TW200533607A

TW200533607A - Hydrogen reduced water and method for preparing the same

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Publication number: TW200533607A
Application number: TW094100685A
Authority: TW
Inventors: Yoshiaki Yoshida
Original assignee: T E D Co Ltd
Priority date: 2004-04-12
Filing date: 2005-01-11
Publication date: 2005-10-16
Also published as: TWI316922B; US20050224996A1; KR20050099933A; KR100678576B1

Description

200533607 九、發明說明：【發明所屬之技術領域】本發明係關於含有還原力較高之氫的氫還原水，特別適用於飲用，此外尚適用於食品製造或金屬清洗等方面的較佳氫還原水及其製造方法。【先前技術】

水之氧化還原性的判斷指標係為氧化還原電位。氧化還原電位顯示負値的水（水溶液）通稱「還原水」，且已知具還原性。一般，自來水的氧化還原電位為+ 5 0 0〜+ 7 5 0 m V，井水或市售礦泉水則為0〜+ 5 0 0 m V，該等均屬於具氧化性的水。相對於此，氧化還原電位顯示負値的還原水，具有抑制金屬氧化或食物類腐壞的效果，若當作飲水並攝取，將可去除造成老化或疾病原因物質的體内活性氧，可謂能改善如.·花粉症、遺傳過敏、氣喘等過敏性疾病、腸胃等消化器官疾病、以及高血壓症等有害健康之情況。其中，還原水大多利用電解法生成。即，利用水經電解而在陰極側聚集氫分子的性質，將陰極側的活性氫濃度較高的水當作還原水並取出（例如參照專利文獻1 )。再者，經電解法所獲得之還原水為與具還原性的自然水區分，而稱為「電解還原水」，或者因為陰極側的水進行鹼化，因而稱「鹼還原水」等。另一方面，已知有未對水施行電解，將活化氫氣吹入水中，去除水中溶存氧的方法（例如參考專利文獻2 )。再者，已知有藉由對水槽内的水通入氫氣，而增加水槽 5 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 内之水的溶存氫濃度的方法（例如參考專利文獻3 )。 (專利文獻1 )日本專利特開2 0 0 2 - 2 5 4 0 7 8號公報 (專利文獻2 )曰本專利特開平8 - 2 7 6 1 0 4號公報 (專利文獻3 )日本專利特開2 0 0 2 - 1 7 2 3 1 7號公報【發明内容】 (發明所欲解決之問題）

但是，如專利文獻1所揭，經水電解所獲得的還原水（電解還原水）係顯示鹼性，氧化還原電位的負値越高，顯示鹼性的p Η値將越高，若將p Η値抑制成適於飲用的9〜1 0程度，氧化還原電位將形成-1 5 0 in V程度，將出現還原性降低的問題。另一方面，如專利文獻2、3所揭，即便將氫氣吹入水中，氧化還原電位仍呈負值，但是在將氫氣通入水中的方式（氣泡方式）方面，因為僅有氫氣接觸到水的部分才溶解而已，因而並無法溶解較多的氫氣，且頗難將未溶解於水中而浮出水面的氫氣進行回收，因而穿透水中的氫氣便大部分被釋放出於大氣中，所以在施行溶解處理之際，便需要大量氫氣，導致成本增加的問題發生。再者，形成顯示還原性基的活性氫係屬於非常不安定，當自然放置的情況時，將釋放出於大氣中而使水的氧化還原電位朝正方向變化，導致在送達消費者手中之時，還原性便已消失的問題發生。本發明係有鑒於上述諸項情事而完成者，其目的在於將大量氫氣溶解於水中，獲得凌越習知還原水且適於飲用的 6 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 高還原性還原水。 (解決問題之手段）本發明係為達成上述目的，遂提供如下述的氫還原水之製造方法。

