TR202001552A2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- TR202001552A2 TR202001552A2 TR2020/01552A TR202001552A TR202001552A2 TR 202001552 A2 TR202001552 A2 TR 202001552A2 TR 2020/01552 A TR2020/01552 A TR 2020/01552A TR 202001552 A TR202001552 A TR 202001552A TR 202001552 A2 TR202001552 A2 TR 202001552A2
- Authority
- TR
- Turkey
- Prior art keywords
- feature
- production method
- vinyl
- hals
- group
- Prior art date
Links
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 99
- 229920002821 Modacrylic Polymers 0.000 claims abstract description 69
- 229920002972 Acrylic fiber Polymers 0.000 claims abstract description 65
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical group C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 29
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical group ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 239000000243 solution Substances 0.000 claims description 58
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 42
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 claims description 40
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 38
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 claims description 36
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 34
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 30
- -1 cyclohydroxyalkyl Chemical group 0.000 claims description 28
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 28
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 26
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 claims description 26
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 claims description 26
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 24
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 24
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 22
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 16
- 239000004753 textile Substances 0.000 claims description 16
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 claims description 14
- 239000003880 polar aprotic solvent Substances 0.000 claims description 14
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxybutane Chemical compound CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims description 12
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 12
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 12
- 230000015271 coagulation Effects 0.000 claims description 12
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 claims description 12
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 125000006289 hydroxybenzyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000007380 fibre production Methods 0.000 claims description 8
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 8
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 8
- BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 1,1-Difluoroethene Chemical compound FC(F)=C BQCIDUSAKPWEOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 4-phenyl-2h-triazin-5-one Chemical compound OC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 VMRIVYANZGSGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000005083 Zinc sulfide Substances 0.000 claims description 6
- 229940117913 acrylamide Drugs 0.000 claims description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 claims description 6
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 claims description 6
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 claims description 6
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N fluoroethene Chemical compound FC=C XUCNUKMRBVNAPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000004029 hydroxymethyl group Chemical group [H]OC([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910000476 molybdenum oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010434 nepheline Substances 0.000 claims description 6
- 229910052664 nepheline Inorganic materials 0.000 claims description 6
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N oxomolybdenum Chemical compound [Mo]=O PQQKPALAQIIWST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 6
- 239000010435 syenite Substances 0.000 claims description 6
- 229910052613 tourmaline Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229940070527 tourmaline Drugs 0.000 claims description 6
- 239000011032 tourmaline Substances 0.000 claims description 6
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 6
- 229910052984 zinc sulfide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N zinc;sulfide Chemical compound [S-2].[Zn+2] DRDVZXDWVBGGMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910000166 zirconium phosphate Inorganic materials 0.000 claims description 6
- LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B zirconium(4+);tetraphosphate Chemical compound [Zr+4].[Zr+4].[Zr+4].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LEHFSLREWWMLPU-UHFFFAOYSA-B 0.000 claims description 6
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 4
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 4
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 3
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 20
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 description 20
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 16
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 16
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 14
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 12
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 10
- 238000007539 photo-oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 8
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 8
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 8
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 8
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 8
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 6
- KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N Ethylene carbonate Chemical compound O=C1OCCO1 KMTRUDSVKNLOMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 4
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 4
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 4
- 229940063557 methacrylate Drugs 0.000 description 4
- 229940102838 methylmethacrylate Drugs 0.000 description 4
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N sodium;carbanide Chemical group [CH3-].[Na+] HSFQBFMEWSTNOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CKUAXEQHGKSLHN-UHFFFAOYSA-N [C].[N] Chemical compound [C].[N] CKUAXEQHGKSLHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N [O].[O] Chemical compound [O].[O] QRSFFHRCBYCWBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 2
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 2
- 230000000670 limiting effect Effects 0.000 description 2
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 2
- AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N orlistat Chemical compound CCCCCCCCCCC[C@H](OC(=O)[C@H](CC(C)C)NC=O)C[C@@H]1OC(=O)[C@H]1CCCCCC AHLBNYSZXLDEJQ-FWEHEUNISA-N 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N propylene carbonate Chemical compound CC1COC(=O)O1 RUOJZAUFBMNUDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 2
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 2
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 2
Classifications
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01F—CHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
- D01F6/00—Monocomponent artificial filaments or the like of synthetic polymers; Manufacture thereof
- D01F6/28—Monocomponent artificial filaments or the like of synthetic polymers; Manufacture thereof from copolymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D01F6/38—Monocomponent artificial filaments or the like of synthetic polymers; Manufacture thereof from copolymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds comprising unsaturated nitriles as the major constituent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F214/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen
- C08F214/02—Monomers containing chlorine
- C08F214/04—Monomers containing two carbon atoms
- C08F214/08—Vinylidene chloride
- C08F214/10—Vinylidene chloride with nitriles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
- C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
- C08F220/42—Nitriles
- C08F220/44—Acrylonitrile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/01—Use of inorganic substances as compounding ingredients characterized by their specific function
- C08K3/014—Stabilisers against oxidation, heat, light or ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
- C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/07—Aldehydes; Ketones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
- C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
- C08K5/3477—Six-membered rings
- C08K5/3492—Triazines
- C08K5/34926—Triazines also containing heterocyclic groups other than triazine groups
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01D—MECHANICAL METHODS OR APPARATUS IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS
- D01D5/00—Formation of filaments, threads, or the like
- D01D5/06—Wet spinning methods
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01F—CHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
- D01F1/00—General methods for the manufacture of artificial filaments or the like
- D01F1/02—Addition of substances to the spinning solution or to the melt
- D01F1/10—Other agents for modifying properties
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01F—CHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
- D01F1/00—General methods for the manufacture of artificial filaments or the like
- D01F1/02—Addition of substances to the spinning solution or to the melt
- D01F1/10—Other agents for modifying properties
- D01F1/106—Radiation shielding agents, e.g. absorbing, reflecting agents
-
- D—TEXTILES; PAPER
- D01—NATURAL OR MAN-MADE THREADS OR FIBRES; SPINNING
- D01F—CHEMICAL FEATURES IN THE MANUFACTURE OF ARTIFICIAL FILAMENTS, THREADS, FIBRES, BRISTLES OR RIBBONS; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED FOR THE MANUFACTURE OF CARBON FILAMENTS
- D01F6/00—Monocomponent artificial filaments or the like of synthetic polymers; Manufacture thereof
- D01F6/28—Monocomponent artificial filaments or the like of synthetic polymers; Manufacture thereof from copolymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- D01F6/40—Modacrylic fibres, i.e. containing 35 to 85% acrylonitrile
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/221—Oxides; Hydroxides of metals of rare earth metal
- C08K2003/2213—Oxides; Hydroxides of metals of rare earth metal of cerium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2244—Oxides; Hydroxides of metals of zirconium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2255—Oxides; Hydroxides of metals of molybdenum
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/18—Oxygen-containing compounds, e.g. metal carbonyls
- C08K3/20—Oxides; Hydroxides
- C08K3/22—Oxides; Hydroxides of metals
- C08K2003/2296—Oxides; Hydroxides of metals of zinc
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/32—Phosphorus-containing compounds
- C08K2003/321—Phosphates
- C08K2003/328—Phosphates of heavy metals
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Textile Engineering (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Artificial Filaments (AREA)
Abstract
Buluş, en az %85 akrilonitril grupları içeren akrilik elyaf ve en az %40 akrilonitril grupları ile en az %40 viniliden klorür grupları içeren modakrilik elyafların güneş ışığının sebep olduğu UV ışığı ve yüzey ısınmasına karşı dayanıklılığının arttırılması ile ilgilidir.
