TH76275A - องค์ประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, และวัตถุสะท้อนแสง พร้อมทั้งวิธีการผลิตชิ้นงานที่ขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง - Google Patents

องค์ประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, และวัตถุสะท้อนแสง พร้อมทั้งวิธีการผลิตชิ้นงานที่ขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง

Info

Publication number
TH76275A
TH76275A TH401003290A TH0401003290A TH76275A TH 76275 A TH76275 A TH 76275A TH 401003290 A TH401003290 A TH 401003290A TH 0401003290 A TH0401003290 A TH 0401003290A TH 76275 A TH76275 A TH 76275A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
parts
thermoplastic resin
reflective objects
mass
reflective
Prior art date
Application number
TH401003290A
Other languages
English (en)
Other versions
TH74161B (th
Inventor
ชิราอิ นายยาสุโนริ
อุเอดะ นายฮารุโอะ
ทาคากิ นายทามาเอะ
Original Assignee
นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
นายอังคาร ตั้นพันธ์
นางสาวอาภาพรรณ สี่หิรัญวงศ์
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์, นายอังคาร ตั้นพันธ์, นางสาวอาภาพรรณ สี่หิรัญวงศ์ filed Critical นางสาวยิ่งลักษณ์ ไกรฤกษ์
Publication of TH76275A publication Critical patent/TH76275A/th
Publication of TH74161B publication Critical patent/TH74161B/th

Links

Abstract

DC60 (17/11/47) การประดิษฐ์นี้เป็นสิ่งที่เกี่ยวข้องกับส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงที่มีวัสดุเติมอ นินทรีย์ (B1) ที่มีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคโดยเฉลี่ย ต่ำกว่า 3 ไมครอน ที่ ได้รับการปรับสภาพด้วยสารปรับสภาพผิวหน้า จำพวกกรดไขมันผสมอยู่ 2 ~ 45 ส่วนโดยมวลต่อเธอร์ โมพลาสติกเร ซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล; ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเร ซินสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงที่มีวัสดุเติมอนินทรีย์ (B2) ที่มีอัตราการหักเห อัลฟา 1.61 น้อยกว่าหรือเท่ากับ อัลฟา น้อยกว่าหรือเท่ากับ 2.5 และมีขนาดเส้นผ่าน ศูนย์กลางอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 3 ไมครอน ผสม อยู่ของ 2 ~ 45 ส่วนโดยมวลต่อเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล; ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับ ใช้กับวัตถุสะท้อนแสงที่มี แฟตตีแอซิดกลีเซอรีนไตรเอสเตอร์ และ / หรือ แฟตตีแอซิดกลีเซอรีนไดเอสเตอร์ (C1) จำนวน 0.01 ~ 3 ส่วนโดยมวล และแฟตตีแอซิดกลีเซอรีนโมโนเอสเตอร์ (C2) จำนวน 0.01 ~ 3 ส่วนโดยมวลผสมอยู่ต่อ เธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล เกี่ยวกับชิ้นงานขึ้นรูปที่ใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงซึ่ง สร้างขึ้นจากส่วนประกอบเรซินสำหรับใช้กับ วัตถุสะท้อนแสงเหล่านี้ เกี่ยวกับวัตถุสะท้อนแสงที่มีชั้น โลหะสะท้อนแสงสร้างไว้โดยตรงบนผิวหน้าอย่างน้อยหนึ่งส่วน ของชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงดังกล่าว การประดิษฐ์นี้เป็นสิ่งที่เกี่ยวข้องกับส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงที่มีวัสดุเติมอ นินทรีย์ (B1) ที่มีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางอนุภาคโดยเฉลี่ย ต่ำกว่า 3 มิวm ที่ ได้รับการปรับสภาพด้วยสารปรับสภาพผิวหน้า จำพวกกรดไขมันผสมอยู่ 2~45 ส่วนโดยมวลต่อเธอร์ โมพลาสติกเร ซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล; ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเร ซินสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงที่มีวัสดุเติมอนินทรีย์ (B2) ที่มีอัตราการหักเห อัลฟา 1.61 < อัลฟา < 2.5 และมีขนาดเส้นผ่าน ศูนย์กลางอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 3 มิวm ผสม อยู่กับ 2~45 ส่วนโดยมวลต่อเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล; ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับ ใช้กับวัตถุสะท้อนแสงที่มี แฟตตีแอซิดกลีเซอรีนไตรเอสเตอร์ และ / หรือ แฟตตีแอซิดกลีเซอรีนไดเอสเตอร์ (C1) จำนวน 0.01~3 ส่วนโดยมวล และแฟตตีแอซิดกลีเซอรีนโมโนเอสเตอร์ (C2) จำนวน 0.01~3 ส่วนโดยมวลผสมอยู่ต่อ เธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จำนวน 100 ส่วนโดยมวล เกี่ยวกับชิ้นงานขึ้นรูปที่ใช้กับวัสดุ สะท้อนแสงซึ่ง สร้างขึ้นจากส่วนประกอบเรซินสำหรับใช้กับ วัตถุสะท้อนแสงเหล่านี้ เกี่ยวกับวัตถุสะท้อนแสงที่มีชั้น โลหะสะท้อนแสงสร้างไว้โดยตรงบนผิวหน้าอย่างน้อยหนึ่งส่วน ของชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุ สะท้อนแสงดังกล่าว