(1 ) 一種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容器内填充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於既定範圍（1〜100氣壓，最好1.1〜50氣壓、或2〜20氣壓，尤以 2〜1 0氣壓為佳）的狀態下，將生水導入於此壓力容器内，藉由使與氫氣進行接觸，便使上述壓力容器内的氫氣溶解於該生水中。 (2 ) —種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容器内填充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於既定範圍的狀態下，將生水導入於此壓力容器内，且將該生水淋灑狀的灑水於上述壓力容器内而與氫氣接觸，使上述壓力容器内的氫氣溶解於該生水中。 (3 ) —種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容器内填充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於 1〜1 0 0氣壓的狀態下，將生水導入於此壓力容器内，且將該生水從壓力容器内部上方所設置喷嘴，進行淋灑狀灑水而與氫氣接觸，使上述壓力容器内的氫氣溶解於該生水中。其中，上述（1 )〜（3 )各方法中，最好將生水利用加壓泵或加壓氣體的壓力，導入於壓力容器内。再者，最好在使生水中溶解壓力容器内的氫氣之後，再將其填充於高氣密性容器中並密閉，尤以在填充於高氣密 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685

200533607 性容器中並密閉的狀態下，施行加熱殺菌處理高氣密性容器係可使用由具氫氣阻隔層的薄片的箔包、或具氫氣阻隔性的合成樹脂製瓶、玻屬製瓶、或罐。再者，上述（1)〜（3)各方法中，生水最好含尤以在與氫氣接觸之前的生水中，便添加抗氧佳。此外，抗氧化性物質係使用胺基酸、抗壞化合物、含氧酸類、磷酸、磷酸衍生物、咖啡及類黃素母酮中至少1種。另一方面，本發明將提供利用上述（1 )〜（3 ) 得的氫還原水。 (發明效果）依照本發明方法，係因為在已填充氫氣的壓入生水並與氫氣接觸，因而可獲得生水中能溶的高還原性氫還原水，特別係因為將生水進行水，因而在與氫氣間將進行良好的接觸，而提效率，且壓力容器内的氫氣亦不致被釋出於大無浪費的溶解於生水中並供使用。此外，因為從壓力容器内部上方所設置噴嘴壓力容器内進行灑水，因而能使生水廣範圍的氫氣進行良好的接觸，況且因為喷嘴設置於壓上方，因而將不致因壓力容器底部所滯留的生嘴的灑水，可從該喷嘴依高壓狀態持續的噴出持與氫氣間的良好接觸狀態。 312XP/發明說明書(補件)/94·05/94100685 為佳。此外，材料所製成璃製瓶、金有礦物質，化性物質為血酸、苯酚酸衍生物、各方法所獲力容器内導解大量氫氣淋灑狀灑昇氫氣溶解氣中，將毫，將生水朝分散，並與力容器内部水而妨礙喷生水，並維 8 200533607 再者，因為利用加壓泵或加壓氣體壓力將生水導入於壓力容器内，因而即便氫氣壓力設定為較高的情況時，仍可對抗此壓力將生水導入於壓力容器内，特別係屬於利用加壓氣體壓力的方式，將可在未使用電力的情況下便施行生水的導入。

再者，因為將已溶解氫氣的生水填充於高氣密性容器中，因而可防止氫氣漏洩，長期維持初期的高還原性狀態，特別因為該高氣密性容器係使用由具氫氣阻隔層的薄片材料所製成箔包、或具氫氣阻隔性之合成樹脂製瓶、玻璃製瓶、金屬製瓶、或罐，因而將抑制氫氣的穿透漏洩而提昇高還原性的持續效果，且因為採用上述箔包，因而在注入還原水之時，將抑制與空氣間的接觸，可防止損及還原性的情況發生。此外，因為將已溶解氫氣的生水填充於高氣密性容器之後，在將其密閉的狀態下施行加熱殺菌處理，因而將可防止因該項處理而導致氫氣泡漏於外面的情況發生。再者，因為使用含有鈣等礦物質的生水，因而對健康較有益，且藉由礦物質的作用將可提升還原性。再者，藉由在生水中添加抗氧化性物資，將可提升還原性的持續效果，且藉由抗氧化性物質的胺基酸、抗壞血酸，即便是鹼性生水仍可調整成適於飲用的pH。另外，本發明的氫還原水係因為將生水導入（特別係淋灑狀灑水）於已加壓填充氫氣的壓力容器内而得，因而溶存氫量較多，顯示出高還原性，頗適於飲用。 9 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 【實施方式】以下’針對本發明的氫還原水之製造方法進行説明，該方法的第1特徵係使氫氣與生水在既定壓力範圍下進行接觸。此係採用壓力容器，將氫氣填充於其内部，並在將壓力容器的内壓（氫氣壓力）保持於既定範圍的狀態，並在此狀態下將生水導入於壓力容器内。