Description
TARIFNAME
Günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve modakrilik elyaf
Teknik Alan
Bulus, dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari
içeren akrilik elyaf veya en az %40 akrilonitril gruplari ve en az %40 viniliden klorür gruplari
içeren modakrilik elyaflarin günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi
dayanikliliginin arttirilmasi ile ilgilidir.
Teknigin Bilinen Durumu
Akrilik elyaf, reçine ve plastikler gibi çesitli organik ürünlerin sentezinde, yaygin olarak
kullanilan bir monomer olan akrilonitril, aktif bir vinil ve siyanür grubu içeren, son derece
reaktif bir bilesiktir. Akrilonitrilin en büyük kullanim alani, akrilik ve modakrilik elyaf üretimi
olup, akrilik elyaflar, ko-monomer içermektedir. Akrilonitril orani, agirlikça % 85 ve üzerinde
olan elyaflar, akrilik, % 35-85 arasinda olanlar ise modakrilik olarak adlandirilmaktadir. Yüne
benzemeleri ve hidrofobik özellikleri nedeni ile tekstilde genis bir kullanim yelpazesine sahip
olan akrilik ve modakrilik elyaflardan üretilen kumaslarda, özellikle dis mekanda
kullanildiklarinda zamanla renk degisimi ve mukavemet kaybi gibi problemi yasanmaktadir.
Bunun baslica sebebi, günes isigindan gelen UV isigi ve infrared kaynakli isinmanin
polimerlerin yapisini bozmasidir. Bilinen teknikte akrilik ve modakrilik elyaflarda günes
isigina karsi koruma amaciyla HALS (engellenmis amin isik stabilizörü) veya UV emiciler
kullanilmaktadir.
Akrilik elyafin isik ve isiya karsi bozunma mekanizmasi birbirinden farklidir ve akrilik elyaf
günes isigina tabi tutuldugunda iki tip bozunma gözlenmektedir. Sekil-1'de akrilik elyafin isik
bozunma mekanizmasi, sekil-2'de ise akrilik elyafin isi bozunma mekanizmasi verilmektedir.
Akrilik elyafin isiga karsi bozunma mekanizmasina göre akrilik elyaf UV dalga boylarina
maruz kaldiginda zararli birincil radikaller olusmaktadir. HALS yapilari bu birincil radikalleri
zararsiz hale getirmeleriyle bilinmektedir. Isiya karsi bozunma durumunda ise HALS
stabilizatörleri bu bozunmayi engelleyememektedir. UV emiciler ise, günes isigindan gelen
zararli UV dalga boylarini emmekte ve polimer üzerindeki etkisinin azalmasini
saglamaktadir. Fakat isik ya da isi karsisinda bozunmus elyaflarin daha fazla bozunmasini
engelleyememektedir. Bu sebeple de UV emiciler ile günes isiginin bütün etkilerine karsi
korunma saglanamamaktadir.
TARIFNAME
Günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve modakrilik elyaf
Teknik Alan
Bulus, dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari
içeren akrilik elyaf veya en az %40 akrilonitril gruplari ve en az %40 viniliden klorür gruplari
içeren modakrilik elyaflarin günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi
dayanikliliginin arttirilmasi ile ilgilidir.
Teknigin Bilinen Durumu
Akrilik elyaf, reçine ve plastikler gibi çesitli organik ürünlerin sentezinde, yaygin olarak
kullanilan bir monomer olan akrilonitril, aktif bir vinil ve siyanür grubu içeren, son derece
reaktif bir bilesiktir. Akrilonitrilin en büyük kullanim alani, akrilik ve modakrilik elyaf üretimi
olup, akrilik elyaflar, ko-monomer içermektedir. Akrilonitril orani, agirlikça % 85 ve üzerinde
olan elyaflar, akrilik, % 35-85 arasinda olanlar ise modakrilik olarak adlandirilmaktadir. Yüne
benzemeleri ve hidrofobik özellikleri nedeni ile tekstilde genis bir kullanim yelpazesine sahip
olan akrilik ve modakrilik elyaflardan üretilen kumaslarda, özellikle dis mekanda
kullanildiklarinda zamanla renk degisimi ve mukavemet kaybi gibi problemi yasanmaktadir.
Bunun baslica sebebi, günes isigindan gelen UV isigi ve infrared kaynakli isinmanin
polimerlerin yapisini bozmasidir. Bilinen teknikte akrilik ve modakrilik elyaflarda günes
isigina karsi koruma amaciyla HALS (engellenmis amin isik stabilizörü) veya UV emiciler
kullanilmaktadir.
Akrilik elyafin isik ve isiya karsi bozunma mekanizmasi birbirinden farklidir ve akrilik elyaf
günes isigina tabi tutuldugunda iki tip bozunma gözlenmektedir. Sekil-1'de akrilik elyafin isik
bozunma mekanizmasi, sekil-2'de ise akrilik elyafin isi bozunma mekanizmasi verilmektedir.
Akrilik elyafin isiga karsi bozunma mekanizmasina göre akrilik elyaf UV dalga boylarina
maruz kaldiginda zararli birincil radikaller olusmaktadir. HALS yapilari bu birincil radikalleri
zararsiz hale getirmeleriyle bilinmektedir. Isiya karsi bozunma durumunda ise HALS
stabilizatörleri bu bozunmayi engelleyememektedir. UV emiciler ise, günes isigindan gelen
zararli UV dalga boylarini emmekte ve polimer üzerindeki etkisinin azalmasini
saglamaktadir. Fakat isik ya da isi karsisinda bozunmus elyaflarin daha fazla bozunmasini
engelleyememektedir. Bu sebeple de UV emiciler ile günes isiginin bütün etkilerine karsi
korunma saglanamamaktadir.
Literatürde konu ile ilgili olarak birçok basvuruya rastlanilmistir. Bunlardan biri olan
engellemek üzere, HALS (engellenmis amin isik stabilizatörü) isik stabilizatörlerinin
kullanimi açiklanmaktadir. Söz konusu basvuruda, kullanilan HALS stabilizatörleri ile akrilik
elyafin isiga karsi bozunmasi engellenmekte iken, ayni HALS stabilizatörleri ile isiya karsi
bozunmasi engellenememistir.
JP424347882 numarali dokümana konu bulusta, modakrilik elyafinda triazin yapili UV emici
kullanilmaktadir. Bahsedilen UV emici, isik ya da isi karsisinda bozunmus elyaflarin daha
fazla bozunmasini engelleyememekle birlikte söz konusu bulusta günes isiginin bütün
etkilerine karsi korunma saglanamamistir.
engellemek üzere metal oksit partiküllerinin kullanilmasi ile ilgidir. Bahsedilen isil koruma,
sicak gaz filtrelerinde kullanilan akrilik elyaf için saglanmakta olup, söz konusu basvuruda
günes isigindan gelen infrared isinmaya karsi koruma hakkinda herhangi bir bilgi
bulunmamaktadir.
Sonuç olarak yukarida bahsedilen olumsuzluklardan ve eksikliklerden dolayi, ilgili teknik
alanda bir yenilik yapma ihtiyaci ortaya çikmistir.
Bulusun Amaci
Mevcut bulus, yukarida bahsedilen gereksinimleri karsilayan, tüm dezavantajlari ortadan
kaldiran ve ilave bazi avantajlar getiren, günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve
modakrilik elyaf ile ilgilidir.
Bulusun ana amaci, en az %85 akrilonitril gruplari içeren akrilik elyaf ve en az %40 akrilonitril
gruplari ile en az %40 viniliden klorür gruplari içeren modakrilik elyaflarin günes isiginin
sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligini arttirmaktir.
Bulusun amaci, akrilik elyaf ve modakrilik elyaflarin günes isigindan gelen UV radyasyonu ve
Bulusun amaci, HALS, UV emici ve IR yansitici malzemeleri bir arada uygulayarak akrilik ve
modakrilik elyaflari günes isiginin tüm etkisine karsi korunmaktir.
Literatürde konu ile ilgili olarak birçok basvuruya rastlanilmistir. Bunlardan biri olan
engellemek üzere, HALS (engellenmis amin isik stabilizatörü) isik stabilizatörlerinin
kullanimi açiklanmaktadir. Söz konusu basvuruda, kullanilan HALS stabilizatörleri ile akrilik
elyafin isiga karsi bozunmasi engellenmekte iken, ayni HALS stabilizatörleri ile isiya karsi
bozunmasi engellenememistir.
JP424347882 numarali dokümana konu bulusta, modakrilik elyafinda triazin yapili UV emici
kullanilmaktadir. Bahsedilen UV emici, isik ya da isi karsisinda bozunmus elyaflarin daha
fazla bozunmasini engelleyememekle birlikte söz konusu bulusta günes isiginin bütün
etkilerine karsi korunma saglanamamistir.
engellemek üzere metal oksit partiküllerinin kullanilmasi ile ilgidir. Bahsedilen isil koruma,
sicak gaz filtrelerinde kullanilan akrilik elyaf için saglanmakta olup, söz konusu basvuruda
günes isigindan gelen infrared isinmaya karsi koruma hakkinda herhangi bir bilgi
bulunmamaktadir.
Sonuç olarak yukarida bahsedilen olumsuzluklardan ve eksikliklerden dolayi, ilgili teknik
alanda bir yenilik yapma ihtiyaci ortaya çikmistir.
Bulusun Amaci
Mevcut bulus, yukarida bahsedilen gereksinimleri karsilayan, tüm dezavantajlari ortadan
kaldiran ve ilave bazi avantajlar getiren, günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve
modakrilik elyaf ile ilgilidir.
Bulusun ana amaci, en az %85 akrilonitril gruplari içeren akrilik elyaf ve en az %40 akrilonitril
gruplari ile en az %40 viniliden klorür gruplari içeren modakrilik elyaflarin günes isiginin
sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligini arttirmaktir.
Bulusun amaci, akrilik elyaf ve modakrilik elyaflarin günes isigindan gelen UV radyasyonu ve
Bulusun amaci, HALS, UV emici ve IR yansitici malzemeleri bir arada uygulayarak akrilik ve
modakrilik elyaflari günes isiginin tüm etkisine karsi korunmaktir.
Bulusun amaci, akrilik ve modakrilik elyaflardan üretilen dis mekan kumaslarinda zamanla
olusabilecek renk degisimlerini ve mukavemet kaybini engellemektir.
Bulusun bir amaci, akrilik ve modakrilik elyaftan elde edilen dis mekan kumaslarinin kullanim
ömrünü uzatmaktir.
Yukarida anlatilan amaçlarin yerine getirilmesi için bulus, dis mekan tekstillerinde
kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari içeren akrilik elyaf veya en az %40
akrilonitril gruplari ve en az %40 viniliden klorür gruplari içeren modakrilik elyaf olup, özelligi;
günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere,
UV emici malzeme, HALS ve IR yansitici malzeme içermektedir.
Yukarida anlatilan amaçlarin yerine getirilmesi için bulus, dis mekan tekstillerinde
kullanilmak üzere,
a. en az %85 oranind akrilonitril ve vinil ko-monomerinin polimerlestirilmesi veya en az
polimerlestirilmesi,
b. elde edilen polimerin polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisinin
hazirlanmasi,
c. dop karisiminin bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilmesi,
d. plakalardan çikan dop karisiminin koagülasyon banyosunda filament formu
kazandirilmasi,
e. bahsedilen filamentin üzerindeki fazla çözücüyü uzaklastirmak üzere yikanmasi,
f. yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilmesi
ve akabinde kurutulmasi,
g. kurutma sonrasi çikan filamentlerin kivirciklandirilmasi ve tavlanmasi,
islem adimlarini içeren akrilik elyaf veya modakrilik elyaf üretim yöntemi olup, özelligi; günes
isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere,
. her biri ayri birer kap içerisinde hazirlanan HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR
yansitici dispersiyonun b islem adimindan bahsedilen dop çözeltisi içerisine
eklenmesi islem adimini
Bulusun amaci, akrilik ve modakrilik elyaflardan üretilen dis mekan kumaslarinda zamanla
olusabilecek renk degisimlerini ve mukavemet kaybini engellemektir.
Bulusun bir amaci, akrilik ve modakrilik elyaftan elde edilen dis mekan kumaslarinin kullanim
ömrünü uzatmaktir.
Yukarida anlatilan amaçlarin yerine getirilmesi için bulus, dis mekan tekstillerinde
kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari içeren akrilik elyaf veya en az %40
akrilonitril gruplari ve en az %40 viniliden klorür gruplari içeren modakrilik elyaf olup, özelligi;
günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere,
UV emici malzeme, HALS ve IR yansitici malzeme içermektedir.
Yukarida anlatilan amaçlarin yerine getirilmesi için bulus, dis mekan tekstillerinde
kullanilmak üzere,
a. en az %85 oranind akrilonitril ve vinil ko-monomerinin polimerlestirilmesi veya en az
polimerlestirilmesi,
b. elde edilen polimerin polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisinin
hazirlanmasi,
c. dop karisiminin bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilmesi,
d. plakalardan çikan dop karisiminin koagülasyon banyosunda filament formu
kazandirilmasi,
e. bahsedilen filamentin üzerindeki fazla çözücüyü uzaklastirmak üzere yikanmasi,
f. yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilmesi
ve akabinde kurutulmasi,
g. kurutma sonrasi çikan filamentlerin kivirciklandirilmasi ve tavlanmasi,
islem adimlarini içeren akrilik elyaf veya modakrilik elyaf üretim yöntemi olup, özelligi; günes
isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere,
. her biri ayri birer kap içerisinde hazirlanan HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR
yansitici dispersiyonun b islem adimindan bahsedilen dop çözeltisi içerisine
eklenmesi islem adimini
o hazirlanan IR yansitici dispersiyonun b islem adiminda bahsedilen dop çözeltisi
içerisine eklenmesi,
0 f islem adimindan önce apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle
edilerek hazirlanan HALS ve UV emici malzemenin eklenmesi,
Bulusun yapisal ve karakteristik özellikleri ve tüm avantajlari asagida verilen detayli açiklama
sayesinde daha net olarak anlasilacaktir ve bu nedenle degerlendirmenin de bu detayli
açiklama göz önüne alinarak yapilmasi gerekmektedir.
Bulusun Anlasilmasina Yardimci Olacak Sekiller
Sekil-1: Akrilik elyafin isik bozunma mekanizmasi
Sekil-2: Akrilik elyafin isi bozunma mekanizmasi
Bulusun Detayli Açiklamasi
Bu detayli açiklamada, günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve modakrilik elyaf,
sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik olarak ve hiçbir sinirlayici etki
olusturmayacak sekilde açiklanmaktadir.
Bulus, dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari
içeren akrilik elyaf veya en az %40 akrilonitril gruplari ile en az %40 viniliden klorür gruplari
içeren modakrilik elyaflarin, günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi
dayanikliliginin arttirilmasi ile ilgilidir. Bulusun özelligi, HALS, UV emici ve IR yansitici
malzemelerin bir arada uygulanmasidir.
Bulusa konu akrilik ve modakrilik elyafin elde edilmesinde, agirlikça %O,1-1O oraninda
tercihen %0,5 oraninda HALS, agirlikça %0,”1-10 oraninda tercihen %0,5 oraninda UV emici
malzeme ve agirlikça %0,05-5 oraninda tercihen %0,25 oraninda IR yansitici malzeme
kullanilmaktadir.
