TW200427645A - Vapour-deposition material for the production of optical layers of high refractive index - Google Patents

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Martin Friz
Reiner Dombrowski
Uwe Anthes
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Merck Patent Gmbh
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Description

200427645 ⑴ 玖、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於一種用於製造高折射率光學層之蒸氣沉 積材料，其包括氧化鈦和氧化鏡的混合物。 【先前技術】 光學組件通常加裝著薄的塗膜用以保護表面或爲了達 到某些光學特性。此類型的光學組件包括，例如，光學透 鏡，眼鏡透鏡，用於攝影機，雙筒望遠鏡或其他光學儀器 用的透鏡，射束分離器，稜鏡，面鏡，窗玻璃及類似物。 此等塗膜首先可藉由硬化及/或增加對由機械，化學 或環境的影響所致損壞的化學抗性而用於該表面的處理。 不過，也常於某些情況中，特別是施用在眼鏡透鏡，和攝 影機透鏡時，也可達到減低的反射。經由選擇適當的塗覆 材料，不同的層厚度和單層或多層結構，於恰當處，各包 括有著不同折射率的不同材料，有可能達到將在整個可視 光光譜上的反射減低到小於1 %。於此方式，也可能製造 出干渉鏡，射束分離器，偏振鏡，熱過濾器或冷光面鏡。 爲了製造上述塗層，已知有各種，特別是氧化物型材 料，例如，Si02，Ti〇2，Zr02，MgO，AI2〇3 者，不過也 包括氟化物，例如MgF2，以及此等物質的混合物。 在此塗膜材料係根據目標光學性質和根據材料的處理 性質所選擇的。 此光學基板的塗覆通常是使用高真空蒸氣沉積法進行 -5- (2) (2)200427645 的。在此方法中，首先將基板和裝著蒸氣沉積物質的燒瓶 放置在合適的高真空蒸氣沉積裝置內，接著將此裝置抽真 空，且將該蒸氣沉積物質藉由加熱及/或電子束撞擊予以 蒸發’而將蒸氣沉積材料以薄層形式沈澱在此基板表面上 。相應的裝置和方法都是習用之先前技藝。 適合於用於製造具高折射率層，亦即具有2或更大的 折射率者’其起始材料的選擇係相對地較爲有限者。對此 適當者基本上爲鈦、鍩、飴、和鉅的氧化物與彼等的混合 氧化物。用彼等製造出的層在從3 8 0奈米至5微米的可視 光和近紅外光光譜範圍內係透光性者，如同起始物一般， 沒有明顯的吸收。使用氧化鈦在約5 0 0奈米波長所可達到 的折射率爲約2 · 4。不過，可觀察到對UV輻射的吸收。 特別是在純氧化鈦（IV )的情況中，也會有在蒸發過程 中發生氧的逸失之危險，導致次化學計算量的氧化鈦層之 沉積且因而產生會在可視光區吸收之層。此點可以利用在 蒸發中的適當措施於以防止，例如，建立氧氣殘留壓力， 或者添加某些物質，例如，根據德國專利1 2 2 8 4 8 9，烯 土族元素或其氧化物。於此要提及的是，與其他一起者， 氧化鈦與鐯及/或氧化鐯的混合物或氧化鈦與鈽或氧化姉 的混合物。也有述及氧化鈦與氧化鏡的混合物者。 不過，此等已知混合物的相對無吸收只侷限於可視光 譜區。相異者，德國專利】2 2 8 4 8 9沒有提及紫外光或近 紅外光譜區。 