TH73736A - วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ - Google Patents

วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์

Info

Publication number
TH73736A
TH73736A TH501001472A TH0501001472A TH73736A TH 73736 A TH73736 A TH 73736A TH 501001472 A TH501001472 A TH 501001472A TH 0501001472 A TH0501001472 A TH 0501001472A TH 73736 A TH73736 A TH 73736A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
modified region
laser
forming
end surface
Prior art date
Application number
TH501001472A
Other languages
English (en)
Other versions
TH62030B (th
Inventor
ฟูคูมิตสึ นายเคนชิ
ซาคาโมโตะ นายทาเคชิ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
ฮามามัตสึ โฟโตนิคส์ เคเค
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, ฮามามัตสึ โฟโตนิคส์ เคเค filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH73736A publication Critical patent/TH73736A/th
Publication of TH62030B publication Critical patent/TH62030B/th

Links

Abstract

DC60 จัดให้มีวิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ ซึ่งแม้ว่าซับสเตรทที่ขึ้นรูปด้วยส่วนลามิเนตซึ่งรวมทั้ง อุปกรณ์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่งจะหนา ก็สามารถตัดซับสเตรทและส่วนลามิเนตด้วยความเที่ยงสูงได้ วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์นี้จะอาบซับสเตรท 4 ด้วยแสงเลซอร์ L ขณะที่ใช้ผิวหน้าท้าย 21 เป็นพื้นผิวทางเข้าแสงเลเซอร์และกำหนดที่อยู่จุดลู่เข้าแสง P อยู่ภายในซับสเตรท 4 เพื่อที่จะขึ้นรูป บริเวณดัดแปร 71, 72, 73 อยู่ภายในซับสเตรท 4 ในที่นี้ บริเวณดัดแปร HC 73 จะถูกขึ้นรูปอยู่ที่ ตำแหน่งระหว่างบริเวณดัดแปรแยกเป็นส่วน 72 ที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าท้าย 21 และผิวหน้าท้าย 21 เพื่อที่จะทำให้เกิดการแตกร้าว 24 ซึ่งขยายไปตามเส้นเพื่อตัดจากบริเวณดัดแปร HC 73 ไปยังผิวหน้า ท้าย 21 ดังนั้น เมื่อแถบขยายตัวได้ถูกยึดเข้ากับผิวหน้าท้าย 21 ของซับสเตรท 4 และถูกทำให้ขยายตัว การแตกร้าวจะเลื่อนอย่างราบเรียบจากซับสเตรท 4 ไปยังส่วนลามิเนต 16 โดยทางบริเวณดัดแปรแยก เป็นส่วน 72 โดยที่สามารถตัดซับสเตรท 4 และส่วนลามิเนต 16 ไปตามเส้นเพื่อตัดด้วยความเที่ยงสูง ได้ จัดให้มีวิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ ซึ่งแม้ว่าซับสเตรทที่ขึ้นรูปด้วยส่วนลามิเนตซึ่งรวมทั้ง อุปกรณ์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่งจะหนา ก็สามารถตัดซับสเตรทและส่วนลามิเนตด้วยความเที่ยงสูงได้ วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์นี้จะอาบซับสเตรท 4 ด้วยแสงเลซอร์ L ขณะที่ใช้ผิวหน้าท้าย 21 เป็นพื้น ผิวทางเข้าแสงเลเซอร์และกำหนดที่อยู่จุดลู่เข้าแสง P อยู่ภายในซับสเตรท 4 เพื่อที่จะขึ้นรูปบริเวณดัด แปร 71, 72, 73 อยู่ภายในซับสเตรท 4 ในที่นี้ บริเวณดัดแปรHC 73 จะถูกขึ้นรูปอยู่ที่ตำแหน่ง ระหว่างบริเวณดัดแปรแยกเป็นส่วน 72 ที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าท้าย 21 และผิวหน้าท้าย 21 เพื่อที่จะทำ ให้เกิดการแตกร้าว 24 ซึ่งขยายไปตามเส้นเพื่อตัดจากบริเวณดัดแปรHC 73 ไปยังผิวหน้าท้าย 21 ดัง นั้น เมื่อแถบขยายตัวได้ถูกยึดติดเข้ากับผิวหน้าท้าย 21 ของซับสเตรท 4 และถูกทำให้ถูกขยายตัว การแตก ร้าวจะเลื่อนอย่างราบเรียบจากซับสเตรท 4 ไปยังส่วนลามิเนต 16 โดยทางบริเวณดัดแปรยกเป็นส่วน 72 โดยที่สามารถตัดซับสเตรท 4 และส่วนลามิเนต 16 ไปตามเส้นเพื่อตัดด้วยความเที่ยงสูงได้