特別係將壓力容器内的空氣利用氫氣逐出、或使用真空泵進行吸出，接著將經加壓於1〜1〇〇氣壓（ 1 0 1 325〜1 0 1 325 0 0Pa) [最好 1.1 〜50 氣壓（111458 〜5066250 Pa)、或 2〜20 氣壓（202650 〜202650 0Pa) ’尤以2〜10氣壓（ 202650〜1 0 1 3250Pa)為特佳]的氮氣，填充於壓力容器内，並在將其内壓保持於上述範圍的狀態下，將經施加較大於壓力容器内壓之壓力的生水，# 應/導入於壓力容器内。此外，在將生水導入於壓力容器内方面，可利用加壓栗、或加壓氣體的壓力。依此的話，即便壓力容器内的氫氣壓力設定於較高的情況時，仍可對抗此壓力將生水導入於壓力容器内，特別係在利用加壓氣體壓力方面，將可在未使用電力的情況下，便施行生水的導入〇再者，導入於壓力容器内的生水可從具有既定口捏的供水管前端釋放出，但是最好將具有複數微細孔（例如σ @ 1 0 0〜3 0 0 // m )的噴嘴，安裝於供水管前端等方式，並施行淋灑狀（包括霧狀）灑水，藉此便將增加與氫氣間的接觸s ^ 而可提高氫氣溶解量。特別以喷嘴設置於壓力容器内部上方為佳，藉此滯留於壓力容器底部的生水便不致滲人^ $ 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 10 200533607 中，可從該噴嘴將生水依高壓狀態喷出，並廣範圍地分散於壓力容器内。

依照如上述方法，在生水中將溶解大量氫氣，且習知電解還原水的氧化還原電位為-2 0 0〜-3 0 0 m V，但是本發明將遠遠凌越此電位值，可獲得顯示-5 0 0 m V以下氧化還原電位的高還原性還原水。此現象係根據在一定溫度下，一定量液體中所溶解的氣體量，將與其壓力成正比的亨利定律 (Henry, sLaw)，相較於在大氣壓下將氫氣吹入生水中的情況下，將可溶解更多的氫氣。在此為能增加氫氣對生水的溶解量，將壓力容器内的氫氣壓力設為越高越好，但在將壓力設定為超過100氣壓方面，包括壓力容器在内的整體設備將變為龐大，因而氫氣的壓力上限便設定為100氣壓，最好50氣壓，尤以20氣壓為佳，更以10氣壓左右為佳。此外，若壓力容器内的氫氣壓力較低，因為對生水的溶解量僅降低些微，因而氫氣壓力的下限便至少設定為1氣壓，最好為較大氣壓高之1 . 1 氣壓，尤以2氣壓左右為佳。再者，氫氣可在保持填充於鋼瓶中的狀態下使用，但是最好對其利用電漿等施行活化而形成活性氫。此外，生水可為自來水、對其施行蒸餾的蒸餾水或脫氣水（純水），但是在飲用方面，最好為含有如：鈣、鉀、鈉、鐵、鋅、鎂之類多數礦物質含的天然水。例如，若對日本富山市地下水 (井水）施行精密微量分析，便可檢測出多種擴物質。此檢測結果發現以鹼土族金屬的鈣為始，且以鹼金屬的鈉、鉀 11 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 為中心，多種元素均含有數十ppm，較少者亦含數ppm。特別係該等礦物質（金屬）的離子化傾向較大，具有將生水的氧化還原電位朝負向位移的還原劑機能。所以，生水最好使用含有具還原劑機能的礦物質，依此便可藉由與氫氣的相乘作用而獲得更加提昇還原性的效果。但是，生水亦可在礦物質成分較少的自來水中人工添加礦物質。