純氧化物的另一項缺點在於彼等通常具有高的熔點和 -6- (3) (3)200427645 沸點，彼等也常爲非常接近者。然而，爲了處理之故，最 好使蒸氣沉積物質在開始蒸發之前即完全熔化。只有以這 種方式才能夠達到均勻且充分的蒸發率，此爲形成具有一 致的厚度之均勻層所需者。不過，在一般的工作條件下， 會發生熔化的困難性，特別是在鉻和飴的氧化物之情況中 ’以及在鈦/鍩混合氧化物的情況中。 所得層也常呈光學不均勻性且，於常見的多重施加之 情況中，導致折射率再現性之困難。 因此之故，也於純金屬氧化物中加入預期降低金屬氧 化物的熔點及，與其他一起者，用來特異地變異折射率之 材料。不過，此等材料必須選擇以使所形成的層在可視光 區內不發生明顯的吸收。 然而，也經證明爲不利者，上述金屬氧化物的混合物 在有熔點降低性添加劑之下會不調合地蒸發，亦即在蒸發 程序的過程中彼等的組成會改變且已沉積層的組成也會隨 之而改變。 爲了解決此問題，已經有提出混合氧化物，例如， La2Ti2 0 7。不過，此等在蒸發中，會以類似於氧化鈦（IV) 之方式釋出氧，導致沉積層的次化學計算組成及因而導致 吸收現象。 除上面所提及的適合用來製造具高折射率層之金屬氧 化物之外，其他的文章也有提及稀土金屬氧化物者。 例如，已知有氧化鐯與二氧化鈦的混合物。此等因爲 鐯離子的吸收在低於4 00奈米的光譜區內具有強吸收而在 (4) (4)200427645 可視光譜區內有弱吸收。 氧化鑭和氧化鈦的混合物也經多次提及，例如在D E 4208811和DE10065647之中。不過，其氧化鑭含量會 導致對於在彼等所製成的層內之濕氣的增加敏感性。此外 ，鑭的天然放射性位素可能會因其放射性輻射而對敏感性 光學組件造成損壞。 US 4,7 94,6 0 7述及使用與氧化鋁層交錯安排的氧化釓 層作爲光學放大器的防反射塗層。此種材料的硏究證明依 施加方法而定，經由用氧化釓蒸氣沉積可以得到具有1 . 7 5 或 1.80 的折射率之均勻層（K. Truszkowska， C. Wesolowska, ‘‘Optical properties of evaporated gadolinium oxide films in the region 0.2-5 // m”5 Thin Solid Films ( 1 976)，34(2)，391-4)。所製的層因而遠離2或更大的目 標折射率。 DE-A 3 3 3 5 5 5 7揭示使用更迭的二氧化鈦層與氧化鏡 層或氧化鋁與氧化鏡的層順序製造在光學透鏡上的防反射 塗層。已知者，氧化鏡可以達到從1 · 7 5至1 · 9的折射率 ，決定於施加層的厚度且決定於施加方法。此等折射率同 樣地不在高折射率範圍之內。 氧化鈦與氧化鏑及/或氧化鏡的混合物也爲已知者， 不過，根據 WO 95/05 6 70，此等係在溶膠/凝膠程序中施 加到光伏打電池以製成半導體性金屬氧化物層。其中沒有 給出對於所製層可達到的折射率之資訊。 J P U 3 - 1 2 9 3 0 1揭示一種具有防反射性質的多層膜， (5) 200427645 其在高折射率層中可包括二氧化鈦、氧化鏡或彼等的混合 物。不過，二氧化鈦和氧化鏡的混合物之例子及使用彼等 可達到的折射率都沒有提及。
