TH73733A - วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี - Google Patents

วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี

Info

Publication number
TH73733A
TH73733A TH501001397A TH0501001397A TH73733A TH 73733 A TH73733 A TH 73733A TH 501001397 A TH501001397 A TH 501001397A TH 0501001397 A TH0501001397 A TH 0501001397A TH 73733 A TH73733 A TH 73733A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
modified region
cutting
cutting line
processing method
Prior art date
Application number
TH501001397A
Other languages
English (en)
Other versions
TH40096B (th
Inventor
มูรามัตสึ นายเคนอิชิ
ซาคาโมโตะ นายทาเคชิ
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายบุญมา เตชะวณิช
ฮามามัตสึ โฟโตนิคส์ เคเค
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายบุญมา เตชะวณิช, ฮามามัตสึ โฟโตนิคส์ เคเค filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH73733A publication Critical patent/TH73733A/th
Publication of TH40096B publication Critical patent/TH40096B/th

Links

Abstract

DC60 (27/01/54) ได้จัดให้มีวิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ ซึ่งสามารถชิ้นส่วนลามิเนทได้ด้วยความ เที่ยงตรงสูงพร้อมกับซับสเตรต เมื่อตัดซับสเตรตที่ก่อรูปขึ้นมาพร้อมด้วยชิ้นส่วนลามิเนทที่ ประกอบด้วยอุปกรณ์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่งเป็นชิปจำนวนหนึ่ง โดยที่ชิปแต่ละชิ้นประกอบด้วย อุปกรณ์เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งอุปกรณ์ ในวิธีการดำเนินการวิธีด้วยเลเซอร์นี้ บริเวณดัดแปรที่แตกต่างไปจากกันในด้านของความ ง่ายในการทำให้ซับสเตรต 4 แตกแยกออกจะได้รับการก่อรูปขึ้นมาตามแนวของแนวเส้นทำการตัด 5a ถึง 5d แต่ละแนว ด้วยเหตุนี้ เมื่อติดแถบที่สามารถขยายตัวได้กับผิวหน้าด้านหลังของซับสเตรต 4 และ ทำให้ขยายออก วัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี 1 จะได้รับการตัดแบบทีละขั้นเป็นชิปจำนวนหนึ่ง การตัด แบบทีละขั้นดังกล่าวยอมให้ความเค้นดึงที่สม่ำเสมอกระทำบนส่วนแต่ละส่วนที่ยื่นไปตามแนวเส้น เพื่อทำการตัด 5a ถึง 5d ดังนั้น ฟิล์มคั่นฉนวนระหว่างชั้นบนแนวทำการตัด 5a ถึง 5d จะได้รับการตัด ด้วยความเที่ยงตรงสูงพร้อมกับซับสเตรต 4 ได้จัดให้มีวิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ ซึ่งสามารถชิ้นส่วนลามิเนทได้ด้วยความ เที่ยงตรงสูงพร้อมกับซับสเตรต เมื่อตัดซับสเตรตที่ก่อรูปขึ้นมาพร้อมด้วยชิ้นส่วนลามิเนทที่ ประกอบด้วยอุปกรณ์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่งเป็นชิปจำนวนหนึ่ง โดยที่ชิปแต่ละชิ้นประกอบด้วย อุปกรณ์เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งอุปกรณ์ ในวิธีการดำเนินกรรวิธีด้วยเลเซอร์นี้ บริเวณดัดแปรที่แตกต่างไปจากกันในด้านของความ ง่ายในการทำให้ซับสเตรต 4 แตกแยกออกจะได้รับการก่อรูปขึ้นมาตามแนวของแนวทำการตัด 5a ถึง 5dแต่ละแนว ด้วยเหตุนี้ เมื่อติดแถบขยายตัวได้กับผิวหน้าด้านหลังของซับสเตรต 4 และทำให้ขยาย ออก วัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี 1 จะได้รับการตัดแบบทีละขั้นเป็นชิปจำนวนหนึ่ง การตัดแบบทีละ ขั้นดังกล่าวยอมให้ความเค้นดึงที่สม่ำเสมอกระทำบนส่วนแต่ละส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำการ ตัด 5a ถึง 5d ดังนั้น ฟิลม์คั่นฉนวนระหว่างชั้นบนแนวทำการตัด 5a ถึง 5d จะได้รับการตัดด้วยความ เที่ยงตรงสูงพร้อมกับซับสเตรต 4

Claims (10)

1. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์สำหรับการฉายซับสเตรตที่มีผิวด้านหน้าที่ก่อรูปให้มี ชิ้นส่วนลามิเนทซึ่งประกอบด้วยอุปกรร์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่ง ด้วยแสงเลเซอร์ ในขณะที่จัดให้จุดลู่ รวมแสงอยู่ภายในซับสเตรต เพื่อการก่อรูปบริเวณดันแปรงขึ้นมาซึ่งจะเป็นจุดตั้งต้นสำหรับการตัด ภายในซับสเตรตตามแนวของแนวทำการตัดซับสเตรต; วิธีการประกอบรวมด้วยขั้นตอนของ: การก่อรูปบริเวณดัดแปรงที่หนึ่งขึ้นมาตามแนวของแนวทำการตัดที่หนึ่งสำหรับการตัด ซับสเตรตและชิ้นส่วนลามิเนทเป็นก้อนจำนวนหนึ่ง; และ การก่อรูปบริเวณดัดแปรที่สองขึ้นมาตามแนวของแนวทำการตัดที่สองสำหรับการตัดก้อน เป็นชิปจำนวนหนึ่ง โดยที่ชิปแต่ละชิ้นประกอบด้วยอุปกรณ์เชิงหน้าที่อย่างน้อยที่สุดหนึ่งอุปกรณ์; ที่ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งมีโอกาสเป็นไปได้ในการทำให้ซับสเตรตแตกแยกออกมากกว่า บริเวณดัดแปรที่สอง
2. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ประกอบรวมต่อไปอีกด้วยขั้นตอน ของ: การติดฟิลม์ขยายตัวได้กับผิวหน้าด้านหลังของซับสเตรตที่ก่อรูปขึ้นมาให้มีบริเวณดัดแปรที่ หนึ่งและที่สอง; และ การทำให้ฟิล์มขยายตัวได้ขยายออก เพื่อการเริ่มต้นการตัดซับสเตรต และชิ้นส่วนลามิเนท เป็นก้อนจากบริเวณดัดแปรที่หนึ่งที่ทำหน้าที่เป็นจุดตั้งต้น และ จากนั้น เริ่มต้นการตัดก้อนเป็นชิปจาก บริเวณดัดแปรที่สองที่ทำหน้าที่เป็นจุดตั้งต้น
3. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งแนวทำการตัดที่สองจะยื่น ผ่านไประหว่างแนวทำการตัดที่หนึ่งที่อยู่ใกล้กัน
4. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งแนวทำการตัดที่หนึ่งและที่ สองจะขนานกันอย่างเป็นสำคัญ
5. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 2 ที่ซึ่งแนวทำการตัดที่หนึ่งและที่ สองจะตัดกัน
6. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งซับสเตรตเป็น ซับสเตรตสารกึ่งตัวนำ และ ที่ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งและที่สองประกอบด้วยบริเวณผ่านกรรมวิธีทำ ให้หลอมเหลว
7. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งบริเวณดัดแปร ที่หนึ่งในส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำการตัดที่หนึ่งในซับสเตรทมีความหนาแน่นการก่อรูปที่ แตกต่างไปจากความหนาแน่นการก่อรูปของบริเวณดัดแปรที่สองในส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำ การตัดที่สองในซับสเตรต ซึ่งทำให้บริเวณดัดแปรที่หนึ่งก่อเกิดการแตกแยกออกขึ้นมาในซับสเตรต ได้ง่ายมากกว่าบริเวณดัดแปรที่สอง
8. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งบริเวณดัดแปร ที่หนึ่งในส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำการตัดที่หนึ่งในซับสเตรตมีขนาดที่แตกต่างไปจากขนาด ของบริเวณดัดแปรงที่สองในส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำการตัดที่สองในซับสเตรต ซึ่งทำให้ บริเวณดัดแปรที่หนึ่งก่อเกิดการแตกแยกออกในซับสเตรตได้ง่ายมากกว่าบริเวณดัดแปรที่สอง
9. วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ตามข้อถือสิทธิข้อ 1 หรือ 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ซึ่งบริเวณดัดแปร ที่หนึ่งในส่วนที่ยื่นไปตามแนวของแนวทำการตัดที่หนึ่งในซับสเตรตได้รับการก่อรูปขึ้นมา ณ ตำแหน่งที่ดแตกต่างไปจากตำแหน่งที่บริเวณดัดแปรที่สองได้รับการก่อรูปขึ้นมาในส่วนที่ยื่นไปตาม แนวของแนวทำการตัดที่สองในซับสเตรต ซึ่งทำให้บริเวณดันแปรที่หนึ่งก่อเกิดการแตกแยกออกใน ซับสเตอตขึ้นมาได้มาง่ายมากกว่าบริเวณดัดแปรที่สอง
10. วัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธีประกอบรวมด้วยซับสเตรต และชิ้นส่วนนลามิเนทซึ่งก่อรูปขึ้นมาบน ผิวหน้าด้านหน้าของซับสเตรต ซึ่งประกอบด้วยอุปกรณ์เชิงหน้าที่จำนวนหนึ่ง: วัตถุประกอบรวมต่อไปอีกด้วย: บริเวณดัดแปรที่หนึ่งซึ่งได้รับการก่อรูปขึ้นมาภายในซับสเตรตตามแนวของแนวทำการตัดที่ หนึ่งสำหรับการตัดซับสเตรตและลามิเนทเป็นก้อนจำนวนหนึ่ง; และ บริเวณดัดแปรที่สองซึ่งได้รับการก่อรูปขึ้นมาภายในซับสเตรตตามแนวของแนวทำการตัดที่ สองสำหรับการตัดก้อนเป็นชิปจำนวนหนึ่ง โดยที่ชิปแต่ละชิ้นประกอบด้วยอุปกรณ์เชิงหน้าที่อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งอุปกรณ์; ที่ซึ่งบริเวณดัดแปรที่หนึ่งมีโอกาสเป็นไปได้ที่จะทำให้ซับสเตรตแตกแยกออกมากกว่า บริเวณดัดแปรที่สอง
TH501001397A 2005-03-28 วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี TH40096B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH73733A true TH73733A (th) 2005-12-20
TH40096B TH40096B (th) 2014-05-21

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP1742252A4 (en) LASER PROCESSING METHOD AND OBJECT TO BE PROCESSED
TWI447964B (zh) LED wafer manufacturing method
US20160158881A1 (en) Wafer producing method
US9764428B2 (en) Wafer producing method
US20160158882A1 (en) Wafer producing method
MY140517A (en) Semiconductor substrate cutting method
US20160293397A1 (en) Wafer producing method
US20160193690A1 (en) Wafer producing method
EP1494271A4 (en) PROCESS FOR DISCONNECTING A SUBSTRATE
EP1609559A4 (en) METHOD OF MACHINING BY LASER BEAM
US20160158883A1 (en) Wafer producing method
US9018080B2 (en) