面的明亮度，同時減少顯示畫面的明亮度不均，可提供均勻的明亮畫面。藉由設置該擴散板，第一次的入射光重複反射的次數將充分增加，連帶的亦提昇擴散板的擴散機能，判斷將可提供均勻的明亮顯示畫面。

上述輝度提昇薄膜係可適當的使用如：介電質之多層薄膜或折射率非等向性不同的薄膜之多層疊層體，具有穿透過既定偏光軸直線偏光並將其餘的光反射的特性，或者如將膽固醇型液晶聚合物的配向薄膜或其配向液晶層支撐於薄膜基材上，將左旋或右旋中任一圓偏光反射而其餘的光則穿透過的特性等。

所以，上述使既定偏光軸直線偏光穿透過之形式的輝度提昇薄膜，藉由穿透光直接整合偏光軸並射入於偏光板中，便可抑制因偏光板所產生的吸收漏失，可有效率的穿透過。另一方面，如膽固醇型液晶層使圓偏光穿透過之形式的輝度提昇薄膜，雖可直接入射於偏光元件中，但是就從抑制吸收漏失的觀點而言，最好使此圓偏光經相位差板直線偏光化之後才射入於偏光板中。另外，藉由此相位差板使用1/4波長板，便可將圓偏光轉換為直線偏光。

對可見光域等寬廣波長具1/4波長板機能的相位差板，可利用將對如波長550nm淡色光具1/4波長板機能的相位差板、與其他相位差特性的相位差層（如具1/2波長板機能的相位差層）重疊的方式等便可獲得。故在偏光板與輝度提昇薄膜間所配置的相位差板，亦可由1層或2層以上的相位差層所構成。

另外，相關膽固醇型液晶層亦可利用組合著反射波長互異的層而形成重疊著2層或3層以上的配置構造，藉此便可獲得在可見光域等寬廣波長範圍中將圓偏光反射的層，並據此可獲得寬廣波長範圍的穿透圓偏光。

再者，偏光板亦可如上述偏光分離型偏光板，由偏光板與2層或3層以上的光學層疊層而成。所以，亦可為上述反射型偏光板或半穿透型偏光板、與相位差板組合的反射型橢圓偏光板或半穿透型橢圓偏光板等。

在偏光板上疊層著上述光學層的光學薄膜，可利用在液晶顯示裝置等的製造過程中依序個別疊層的方式而形成，而預先疊層形成的光學薄膜，品質安定性與組裝作業等方面均優越，具有可提升液晶顯示裝置等的製造步驟之優點。疊層時可使用黏著層等適當黏著手段。當上述偏光板與其他光學層進行黏著之際，該等光學軸可配合標的相位差特性等而設定為適當配置角度。

其次，針對抗靜電性光學薄膜、抗靜電性黏著型光學薄膜之調製方法進行說明。

對上述光學薄膜1，利用含有水溶性或水分散性導電性聚合物與黏結劑成分的塗佈液，形成抗靜電層2。塗佈液的固形份濃度最好調整為0.5~5重量%程度。可將該塗佈液使用逆轉塗佈、凹版塗佈等輥塗佈法、旋塗法、網版塗佈法、噴射塗佈法、浸塗法、噴塗法等塗敷法施行塗佈，經乾燥便可形成抗靜電層。

抗靜電層的厚度最好為5~1000nm。抗靜電層的厚度就從降低光學特性低的觀點通常設定在5000nm以下，若抗靜電層厚度變厚，將因抗靜電層強度不夠，而容易在抗靜電層內引起破壞情況，有無法獲得足夠密接性的情況。抗靜電劑厚度係500nm以下，最好300nm以下，尤以200nm以下為佳。就從確保密接性、抑制剝離帶電的觀點，最好在5nm以上，尤以10nm以上為佳。另外，剝離帶電效果雖抗靜電層厚度越厚越好，但是即便超過200nm，效果仍與200nm以下為同等效果。由此觀點便設定為5~500nm，最好10~300nm，尤以10~200nm為佳。

在抗靜電層2形成之際，可對光學薄膜1施行活性化處理。活性化處理可採用各種方法，例如電暈處理、低壓UV處理、電漿處理等。活性化處理對抗靜電劑為使用含水溶性導電聚合物之水溶液的情況時特別有效，可抑制塗佈該水溶液時的抗拒狀況。活性化處理對光學薄膜1為聚烯烴系樹脂、降冰片烯系樹脂的情況時特別有效。

黏著劑層3的形成係利用疊層於上述抗靜電層2上而實施。形成方法並無特別的限制，有如將黏著劑溶液塗佈於抗靜電層上並乾燥的方法、利用設有黏著劑層的脫模薄片施行轉印的方法等。黏著劑層厚度並無特別限制，最好設定為10~40μm程度。