D E - A 1 9 6 0 7 8 3 3述及一種經燒結的T i Ο x，其中x = 1 · 4至1 . 8之蒸氣沉積混合物，其可包括0 . 1至1 〇重量％ 得氧化鏡用以將此等材料所構成的模製物予以機械穩定化 。安定劑的添加必須不會損及TiOx的光學性質。不過， 其中沒有述及氧化鈦與氧化鏡的混合物之例子。使用彼可 達到的折射率也爲未知者。安定劑的添加隊於使用彼所可 達到的層所具物理性質之影響同樣地沒有述及。 【發明內容】 本發明的目的爲提供一種製造具有至少2 . 〇的高折射 率之層所用之蒸氣沉積材料，其具有高度耐久性、對濕氣 、酸和驗不敏感、具有低放射性、對廣光譜範圍爲透明且 不吸收者且在丨谷化與蒸發過程中不會改變其原有組成， 且其適m 製造具有上述諸性質的高折射率之層。 本發明目的係經由一種製造高折射率光學層所用之蒸 氣沉積材料而達到’該材料包括氧化鈦和氧化鏡，其莫耳 比爲從4 : 1至]:4。 本發明目的也經由一種製備用以製造高折射率光學層 所用蒸氣沉積材料之方法而達到，其中係將氧化鈦和氧化 以4 . 1至】：4的莫耳比相混合，將該混合物壓縮或 懸浮’成型且隨後燒結。 -9- (6) (6)200427645 此外，本發明也有關包括莫耳比爲從4 :]至1 : 4的 氧化鈦和氧化鏡之蒸氣沉積材料對於製造高折射率光學層 之用途。 於本發明一具體實例中，該蒸氣沉積材料包括莫耳比 爲彳4 · 1至1 : 4的氧化欽和氧化鏡（Y b2 0 3)。該材料較 佳者係以從2 · 6 : 1至1 : 1 .3的莫耳比存在。於另一具_ 實例中，本發明蒸氣沉積材料可加添地包括氧化iL (Gd2〇3)及/或氧化鏑（Dy^3)。於此有利者爲氧化鏡、氧化 釓及/或氧化鏑的莫耳比之和不超過8 0莫耳％。若採用氧 化鏡、氧化釓及/或氧化鏑的此等混合物之時，個別物質 的相對比例本身即不具關鍵性。其可經調定在廣比例之內 且於二元混合物情況中爲從9 9 : 1至1:99的比例之中 而於三元混合物情況中爲在從1 :丨：9 8至1 : 9 8 : 1至 9 8 : 1 : 1之比例中。 若考慮到使用個別成分的塗料可達到的折射率之時， 使用二氧化鈦塗料的情況中爲從約2.3至2.4，而，如已 經提及者，使用純氧化鏡層可得從約1 . 7 5至1 . 9的折射 率。 一般而言，可以使用兩種成分的混合物達到具有在此 兩特別値之間的折射率之層，依成分的莫耳比例而定。具 有頗較爲低折射率的成分之相對高莫耳比例因而會導致混 合物的折射率較接近於該低折射率成分所具折射率而非相 對高折射率成分所具折射率。 因此令人驚訝者，包括上述莫耳比例的二氧化鈦和氧 (7) (7)200427645 化1 —之混合物竟然可使所製成的層所具折射率明顯地高於 預期的混合値且特別者接近純二氧化鈦的折射率。特定言 之’可以使用此等混合物製成具有明顯高於2 · 〇，亦即在 從約2 · 2 0至約2.3 0範圍內的折射率之層。所界定的於每 一情況中合意之折射率可以透過氧化鏡之莫耳比例而在此 範圍之內特異地調定。相當高比例的此成分因而導致所得 折射率的稍微降低。 如果，取代純氧化鎗者’採用氧化鏡與氧化纟L及/或 氧化鏑的混合物之時，此等物質的相對比例對於可以使用 含二氧化鈦的總混合物可以得到的折射率，相異地，沒有 明顯影響，係因爲氧化鏡、氧化釓及氧化鏑的折射率彼此 沒有明顯差別之故。 再者，業經有利地發現，本發明蒸氣沉積材料可調合 地蒸發，亦即彼等的組成在蒸發過程中幾乎保持不變。不 論氧化鈦中只有加入氧化鏡或加入氧化鏡與氧化釓及/或 氧化鏑的混合物，此點都一樣。於此方式，可以地製得具 有ng 2.0，特別者η 2 2.20的穩定高折射率之均勻層。 此外，所得光學層在廣光譜範圍，亦即，從約3 8 0奈 米到5微米，之內都具有高透光性。特別者，在可視光和 近紅外光譜區之內，可以達到完全的透光性。 與先前技術已知的製造高折射率層所用蒸氣沉積材料 相比較之下’使用本發明蒸氣沉積材料所製成的層具有改 良的耐久性’此點在濕溫環境中特別是如此’係因爲本發 明蒸氣沉積材料沒有攝取濕氣的傾向之故。此種性質經證 -11 - (8) (8)200427645 實早在蒸氣沉積材料的製備中就非常有利，係因爲對於混 合物的處置與後續處理中不必採取特別的措施之故。無論 如何，在沉積於適當基板後所形的高折射率層也在濕溫氣 圍中特別穩定。同樣可以觀察到對酸和鹼的改善耐性。 本發明蒸氣沉積材料的另一項優點在於所使用的物質 沒有放射性同位素。該蒸氣沉積材料本身或使用彼所製成 的層都不會發射出放射性，意味者不需要安全措施且於此 方面中對於和該等層接觸的光學組件或偵檢器預料都不會 有損壞。 於本發明另一具體實例中，製造高折射率層所用蒸氣 沉積材料包括二氧化鈦、鈦和氧化鏡（Yb2〇3)，其中氧化 鈦對氧化鏡的莫耳比爲從4 : 1至1 : 4，不過較佳者爲從 2.6 至1 : I . 3。此處同樣地，可以採用氧化鏡、氧化 釓及/或氧化鏑的混合物取代純氧化鏡。 由於添加金屬鈦，因此於此情況中可以調定該混合物 對氧的此化學計算比例。藉此可以避免在混合物熔化與蒸 發中氧的釋出。此舉也改良蒸氣沉積材料的處置，因爲可 以防止不如此時常在熔化與蒸發中發生的噴澄之故。於此 方式’該混合物可以得到特別穩定的組成，其在整個後續 處理中不會改變。 本發明蒸氣沉積材料係以下述方法製備者，於其中將 以從4 : 1至1 : 4的莫耳比相混合，將該混合物壓縮或懸 浮，成型且隨後燒結。 於使用氧化鏡、氧化釓及/或氧化鏑的混合物之情況 ‘12- (9) (9)200427645 中’個別物質在混合物中的莫耳比例可能在於二元混合物 情況中爲從9 9 : 1至1 : 9 9的比例而於三元混合物情況 中爲在從1 : : 9 8至1 : 9 8 :]至9 8 : 1 : 1的比例之混 合物旲耳比例內變異。 包括二氧化鈦 '鈦和氧化鏡之混合物業經證明爲特別 有利者。 就重量比例而言，下面諸比例可以有利地調定：以混 合物的總重量爲基準，從5 〇至9 2重量份的氧化鏡，從7 至42重量份的二氧化鈦和從〇至8重量份的鈦。較佳者 爲使用以混合物的總重量爲基準，從6 7至7 6重量份的氧 化鏡’從1 5至2 7重量份的二氧化鈦和從2至5重量份的 鈦。 針對使用該材料得到的光學層所可達到的折射率而言 ’金屬鈦的添加沒有不利的影響。於此同樣地，可以得到 大於2.0且特別者從2 · 2至2.3之折射率。 上面對於沒有添加鈦的本發明蒸氣沉積材料所述的所 有優點都出現於除了二氧化鈦和氧化鏡以外還包括金屬鈦 的混合物之上。 此意味著該混合物可以良好地處理，且可以使用該混 合物得到具有穩定的局折射率，在廣光譜範圍內不吸收且 透光，在濕溫環境中穩定且不會發射出放射性轄射之均勻 層。 本發明蒸氣沉積材料係經由一種下述方法製成者，其 中係將氧化鈦和氧化鏡以從4 : 1至1 : 4的莫耳比相 '混合 -13- (10) 200427645 ，將該混合物壓縮或懸浮，成型且隨後燒結。 氧化鈦和氧化鏡有利地係以從2.6 : 1至 耳比彼此密切地相混合。 取代純氧化鏡者，於此也可以使用氧化鏡 /或氧化鏑的混合物。 將混合物利用已知的適當壓縮手段予以壓 不過，也可以製備經混合的成分在一適當載體 浮液，其再經成型與隨後乾燥。適當載體介質 水，於其中，若需要時，可加入黏合劑，例如 甲基纖維素或聚乙一醇，和，需要時，輔助劑 潤劑或消泡劑。懸浮操作後面係接著成型。