再者，最好在與氫氣接觸前的生水中添加抗氧化性物質。依此的話，便可利用氫氣與礦物質的作用而維持較高的還原性。此外，因為抗氧化性物質不致有害於人體，因而在其中可使用如：胺基酸（天門冬醯胺酸、精胺酸、離胺酸、丙胺酸、麩醯胺酸、白胺酸、異白胺酸、纈胺酸、脯胺酸、胺基酸等）、抗壞血酸、苯酚化合物（生育酚、癒瘡木脂、正二氫癒創酸：N D G A )、含氧酸類（檸檬酸、酒石酸、蘋果酸等）、磷酸及其衍生物（植物酸、卵磷脂等）、咖啡酸衍生物（漂木酸、二氫化咖啡酸等）、及類黃素母酮中至少 1種，最好使用數種的混合物。在此，含有飼等氫氧化物的生水，雖可使氧化還原電位朝負方向位移，但是若溶存有此種金屬的氫氧化物，生水的pH値將上升並轉成鹼性。特別係當鹼度過高的情況時，因為並不適於飲用，因而必須對其施行偏向於中性的操作。就從此觀點，由上述酸所形成的抗氧化性物質亦具有作為將鹼性生水偏向於中性的pH調整劑之機能，隨其添加量，即便生水屬於含有大量氫氧化辦的強驗性時，仍可將其p Η値調整為中性區域（例如p Η 5 . 8〜8 · 6 )，而形成中性還 12 312ΧΡ/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 原水。

其次，針對本發明另一特徵的高氣密性容器進行説明，本發明係採用鋁箔包，即採用由具有作為氫氣阻隔層的鋁層且薄片材料所製成的箔包。該鋁箔包係在二片塑膠薄膜 (聚酯/聚丙烯、或尼龍/聚丙烯）之間包夾著鋁箔的薄片材料，二片重疊並將周緣施行熱封等，而所形成的週知可撓性容器，依此便可在偏平狀態下，於未與空氣接觸的情況將氫還原水注入於内部，且在氫還原水剛填充完畢後便將此注入口施行熱封等而密閉，便將完全阻絕氫氣漏洩情況發生，所填充氫還原水的還原力將可長期維持於填充時的狀態。再者，依如上述箔包，在氫還原水填充後，可於短時間内施行良好的殺菌處理。該殺菌處理可採用經加熱至 7 0〜8 5 t：(最好8 0 °C )的熱水，將已填充氫還原水並密閉的箔包（高氣密性容器），在其中浸潰3 0分鐘左右，亦可喷吹熱水或加熱蒸氣。但是，若填充作業在無菌室内實施的話，便可省略上述加熱殺菌處理。再者，氫氣阻隔層並不僅限於鋁箔，亦可為其他金屬箔、P V D C或E V 0 Η等樹脂、或玻璃、或經蒸鍍鋁（或其他金屬）者。此外，高氣密性容器尚可使用鋁或鐵罐、具金屬蓋體的玻璃製瓶、以鋁或鐵為材料的金屬製瓶、或利用金屬蒸鑛、數種樹脂多層化而賦予氫氣阻隔性的合成樹脂製瓶等。但是，硬質且固定形狀罐、瓶，因為即便本身便具有氫氣阻隔性，但是因為在還原水填充時等情況下，容器内 13 3 ] 2ΧΡ/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 的空氣將與還原水接觸，導致氫氣溶解時候的還原力將若干受損，因而本發明所使用的高氣密性容器最好如上述的箔包。

