TH9336A - สารประกอบคาร์บอกซิเลท องค์ประกอบ?ผลึกของเหลว และวัสดุผลึกของเหลวที่?ประกอบด้วย สารประกอบดังกล่าว - Google Patents

Abstract

สารประกอบคาร์บอกซิเลทที่ได้แสดงด้วยสูตร (A) (สูตรเคมี)ซึ่ง R คือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอัลคิลที่มี คาร์บอน 3 - 20 อะตอม อัลคอกซีที่มีคาร์บอน 3 - 20 อะตอม และฮาโลจีเนทเต็ดอัลคิลที่มีคาร์บอน 3 - 20 อะตอม X และ Y ต่างก็คือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี) และ -CH2-C- หรือพันธะเดี่ยว A และ B ต่างก็คือ หมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี) และ R คือ หมู่ออพติคอลลีแอคทีฟที่มีคาร์บอน 4 - 20 อะตอมที่อย่าง น้อยที่สุดมีหนึ่งอะซีมเมตริคคาร์บอนอะตอม (อะตอมไฮโดรเจน คิดกับอะตอมคาร์บอน ของหมู่ออพติคอลลีแอคทีฟดังกล่าว อาจจะ ถูกแทนที่ด้วยอะตอมฮาโลเจนได้) และ m และ n ต่างก็คือตัว เลขจาก 0 - 2 โดยมีข้อแม้วว่าทั้ง m และ n ต้องไม่ใช่ 0 ใน เวลาเดียวกัน

Claims (31)

1. สารประกอบคาร์บอกซิเลทที่ได้แสดงด้วยสูตร (A) (สูตรเคมี) ซึ่ง R คือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอัลคิล ที่มีคาร์บอน 3 - 20 อะตอม อัลคอกซีที่มีคาร์บอน 3 - 20 อะตอม และฮาโลจีเนทเต็ดอัลคิลที่มีคาร์บอน 3 - 20 อะตอม X และ Y ต่างก็คือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตร เคมี) และ -CH2-C- หรือพันธะเดี่ยว A และ B ต่างก็คือ หมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี) และ R คือ หมู่ออพติคอลลีแอคทีฟที่มีคาร์บอน 4 - 20 อะตอมที่อย่าง น้อยที่สุดมีหนึ่งอะซีมเมตริคคาร์บอนอะตอม (อะตอมไฮโดรเจน คิดกับอะตอมคาร์บอน ของหมู่ออพติคอลลีแอคทีฟดังกล่าว อาจจะ ถูกแทนที่ด้วยอะตอมฮาโลเจนได้) และ m และ n ต่างก็คือตัว เลขจาก 0 - 2 โดยมีข้อแม้วว่าทั้ง m และ n ต้องไม่ใช่ 0 ใน เวลาเดียวกัน

2. สารประกอบคาร์บอกซิเลทดังในข้อถือสิทธิ 1 ในที่ซึ่ง X และ Y ของสูตร (A) ข้างต้นต่างก็คือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วย (สูตร)

3. สารประกอบผลึกของเหลวที่แสดงได้ด้วยสูตร (A) ข้างต้น

4. สารประกอบผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 3 ในที่ซึ่งหมู่ ออพติคอลลี่แอคทีฟที่แสดงด้วย R ในสูตร (A) ข้างต้น คือ หมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี)

5. สารประกอบผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 3 ในที่ซึ่ง R คืออัลคอกซิล Xคือ (สูตรเคมี) คือเลข 1 หรือ 2 และ n คือใน ศูนย์ในสูตร (A) ข้างต้น

6. องค์ประกอบผลึกของเหลวที่ประกอบด้วยสารประกอบคาร์บอก ซิเลท หนึ่งสารที่แสดงได้ด้วยสูตร (A) ข้างต้น

7. องค์ประกอบผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 6 ในที่ซึ่ง หมู่ออพติคอลแอคทีฟดังกล่าว ที่แสดงด้วยสูตร R ในสูตร (A) ข้างต้นคือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี)

8. องค์ประกอบผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 6 หรือ 7 ในที่ ซึ่ง R คือ อัลลอกซิล, X คือ (สูตรเคมี) m คือเลข 1 หรือ 2 และ n คือศูนย์

9. องค์ประกอบผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 6 โดยที่มีสาร ประกอบคาร์บอกซิเลทที่แสดงด้วยสูตร (A) ข้างต้นอยู่ใน ปริมาณ 1 - 99 ส่วนโดยน้ำหนักเมื่อเทียบกับ 100 ส่วนโดยน้ำ หนักขององค์ประกอบดังกล่าว

10. วัสดุผลึกของเหลวที่ประกอบด้วย 2 ซับสเทรทที่ได้จัดให้ หันหน้าเข้าหากันและกัน โดยมีช่องว่างระหว่างซับสเทรททั้ง 2 โดยให้บรรจุลงในช่องว่างนี้ด้วยสารผลึกของเหลว ในที่ซึ่ง สารผลึกของเหลวดังกล่าว คือองค์ประกอบ

11. วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 10 โดยที่ได้ให้ ฟิล์มควบคุมการจัดตัวอยู่บนผิวหน้าด้านในของซับสเทรทอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งซับสเทรท

12. วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 11 ในที่ซึ่ง ฟิล์ม ควบคุมการจัดตัวดังกล่าวคือ ฟิล์มควบคุมการจัดตัวที่ได้นำ ไปทำการจัดตัวก่อนแล้ว

13. วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 10 ในที่ซึ่ง หมู่ ออพติคอลแอคทีฟดังกล่าว ที่แสดงด้วยสูตร R ในสูตร (A) ข้าง ต้นคือหมู่ที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย (สูตรเคมี)

14. วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 10 - 13 ข้อใดข้อ หนึ่ง ในที่ซึ่งสารผลึกของเหลวดังกล่าว มีสารประกอบผลึกของ เหลวที่แสดงด้วยสูตร (A) ข้างต้น ในที่ซึ่ง R คืออัลลอก ซิล, (สูตร) m คือเลข 1 หรือ 2 และ n คือศูนย์

15. วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 10 - 14 ข้อใดข้อ หนึ่ง ในที่ซึ่งสารผลึกของเหลวดังกล่าว คือองค์ประกอบผลึก ของเหลวที่มี 1 - 99% โดยน้ำหนัก ของสารประกอบคาร์บอกซิเลท ที่แสดงด้วยสูตร (A) ข้างต้น

16. ขบวนการสำหรับการเตรียมวัสดุผลึกของเหลวที่ประกอบด้วย เซลที่มีซับสเทรท 2 ซับสเทรทที่ได้จัดให้มีช่องว่างอยู่ ระหว่างซับสเทรทดังกล่าว และบรรจุลงในช่องว่างดังกล่าว ด้วยสารผลึกของเหลว ซึ่งขบวนการประกอบด้วยการทำเซลดังกล่าว ให้มีฟิล์มควบคุมการจัดด้วยบนผิวหน้าด้านในของซับสเทรทอ ย่างน้อยที่สุดหนึ่งซับสเทรท บรรจุลงในช่องว่างดังกล่าว ด้วยสารผลึกของเหลวที่มีสารประกอบคาร์บอกซิเลทที่แสดงด้วย สูตร (A) ข้างต้น และให้ความร้อนแก่สารผลึกของเหลวในเซลดัง กล่าว จนมีอุณหภูมิที่ไม่ต่ำกว่าอุณหภูมิที่ซึ่งสารดัง กล่าว แสดงถึงของเหลวไฮโซโทรปิคตามด้วยการให้ความเย็นจนมี อุณหภูมิ ไม่สูงไปกว่าอุณหภูมิที่สารดังกล่าว แสดง เป็นผลึกของเหลว

17. ขบวนการสำหรับการเตรียมวัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือ สิทธิ 16 ในที่ซึ่งได้ให้ความเย็นแก่สารผลึกของเหลวดัง กล่าว ในอัตราที่ไม่สูงไปกว่า 20* ซ / นาที จากอุณหภูมิที่ สารผลึกดังกล่าว แสดงเป็นของเหลวไฮโซโทรปิคจนมีอุณหภูมิต่ำ กว่าอุณหภูมิ ที่ซึ่งสารดังกล่าวแสดงเป็นผลึกของเหลว

18. ขบวนการสำหรับการเตรียมวัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือ สิทธิ 16 หรือ 17 ในที่ซึ่งฟิล์มควบคุมการจัดตัวดังกล่าว คือฟิล์มควบคุมการจัดตัวที่ได้นำไปทำการจัดตัวแล้ว

19. วัสดุผลึกของเหลวที่ประกอบด้วย เซลที่ประกอบด้วย 2 ซับสเทรทที่ได้จัดให้หันหน้าเข้าหากันและกัน โดยมีช่องว่าง อยู่ระหว่างกลางและบรรจุลงในช่องว่างดังกล่าวด้วยสารผลึก ของเหลว ซึ่งแต่ละซับสเทรทนี้จะมีอีเล็คโตรดโปร่งใสอยู่บน ผิวหน้าด้านในด้วยให้มี แผ่นโพลาร์ไรซ์ซึ่งหนึ่งแผ่นอยู่บน ด้านนอกของแต่ละซับสเตรทเพื่อให้ระนาบ ของการโพลาร์ไรซ์ เซซั่นที่จัดตัวโดยแผ่นโพลาร์ไรซ์ซึ่งดังกล่าว มีมุมเป็น 70* - 110* และจัดให้เซลที่บรรจุด้วยสารผลึกของเหลวดัง กล่าว อยู่ระหว่างแผ่นโพลาร์ไรซ์ซิ่งดังกล่าว ที่มุมจาก +10* ถึง -10 สัมพัทธ์กับตำแหน่งของเซลดังกล่าว ที่ซึ่งแสง ส่งผ่านกลายเป็นมืดที่สุดหรือสว่างสุด โดยสารผลึกของ เหลวดังกล่าว มีองค์ประกอบผลึกของเหลวที่แสดงด้วยสูตร (A) ข้างต้น