於 用多種已知技術，例如，擠塑、射出成型或噴 所得成型物乾燥與脫除黏合劑，例如經由燃燒 更佳地處置與計量該等混合物而進行的。該混 成的成型物因而沒有限制。適當的成型物爲可 的處置和良好的計量之所有彼等成型物，其在 使用本發明蒸氣沉積材料對基板的連續塗覆之 的爲必需的補充程序，都有特別的作用。較佳 而爲各種、九粒、圓片、截端圓錐、粒或顆 粒。 隨後將成型後的混合物燒結。此處的燒結 多種條件下進行。例如，燒結可在從約1 2 〇 〇马 溫度之空氣中，在1 2 0 0至1 6 〇 〇 的溫度之惰 如’ ’之下’或在]300至1700 °C的溫度矛 1 ·· 1 .3的莫 與氧化釓及 縮和成型。 介質內之懸 爲，例如， 聚乙烯醇、 ，例如，濕 此，可以使 霧乾燥。將 。此係爲了 合物所轉換 以幫助簡單 ，特別者， 中與對此目 的成型物因 粒、棒或珠 :序可以在 1 6 0 0 °C 的 .氣體，例 低於1 Pa -14- (11) 200427645 的殘留壓力之減壓下進行。此處有利者爲該燒結程序不一 定要’像通常所用者，在減壓下進行。此點可同時減低設 備複雜性且節省時間。 所形成的經成型燒結產品在貯存、運送和導入蒸發裝 置內的過程中都可保持彼等的形狀，且在整個後續熔化與 蒸發程序中彼等的組成都是穩定者。
不過，若將二氧化鈦與鈦和氧化鏡以從4 : 1至1 : 4 的二氧化鈦對氧化鏡莫耳比相混合，壓縮或懸浮，成型且 隨後燒結，可以得到特別穩定的蒸氣沉積材料。此處同樣 地可以使用氧化鏡與氧化釓及/或氧化鏑的混合物取代純 氧化鏡。 轉而特別有利者爲從2.6 : 1至1 : 1 .3的二氧化鈦對 氧化鏡之莫耳混合比。 有關模製物本質和燒結條件’相應於上述有關本發明 沒有添加金屬鈦的蒸氣沉積材料之細節沒有改變。
於混合中，較佳者爲設定以混合物的總重量爲基準， 從5 0至9 2重量份的氧化鏡，從7至4 2重量份的二氧化 鈦和從〇至8重量份的鈦。特別較佳者爲製備包括以混合 物的總重量爲基準，從67至76重量份的氧化鏡，從15 至2 7重量份的二氧化鈦和從2至5重量份的鈦之混合物 在保持上面所提及的混合比例之下，氧化鏡，二氧化 鈦和鈦的混合物經證明係特別有利者。 於燒結與冷卻之该’本發明蒸氣沉積材料即可用來製 -15- (12) (12)200427645 造具有η - 2 · 0，特別考 > 2 的 方11 = J . 2 ϋ的折射辜之咼折射率光學 層。 本發明蒸氣沉積材料可以用來塗覆所有適當的基板， 特別者嵌板、棱柱、片材、成型基板，例如透_、眼鏡透 鏡、攝影機透鏡或類似者，其可包括已知的㈣㈣，例 如，各種玻璃或塑膠。有關要塗覆的基板之本質、尺寸、 形狀、材質和表面品質，本發明蒸氣沉積材料的使用因而 沒有任何限制，只要該等基板可以導引到真空裝置內且於 其中所呈溫度和壓力等條件之下包持穩定即可。不過，業 經證明有利者，爲了增加所施加的層之密度，在塗覆操作 之則和之中加熱該等基板，使得該蒸氣沉積材料撞擊到一 預熱的基板。依所採用的基板之本質而定，彼等可經 加熱到局達3 0 0 C之溫度。不過，此等作法爲先前技藝中 已知者。 所採用的蒸乘/沉積程序常爲商真空蒸氣沉積程序，於 其中係將該蒸氣沉積材料與要塗覆的基板一起導引到裝在 〜真空裝置之中的適當燒瓶，其也爲已知的蒸發坩堝或蒸 發舟皿之內。 之後將該裝置抽真空，經由加熱及/或電子束撞擊使 該蒸氣沉積材料蒸發。該蒸氣沉積材料會以薄層形式沉源 在該基板上。 於該蒸發之中’有利者可以加入氧氣以確保該等層的 完全氧化。