脫模薄片的構成材料可舉例如：紙；聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯等的合成樹脂薄膜；橡膠片、紙、布、不織布、網、發泡薄片或金屬箔、該等的疊層體等適當薄片體等。在脫模薄片表面上為提高從黏著劑層3剝離的剝離性，配合需要亦可施行矽酮處理、長鏈烷基處理、氟處理等低黏著性剝離處理。

另外，對本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜的光學薄膜或黏著劑層等各層，亦可藉由利用如水楊酸酯系化合物、苯并酚系化合物、苯并三唑系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、鎳錯合鹽系化合物等之紫外線吸收劑施行處理等各種方式，而具有紫外線吸收能力等。

本發明之抗靜電性黏著型光學薄膜頗適用於液晶顯示裝置等各種影像顯示裝置的形成等方面。液晶顯示裝置的形成可依據習知方法實施。換句話說，液晶顯示裝置一般係將液晶單元與抗靜電性黏著型光學薄膜、及配合需要的照明系統等構成零件適當組裝，並組裝入驅動電路等便可形成，本發明中除使用本發明的光學薄膜之外，其餘並無特別限制，可依據習知方法。相關液晶單元亦是可使用如TN型或STN型、π型等任意形式等的任意形式液晶單元。

可形成在液晶單元單側或二側配置抗靜電性黏著型光學薄膜的液晶顯示裝置、或者照明系統使用背光源或反射板等的適當液晶顯示裝置。此情況下，本發明的光學薄膜可設置於液晶單元的單側或二側。當在二側設置光學薄膜時，該等可為相同，亦可為互異。此外，當形成液晶顯示裝置時，可將如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列座、光擴散板、背光源等適當零件，在適當位置處配置1層或2層以上。

其次，針對有機電激發光裝置（有機EL顯示裝置）進行說明。本發明的光學薄膜（偏光板等）亦可使用於有機EL顯示裝置方面。一般有機EL顯示裝置係在透明基板上依序疊層著透明電極、有機發光層及金屬電極，而形成發光體（有機電激發光發光體）。其中，有機發光層係各種有機薄膜的疊層體，已知有如：由三苯基胺衍生物等所構成正孔植入層、與由蒽等螢光性有機固體所構成發光層的疊層體；或由此種發光層與苝衍生物等所構成電子植入層的疊層體；或者該等的正孔植入層、發光層及電子植入層的疊層體等等各種組合構造。

有機EL顯示裝置係藉由對透明電極與金屬電極施加電壓，而對有機發光層植入正孔與電子，再藉由該等正孔與電子的再結合而所產生的能量激發螢光物質，當所激發螢光物質返回基態時便放射出光的原理進行發光。中途再結合的機制一般係如同二極體，由此現象可預測電流與發光強度對施加電壓將隨整流性而顯示出強非線形性。

在有機EL顯示裝置中為取出有機發光層的發光，不僅至少其中一電極非為透明，且通常將由氧化銦錫(ITO)等透明導電體所形成的透明電極使用作為陽極。另一方面，為容易施行電子植入俾提升發光效率，陰極使用功函數較小的物質將屬重要關鍵，通常係使用Mg－Ag、Al－Li等金屬電極。

在此種構造的有機EL顯示裝置中，有機發光層係由厚度10nm程度的極薄膜所形成。因此，有機發光層亦如同透明電極般，光將幾乎完全穿透過。結果，因為在非發光時從透明基板表面所入射，經穿透過透明電極與有機發光層再由金屬電極反射的光，將再度朝透明基板表面側射出，因而當從外部辨識時，所觀看到的有機EL顯示裝置之顯示面將如鏡面。

在含有利用電壓施加而發光的有機發光層表面側設置透明電極，且在有機發光層背面側設置金屬電極之有機電激發光發光體的有機EL顯示裝置中，可在透明電極表面側設置偏光板，且在該等透明電極與偏光板間設置相位差板。

相位差板與偏光板係具有對從外部所入射並由金屬電極反射的光進行偏光的作用，所以藉由此偏光作用，便具有無法從外部辨識金屬電極鏡面的效果。特別係若相位差板由1/4波長板構成，且將偏光板和相位差板與偏光方向的夾角調整為π/4，便可完全遮蔽金屬電極鏡面。

換句話說，入射於此有機EL顯示裝置中的外部光，將利用偏光板而僅穿透過直線偏光成分。此直線偏光一般係利用相位差板形成橢圓偏光，特別係當相位差板為1/4波長板且偏光板及相位差板與偏光方向所成夾角為π/4時，便將形成圓偏光。

此圓偏光將穿透過透明基板、透明電極、有機薄膜，再由金屬電極反射，然後再度穿透過有機薄膜、透明電極、透明基板，並經由相位差板而再度轉為直線偏光。然後，因為此直線偏光將正交於偏光板的偏光方向，因而無法穿透過偏光板。結果，便可將金屬電極鏡面完全遮蔽。

＜實施例＞

以下，藉由實施例對本發明進行具體說明，惟本發明並不受限於該等實施例。另外，各例中的「份」及「%」均是屬於重量基準。

＜實施例1＞ （光學薄膜之製作）

將厚度80μm的聚乙烯醇薄膜在40℃碘水溶液中延伸5倍之後，再於50℃中乾燥4分鐘便獲得偏光元件。在此偏光元件二側，使用聚乙烯醇系黏著劑黏貼著三乙醯基纖維素薄膜而獲得偏光板。

（抗靜電層之形成）

使用黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂、與水溶性聚噻吩系導電性聚合物，調製成固形份濃度0.8%的水溶液。另外，黏結劑與導電性聚合物的比率（重量比）係前者：後者＝10：1。將該溶液在上述偏光板單面上，塗佈成乾燥後的厚度100nm狀態，然後在80℃中乾燥2分鐘而形成抗靜電層。

（黏著劑層之形成）

基底聚合物係使用將丙烯酸丁酯95份、丙烯酸5份及過氧化苯甲醯0.2份溶解於醋酸乙酯300份中，在攪拌下於約60℃中進行反應6小時，而形成含重量平均分子量200萬之丙烯酸系聚合物的溶液（固形份20%）。在上述丙烯酸系聚合物溶液中，添加相對於聚合物固形份100份為0.5份之屬於異氰酸酯系多官能基性化合物的日本聚胺甲酸乙酯公司製克羅德L。將該黏著劑溶液利用反向輥式塗佈法，在脫模薄膜（聚對苯二甲酸乙二酯基材：德亞赫爾MRF38，三菱化學聚酯製）上塗佈成乾燥後厚度為25μm的狀態，然後再於其上面賦予脫模薄膜並利用經熱風循環式烤箱施行乾燥，而形成黏著劑層。

（抗靜電性黏著型光學薄膜之製作）

在上述抗靜電性偏光板表面上所形成的抗靜電層上，貼合著形成有黏著劑層的脫模薄膜，便製得抗靜電性黏著型偏光板。

＜實施例2＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂改為丙烯酸系樹脂之外，其餘均依如同實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

＜實施例3＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂改為聚酯系樹脂之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

＜實施例4＞

除在實施例1中，使用下述光學薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

（光學薄膜）

在厚度20μm的偏光元件單面上，貼合著厚度80μm的三乙醯基纖維素薄膜，而另一面則貼合著在厚度80μm的三乙醯基纖維素薄膜單面上，已形成圓盤型液晶層的薄膜之三乙醯基纖維素薄膜面，而製成具有光學補償層的偏光板。將此圓盤型液晶層當作抗靜電層的形成面。

＜實施例5＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂改為丙烯酸系樹脂，且光學薄膜使用實施例4中所製得薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

＜實施例6＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，將黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂改為聚酯系樹脂，且光學薄膜使用實施例4中所製得薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

＜比較例1＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，未使用黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂，僅使用水溶性聚噻吩系導電性聚合物之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

＜比較例2＞

除在實施例1的抗靜電層形成中，未使用黏結劑的聚胺甲酸乙酯系樹脂，僅使用水溶性聚噻吩系導電性聚合物，且光學薄膜使用實施例4中所製得薄膜之外，其餘均依與實施例1相同的方法製作抗靜電性黏著型偏光板。

針對上述實施例與比較例所獲得抗靜電性黏著型光學薄膜等，施行下述評估。評估結果如表1所示。

（黏著劑缺損）

將依上述所製得抗靜電性黏著型光學薄膜，利用湯木生刀刃型穿鑿25mm×150mm大小，並使裁剪端部接觸平滑SUS板20次。然後，目視確認各抗靜電性黏著型光學薄膜的端部，並依下述基準施行評估。

而且亦指出黏著劑缺損面積。結果如表1所示。

○：黏著劑無缺損△：無0.3mm以上的黏著劑缺損。

×：有0.3mm以上的黏著劑缺損。

（黏著劑殘留）

將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為100mm×100mm大小，並貼附於液晶面板上。將此面板在40℃×92%的加濕條件下放置48小時後，用手從液晶面板上將抗靜電性黏著型光學薄膜剝落，並依下述基準施行評估。