Claims (19)

1. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ด้วยการอาบซับสเตรท(4)ที่มีผิวหน้าด้านหน้า(3) ที่ขึ้นรูปด้วยส่วนลามิเนต(16)ซึ่งรวมทั้งอุปกรณ์เชิงหน้าที่(15)จำนวนหนึ่ง และผิวหน้าด้านหลัง (21) ด้วยแสงเลเซอร์(L)ขณะที่กำหนดที่อยู่จุดลู่เข้าแสง(P)อยู่ภายในซับสเตรท(4)เพื่อที่จะขึ้นรูป บริเวณดัดแปร(7)ให้กลายเป็นจุดเริ่มสำหรับการตัด(8)ภายในซับสเตรท(4)ไปตามเส้นเพื่อตัด(5) ของซับสเตรท(4)นั้น, วิธีนั้นซึ่งประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ : การขึ้นรูปแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง(72)ไว้ภายในซับสเตรท (4)ไปตามเส้น เพื่อตัด (5),และต่อจากนั้น การขึ้นรูปอย่างน้อยที่สุดที่หนึ่งแถวของบริเวณดัดแปรที่สอง (73) ไว้ภายในซับสเตรท (4) ไปตามเส้นเพื่อตัด (5) ที่ตำแหน่งระหว่างบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง (72)ที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าด้านหลัง และผิวหน้าด้านหลัง (21) นั้น เพื่อที่จะทำให้เกิดการแตกร้าวซึ่งขยายไปตามเส้นเพื่อตัด (5) จาก บริเวณดัดแปรที่สอง (73) ถึงผิวหน้าด้านหลังนั้น, ที่ซึ่งแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง (72)จะถูกขึ้นรูปเป็นแบบอนุกรมอยู่ในทิศทางความหนาของซับสเตรท (4)นั้น,และที่ซึ่งระยะห่าง ระหว่างแต่ละตำแหน่งที่ซึ่งจุดลู่เข้าแสง (P)ของแสงเลเซอร์ (L)ตั้งอยู่ เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง (72) ที่อยู่ข้างเคียง จะมีค่าเป็น 24 ไมโครเมตรถึง 70 ไมโครเมตรในทิศทาง ความหนาของซับสเตรท นั้น
2. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งซับสเตรทคือซับสเตรทสารกึ่งตัวนำ และที่ ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งและที่สองจะรวมทั้งบริเวณทำให้ผ่านกรรมวิธีหลอมเหลว
3. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งและที่สองจะถูก ขึ้นรูปอย่างต่อเนื่องตามลำดับจากด้านที่ไกลออกไปจากผิวหน้าท้ายขณะที่ใช้ผิวหน้าท้ายเป็นพื้นผิว ทางเข้าแสงเลเซอร์
4. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งแสงเลเซอร์มีพลังงาน 2 ไม โครจูลถึง 50 ไมโครจูล เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง
5. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งแสงเลเซอร์มีพลังงาน 1 ไม โครจูลถึง 20 ไมโครจูล เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง
6. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งแสงเลเซอร์เมื่อขึ้นรูป บริเวณดัดแปรที่หนึ่งจะมีพลังงานมากกว่าเมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สอง
7. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 6 ที่ซึ่งพลังงานของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณ ดัดแปรที่หนึ่งคือ 1.6 ถึง 3.0 เมื่อพลังงานของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สองคือ I
8. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งแต่ละตำแหน่งที่กำหนดที่ อยู่จุดลู่เข้าแสงของแสงเลเซอร์เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่งย่านใกล้เคียงจะมีระยะทาง 24 ไมโครเมตรถึง 70 ไมโครเมตรอยู่ระหว่างนั้น
9. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งจะกำหนดที่อยู่จุดลู่เข้าแสง ของแสงเลเซอร์ที่ตำแหน่งที่มีระยะทาง 50 ไมโครเมตรถึง [(ความหนาซับสเตรท) x 0.9] ไมโครเมตร จากผิวหน้าท้ายเมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่ง
10. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งจะกำหนดที่อยู่จุดลู่เข้า แสงของแสงเลเซอร์ที่ตำแหน่งที่มีระยะทาง 20 ไมโครเมตรถึง 110 ไมโครเมตรจากผิวหน้าท้ายเมื่อ ขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สอง
11. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเมื่อขึ้นรูปแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัดแปร ที่สอง แสงเลเซอร์เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่งจะมีพลังงานมากกว่าเมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่ สองที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าท้ายของซับสเตรท
12. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 11 ที่ซึ่งเมื่อขึ้นรูปแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัด แปรที่สอง พลังงานของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สองที่ไกลออกไปจากผิวหน้าท้าย ของซับสเตรทคือ 1.3 ถึง 3.3 เมื่อพลังงานของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สองที่ใกล้ที่ สุดกับผิวหน้าท้ายของซับสเตรทคือ I
13. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 11 ที่ซึ่งเมื่อขึ้นรูปแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัด แปรที่สอง พลังงานของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่หนึ่งคือ 1.3 ถึง 3.3 เมื่อพลังงาน ของแสงเลเซอร์สำหรับขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สองที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าท้ายของซับสเตรทคือ I
14. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่งเมื่อขึ้นรูปแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัดแปร ที่สอง ตำแหน่งซึ่งกำหนดที่อยู่จุดลู่เข้าแสงของแสงเลเซอร์เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปปที่สองที่ใกล้ที่สุด กับผิวหน้าท้ายของซับสเตรทจะมีระยะทางจากผิวหน้าท้าย 20 ไมโครเมตรถึง 110 ไมโครเมตร และ ตำแหน่งซึ่งกำหนดที่อยุ่จุดลู่เข้าแสงของแสงเลเซอร์เมื่อขึ้นรูปบริเวณดัดแปรที่สองที่ใกล้ที่สุดลำดับที่ สองกับผิวหน้าท้ายของซับสเตรทจะมีระยะทางจากผิวหน้าท้าย 140 ไมโครเมตรหรือต่ำกว่า
15. วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิ 1 ถึง 14 ข้อใดข้อหนึ่ง ซึ่งประกอบอีกต่อไปด้วยขั้น ตอนในการตัดซับสเตรทและส่วนลามิเนตไปตามเส้นเพื่อตัด
16. ชิบสารกึ่งตัวนำซึ่งประกอบด้วยซับสเตรท และส่วนลามิเนต ที่จัดวางอยู่บนผิวหน้าด้านหน้า ของซับสเตรท ซึ่งรวมทั้งอุปกรณ์เชิงหน้าที่ ที่ซึ่งแถวจำนวนหนึ่งของบริเวณดัดแปรที่หนึ่งซึ่งทอดตัวไปตามผิวหน้าท้ายของซับสเตรทจะ ถูกขึ้นรูปอยู่ในผิวหน้าด้านข้างของซับสเตรทเพื่อที่จะให้เป็นแบบอนุกรมอยู่ในทิศทางความหนาของ ซับสเตรท และ ที่ซึ่งอย่างน้อยที่สุดบริเวณดัดแปรที่สองหนึ่งแถวซึ่งทอดตัวไปตามผิวหน้าท้ายจะถูกขึ้นรูป อยู่ที่ตำแหน่งระหว่างบริเวณดัดแปรที่หนึ่งที่ใกล้ที่สุดกับผิวหน้าท้ายและผิวหน้าท้ายในผิวหน้าด้าน ข้าง
17. ชิปสารกึ่งตัวนำตามข้อถือสิทธิ 16 ที่ซึ่งซับสเตรทคือซับสเตรทสารกึ่งตัวนำ และที่ซึ่งบริเวณดัด แปรที่หนึ่งและที่สองนะรวมทั้งบริเวณทำให้ผ่านกรรมวิธีหลอมเหลว
18. ชิปสารกึ่งตัวนำตามข้อถือสิทธิ 16 หรือ 17 ที่ซึ่งส่วนปลายของบริเวณดัดแปรที่หนึ่งบนด้านผิว หน้าท้ายและส่วนปลายของบริเวณดัดแปรที่สองบนด้านผิวหน้าด้านหน้าซึ่งตรงข้ามกันจะมีระยะทาง 15 ไมโครเมตรถึง 60 ไมโครเมตรอยู่ระหว่างนั้น
19. ชิปสารกึ่งตัวนำตามข้อถือสิทธิ 16 ถึง 18 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งจะมีความกว้าง ทั้งหมด 40 ไมโครเมตรถึง [(ความหนาซับสเตรท) x 0.9] ไมโครเมตรในทิศทางความหนาของซับสเต รท
TH501001472A 2005-03-30 วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์ TH62030B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH73736A true TH73736A (th) 2005-12-20
TH62030B TH62030B (th) 2018-04-19