爲了改善施加層對，特別者，未經加熱的基板 之黏著，於塗覆操作中，可以使用離子撞擊基板（離子輔 -16 - (13) (13)200427645 助沉積、電漿輔助沉積）。 通常，有利者，可以一層在一層上地交錯沉積眾多層 ，交錯地具有高（n ^ 1 . 8 〇 )與低（n S8 0 )折射率。於此方 式，可以形成多層排列，其可提供彼等所塗覆的基板，與 其他一起者，大爲減低的反射。不過，在光學基板上的此 類型多層排列本身係已知有某些時間且廣爲使用者。 本發明蒸氣沉積材料可以用來在適當基板上面製造黏 附的高折射率光學層，彼等在廣光譜範圍內爲非吸收性者 ’爲透光性且均勻者，具有特別者，n g 2 · 2 0的高折射率 ’於濕溫環境中與對酸和鹼係穩定者，且不會發射出放射 性輻射。 下面要利用許多實施例來解說本發明，但不是用來限 制本發明。 【實施方式] 實施例1 : Y b 2 Ο 3和τ I 〇 2的混合物 將8 3重量份γ b 2 0 3和1 7重量份二氧化鈦彼此密切混 合且隨後成型爲錠。將此等置於約1 5 0(TC空氣中煅燒4 小時。隨後，將該等錠導引到一具有電子束蒸發器的蒸氣 沉積單兀，例如L e y b ο 1 d L 5 6 0型內，並且在約1 9 0 0 °C的 溫度和2χΐ (T2 Pa之壓力下蒸發。於位於該裝置內，於蒸 發之前加熱到約3 0 0 °C，作爲基板的石英玻璃上，沉積一 薄層。該層的厚度係經調定在約3 4 0奈米。於冷卻且從蒸 -17- (14) (14)200427645 發裝置取出之後，使用一光譜光度計測量經塗覆玻璃的透 射和反射光譜。由該光譜測定出該層的折射率。得到在 5 〇 0奈米波長具有2.2 4的折射率之均勻層。 該層在從4 0 0奈米到約5微米的光譜範圍內係透光者 且在此範圍內沒有吸收。該等層在濕溫氣圍，例如在8 0 % 相對大氣溼度和5 0 °C下，且對酸和鹼可耐久並且具有良 好的硬度和黏著強度。 實施例2 :
Yb2〇3、 ΤΙ02和Ti的混合物 將7 2重量份Y b 2 〇 3，2 5重量份二氧化鈦和3重量份 鈦彼此密切混合且隨後成型爲錠。將此等置於約1 600 °C 和1 X W1 Pa減壓下煅燒 4小時。將該等錠置於一 L e y b ο 1 d L 5 6 0蒸氣沉積單元內於實施例1中所述條件之下 蒸發。於熔化與蒸發中沒有觀察到氧的釋出（噴渣）。得到 在500奈米波長具有2.22的折射率之均勻層。該層在從 4 0 0奈米到約5微米的光譜範圍內係透光者且在此範圍內 沒有吸收。該等層在濕溫氣圍，且對酸和鹼可耐久並且具 有良好的硬度和黏著強度。 實施例3 :
Yb2 03、Gd 2 0 3和Ti〇2的混合物 將43重量份Yb2 0 3，40重量份Gd2 03和I 7重量份二 氧化鈦彼此密切混合且隨後成型爲錠。將此等置於約 -18- (15) 200427645 1 5 0 0 °C空氣內煅燒4小時。將該等錠置於一 Leybo]d i^6Q 蒸氣沉積單元內於實施例1中所述條件之下蒸發。得到在 5 0 0奈米波長具有2.22的折射率之均勻層。該層在從4〇〇 奈米到約5微米的光譜範圍內係透光者且在此範圍內沒有 吸收。該等層在濕溫氣圍，且對酸和鹼可耐久並且具有良 好的硬度和黏著強度。
實施例4 :
Yb2 0 3、Gd2 0 3、Ti02 和 Ti 的混合物
將48重量份Yb2〇3，24重量份Gd203，25重量份二 氧化鈦和3重量份的鈦彼此密切混合且隨後成型爲錠。將 此等置於約1 6 0 0 °C和1 X 1 (Γ 1 P a減壓下煅燒6小時。將 該等錠置於一Leybold L5 60蒸氣沉積單元內於實施例1 中所述條件之下蒸發。於熔化與蒸發中沒有觀察到氧.的釋 出（噴渔）。得到在500奈米波長具有2.21的折射率之均勻 層。該層在從4 0 0奈米到約5微米的光譜範圍內係透光者 且在此範圍內沒有吸收。該等層在濕溫氣圍，且對酸和鹼 可耐久並且具有良好的硬度和黏著強度。 -19-