○：無殘留黏著劑。

×：面板上殘留黏著劑。

（密接性）

將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為寬25mm×長50mm。在其黏著劑層面、與厚50μm的聚對苯二甲酸乙二酯薄膜表面上，貼合成接觸蒸鍍著銦－氧化錫之蒸鍍薄膜蒸鍍面狀態之後，在23℃/60%RH環境下放置20分鐘以上。然後，用手將聚對苯二甲酸乙二酯薄膜端部剝落，經確認黏著劑已附著於聚對苯二甲酸乙二酯薄膜側之後，使用拉張試驗機（島津製作所公司製，Aautograph AG－1），依180°剝離、拉張速度300mm/min，在室溫環境下(25℃)，測定抗靜電層與黏著劑層間的密接性(N/25mm)。該密接性(N/25mm)最好在15N/25mm以上。

（抗靜電效果）

將所製得抗靜電性黏著型光學薄膜裁剪為100mm×100mm大小，並貼附於液晶面板上。將此面板放置於10000cd/m² 之具輝度的背光源上，使用靜電產生裝置ESD（SANKI公司製，ESD－8012A）產生5kv靜電，而引起液晶配向凌亂現象。使用瞬間複測光檢測器（大塚電子公司製，MCPD－3000），測定因液晶配向凌亂所發生顯示不良的恢復時間（秒）。

（表面電阻值）

使用表面電阻測定器（三菱化學（股）製，Hiresta MCP－HT450），依施加電壓500V測定抗靜電層的表面電阻率(Ω/□)。

（外觀）

○：抗靜電層表面無不均呈現均勻狀態。

×：抗靜電層表面出現不均，顯示特性發生不佳狀況。

1．．．光學薄膜

2．．．抗靜電層

3．．．黏著劑層

圖1為本發明抗靜電性黏著型光學薄膜剖面圖之一例。

1．．．光學薄膜

2．．．抗靜電層

3．．．黏著劑層

Claims (15)

1. 一種抗靜電性黏著型偏光板，係在偏光板之單面上疊層著抗靜電層，且在該抗靜電層上進一步疊層著黏著劑層者，其中，上述抗靜電層係包含有水溶性或水分散性之導電性聚合物及黏結劑成分。
2. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述水溶性或水分散性之導電性聚合物係聚噻吩系聚合物。
3. 如申請專利範圍第1或2項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述黏結劑成分係從聚胺基甲酸酯系樹脂、聚酯系樹脂及丙烯酸系樹脂中選擇之至少任1種。
4. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述抗靜電層的表面電阻率係1×10¹² Ω/□以下。
5. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述抗靜電層的厚度係5~1000nm。
6. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述抗靜電層係包含有相對於黏結劑100重量份為0.1~100重量份的水溶性導電性聚合物或水分散性導電性聚合物。
7. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，黏著劑層係由丙烯酸系黏著劑所形成。
8. 如申請專利範圍第7項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，丙烯酸系黏著劑係包含有相對於丙烯酸系聚合物100 重量份為0.01~10重量份的交聯劑。
9. 如申請專利範圍第1項之抗靜電性黏著型偏光板，其中，上述抗靜電性黏著型偏光板係在偏光板之單面上具有圓盤型液晶層，該圓盤型液晶層上疊層著抗靜電層，且在該抗靜電層上進一步疊層著黏著劑層。
10. 一種抗靜電性黏著型偏光板之製造方法，係用以製造申請專利範圍第1至9項中任一項之抗靜電性黏著型偏光板者，其特徵在於包含有：在偏光板之單面上，塗佈著包含有水溶性或水分散性之導電性聚合物、及黏結劑成分之塗佈液，並施行乾燥而形成抗靜電層的步驟；以及在該抗靜電層上形成黏著劑層的步驟。
11. 如申請專利範圍第10項之抗靜電性黏著型偏光板之製造方法，其中，上述形成黏著劑層的步驟係藉由將設於脫模薄膜上之黏著劑層轉印於抗靜電層而進行。
12. 如申請專利範圍第11項之抗靜電性黏著型偏光板之製造方法，其中，塗佈液的固形份濃度係0.5~5重量%。
13. 如申請專利範圍第11項之抗靜電性黏著型偏光板之製造方法，其中，塗佈液的固形份濃度係0.5~0.8重量%。
14. 一種液晶面板，係在液晶單元的單側或二側配置申請專利範圍第1至9項中任一項之抗靜電性黏著型偏光板，該抗靜電性黏著型偏光板係藉由該抗靜電性黏著型偏光板的黏著劑層而貼合於液晶單元。
15. 一種液晶顯示裝置，係包含有申請專利範圍第14項 之液晶面板。