此外，在時下一般廣泛使用為飲料容器的聚對苯二甲酸乙二酯製瓶（PET瓶）方面，氫氣將通過容器壁並釋放出於外面，在未開瓶的狀態下，氧化還原電位仍將漸漸的朝正向位移，因而並不適用。但是，即便將本發明的氫還原水填充於PET瓶的情況下，藉由將其保存於氫氣環境下，便可將氧化還原電位維持於負狀態。 (實施例）圖1中，1係指井等水源，2係指從水源取出處理用生水的取水泵，3係指收容著活性碳等的一次過濾裝置，形成通過此一次過濾裝置3内，在生水儲存槽4中儲存一定量生水的構造。此外，在生水儲存槽4内設有水位感測器，根據其檢測信號驅動取水泵2，形成將生水儲存槽4内的生水保持於一定量的狀態。再者，圖1中，5係指將生水儲存槽4内的生水取出的加壓泵，6係指將經加壓泵5加壓過的生水導入的壓力容器，7係指將從加壓泵5所輸送的生水灑水於壓力容器6 内的噴嘴，該喷嘴7係固定於壓力容器6的内部上方，並連接於從生水儲存槽4所延伸出的供水管。此外，壓力容器6透過調節器8連接於氫氣鋼瓶9。然後，依照本例，將經封入於氫氣鋼瓶9内的高壓氫氣 (約2 0 Μ P a )，利用調節器8調整為既定壓力（在本例中約 14 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685

200533607 0 . 6 Μ P a )，並填充於壓力容器6内之後，在將> 内的氫氣壓力保持於既定範圍（本例中為0 . 6〜狀態下，驅動加壓泵5將生水儲存槽4内的生力容器6内，並將此生水從噴嘴7朝壓力容器灑水。所以，生水在從壓力容器6上方朝下方廣範況下，將與高壓氫氣進行良好接觸，而形成該大量氫氣的狀態。再者，已溶解氫氣的生水，經回收於壓力容連接的產品儲存槽1 0之後，在經由内建著過濾濾裝置1 1供應給填充機1 2，利用此填充機1 2 密性容器中之後，再施行加熱殺菌處理。在此於將生水導入於壓力容器6内之前，便 V2，利用氫氣鋼瓶9内的氫氣將壓力容器6内槽1 0内的空氣逐出，接著便關閉閥V1、V 2，於壓力容器6内直到既定壓力為止，而在去除内的空氣方面，亦可利用真空泵等。此外，喷在渦卷狀管上開啟複數小孔的狀態，惟本發明限於此。再者，在上述例中，雖將生水利用加壓栗5 容器6内，但是亦可將氫氣鋼瓶9或其他鋼瓶儲存槽4，並利用氫氣或其他加壓氣體所產生生水導入於壓力容器6内。 [試驗1 ] 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 ®力容器6 0 · 7 Μ P a )的水導入於壓 6内淋灑狀圍分散的情生水中溶解器6底部所膜的二次過填充於局氣開啟閥VI 、與產品儲存將氫氣填充壓力容器6 嘴7雖形成形態並不僅導入於壓力連接於生水的壓力，將 15 200533607 在本試驗中，針對已溶解氫氣的水（氫還原水）在保存狀態下，對氧化還原電位的影響進行探討。此外，氧化還原電位的測定係採用氧化還原電位計（東亞迪克克股份有限公司Η Μ - 2 1 P型，比較電極：銀-氣化銀）。另外，在氫還原水的製造方面係採用經離子交換樹脂精製過的純水，將其裝入於滌氣瓶中2 5 0 m 1，將對其依流量1 4 · 3 m 1 /秒吹入氫氣 3 0分鐘。所獲得氫還原水（受檢驗水）係依下示的4種方法保存，並針對各受檢驗水每隔一天測定氧化還原電位。 (1 )開瓶並保存於室溫中的情況 (2 )開瓶並放置於冷藏室内保存於4 °C的情況 (3 )在關瓶狀態下保存於室溫中的情況 (4 )在關瓶狀態下放置於冷藏室内保存於4 °C的情況

在氫氣剛溶解後，各受檢驗水的氧化還原電位雖顯示 - 3 2 0 m V，但是隨時間變化，電位將朝正方向移動。雖隨保存狀態的不同，各受檢驗水的氧化還原電位多少有些差異，但是經一週後的氧化還原電位則全部在+ 3 0 0 m V以上。 [試驗2 ] 本試驗中，針對因生水所含礦物質濃度，對氧化還原電位的影響進行探討。所以，在純水中添加氫氧化鈣而調製氫氧化鈣飽和水溶液（1 8 5 0 p p m )，將其稀釋為1 0倍 (1 8 5 p p m ) ' 100 倍（18.5ppm)、及 1000 倍（1.85ppm)，並分別各自裝入滌氣瓶中2 5 0 m 1，分別通入氫氣而調製總共4 種的受檢驗水。然後，將各受檢驗水在開瓶狀態下，每隔一天測定氧化還原電位。結果如圖2所示。此外，縱軸為 16 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 氧化還原電位，橫軸為天數。由圖2中明顯得知，鈣濃度越高的受檢驗水，將持續維持著越低的氧化還原電位。特別係的濃度1 8 5 0 p p m的受檢驗水，經1 3天後氧化還原電位仍持續於負値。此外，任一受檢驗水均可將初期的氧化還原電位形成-3 2 0 m V以下的狀態。 [試驗3 ]