Claims (1)

  1. 200427645 Ο) 拾、申請專利範圍 1. 一種製造高折射率光學層所用之蒸氣沉積材料， 其包括旲耳比爲從4 : 1至1 : 4的氧化鈦和氧化鏡。 2 .如申請專利範圍第】項之蒸氣沉積材料，其包括 —莉化欽和氧化鏡。 3 ·如申請專利範圍第1項之蒸氣沉積材料，其包括 吴耳比爲從2.6 : 1至丨：1 .3的氧化鈦和氧化鏡。 4*如申請專利範圍第1至3項中任一項之蒸氣沉積 材料’其加添地包括氧化釓及/或氧化鏑。 5 .如申請專利範圍第4項之蒸氣沉積材料，其中氧 化1思、氧化乱及/或氧化鏑的莫耳比之和不超過8 〇莫耳％ 〇 6.如申請專利範圍第1至3項中任一項之蒸氣沉積 材料’其包括二氧化鈦、鈦和氧化鏡。 1'如申請專利範圍第1至3項中任一項之蒸氣沉積 材料’其包括以混合物的總重量爲基準，從5 〇至9 2重量 ^的氧化鏡’從7至4 2重量份的二氧化鈦和從0至8重 量份的鈦。 8,如申請專利範圍第7項之蒸氣沉積材料，其包括 以混合物的總重量爲基準，從6 7至7 6重量份的氧化鏡， 1 5至2 7重量份的二氧化鈦和從2至5重量份的鈦。 9 · 一種製備如申請專利範圍第〗項所述蒸氣沉積材 料之方法，其中係將氧化鈦和氧化鏡以從4 :]至1 ·· 4的 %耳比相混合，將該混合物壓縮或懸浮，成型且隨後燒結 -20- (2) 200427645 1 °·如申請專利範圍第9項之方法，其 鈦和氧化鏡混合。 1 1 .如申請專利範圍第9項之方法，其 氧化釓及/或氧化鏑。 1 2。如申請專利範圍第1 1項之方法， 氧化釓及/或氧化鏑的莫耳比之和不超過8 〇 : 1 3。如申請專利範圍第9至1 2項中任 其中s亥燒結係在空氣流入之下進行的。 14 ‘如申請專利範圍第9至1 2項中任 其中該燒結係在減壓下進行的。 15·如申請專利範圍第9至12項中任 其中該燒結係在惰性氣體之下進行的。 1 6 ·如申請專利範圍第9至1 2項中任 其中該混合物係經成型爲錠、嵌板、九粒、 、顆粒、棒或珠粒。 17· ~種如申請專利範圍第1至3項中 相沉積材料於製造高折射率光學層之用途。 18· —種具有2.0的折射率之高折 其包括如申請專利範圍第1至3項中任一項 材料。 1 9 · 一種包括至少一具n g 2.0的折射 光學層之多層光學系統，其包括如申請專利 項中任一項所述氣相沉積材料。 中係將二氧化 中加添地加入 其中氧化鏡、 莫耳％。 一項之方法， 一項之方法， 一項之方法， 一項之方法， 截端圓錐、粒 任一項所述氣 射率光學層， 所述氣相沉積 率之高折射率 範圍第1至3 - 21 - 200427645 柒、（一）、本案指定代表圖為：無 (二）、本代表圖之元件代表符號簡單說明： 捌、本案若有化學式時，請揭示最能顯示發明特徵的化學 式：無
TW93103639A 2003-02-19 2004-02-16 Vapour-deposition material for the production of optical layers of high refractive index TW200427645A (en)

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