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101390115B1 (ko) Led 칩의 제조 방법
EP1494271A4 (en) PROCESS FOR DISCONNECTING A SUBSTRATE
CN101681876B (zh) 使用短脉冲红外激光刻划晶片
CN101657292B (zh) 激光加工
CN105531072B (zh) 借助脉冲激光射线对工件进行去料切割的方法
CN108698900A (zh) 用于玻璃元件的边缘加工的方法以及根据此方法加工的玻璃元件
TW200732076A (en) Laser beam machining method and semiconductor chip
DE102013221822B4 (de) Chip mit Rückseitenmetall und Verfahren zu seiner Herstellung und Halbleiterscheibe mit Rückseitenmetall
DE102005038027A1 (de) Verfahren zum Durchtrennen von spröden Flachmaterialien
CN107686234A (zh) 包含预制裂纹过程的玻璃基板切割方法
CN211350578U (zh) 一种预切割的碳化硅晶圆片
KR20190016527A (ko) 레이저를 이용하여 취성 물질로 이루어진 원형 평면판을 복수 개의 직사각형 개별판들로 분리하기 위한 방법
TH62030B (th) วิธีทำให้ผ่านกรรมวิธีเลเซอร์
US8496866B2 (en) Chip resistor substrate
KR20160140386A (ko) 취성 재료 기판에 있어서의 수직 크랙의 형성 방법 및 취성 재료 기판의 분단 방법
EP3330233B1 (en) Method and apparatus for cutting glass laminate
TH73580A (th) วิธีดำเนินการกระบวนการด้วยแสงเลเซอร์และชิปสารกึ่งตัวนำ
TH40095B (th) วิธีดำเนินการกระบวนการด้วยแสงเลเซอร์และชิปสารกึ่งตัวนำ
TWI469209B (zh) 半導體裝置之製造方法
TH73733A (th) วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี
TH40096B (th) วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี
KR20160140385A (ko) 취성 재료 기판에 있어서의 수직 크랙의 형성 방법 및 취성 재료 기판의 분단 방법
CN117012712A (zh) 晶圆加工方法以及晶圆