在本試驗中，針對藉由添加抗氧化性物質（抗壞血酸）所產生的效果進行探討。氫氧化妈濃度3 0 0 p p m的水溶液ρ Η 為1 2，將其裝入於滌氣瓶中2 5 0 m 1，並在其中添加L -抗壞血酸直到p Η等於7為止。此外，為比較便將僅在純水2 5 0 m 1 中添加與上述等量的L-抗壞血酸，以及均未添加任何物質的純水，裝入於滌氣瓶中2 5 0 m 1，對該等通入氫氣，而調製總共3種的受檢驗水。然後，將各受檢驗水在開瓶狀態下，每隔一天測定氧化還原電位。結果如圖3所示。此外，縱軸為氧化還原電位，橫軸為天數。如圖3所示，含有氫氧化鈣與抗壞血酸的中性受檢驗水 A、及由純水所形成的受檢驗水C，其氧化還原電位隨時間變化並未出現頗大差異，而僅含抗壞血酸的受檢驗水B，發現初期的氧化還原電位較高，在較短期間内氧化還原電位便朝正方向移動。 [試驗4 ] 在本試驗中，針對收容氫還原水的容器為P E T瓶的話，是否有效進行探討。首先，在3個PET瓶（500ml)中裝入離 17 3 ] 2XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 子交換水，並分別通入氫氣之後再關閉瓶蓋。然後，將其中1個PET瓶放置於真空乾燥孤（方形，寬30cm、深30cm、高2 5 c m，内容積約2 0升）内，並利用真空泵進行減壓。然後，對真空乾燥m内導入氫氣直到呈大氣壓狀態為止，在保持於此狀態下保存著。另外，其他PET瓶則分別保存於冷藏室内及室内。然後，針對該等各PET瓶内的受檢驗水，調查氧化還原電位的時間變化。結果如表1與圖4所示。【表1】

氧化還原電位的時間變化氫氣環境下 (mV) 冷藏室内. (mV) 室溫 (mV) 氫氣剛溶解後 -35 1 -352 - 347 經1天後 -322 -200 -105 經2天後 - 229 -106 15 經3天後 - 299 -103 83 經4天後 -274 79 125 經7天後 -207 185 304 經8天後 -195 21 6 283 經9天後 -190 294 443 經1 4天後 -183 509 587 經20天後 -2 13 543 681 保存於真空乾燥皿内的P E T瓶，氧化還原電位在經過2 0 Φ 天之後雖仍維持著負値，但是其他的經數日之後便位移於正值。由此結果得知，P E T瓶欠缺對氫氣的阻隔性（阻斷性）。但是，若保存於氫氣環境下，得知氧化還原電位將維持於低電位狀態。 [試驗5 ] 在本試驗中，在壓力容器内依8氣壓填充氫氣，並在其中將生水依1 2氣壓導入（淋灑狀灑水）。藉此，在壓力容器内，生水將充分的接觸於氫氣並溶解後，將其填充於鋁箔 18 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607 包中並密閉，接著將其浸潰於8 0 °C熱水中而施行加熱殺菌處理。此外，氫還原水的氧化還原電位在填充於鋁箔包中的時候為-6 0 0 in V，藉由加壓下的生水與氫氣接觸，發現氧化還原電位較大氣壓下的情況為低。此現象可認為係因氫氣對生水的溶解量增加的緣故所致。