UV emici malzeme, günes isigindan gelen zararli UV isinlarini emerek polimerin UV isinina
maruziyetini düsürmektedir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda UV emici malzeme olarak
inorganik ve organik bilesikler kullanilmaktadir. Inorganik bilesik olarak, çinko oksit, seryum
oksit, molibden oksit, zirkonyum fosfat ve zirkonyum oksitten olusan gruptan seçilen birey
veya kombinasyonlari kullanilabilmektedir. Organik bilesik olarak ise, benzofenon,
benzotriazol, hidroksifenil triazi, oksanilidin ve engellenmis benzoattan olusan gruptan
o hazirlanan IR yansitici dispersiyonun b islem adiminda bahsedilen dop çözeltisi
içerisine eklenmesi,
0 f islem adimindan önce apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle
edilerek hazirlanan HALS ve UV emici malzemenin eklenmesi,
Bulusun yapisal ve karakteristik özellikleri ve tüm avantajlari asagida verilen detayli açiklama
sayesinde daha net olarak anlasilacaktir ve bu nedenle degerlendirmenin de bu detayli
açiklama göz önüne alinarak yapilmasi gerekmektedir.
Bulusun Anlasilmasina Yardimci Olacak Sekiller
Sekil-1: Akrilik elyafin isik bozunma mekanizmasi
Sekil-2: Akrilik elyafin isi bozunma mekanizmasi
Bulusun Detayli Açiklamasi
Bu detayli açiklamada, günes isigina karsi stabilize edilmis akrilik ve modakrilik elyaf,
sadece konunun daha iyi anlasilmasina yönelik olarak ve hiçbir sinirlayici etki
olusturmayacak sekilde açiklanmaktadir.
Bulus, dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari
içeren akrilik elyaf veya en az %40 akrilonitril gruplari ile en az %40 viniliden klorür gruplari
içeren modakrilik elyaflarin, günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi
dayanikliliginin arttirilmasi ile ilgilidir. Bulusun özelligi, HALS, UV emici ve IR yansitici
malzemelerin bir arada uygulanmasidir.
Bulusa konu akrilik ve modakrilik elyafin elde edilmesinde, agirlikça %O,1-1O oraninda
tercihen %0,5 oraninda HALS, agirlikça %0,”1-10 oraninda tercihen %0,5 oraninda UV emici
malzeme ve agirlikça %0,05-5 oraninda tercihen %0,25 oraninda IR yansitici malzeme
kullanilmaktadir.
UV emici malzeme, günes isigindan gelen zararli UV isinlarini emerek polimerin UV isinina
maruziyetini düsürmektedir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda UV emici malzeme olarak
inorganik ve organik bilesikler kullanilmaktadir. Inorganik bilesik olarak, çinko oksit, seryum
oksit, molibden oksit, zirkonyum fosfat ve zirkonyum oksitten olusan gruptan seçilen birey
veya kombinasyonlari kullanilabilmektedir. Organik bilesik olarak ise, benzofenon,
benzotriazol, hidroksifenil triazi, oksanilidin ve engellenmis benzoattan olusan gruptan
seçilen birey veya kombinasyonlari kullanilabilmektedir. UV emici malzemeler dop esnasinda
veya apreleme asamasinda polimere eklenebilmektedir.
Inorganik bilesiklerden olusan UV emici malzemeler su ve çözücüler içerisinde tek basina
çözünmemektedirler. UV emici malzemeler çözücü ve polimer ile karistirilarak
süspansiyon/dispersiyon elde edilmektedir. Kullanilan UV emici malzemenin ortalama
tanecik boyutu 300 nm'den küçük olmalidir ki dop içerisine eklenebilsin. Ortalama tanecik
boyutu 300 nm”den büyük olan UV emici malzemeler kullanildigi takdirde tanecik boyutunu
düsürmek üzere ögütme prosesine tabi tutulmaktadir.
Organik bilesiklerden olusan UV emici malzemeler toz halinde DMAc, DMF, DMSO, NMP,
etilen karbonat, propilen karbonat, gamma-butrolakton, gamma-valerolaktan, MEK, aseton,
THF vb. polar aprotik içerisinde çözünüyor ise dop içerisine eklenerek kullanilabilmektedir.
Bahsedilen bu malzemeler suda çözünebilir veya disperse olabilir özellikte ise apreleme
sirasinda elyafa uygulanabilmektedir.
Çözücü içerisinde çözünen UV emicilerin uçuculugu 300 °C`de %5'ten azdir. Bulusun tercih
edilen yapilanmasinda kullanilan UV emici malzemelerin %20`Iik çözeltisi içerisinde pH
degeri 4-9 arasindadir.
isinmasinin sebep oldugu termal bozunmayi engellemektedir. Bulusun tercih edilen
yapilanmasinda kullanilan IR yansitici malzemeler, rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin
siyenit, baryum sülfat, Iitopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan
gruptan seçilen birey ya da kombinasyonlari kullanilmaktadir. lR yansitici malzemeler
çözücü ve polimer ile karistirilarak süspansiyon/dispersiyon elde edilmektedir. Kullanilan IR
yansitici malzemenin ortalama tanecik boyutu 300 nm'den küçük olmalidir ki dop içerisine
eklenebilsin. Ortalama tanecik boyutu 300 nm'den büyük olan IR yansitici malzemeler
kullanildigi takdirde tanecik boyutunu düsürmek üzere ögütme prosesine tabi tutulmaktadir.
HALS (engellenmis amin isik stabilizatörü), günes isigindan gelen zararli UV radyasyonunun
polimerlerde olusturdugu birincil radikallerin tutularak zararsiz bilesikler haline çevrilmesini
saglamaktadir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilan HALS”in yapisi formül 1 veya
formül 2'de gösterildigi gibidir.
seçilen birey veya kombinasyonlari kullanilabilmektedir. UV emici malzemeler dop esnasinda
veya apreleme asamasinda polimere eklenebilmektedir.
Inorganik bilesiklerden olusan UV emici malzemeler su ve çözücüler içerisinde tek basina
çözünmemektedirler. UV emici malzemeler çözücü ve polimer ile karistirilarak
süspansiyon/dispersiyon elde edilmektedir. Kullanilan UV emici malzemenin ortalama
tanecik boyutu 300 nm'den küçük olmalidir ki dop içerisine eklenebilsin. Ortalama tanecik
boyutu 300 nm”den büyük olan UV emici malzemeler kullanildigi takdirde tanecik boyutunu
düsürmek üzere ögütme prosesine tabi tutulmaktadir.
Organik bilesiklerden olusan UV emici malzemeler toz halinde DMAc, DMF, DMSO, NMP,
etilen karbonat, propilen karbonat, gamma-butrolakton, gamma-valerolaktan, MEK, aseton,
THF vb. polar aprotik içerisinde çözünüyor ise dop içerisine eklenerek kullanilabilmektedir.
Bahsedilen bu malzemeler suda çözünebilir veya disperse olabilir özellikte ise apreleme
sirasinda elyafa uygulanabilmektedir.
Çözücü içerisinde çözünen UV emicilerin uçuculugu 300 °C`de %5'ten azdir. Bulusun tercih
edilen yapilanmasinda kullanilan UV emici malzemelerin %20`Iik çözeltisi içerisinde pH
degeri 4-9 arasindadir.
isinmasinin sebep oldugu termal bozunmayi engellemektedir. Bulusun tercih edilen
yapilanmasinda kullanilan IR yansitici malzemeler, rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin
siyenit, baryum sülfat, Iitopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan
gruptan seçilen birey ya da kombinasyonlari kullanilmaktadir. lR yansitici malzemeler
çözücü ve polimer ile karistirilarak süspansiyon/dispersiyon elde edilmektedir. Kullanilan IR
yansitici malzemenin ortalama tanecik boyutu 300 nm'den küçük olmalidir ki dop içerisine
eklenebilsin. Ortalama tanecik boyutu 300 nm'den büyük olan IR yansitici malzemeler
kullanildigi takdirde tanecik boyutunu düsürmek üzere ögütme prosesine tabi tutulmaktadir.
HALS (engellenmis amin isik stabilizatörü), günes isigindan gelen zararli UV radyasyonunun
polimerlerde olusturdugu birincil radikallerin tutularak zararsiz bilesikler haline çevrilmesini
saglamaktadir. Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilan HALS”in yapisi formül 1 veya
formül 2'de gösterildigi gibidir.
R2`N/\/OR3
RasNÄNÄNJRJ: 4`NANANIRQ
R1 R1 R1 R1
Formül 1 Formül 2
Her bir R1; Alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil,
siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir.
Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil,
siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan
gruptan seçilmektedir.
Bulusa konu akrilik veya modakrilik elyaf elde etmek üzere toz formda veya su içerisinde
enkapsüle edilmis HALS kullanilabilmektedir. Toz formda HALS çözücü içerisinde çözünerek
çözelti elde edilebilmektedir. Kullanilan HALS'in %20ilik çözeltisinin pH degeri 4-9
arasindadir. Toz formda HALS'in suda çözünürlügü ise %1'den düsüktür. Bulusun tercih
edilen yapilanmasinda çözücü olarak DMAc, DMF, DMSO, NMP, etilen karbonat, propilen
karbonat, gamma-butrolakton, gamma-valerolaktan, MEK, aseton, THF vb. polar aprotik
çözücüler kullanilabilmektedir.
Su içerisinde enkapsüle edilmis HALS apreleme ile elyaf üzerine uygulanmaktadir.
Enkapsüle HALSlin %10'luk sulu çözeltisinin pH degeri 4-9 arasindadir.
Hem toz formda hem de su içerisinde enkapsüle edilmis HALS'in molekül agirligi ise 500-
Dünyaya ulasan günes isiginda ultraviolet, görünür ve infrared olmak üzere 3 tip
elektromanyetik radyasyon çesidi vardir. UV radyasyonu en düsük dalga boylarina ve en
yüksek enerjiye sahip radyasyondur. Bütün organik moleküller ve polimerler, yapilarinda
bulunan kovalent baglardan dolayi, UV geçirgenligine sahiptir. Bir polimerin en yüksek
geçirgenlige sahip oldugu dalga boyu, yapisini en çok bozacak enerjidir. Bu radyasyonun
yaydigi enerji polimer zincirlerinde bulunan; karbon-azot tekli kovalent bag, oksijen-oksijen
R2`N/\/OR3
RasNÄNÄNJRJ: 4`NANANIRQ
R1 R1 R1 R1
Formül 1 Formül 2
Her bir R1; Alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil,
siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir.
Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil,
siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan
gruptan seçilmektedir.
Bulusa konu akrilik veya modakrilik elyaf elde etmek üzere toz formda veya su içerisinde
enkapsüle edilmis HALS kullanilabilmektedir. Toz formda HALS çözücü içerisinde çözünerek
çözelti elde edilebilmektedir. Kullanilan HALS'in %20ilik çözeltisinin pH degeri 4-9
arasindadir. Toz formda HALS'in suda çözünürlügü ise %1'den düsüktür. Bulusun tercih
edilen yapilanmasinda çözücü olarak DMAc, DMF, DMSO, NMP, etilen karbonat, propilen
karbonat, gamma-butrolakton, gamma-valerolaktan, MEK, aseton, THF vb. polar aprotik
çözücüler kullanilabilmektedir.
Su içerisinde enkapsüle edilmis HALS apreleme ile elyaf üzerine uygulanmaktadir.
Enkapsüle HALSlin %10'luk sulu çözeltisinin pH degeri 4-9 arasindadir.
Hem toz formda hem de su içerisinde enkapsüle edilmis HALS'in molekül agirligi ise 500-
Dünyaya ulasan günes isiginda ultraviolet, görünür ve infrared olmak üzere 3 tip
elektromanyetik radyasyon çesidi vardir. UV radyasyonu en düsük dalga boylarina ve en
yüksek enerjiye sahip radyasyondur. Bütün organik moleküller ve polimerler, yapilarinda
bulunan kovalent baglardan dolayi, UV geçirgenligine sahiptir. Bir polimerin en yüksek
geçirgenlige sahip oldugu dalga boyu, yapisini en çok bozacak enerjidir. Bu radyasyonun
yaydigi enerji polimer zincirlerinde bulunan; karbon-azot tekli kovalent bag, oksijen-oksijen
tekli kovalent bag, karbon-karbon tekli kovalent bag, karbon-hidrojen tekli kovalent bag,
karbon-klor tekli kovalent bag gibi baglarin kopmasina ve radikallerin olusumuna sebep
vermektedir. Radikaller çok reaktif moleküller olduklari için, hala bozunmamis baglarla ve
havadaki oksijen ile kisa sürede etkilesime girerek polimer zincirlerinin bozunmasina neden
olmaktadir. Bu bozunmaya ise foto oksidasyon denmektedir. Bu bozunma exponansiyel bir
oran ile arttigi için, polimerlerde hizli bir sekilde renk degisimi ve mukavemet kaybi
yasanmakta ve kullanim ömürleri azalmaktadir. Günes isigindan gelen kizilötesi dalga
boylari ise polimerlerin isinmasini saglamaktadir. Bu isinma zamanla polimerlerde termal
okidasyona sebep olmaktadir. Bazi polimerlerde termal oksidasyon ile foto oksidasyon
mekanizmalari aynidir fakat akrilik ve modakrilik elyaflarda bu iki mekanizmasi farklidir.
Poliakrilonitril kopolimerlerinden elde edilen ve agirlikça en az %85 akrilonitrilden olusan
elyaflarin en yüksek geçirgenlige sahip oldugu dalga boyu 300 nanometredir. Bulusta UV
emici, elyafin en hassas oldugu dalga boylarini kendi bünyesine alip zararsiz hale getirmek
üzere kullanilmaktadir ancak, tek basina UV emici bahsedilen korumanin saglanmasi için
yeterli degildir. Uzun süreli günes isigi maruziyetinde olusabilecek radikallerin zararsiz hale
getirilmesi gerekmektedir. HALS molekülleri yapisinda bulunan piperidin gruplari sayesinde
olusan radikaller ile reaksiyona girerek, foto oksidasyonu durdurmaktadir. UV emici ve HALS
moleküllerinin beraber kullanimi foto oksidasyon karsisinda elyafa en yüksek korumayi
saglamakta fakat bu koruma da termal oksidasyon kaynakli bozunmaya karsi bir etki
etmemektedir. IR yansitici malzemeler, günes isigindan gelen kizilötesi dalga boylarini
yansitarak elyaflarin yüzeyinde isinmayi engellemektedir. UV emici, HALS ve IR yansitici
malzemelerin beraber kullanilmasi ile akrilik ve modakrilik elyaflarin günes isigi karsisinda
foto oksidasyon ve termal oksidasyon kaynakli bozunmaya karsi yüksek derecede etki
göstermektedir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
akrilik elyaf elde etme yöntemi;
0 En az %85 oraninda akrilonitril ve vinil ko-monomer polimerlestirilir,
i Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
0 Her biri ayri birer kap içerisinde HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici
dispersiyonu hazirlanir,
0 Hazirlanan çözeltiler ve dispersiyon siralamaya bakmaksizin dop çözeltisi içerisine
eklenir,
tekli kovalent bag, karbon-karbon tekli kovalent bag, karbon-hidrojen tekli kovalent bag,
karbon-klor tekli kovalent bag gibi baglarin kopmasina ve radikallerin olusumuna sebep
vermektedir. Radikaller çok reaktif moleküller olduklari için, hala bozunmamis baglarla ve
havadaki oksijen ile kisa sürede etkilesime girerek polimer zincirlerinin bozunmasina neden
olmaktadir. Bu bozunmaya ise foto oksidasyon denmektedir. Bu bozunma exponansiyel bir
oran ile arttigi için, polimerlerde hizli bir sekilde renk degisimi ve mukavemet kaybi
yasanmakta ve kullanim ömürleri azalmaktadir. Günes isigindan gelen kizilötesi dalga
boylari ise polimerlerin isinmasini saglamaktadir. Bu isinma zamanla polimerlerde termal
okidasyona sebep olmaktadir. Bazi polimerlerde termal oksidasyon ile foto oksidasyon
mekanizmalari aynidir fakat akrilik ve modakrilik elyaflarda bu iki mekanizmasi farklidir.
Poliakrilonitril kopolimerlerinden elde edilen ve agirlikça en az %85 akrilonitrilden olusan
elyaflarin en yüksek geçirgenlige sahip oldugu dalga boyu 300 nanometredir. Bulusta UV
emici, elyafin en hassas oldugu dalga boylarini kendi bünyesine alip zararsiz hale getirmek
üzere kullanilmaktadir ancak, tek basina UV emici bahsedilen korumanin saglanmasi için
yeterli degildir. Uzun süreli günes isigi maruziyetinde olusabilecek radikallerin zararsiz hale
getirilmesi gerekmektedir. HALS molekülleri yapisinda bulunan piperidin gruplari sayesinde
olusan radikaller ile reaksiyona girerek, foto oksidasyonu durdurmaktadir. UV emici ve HALS
moleküllerinin beraber kullanimi foto oksidasyon karsisinda elyafa en yüksek korumayi
saglamakta fakat bu koruma da termal oksidasyon kaynakli bozunmaya karsi bir etki
etmemektedir. IR yansitici malzemeler, günes isigindan gelen kizilötesi dalga boylarini
yansitarak elyaflarin yüzeyinde isinmayi engellemektedir. UV emici, HALS ve IR yansitici
malzemelerin beraber kullanilmasi ile akrilik ve modakrilik elyaflarin günes isigi karsisinda
foto oksidasyon ve termal oksidasyon kaynakli bozunmaya karsi yüksek derecede etki
göstermektedir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
akrilik elyaf elde etme yöntemi;
0 En az %85 oraninda akrilonitril ve vinil ko-monomer polimerlestirilir,
i Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
0 Her biri ayri birer kap içerisinde HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici
dispersiyonu hazirlanir,
0 Hazirlanan çözeltiler ve dispersiyon siralamaya bakmaksizin dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilir,
akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilir.
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilabilecek ko-monomerler, vinil asetat, metil
akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil
aIiI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, viniliden
klorür, vinil florür, viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eterdir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
modakri'li'k elyaf elde yöntemi:
En az %40 oraninda akrilonitril, en az %40 oraninda vinilden klorür ve vinil ko-
monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Her biri ayri birer kap içerisinde HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici
dispersiyonu hazirlanir,
Hazirlanan çözeltiler ve dispersiyon siralamaya bakmaksizin dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilir,
akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilir.
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilir,
akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilir.
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilabilecek ko-monomerler, vinil asetat, metil
akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil
aIiI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, viniliden
klorür, vinil florür, viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eterdir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
modakri'li'k elyaf elde yöntemi:
En az %40 oraninda akrilonitril, en az %40 oraninda vinilden klorür ve vinil ko-
monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Her biri ayri birer kap içerisinde HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici
dispersiyonu hazirlanir,
Hazirlanan çözeltiler ve dispersiyon siralamaya bakmaksizin dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilir,
akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilir.
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilabilecek vinil ko-monomerler, vinil asetat, metil
akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil
aliI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, vinil florür,
viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eterdir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
akrilik elyaf elde etmek Üzere uygulanabiiecek bir diger yöntem ise;
En az %85 oraninda akrilonitril ve vinil ko-monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Ayri bir kap içerisinde IR yansitici dispersiyonu hazirlanir ve dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve
UV emici malzeme eklenir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden, bahsedilen apre banyosu içerisine
sevk edilir ve akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilmis olur.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
modakrilik elyaf elde etmek Üzere uyaulanabilecek bir diger yöntem ise;
En az %40 oraninda akrilonitril, en az %40 oraninda vinilden klorür vile vinil ko-
monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Ayri bir kap içerisinde IR yansitici dispersiyonu hazirlanir ve dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda kullanilabilecek vinil ko-monomerler, vinil asetat, metil
akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil
aliI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, vinil florür,
viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eterdir.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
akrilik elyaf elde etmek Üzere uygulanabiiecek bir diger yöntem ise;
En az %85 oraninda akrilonitril ve vinil ko-monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Ayri bir kap içerisinde IR yansitici dispersiyonu hazirlanir ve dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve
UV emici malzeme eklenir,
Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden, bahsedilen apre banyosu içerisine
sevk edilir ve akabinde kurutulur,
Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilmis olur.
Günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirilmis
modakrilik elyaf elde etmek Üzere uyaulanabilecek bir diger yöntem ise;
En az %40 oraninda akrilonitril, en az %40 oraninda vinilden klorür vile vinil ko-
monomer polimerlestirilir,
Elde edilen polimer polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisi
hazirlanir,
Ayri bir kap içerisinde IR yansitici dispersiyonu hazirlanir ve dop çözeltisi içerisine
eklenir,
Dop karisimi bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini
belirleyici delikler olan plakalara iletilir, plakalardan çikan dop karisimi koagülasyon
banyosunda (su-çözücü karisiminda) filament formu kazandirilir,
0 Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
- apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve
UV emici malzeme eklenir,
i Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden, bahsedilen apre banyosu içerisine
sevk edilir ve akabinde kurutulur,
- Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
o Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilmis olur.
Bulusun bir diger konusu da yukarida bahsedilen üretim yöntemleriyle elde edilen akrilik elyaf
veya moda akrilik elyaftir.
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda dis mekan tekstilleri, tente kumaslari, marin kumaslari,
dis mekan mobilyalarinda kullanilan dösemelik kumaslar, günes semsiyelerinde kullanilan
kumaslar ve gemilerin yelkenlerinde kullanilan kumaslardir.
0 Daha sonra bahsedilen filament üzerindeki fazla çözücünün uzaklastirilmasi için
yikanir,
- apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve
UV emici malzeme eklenir,
i Yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden, bahsedilen apre banyosu içerisine
sevk edilir ve akabinde kurutulur,
- Kurutma sonrasi çikan filamentler, daha iyi iplik elde edilmesi için kivirciklandirilir,
o Kivirciklanan elyaf tavlanir ve nihai ürün elde edilmis olur.
Bulusun bir diger konusu da yukarida bahsedilen üretim yöntemleriyle elde edilen akrilik elyaf
veya moda akrilik elyaftir.
Bulusun tercih edilen yapilanmasinda dis mekan tekstilleri, tente kumaslari, marin kumaslari,
dis mekan mobilyalarinda kullanilan dösemelik kumaslar, günes semsiyelerinde kullanilan
kumaslar ve gemilerin yelkenlerinde kullanilan kumaslardir.
Claims (22)
1. Dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere üretilen, en az %85 akrilonitril gruplari içeren akrilik elyaf veya en az %40 akrilonitril gruplari ve en az %40 viniliden klorür gruplari içeren modakrilik elyaf olup, özelligi; günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere, UV emici malzeme, engellenmis amin isik stabilizatörü (HALS) ve IR yansitici malzeme içermesidir.
2. istem 1'e uygun uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; %0,1-1O oraninda UV emici malzeme içermesidir.
3. Istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; %O,1-1O oraninda HALS içermesidir.
4. istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; %0,05-5 oraninda IR
5. Istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin çinko oksit, seryum oksit, molibden oksit, zirkonyum fosfat ve zirkonyum oksitten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
6. istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin benzofenon, benzotriazol, hidroksifenil triazi, oksanilidin ve engellenmis benzoattan olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
7. Istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen engellenmis amin isik stabilizatörünün molekül yapisinin asagida gösterilen formül 1 veya formül 2 olmasidir. R2`N/\/OR3 RasNÄNÄNJRJ: 4`NANANIRQ R1 R1 R1 R1 Formül 1 Formül 2 Her bir R1; Alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. 8. istem 1 veya 7'ye uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen 9. istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen IR yansitici malzemenin rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin siyenit, baryum sülfat, litopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir. 10. Dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere, a) en az %85 oranind akrilonitril ve vinil ko-monomerinin polimerlestirilmesi veya en az polimerlestirilmesi, b) elde edilen polimerin polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisinin hazirlanmasi, c) dop karisiminin bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini belirleyici delikler olan plakalara iletilmesi, d) plakalardan çikan dop karisiminin koagülasyon banyosunda filament formu kazandirilmasi, e) bahsedilen filamentin üzerindeki fazla çözücüyü uzaklastirmak üzere yikanmasi, R2`N/\/OR3 RasNÄNÄNJRJ: 4`NANANIRQ R1 R1 R1 R1 Formül 1 Formül 2 Her bir R1; Alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir.
8. istem 1 veya 7'ye uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen
9. istem 1'e uygun akrilik elyaf veya modakrilik elyaf olup, özelligi; bahsedilen IR yansitici malzemenin rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin siyenit, baryum sülfat, litopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
10. Dis mekan tekstillerinde kullanilmak üzere, a) en az %85 oranind akrilonitril ve vinil ko-monomerinin polimerlestirilmesi veya en az polimerlestirilmesi, b) elde edilen polimerin polar aprotik çözücüler içerisinde çözülerek dop çözeltisinin hazirlanmasi, c) dop karisiminin bir pompa yardimi ile spineret adi verilen, üzerinde elyaf çapini belirleyici delikler olan plakalara iletilmesi, d) plakalardan çikan dop karisiminin koagülasyon banyosunda filament formu kazandirilmasi, e) bahsedilen filamentin üzerindeki fazla çözücüyü uzaklastirmak üzere yikanmasi, f) yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilmesi ve akabinde kurutulmasi, g) kurutma sonrasi çikan filamentlerin kivirciklandirilmasi ve tavlanmasi, islem adimlarini içeren akrilik elyaf veya modakrilik elyaf üretim yöntemi olup, özelligi; günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere, 0 her biri ayri birer kap içerisinde hazirlanan HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici dispersiyonun b islem adimindan bahsedilen dop çözeltisi içerisine eklenmesi islem adimini o hazirlanan IR yansitici dispersiyonun b islem adiminda bahsedilen dop çözeltisi içerisine eklenmesi, 0 f islem adimindan önce apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve UV emici malzemenin eklenmesi islem adimlarini içermesidir. 11. Istem 10`a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,1-1O oraninda UV emici malzeme içermesidir. 12. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,1-1O oraninda HALS içermesidir. 13. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,05-5 oraninda IR yansitici malzeme içermesidir. 14. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin çinko oksit, seryum oksit, molibden oksit, zirkonyum fosfat ve zirkonyum oksitten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir. 15. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin benzofenon, benzotriazol, hidroksifenil triazi, oksanilidin ve engellenmis benzoattan olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir. 16. istem 10 veya istem 14-15'e uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemelerin %20'lik çözeltisi içerisinde pH degerinin 4-9 arasinda olmasidir. f) yikanan filamentlerin kurumasina izin vermeden apre banyosu içerisine sevk edilmesi ve akabinde kurutulmasi, g) kurutma sonrasi çikan filamentlerin kivirciklandirilmasi ve tavlanmasi, islem adimlarini içeren akrilik elyaf veya modakrilik elyaf üretim yöntemi olup, özelligi; günes isiginin sebep oldugu UV isigi ve yüzey isinmasina karsi dayanikliligi arttirmak üzere, 0 her biri ayri birer kap içerisinde hazirlanan HALS çözeltisi, UV emici çözeltisi ve IR yansitici dispersiyonun b islem adimindan bahsedilen dop çözeltisi içerisine eklenmesi islem adimini o hazirlanan IR yansitici dispersiyonun b islem adiminda bahsedilen dop çözeltisi içerisine eklenmesi, 0 f islem adimindan önce apre banyosu içerisine ayri ayri su içerisinde enkapsüle edilerek hazirlanan HALS ve UV emici malzemenin eklenmesi islem adimlarini içermesidir.
11. Istem 10`a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,1-1O oraninda UV emici malzeme içermesidir.
12. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,1-1O oraninda HALS içermesidir.
13. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; %0,05-5 oraninda IR yansitici malzeme içermesidir.
14. istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin çinko oksit, seryum oksit, molibden oksit, zirkonyum fosfat ve zirkonyum oksitten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
15. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemenin benzofenon, benzotriazol, hidroksifenil triazi, oksanilidin ve engellenmis benzoattan olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
16. istem 10 veya istem 14-15'e uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen UV emici malzemelerin %20'lik çözeltisi içerisinde pH degerinin 4-9 arasinda olmasidir. 17. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen engellenmis amin isik stabilizatörünün molekül yapisinin asagida gösterilen formül 1 veya formül 2 olmasidir. R2`N/\/OR3 23: 3 Formül 1 Formül 2 Her bir R1; AIkiI, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. 18. Istem 10 veya 17'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen HALS'in %10'luk sulu çözeltisinin pH degerinin 4-9 arasinda olmasidir. 19. Istem 10 veya 17'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen HALS'in molekül 20. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen IR yansitici malzemenin rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin siyenit, baryum sülfat, Iitopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir. 21. Istem 10 veya 20'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen IR malzemeler ile elde edilen dispersin pH degerinin 5-8 arasinda olmasidir. 22. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; a islem adiminda bahsedilen vinil ko- monomerlerin, vinil asetat, metil akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil aIiI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, vinil florür, viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eter olmasidir.
17. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen engellenmis amin isik stabilizatörünün molekül yapisinin asagida gösterilen formül 1 veya formül 2 olmasidir. R2`N/\/OR3 23: 3 Formül 1 Formül 2 Her bir R1; AIkiI, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialkil, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir. Her bir R2, R3, R4 ve R5; Hidrojen, metil, hidroksimetil, alkil, sikloalkil, hidroksialkil, siklohidroksialki, alkenil, sikloalkenil, siklohidroksialkenil, benzil ve hidroksibenzilden olusan gruptan seçilmektedir.
18. Istem 10 veya 17'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen HALS'in %10'luk sulu çözeltisinin pH degerinin 4-9 arasinda olmasidir.
19. Istem 10 veya 17'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen HALS'in molekül
20. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen IR yansitici malzemenin rutil titanyum dioksit, turmalin, nefelin siyenit, baryum sülfat, Iitopon, çinko sülfür, alüminyum oksit ve karbon nanotüpten olusan gruptan seçilen birey veya kombinasyonlari olmasidir.
