TR201815433T4 - Metal yüzeylerdeki polimerik yüzey sızdırmazlık maddelerinin giderilmesi için sulu sıyırma bileşimi. - Google Patents

Abstract

Bu buluş, metal yüzeylerdeki polimerik yüzey sızdırmazlık maddelerinin giderilmesi için sulu bir sıyırma bileşimi ile ilgilidir. Buna ek olarak, bu buluş, polimerik yüzey sızdırmazlık maddelerinin metal yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem ile ilgilidir.

Description

TARIFNAME METAL YÜZEYLERDEKI POLIMERIK YÜZEY SIZDIRMAZLIK MADDELERININ GIDERILMESI IÇIN SULU SIYIRMA BILESIMI Bu bulus, metal yüzeylerdeki polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin giderilmesi için sulu bir siyirma bilesimi ile ilgilidir. Buna ek olarak, bu bulus, polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin metal yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem ile ilgilidir.

Yüzey karakteristiklerini ya da özelliklerini ayarlamak için ya galvanik depozisyon, otokatalitik depozisyon ya da PVD ya da CVD benzeri diger yöntemler vasitasiyla tedavi sonrasinda bir substrat yüzeyi üzerinde biriken metal katmanlari, yüzey teknolojisi tekniginde iyi bilinmektedir. Tedavi sonrasi ayarlanmasi amaçlanan ana özelliklerden biri, bir yüzey katmaninin korozyon direncidir. Örnegin çelik yüzeyler, kalay yüzeyler ya da çinko ya da çinko alasim yüzeyleri gibi metal yüzeylerin korozyonuna karsi koruma; örnegin yapi, marina, otomotiv ve uçak endüstrileri gibi çesitli endüstrilerde büyük ticari ilgi çeker. Örnegin boya kaplamalari, vakslar ya da polimerik sizdirmazlik maddeleri ile koruyucu kaplama gibi tatmin edici bir korozyon koruma performansi saglayan birçok yerlesik teknik vardir. Substratin amaçlanan nihai kullanimi temel alinarak korozyon direncini gelistirmek için uygun bir yöntem seçilebilir. Örnek olarak, metal yüzeylerin korozyon direncinin gelistirilmesi için yaygin olarak bilinen bir teknik, bir korozyon önleyici boya vasitasiyla yüzeyin korunmasidir.

Bir yüzey katmaninin korozyon direncinin arttirilmasi için baska bir yöntem, bir metal metal yüzeyin, polivinil fosfonik asit ve / veya poliakrilik asitler ve / veya bu tür asitlerin kopolimerlerini içeren korozyon direncini arttiran bir çözelti ile temas ettigi bir yöntemi açiklar. katmanlari ile kaplanmasi için bir yöntemi de açiklar. Burada, korunacak yüzey; bir monomerik reçine, bir polimerik reçine ya da bunlarin bir kombinasyonunu içeren bir sizdirmazlik maddesi bilesimi ile yüzeyin temas etmesinden önce bir organik fosfor bilesigini içeren bir primer bilesim ile temas ettirilir.

US 2,962,395; bahsi geçen yüzeylerin, bir glukonat ile R-Ar-SO X formülüne sahip olan bir alkil : aril sülfonat içeren bir sulu alkali çözeltisine tabi tutulmasini kapsayan, alkali dirençli yüzeyden boyanin giderilme yöntemini açiklar, burada R, toplam 1 ila 5 karbon atomuna sahip olan en azindan bir alkil grubudur, Ar, benzen ve naftalinden olusan grubun bir aril grubudur ve 80 X, sülfonik asit ve tuzlarindan olusan gruptan biridir. kullanimlarini açiklar. (a) surfaktanlar, (b) bir sekestran ve (0) bir plastiklestirici / çözücü içeren bir bilesime yöneliktir. Bilesim ayni zamanda (d) bir hidrolize edici madde de içerebilir, örnegin, bir kuvvetli baz bilesigi ve diger katki maddeleri. Bilesim, klorlu çözücüler içermez, çevresel olarak güvenli ve kullanici dostudur. Somut bir örnekte, bilesim ayrica kaplama ile substrat arasindaki mekanik mukavemet ve yapismanin en azindan birini azaltmak için yeterli bir miktarda mevcut olan bir hidrolize edici madde de içerir. Baska bir somut örnek, substrat için açiklanan bilesimleri içeren bir bilesimin efektif miktarini gideren bir boyanin ya da kaplamanin uygulanmasini kapsayan, boyanin ya da bir kaplamanin bir substrattan giderilmesi için bir yöntemdir. Çesitli endüstrilerde kullanilan diger sizdirmazlik maddeleri; örnegin, poliüretan sizdirmazlik maddeleri, örnegin, PE-vakslar gibi polietilen sizdirmazlik maddeleri, poliakrilik sizdirmazlik maddeleri ya da ayni zamanda örnegin polisilikat sizdirmazlik maddeleri gibi anorganik sizdirmazlik maddeleridir.