Claims (1)

1. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงที่มีวัสดุเติมอนินทรีย์ (B1) ที่มีขนาดเส้นผ่านศูนย์ กลางอนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำกว่า 3 มิวm ที่ได้รับการปรับสภาพด้วย สารปรับสภาพ ผิวหน้าจำพวกกรดไขมันผสมอยู่ 2~45 ส่วนโดยโมล ต่อเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จำนวน 100 ส่วน โดยมวล 2. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งมีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง อนุภาคโดยเฉลี่ยของวัสดุเติมอนินทรีย์ (B1) จะเล็กกว่า 1 มิวm 3. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงซึ่งมีวัสดุเติมอนินทรีย์ (B2) ที่มีอัตราการหักเห อัลฟา เป็น 1.61 น้อยกว่าหรือเท่ากับ อัลฟา น้อยกว่าหรือเท่ากับ 2.5 และขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง อนุภาคโดยเฉลี่ยต่ำ กว่า 3 มิวm ผสมอยู่กับ 2~45 ส่วนโดยมวล ต่อเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) 100 ส่วนโดยมวล 4. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งมีขนาดเส้นผ่านศูนย์กลาง อนุภาคโดยเฉลี่ยของวัสดุเติมอนินทรีย์ (B2) จะเล็กกว่า 1 มิวm 5. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงซึ่งมีแฟตตีแอซิดกลีเซอรีน ไตรเอสเตอร์และ / หรือแฟตตีแอซิ ดกลีเซอรีนไดเอสเตอร์ (C1) จำนวน 0.01~3 ส่วนโดยมวลพร้อม ทั้ง แฟตตีแอซิดกลีเซอรีนโมโนเอสเตอร์ (C2) จำนวน 0.01~3 ส่วนโดยมวลผสมอยู่ในเธอร์โมพลาสติกเร ซิน (A) 100 ส่วนโดยมวล 6. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 1, 3, หรือ 5 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะ ที่ว่าเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) เป็นเธอร์โมพลาสติกเรซินที่มีเร ซินที่ทำ จากโพลีเอสเตอร์ (a) เป็นส่วนประกอบหลัก 7. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 1, 3, หรือ 5 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะ ที่ว่าเธอร์โมพลาสติกเรซิน (A) จะมีเธอร์โมพลาสติกเรซิน จำพวกไวนิล (x) ผสมอยู่ 2~20% ของมวล 8. ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อน แสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 7 ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ว่า เธอร์โมพลาสติกเรซินจำพวกไวนิล (x) ดังกล่าวจะถูกเลือกจาก กลุ่มที่ประกอบ ด้วยอะคริโลไนไตรล์ - สไตรีนโคโพลิเมอร์เร ซิน (x-1), อะคริโลไนไตรล์ - สไตรีนโคโพลิเมอร์เรซินที่มี หมู่อีพอกซีผสมอยู่ (x-2), โคโพลิเมอร์เรซินจำพวกมาเลอิไมด์ (x-3) อย่างน้อยหนึ่งชนิด 9. ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงซึ่งประกอบขึ้นด้วยส่วนประกอบเธอร์โม พลาสติดเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 1, 3, หรือ 5 1 0. ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 9 ซึ่งอัตราการสะท้อน ของผิวหน้าชิ้นงานขึ้นรูปในช่วง 420 ~ 700 nm จะสูงกว่า 65% อยู่เสมอและอัตราการหดตัวเชิงเส้น จะต่ำกว่า 1.6% 1 1. ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 10 ซึ่งอัตราการ สะท้อนของผิวหน้าชิ้นงานขึ้นรูปในช่วง 420~700 nm จะสูงกว่า 70% อยู่เสนอ 1 2. วัตถุสะท้อนแสงซึ่งมีชั้นโลหะสะท้อนแสงถูกสร้างไว้โดยตรงบนผิวหน้าอย่างน้อยส่วนหนึ่ง ของชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 10 1 3. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ว่ามีการขึ้นรูป โดยใช้แม่พิมพ์โลหะที่มีความหยาบของผิวหน้าโดยเฉลี่ยจากการคำนวณ Ra ต่ำกว่า 0.075 มิวm โดย ใช่ส่วนประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินที่มีเรซินที่ทำจากโพลีเอสเตอร์ผสมอยู่ 1 4. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าโดยเฉลี่ยจากการคำนวณของแม่พิมพ์โลหะ Ra จะต่ำกว่า 0.06 มิวm 1 5. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าโดยเฉลี่ยจากการคำนวณของแม่พิมพ์โลหะ Ra จะต่ำกว่า 0.04 มิวm 1 6. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิข้อ 13 ซึ่ง ความหยาบของผิวหน้าโดยเฉลี่ยจากการคำนวณของแม่พิมพิ์โลหะ Ra จะต่ำกว่า 0.03 มิวm 1 7. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ว่ามีการขึ้น รูปโดยใช้แม่พิมพ์โลหะที่ได้รับการขัดผิวหน้าด้วยระดับการขัดสูงกว่า 5000 โดยใช้ส่วนประกอบเธอร์ โมพลาสติกเรซินที่มีเรซินที่ทำจากโพลีเอสเตอร์ผสมอยู่ 1 8. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิ 17 ซึ่งแม่พิมพ์ โลหะเป็นแม่พิมพ์โลหะที่ได้รับการขัดผิวหน้าโดยใช้ระดับการขัดสูงกว่า 8000 1 9. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสงดังระบุในข้อถือสิทธิ 17 ซึ่งแม่พิมพ์ โลหะเป็นแม่พิมพ์โลหะที่ได้รับการขัดผิวหน้าโดยใช้ระดับการขัดสูงกว่า 14000 2 0. วิธีการผลิตชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง ซึ่งมีลักษณะเฉพาะที่ว่ามีการขึ้น รูปโดยใช้ส่วนประกอบ เธอร์โมพลาสติกเรซินที่มีเรซินที่ทำจากโพลีเอสเตอร์ผสมอยู่ ด้วยแม่พิมพ์โลหะที่ ชุบด้วยโครเมียม 2
1. วัตถุสะท้อนแสงที่มีชั้นโลหะสะท้อนแสงสร้างไว้โดยตรงบน ผิวหน้าอย่างน้อยส่วนหนึ่งของ ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับ วัตถุสะท้อนแสงที่ได้จากวิธีการผลิตดังระบุในข้อถือสิทธิ ข้อ 13, 17 หรือ 20
TH401003290A 2004-08-25 องค์ประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, และวัตถุสะท้อนแสง พร้อมทั้งวิธีการผลิตชิ้นงานที่ขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง TH74161B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH76275A true TH76275A (th) 2006-03-09
TH74161B TH74161B (th) 2020-01-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100786003B1 (ko) 공압출 공법을 활용한 투명칩을 포함하는 인조대리석 및 이의 제조방법
US6517915B1 (en) Composite stone surfacing with improved optical and wear resistance properties
RU2384539C2 (ru) Композиция для акрилового искусственного мрамора
US20070049658A1 (en) Artificial marble containing transparent chip using co-extrusion and process for preparing the same
JPH0410844B2 (th)
AU2012203256A1 (en) Process for forming decorative patterns by orienting magnetic particles
JP5594964B2 (ja) 高透光性の合成石、その製造方法および使用
CN110088183A (zh) 固体聚合物高度耐用的表面处理
TH76275A (th) องค์ประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, และวัตถุสะท้อนแสง พร้อมทั้งวิธีการผลิตชิ้นงานที่ขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง
US9839265B2 (en) Ground composite body comprising a glass body and a plastic
US20100209695A1 (en) Artificial marble containing chip with transparent and light reflecting materials, and process for preparing the same
TH74161B (th) องค์ประกอบเธอร์โมพลาสติกเรซินสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, ชิ้นงานขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง, และวัตถุสะท้อนแสง พร้อมทั้งวิธีการผลิตชิ้นงานที่ขึ้นรูปสำหรับใช้กับวัตถุสะท้อนแสง
JPH07191207A (ja) 反射型複合光学素子
CA2114380C (en) Varicolored mineral appearing articles with crystalline thermoplastic chips
KR100805636B1 (ko) 깊이감과 반짝이는 효과를 연출하는 고비중화 광반사칩,이의 제조방법 및 이를 포함하는 인조대리석
KR100826089B1 (ko) 투명소재와 광반사효과를 연출하는 소재로 구성된 칩을포함하는 인조대리석 및 이의 제조방법
CN1299131C (zh) 母板及其复制品制作法
KR100855177B1 (ko) 투명소재와 광반사효과를 연출하는 소재로 구성된 칩을포함하는 인조대리석
JPH02500115A (ja) 光沢を出すことのできる難燃性合成鉱物生成物
CN112873665B (zh) 一种仿冰锥制品的制备方法及其制得的仿冰锥制品
JPH10500367A (ja) 装飾材料を形成する方法
CN110088186B (zh) 固体聚合物高度耐用的表面处理
JP3518291B2 (ja) 人造石
CN102470566A (zh) 采用各向异性颗粒在丙烯酸系材料中制备装饰性表面外观的方法
MXPA01000381A (es) Composiciones para impartir un efecto optico translucido a polimeros termoplasticos transparentes.