21. Istem 10 veya 20'ye uygun üretim yöntemi olup, özelligi; bahsedilen IR malzemeler ile elde edilen dispersin pH degerinin 5-8 arasinda olmasidir.
22. Istem 10'a uygun üretim yöntemi olup, özelligi; a islem adiminda bahsedilen vinil ko- monomerlerin, vinil asetat, metil akrilat, metil met akrilat, stiren, vinil pirilidon, vinil alkol, akrilik asit, akril amit, sodyum metil aIiI sülfonat, sodyum stiren sülfonat, itakonik asit, glisidin metakrilat, vinil klorür, vinil florür, viniliden florür, vinil benzoat, vinil bütirat veya bütil vinil eter olmasidir.
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2020/01552A TR202001552A2 (tr) | 2020-02-03 | 2020-02-03 | |
| PCT/TR2021/050094 WO2021158196A1 (en) | 2020-02-03 | 2021-02-01 | Acrylic and modacrylic fiber stabilized against sunlight |
| CN202180012521.7A CN115052908A (zh) | 2020-02-03 | 2021-02-01 | 对日光稳定的丙烯酸纤维和变性聚丙烯腈纤维 |
| US17/759,935 US20230062730A1 (en) | 2020-02-03 | 2021-02-01 | Acrylic and modacrylic fiber stabilized against sunlight |
| PT2021050094A PT2021158196B (pt) | 2020-02-03 | 2021-02-01 | Fibra acrílica e modacrílica estabilizada contra a luz solar |
| JP2022547263A JP2023513499A (ja) | 2020-02-03 | 2021-02-01 | 太陽光に対して安定化されたアクリル及びモダクリル繊維 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| TR2020/01552A TR202001552A2 (tr) | 2020-02-03 | 2020-02-03 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TR202001552A2 true TR202001552A2 (tr) | 2021-08-23 |
Family
ID=77199569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| TR2020/01552A TR202001552A2 (tr) | 2020-02-03 | 2020-02-03 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230062730A1 (tr) |
| JP (1) | JP2023513499A (tr) |
| CN (1) | CN115052908A (tr) |
| PT (1) | PT2021158196B (tr) |
| TR (1) | TR202001552A2 (tr) |
| WO (1) | WO2021158196A1 (tr) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113861610A (zh) * | 2021-08-30 | 2021-12-31 | 济南大学 | 一种新型耐候性复合防水材料的制备方法及应用 |
Family Cites Families (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0328119A3 (en) * | 1988-02-10 | 1991-03-20 | BASF Corporation | Stabilized polyacrylonitrile fibers and method of preparation |
| JP2006200062A (ja) * | 2005-01-19 | 2006-08-03 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アクリル繊維 |
| KR20090105727A (ko) * | 2008-04-03 | 2009-10-07 | 현대자동차주식회사 | 광변색성 필름 및 이의 제조방법 |
| IT1403086B1 (it) * | 2010-10-28 | 2013-10-04 | 3V Sigma Spa | Nuove ammine stericamente impedite polimeriche e loro uso come stabilizzanti per polimeri |
| CN102286800B (zh) * | 2011-05-30 | 2013-05-29 | 上海瑞贝卡纤维材料科技有限公司 | 一种功能性改性腈纶发用纤维及其制备方法 |
| CN103408863B (zh) * | 2013-07-19 | 2015-12-09 | 广东天安新材料股份有限公司 | 一种红外反射材料及其制得的膜 |
| CN103436974B (zh) * | 2013-09-02 | 2015-06-10 | 江苏红豆实业股份有限公司 | 具有抗静电远红外功能的皮芯型腈纶 |
| CN104558392B (zh) * | 2013-10-29 | 2016-08-31 | 台湾塑胶工业股份有限公司 | 高阻燃改性聚丙烯腈的制造方法，及难燃纤维 |
| CN107605387B (zh) * | 2017-08-17 | 2020-10-30 | 东华大学 | 一种防紫外线纳米纤维复合纱窗及其制备方法 |
| US10214836B1 (en) * | 2017-08-18 | 2019-02-26 | Glen Raven, Inc. | Acrylic compositions including a hindered amine light stabilizer and methods of making and using the same |
| CN110685031B (zh) * | 2019-10-31 | 2020-10-30 | 宁波瑞凌新能源科技有限公司 | 辐射制冷纤维及其制备方法、应用 |
-
2020
- 2020-02-03 TR TR2020/01552A patent/TR202001552A2/tr unknown
-
2021
- 2021-02-01 CN CN202180012521.7A patent/CN115052908A/zh active Pending
- 2021-02-01 US US17/759,935 patent/US20230062730A1/en active Pending
- 2021-02-01 JP JP2022547263A patent/JP2023513499A/ja active Pending
- 2021-02-01 WO PCT/TR2021/050094 patent/WO2021158196A1/en active Application Filing
- 2021-02-01 PT PT2021050094A patent/PT2021158196B/pt active IP Right Grant
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2021158196A1 (en) | 2021-08-12 |
| JP2023513499A (ja) | 2023-03-31 |
| US20230062730A1 (en) | 2023-03-02 |
| PT2021158196B (pt) | 2024-04-08 |
| CN115052908A (zh) | 2022-09-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| Tsuzuki et al. | Nanoparticle coatings for UV protective textiles | |
| Mavrić et al. | Recent Advances in the Ultraviolet Protection Finishing of Textiles. | |
| WO2001006054A1 (en) | Nanoparticle-based permanent treatments for textiles | |
| Yang et al. | Thermally-induced cellulose nanofibril films with near-complete ultraviolet-blocking and improved water resistance | |
| Hassabo et al. | Ultarvielote Protection of Cellulosic Fabric | |
| Rubeziene et al. | Effects of light exposure on textile durability | |
| Kim | Ultraviolet protection finishes for textiles | |
| TR202001552A2 (tr) | ||
| US8129303B2 (en) | Pathogen-resistant fabrics | |
| Mahmoud et al. | Antimicrobial and self-cleaning finishing of cotton fabric using titanium dioxide nanoparticles | |
| JPH09221555A (ja) | ポリビニルアルコールフィルムおよびその積層体 | |
| US8216969B2 (en) | Pathogen-resistant fabrics | |
| CN101851856A (zh) | 一种防护Vectran纤维紫外老化的方法 | |
| KR101641921B1 (ko) | 자외선 차단성 수지 조성물 및 이를 이용한 합성섬유 | |
| KR950013481B1 (ko) | 우수한 자외선 차단성 및 냉감효과를 갖는 폴리에스테르 섬유 | |
| Koozekonan et al. | Feasibility of fabricating PAN/TiO2 electrospinning nanofibers with UV protection property | |
| JPH01292112A (ja) | 安定化ポリアクリロニトリル繊維とその製造方法 | |
| Tangkawanit | Dyeing of nano carbon and titanium dioxide coated monk robes using natural dye powder | |
| Ali et al. | Characterization and UV Protection of Cotton and Cotton/Polyester Blend Fabrics Coated With PVA/PLST/ZnO NPs Nanocomposites Under the Effect of Gamma Irradiation | |
| JP2016113725A (ja) | 難燃性布帛 | |
| KR101616709B1 (ko) | 자외선 차단성 수지 조성물 및 이를 이용한 합성섬유 | |
| JP7445319B2 (ja) | 複合体シート | |
| KR102413341B1 (ko) | 울 단사를 이용한 직물의 제조방법 및 이에 의해 제조된 직물 | |
| JPH06207311A (ja) | 紫外線透過防止性に優れたアクリル系合成繊維及びその製造方法 | |
| BASYIGIT | FUNCTIONAL FINISHING FOR TEXTILES |