20. วิธีการโมดูเลชั่นแสง ซึ่งประกอบด้วยการให้สนามไฟฟ้า หรือให้โวลเทดแก่วัสดุผลึกของเหลวที่ประกอบด้วย เซลที่ ประกอบด้วย 2 ซับสเทรทที่ได้จัดให้หันหน้าเข้าหากันและกัน โดยมีช่องว่างอยู่ระหว่างกลางและบรรจุลงในช่องว่างดังกล่าว ด้วยสารผลึกของเหลว ซึ่งแต่ละซับสเทรทนี้จะมีอีเล็คโตรด โปร่งใสอยู่บนผิวหน้าด้านในด้วยให้มี แผ่นโพลาร์ไรซ์ซึ่ง หนึ่งแผ่นอยู่บนด้านนอกของแต่ละซับสเตรทเพื่อให้ระนาบ ของ การโพลาร์ไรซ์เซซั่นที่จัดตัวโดยแผ่นโพลาร์ไรซ์ซึ่งดัง กล่าว มีมุมเป็น 70* - 110* และจัดให้เซลที่บรรจุด้วยสาร ผลึกอขงเหลวดังกล่าว อยู่ระหว่างแผ่นโพลาร์ไรซ์ซิ่งดัง กล่าว ที่มุมจาก +10* ถึง -10 สัมพัทธ์กับตำแหน่งของ เซลดังกล่าว ที่ซึ่งแสงส่งผ่านกลายเป็นมืดที่สุดหรือสว่าง สุด โดยสารผลึกของเหลวดังกล่าว มีองค์ประกอบผลึกของเหลวที่ แสดงด้วยสูตร (A) ข้างต้น

21. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 20 ในที่ซึ่ง ได้เปลี่ยนปริมาณแสงส่งผ่านวัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว โดย การแปรเปลี่ยนโวลเตทที่ให้กับวัสดุดังกล่าว ระหว่างค่า โวลเตทโพสซิทีฟและโวลเตทเนกาทีฟ

22. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 20 หรือ 21 ใน ที่ซึ่งรูปคลื่นสนามไฟฟ้าที่ให้โดยการแปรเปลี่ยนโวลเตทที่ ให้แก่วัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว ระหว่างโวลเดทโพสซิทีฟและ โวลเดทเนกาทีฟ คือรูปคลื่นที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย คลื่นรูปสี่เหลี่ยม คลื่นรูปสามเหลี่ยม คลื่น sine และ คลื่นผสมของคลื่นดังกล่าว

23. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 22 ในที่ซึ่ง รูปคลื่นของสนามไฟฟ้าที่ให้กับวัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว คือคลื่นรูปสี่เหลี่ยม โดยความกว้างที่น้อยที่สุดของคลื่น รูปสี่เหลี่ยมดังกล่าว ไม่มากไปกว่า 10 m.sec

24. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 20 ในที่ซึ่ง ได้เปลี่ยนปริมาณแสงส่งผ่านวัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว โดย การแปรเปลี่ยนโวลเตทที่ให้กับวัสดุดังกล่าว ระหว่างค่า โวลเตทโพสซิทีฟและโวลเตทเนกาทีฟ

25. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 20 ในที่ซึ่ง รูปคลื่นสนามไฟฟ้าที่ให้โดยการแปรเปลี่ยนโวลเตทที่ให้แก่ วัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว ระหว่างโวลเดทโพสซิทีฟและโวลเดทเ นกาทีฟ คือรูปคลื่นที่เลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยคลื่นรูป สี่เหลี่ยม คลื่นรูปสามเหลี่ยม คลื่น sine และคลื่นผสมของ คลื่นดังกล่าว

26. วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือสิทธิ 25 ในที่ซึ่ง รูปคลื่นของสนามไฟฟ้าที่ให้กับวัสดุผลึกของเหลวดังกล่าว คือคลื่นรูปสี่เหลี่ยม โดยความกว้างที่น้อยที่สุดของคลื่น รูปสี่เหลี่ยมดังกล่าว ไม่มากไปกว่า 10 m.sec

27. หน่วยแสดงผลที่ใช้วัสดุผลึกของเหลวดังในข้อถือสิทธิ 10 - 15 ข้อใดข้อหนึ่งหรือในข้อถือสิทธิ 19

28. อุปกรณ์แสดงผลผลึกของเหลวที่ใช้วัสดุผลึกของเหลวดังใน ข้อถือสิทธิ 10 - 15 ข้อใดข้อหนึ่ง

29. อุปกรณ์แสดงผลอีเล็คโตรออพติคอลที่ใช้วัสดุผลึกของเหลว ดังในข้อถือสิทธิ 10 - 14 ข้อใดข้อหนึ่ง

30. วิธีการแสดงผลที่ใช้วิธีการโมดูเลชั่นแสดงดังในข้อถือ สิทธิ 20 - 26 ข้อใดข้อหนึ่ง

31. วัสดุโมเลชั่นทางแสงที่ประกอบด้วยวัสดุผลึกของเหลวดัง ใน ข้อถือสิทธิ 10 14 ข้อใดข้อหนึ่ง (ข้อถือสิทธิ 31 ข้อ, 6 หน้า, 10 รูป)