Yüzeylerde çinko depozisyonu alaninda, çogu kez çinko katmaninin korozyon direnci, yüzeyin pasiflestirilmesi ile arttirilir. Pasiflestirme ile metal yüzey, hava ya da su gibi çevresel faktörler ile daha az etkilenir. Çinko kaplamalarin iyi bilinen bir pasiflestirmesi; alüminyum, kadmiyum, bakir, gümüs, magnezyum ve kalay alasimlarinin yüzeylerini pasiflestirmek için de kullanilan kromat dönüsüm kaplamasidir. Çogu kez, bu tür dönüsüm kaplamasi ek olarak bir sizdirmazlik maddesi tarafindan korozyona karsi da korunur. Yüzeylerin sizdirmazligi korozyon direncini gelistirdigi ve ayni zamanda substratin sürtünme katsayisi üzerinde belirli bir etkiye de sahip oldugu ya da özel bir görünüm verebildigi halde, eger gerekli ise bu tür sizdirmazlik maddelerinin substrat yüzeylerinden giderilmesi konusunda genel bir problem vardir. Bu tür sizdirmazlik maddelerinin giderilmesinin gerektigi bir durum, tüm substratin bosaltilmasini önlemek için kaplama hatalarinin ya da kaplama eksiklikleri oldugu takdirde yüzeyler yeniden islenebilir.

Ek olarak, kaplama proseslerinde metalize edilecek olan ya da bir sizdirmazlik maddesi üzerine uygulanmasi gereken substrat, kaplama ekipmaninin burusukluklari ya da çatlaklarina eklenecektir. Bu tür burusukluklar ya da çatlaklar dogal olarak zamanla kaplama ekipmaninda kalin hamurlar ve kaliplar olusturabilen sizdirmazlik maddeleri ile temas edecektir. Eger sizdirmazlik maddeleri sizdirmazlik maddesi tamamen giderilemiyorsa, sizdirmazlik maddesi ya da en azindan sizdirmazlik maddesinin çatlaklari ve parçalari, tüm kaplama prosesini kirletecek, üstelik kaplama hatalarina ve eksikliklerine yol açacaktir.

Farkli yaklasimlar, sizdirmazlik maddesi kalintilarinin yeniden isleme için substratlardan ve kaplama ekipmanindan giderilmesi teknikte bilinmektedir. Sizdirmazlik maddesinin substrattan ya da ekipman yüzeylerinden giderilmesinin bir yolu, zahmetli olan ve ayni zamanda substrati ya da kaplama ekipmanini da tahrip edebilen püskürtme ile temizleme yoluyla mekanik olarak giderilmesidir. Sizdirmazlik maddesi kalintilarinin giderilmesi için baska bir yaklasim organik çözücülerin kullanilmasidir. Ancak, genelde bu tür çözücüler çevresel olarak problemli olabilen uçucu organik bilesikleri içerir.

Diger bakis açilari arasinda, bulusun bir amaci da bu nedenle substrat yüzeyleri üzerindeki, özellikle metal substrat yüzeyleri üzerindeki polimerik sizdirmazlik maddelerinin giderilmesi için bir bilesimin saglanmasidir. Buna ek olarak, bulusun bir bakis açisi, polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin bahsi geçen yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem saglar.

Sasirtici bir sekilde, bilesime göre bulusun amacinin, bagimsiz Istem 1'e göre sulu bir siyirma bilesimi ile çözülmesi oldugu bulunmustur.

Bagimsiz Istem 1 ile, metal yüzeyler üzerindeki polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin giderilmesi için sulu bir siyirma bilesimi saglanir, bahsi geçen siyirma bilesimi; bir alkalize edici madde, bir polimer ayirici madde, bir sisirme maddesi ve bir bulutlanma noktasi güçlendirici içerir, burada bahsi geçen polimer ayirici madde en azindan bir glutamattir ve burada bahsi geçen sisirme maddesi, 3 ila 9 karbon atomuna sahip olan glikol eterleri ve alifatik alkollerden olusan gruptan seçilen en azindan bir bilesiktir.

Bulus tarafindan saglanan sulu siyirma bilesimi; polimerik sizdirmazlik maddelerinin örnegin, çinko ya da çinko alasimi yüzeyleri, çelik yüzeyler, pasiflestirilmis ya da kromatlanmis çinko ya da çinko alasimi yüzeyleri gibi metal yüzeylerden ve çelik, kaplanmis çelik üzerindeki ya da kaplanmis plastik üzerindeki krom kapli malzemeden (örnegin Cr3+ ya da Cr6+ elektrolitlerden çökelen) giderilebilir. Buna ek olarak, siyirma bilesimi; sizdirmazlik maddesi kalintilarinin örnegin, kancalar ya da gergiler gibi kaplama ekipmanindan giderilebilir. Buna ek olarak özgün sulu siyirma bilesiminin, metal substratlar için bir daldirmali temizleyici ya da elektrolitik temizleyici olarak kullanilabildigi bulunmustur. Ayni zamanda hamurun, endüstriyel olarak firçalanmis, ögütülmüs ya da cilalanmis metal yüzeylerden temizlenmesi ve giderilmesi için de göze çarpan bir temizleme etkisi elde edilebilir. Özgün sulu siyirma bilesiminin kullanilmasi ile, genel yüzey islem prosesi temizleme prosedürlerinden ve kaplama tabanlarinin taze tertibinden kaçinmak için gelistirilebilir.

Buna ek olarak, yetersiz sekilde kaplanan substratlarin yeniden islenmesi kolaylikla mümkün kilinir. Örnegin çinko kaplama ve pasiflestirme gibi kaplama proseslerinde kullanilan diger proses çözümleri, örnek olarak pasiflestirme çözümü, hem temizleme çözümü hem de sizdirmazlik maddesi çözümü bile daha uzun sürer. Sizdirmazlik maddesi kalintilarinin bir kaplama tankindan digerine aktarilmasina bagli olarak bu sekilde kaplama hatalari azaltilabilir.

Bulusun somut bir örnegine göre, bulutlanma noktasi güçlendirici, formül Il'ye göre sulu siyirma bilesimi bir naftil sülfopropil polieterden olusur. burada m = 1-11'dir ve n = 1-17'dir ve N; Li, Na, K`den olusan gruptan seçilen en azindan bir metaldir.

Bulutlanma noktasi güçlendirici terimi ile, bir bilesimin bulutlanma noktasini etkileyen bir bilesik anlamina gelir. Bir sivi bilesimin bulutlanma noktasi; çözülmüs katilarin, siviya bulanik bir görünüm veren ikinci bir faz olarak çökelerek tamamen çözünmedigi sicakliktir.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, sulu siyirma bilesiminde bulunan alkalize edici madde; örnegin Iityum hidroksit, sodyum hidroksit, rubidyum hidroksit, magnezyum hidroksit, kalsiyum hidroksit ya da baryum hidroksit gibi alkali hidroksitler ve toprak alkali hidroksitlerden seçilebilir.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, siyirma bilesimi 2 13'lük bir pH degerine sahiptir. Buna uygun olarak, alkalize edici madde, uygun bir pH degeri saglayacak bir konsantrasyonda sulu siyirma bilesiminde bulunabilir. Bulus açisindan, pH degeri, gerçek pH degeri olarak ölçülür ve örnegin bir cam elektrot kullanilan yüksek alkali çözeltilerinin pH degerinin ölçülmesi ile meydana gelen alkali hatasi gibi herhangi bir ölçüm hatasi ile etkilenmez. Buna uygun olarak, pH degeri, Zi 0,1 mol/I'lik OH' aktivitesi olarak (çözeltideki OH; konsantrasyonu) belirlenebilir.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, alkalize edici madde; 2 30 g/I ile 5300 g/l arasinda, tercihen 250 g/l ile 5250 g/l arasindaki aralikta bir konsantrasyonda bir bilesimde bulunabilir.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, polimer ayirici madde; sodyum glukonat, lityum glukonat, potasyum glukonat ya da bunlarin bir karisimindan olusan grubun en azindan bir glukonatidir. Bulusun tercih edilen somut örneklerine göre, polimer ayirici madde; 2 konsantrasyon araliginda bulunabilir. Polimer ayirici madde, polimer Zincirlerini daha küçük parçalara bölen polimer zincirleri için bir ayirici islevi görür.

Bulusun somut bir örnegine göre, sulu siyirma bilesiminde bulunan sisirme maddesi; dietilen glikol monoetil eter, dietilenglikol monobütileter, etilen glikol monometil eter, etilen glikol monoetil eter, etilen glikol monopropil eter, etilen glikol monoizopropil eter, etilen glikol monobütileter, etilen glikol monofenil eter, etilen glikol monobenzil eter ve dietilen glikol monometil eter ya da bunlarin bir karisimindan olusan grubun bir glikol Bulusun somut bir örnegine göre, sulu siyirma bilesiminde bulunan sisirme maddesi; örnegin izopropanol, dimetil hepanol ya da nonil alkol gibi 3 ila 9 karbon atomuna sahip olan bir alifatik alkoldür.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, sulu siyirma bilesiminde bulunan sisirme maddesi; yukarida bahsedilen glikol eterlerinin en azindan biri ile 3 ila 9 karbon atomuna sahip olan bir alifatik alkolün bir karisimidir.

Sisirme maddesi, polimer ayirici madde araciligiyla polimer zincirlerinin daha iyi parçalanmasina olanak saglayan polimerik sizdirmazlik madde yüzeyinin bir siyirmaya sebep olur.

Bulusun tercih edilen somut bir örnegine göre, sisirme maddesi; 2 1 g/I ile 5200 g/I arasinda bir aralikta, tercihen 25 g/l ile 5150 g/I arasinda bir aralikta bir konsantrasyon araliginda bulunur. Uçucu organik bilesikler ile kirliligin azaltilmasi için, özgün sulu siyirma bilesimindeki sisirme maddesinin konsantrasyonu; tercihen 5100 g/I, daha tercih edilebilir olarak 580 g/l örnegin 550 g/I”Iik bir konsantrasyonda olabilir.

Bulusun baska bir somut örnegine göre, sulu siyirma bilesimi ek olarak bir surfaktan da içerebilir. Daha tercih edilebilir somut bir örnekte, opsiyonel olarak bilesimde bulunabilen surfaktan; iyonik olmayan bir surfaktan, tercihen bir poliglikozit ve en çok tercih edilebilir olarak formül lll'e göre bir poliglikozittir. burada m = 1-5'dir ve n = 5-15'dir.

Surfaktan; s 100 g/l'lik, tercihen 2 0,5 g/l ile 5 90 g/l arasinda bir aralikta bir konsantrasyondaki özgün siyirma bilesiminde bulunabilir.

Siyirma bilesiminde opsiyonel olarak bulunan surfaktan ayni zamanda bilesimin yüzey gerilimini de etkiler. Tercih edilen somut bir örnekte, bilesim; 20°C'de s 35 mN/m'lik, tercihen 2 25 mN/m ile 5 35 mN/m arasinda bir aralikta bir yüzey gerilimine sahiptir.

Burada, yüzey geriliminin, bir kabarcik basinci tansiyometre tarafindan ölçülmesi tercih Bulusun baska bir somut örnegine göre, özgün siyirma bilesimi, bir kullaniciya iki parçali bir ön karisim seklinde saglanabilir, burada karisimin bir parçasi en azindan sisirme maddesi ve bulutlanma noktasi güçlendirici içerir iken karisimin diger parçasi en azindan polimer ayirici madde içerir. Özgün bilesimin, müsteri tarafinda karistirilacak sekilde iki ayri bilesim formunda gönderilmesi ve iletilmesi ile, bilesimin kararliligi arttirilabilir. Müsteri tarafinda iki bilesen su ile, tercihen deiyonize su ile karistirilir. Bu nedenle, bilesenler, nakliye bedellerinin azaltilmasi için bir konsantre olarak sevk edilebilir.

Bulus, polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin bagimsiz Istem 12 tarafindan talep edildigi sekilde metal yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem ile de ilgilidir. Buna uygun olarak, polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin metal yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem saglanir, bahsi geçen yöntem, bulusa göre bir sulu siyirma bilesimi ile giderilmesi gereken polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin yüzeyinin temas etme adimlarini içerir. Özgün yöntemin tercih edilen somut bir örneginde, polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyi; 210°C ile S100°C arasinda bir aralikta, tercihen 250°C ile S80°C arasinda bir aralikta bir sicaklikta bahsi geçen sulu siyirma bilesimi ile temasa getirildi. Özgün yönteme göre, polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyi, 560 dak'lik bir zaman süresince, tercihen S45 dak ile 215 sn arasinda bir zaman süresince sulu siyirma bilesimi ile temas edebilir.

Hem özgün yöntem hem de özgün siyirma bilesimi; poliüretan sizdirmazlik maddeleri, polietilen sizdirmazlik maddeleri, polietilen vakslar, poliakrilik sizdirmazlik maddeleri, polisilikat sizdirmazlik maddeleri ve benzerlerinden olusan grubun polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerini gidermek için kullanilabilir. Özgün sulu siyirma bilesiminin polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyi ile temas haline getirilmesi için, temizlenecek substrat, özgün siyirma bilesimine daldirilabilir ya da bilesim, örnegin püskürtme nozullari gibi uygun araçlar araciligiyla temizlenecek yüzey üzerine püskürtülebilir. Polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyine temas sonrasinda, yüzey, deiyonize su ile durulanabilir.

Polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyi, substratin bilesim içerisine daldirilmasi yoluyla özgün siyirma bilesimi ile temas ettiginde, bir kevgirin kullanilmasi ya da uygun bir yüzeysel tasirma/tasma, sulu siyirma bilesimi üzerinde yüzen sizdirmazlik maddesi kalintilarinin proses tankindan giderilmesi için tercih edilir.

Buna ek olarak, pompalar tanktaki siyirma bilesimini çalkalamak için kullanilirken, siyirma bilesimini tutmak için kullanilan proses tanklarindan sedimentlerin giderilmesi Buna ek olarak temizlenecek substrat bahsi geçen siyirma bilesimi ile temas ettiginde, siyirma bilesiminin çalkalanmasi tercih edilir. Bunu yapmak için, ayni zamanda temizlenecek substrat, siyirma bilesimi içerisine daldirilirken hareket de ettirilebilir. Özgün fikir herhangi bir sekilde bu somut örnekler ile sinirli degilken, bulus, buna ek olarak asagidaki örnekler ile açiklanir.

Bir sulu siyirma bilesimi; bir alkalize edici madde olarak 50 g KOH, bir polimer ayirici madde olarak 119 potasyum glukonat, bir sisirme maddesi olarak 5 g etilen glikol monoetil eter, genel formül ll'ye (RALUFON NAPE 14-90, Raschig GmbH, Germany'den temin edilebilir) göre bir bulutlanma noktasi güçlendiricinin 8 g*i ve genel formül lII'e göre bir surfaktanin 8 g'i 1000 ml kullanim suyuna ilave edilerek saglanir.

Bir alkali çinko banyosundan gelen 10 mm çinko ile kaplanan, PERMA PASS ile pasiflestirilen, ENSEAL 135 (Enthone Inc., USA'dan ticari olarak temin edilen bir poliüretan bazli sizdirmazlik maddesi) ile mühürlenen ve bir firinda çapraz baglanan bir yumusak çelik panel 8235JR+AR; 45 dakika süresince 30°C'lik bir sicaklikta örnek 1'e göre bir çözeltide meydana çikmistir. Çelik panelin çözeltiden kaldirilmasi ve kullanim suyunda durulanmasi sonrasinda, bir bakir sülfat çözeltisine daldirilmistir. Panelin bakir sülfat çözeltisinden giderilmesi, durulanmasi ve kurutulmasi sonrasinda, bir tam siyah dönüsüm katmani, sizdirmazlik maddesinin giderilmesinin basarili oldugunu ispat eder.

Claims (1)

1. ISTEMLER Metal yüzeylerdeki polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin giderilmesi için bir sulu siyirma bilesimi olup, bahsi geçen siyirma bilesimi; bir alkalize edici madde, bir polimer ayirici madde, bir sisirme maddesi ve bir bulutlanma noktasi güçlendirici içerir, özelligi; bahsi geçen polimer ayirici maddenin en azindan bir glukonat olmasi ve özelligi; bahsi geçen sisirme maddesinin, glikol eterleri ile 3 ila 9 karbon atomuna sahip olan mono-alkollerden olusan gruptan seçilen en azindan bir bilesik olmasidir, özelligi; bahsi geçen bulutlanma noktasi güçlendiricinin, formül II'ye göre en azindan bir naftil sülfopropil polieter olmasidir HOACH; CH 0 - CH; CH; 0- crt. CH; ca? som özelligi; m = 1 ila 11 olmasi ve n = 1 ila 17 olmasi ve M'nin Li, Na, K'dan olusan gruptan seçilen en azindan bir metal olmasidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, bahsi geçen bilesim 2 13'lük bir pH degerine sahiptir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bahsi geçen polimer ayirici maddenin, 2 1 g/l ile 5 100 g/l arasinda bir konsantrasyon araliginda bulunmasidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bahsi geçen sisirme maddesinin, 2 1 g/I ile 5 200 g/I arasinda bir konsantrasyon araliginda bulunmasidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bahsi geçen bulutlanma noktasi güçlendiricinin, 2 1 g/l ile 5 100 g/I arasinda bir konsantrasyon araliginda bulunmasidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, ek olarak bir surfaktan Istem 7'ye göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bahsi geçen surfaktanin, formül III'ye göre iyonik olmayan bir poliglikozit surfaktan olmasidir özelligi; m :1 ila 5 olmasi ve n = 5 ila 15 olmasidir. Istem 7 ya da 8'e göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bahsi geçen surfaktanin, s 100 g/l'lik bir konsantrasyonda bulunmasidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; bilesimin 20°C'de s 35 mN/m'lik bir yüzey gerilimine sahip olmasi, özelligi; yüzey geriliminin, bir kabarcik basinci tansiyometre vasitasiyla ölçülmesidir. Önceki istemlerin birine göre bir siyirma bilesimi olup, özelligi; alkalize edici maddenin, 2 30 g/I ila 5 300 g/l arasinda bir konsantrasyonda bulunmasidir. Polimerik yüzey sizdirmazlik maddelerinin metal yüzeylerden giderilmesi için bir yöntem olup, bahsi geçen yöntem; Istem 1 ila 10iun birine göre bir sulu siyirma bilesimi ile giderilmesi gereken polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin yüzeyine temas etme adimini içerir. Istem 11'e göre bir yöntem olup, özelligi; polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyinin, 2 10°C ile 5 100°C arasinda bir aralikta bir sicaklikta bahsi geçen siyirma bilesimi ile temas etmesidir. Istem 1 ya da 12'nin birine göre bir yöntem olup, özelligi; polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin giderilmesi gereken yüzeyinin, s 60 dak'lik bir zaman süresince bahsi geçen siyirma bilesimi ile temas etmesidir. Istem 11 ila 13'ün birine göre bir yöntem olup, özelligi; polimerik yüzey sizdirmazlik maddesinin; poliüretan sizdirmazlik maddesi, polietilen sizdirmazlik maddesi, polietilen vaks, poliakril sizdirmazlik maddesi, polisilikat sizdirmazlik maddesinden olusan grubun bir sizdirmazlik maddesi olmasidir.