再者，在常溫中保存的鋁结包於經2週後進行開封，並測定内容物（氫還原水）的氧化還原電位，發現與初期値並無大差異，為-5 7 0 m V，得知在填充本發明氫還原水的高氣密性容器方面，鋁箔包係屬有效的容器。再者，針對高氣密性容器採用旋轉式鋁瓶蓋的鋁製瓶，施行如同上述的試驗，結果發現如同鋁箔包般，内部的氫還原水之氧化還原電位並無大變化，初期値為-6 Ο Ο οι V，即便經2週後，氧化還原電位仍維持於-5 6 0 m V的低電位。以上，針對本發明進行説明，惟該氫還原.水並不僅限於飲用，亦可適當的利用於金屬清洗水或調理用水等方面。【圖式簡單説明】圖1為製造本發明氫還原水的設備構成例圖。圖2為隨氫氧化鈣濃度的不同，氧化還原電位的時間變化圖。圖3為隨抗壞血酸的添加，氧化還原電位的時間變化圖。圖4為隨保存狀態的不同，氧化還原電位的時間變化圖。【主要元件符號說明】 1 水源 2 取水泵 19 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 200533607

3 次過濾裝置 4 生水儲存槽 5 加壓泵 6 壓力容器 7 噴嘴 8 調節器 9 氫氣鋼瓶 10 產品儲存槽 11 二次過滤裝置 12 填充機 VI , V2 閥 3 ] 2XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 20

Claims

200533607 十、申請專利範圍： 1 . 一種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於圍的狀態下，將生水導入於該壓力容器内，使之與行接觸，藉以使上述壓力容器内的氫氣溶解於該生 2 . —種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於圍的狀態下，將生水導入於該壓力容器内，且將該 Φ 灑狀地灑水於上述壓力容器内而與氫氣接觸，藉以壓力容器内的氫氣溶解於該生水中。 . 3 . —種氫還原水之製造方法，其特徵係在壓力容 , 充氫氣，並在將上述壓力容器内的氫氣壓力保持於氣壓的狀態下，將生水導入於該壓力容器内，且將從壓力容器内部上方所設置之噴嘴淋灑狀地灑水而接觸，藉以使上述壓力容器内的氫氣溶解於該生水 4 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原造方法，其中，將生水利用加壓栗或加壓氣體的壓入於壓力容器内。 5 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原造方法，其中，在生水中溶解壓力容器内的氫氣之將其填充於高氣密性容器中並密閉。 6 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原造方法，其中，在生水中溶解壓力容器内的氫氣之將其填充於高氣密性容器中並密閉，且在此狀態下 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685 器内填既定範氫氣進水中。器内填既定範生水淋使上述器内填卜1 0 0 該生水與氫氣中〇水之製力，導水之製後，再水之製，再行力口 21 200533607 熱殺菌處理。 7 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原水之製造方法，其中，在生水中溶解壓力容器内的氫氣之後，再將其填充於由具氫氣阻隔層的薄片材料所製成的箔包，抑或具氫氣阻隔性的合成樹脂製瓶、玻璃製瓶、金屬製瓶、或罐所構成之高氣密性容器中，並予以密閉。

8 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原水之製造方法，其中，在生水中溶解壓力容器内的氫氣之後，再將其填充於由具氫氣阻隔層的薄片材料所製成的箔包，抑或具氫氣阻隔性的合成樹脂製瓶、玻璃製瓶、金屬製瓶、或罐所構成之高氣密性容器中，予以密閉，且在此狀態下施行加熱殺菌處理。 9.如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原水之製造方法，其中，生水係含有礦物質者。 1 0 .如申請專利範圍第1至3項中任一項之氫還原水之製造方法，其中，在與氫氣接觸之前的生水中，添加抗氧化性物質。 1 1 .如申請專利範圍第1 0項之氫還原水之製造方法，其中，抗氧化性物質係使用胺基酸、抗壞血酸、苯酚化合物、含氧酸類、磷酸、磷酸衍生物、咖啡酸衍生物及類黃素母酮中之至少1種。 1 2 . —種氫還原水，其特徵係利用申請專利範圍第1至3 項中任一項之方法而獲得。 22 312XP/發明說明書(補件)/94-05/94100685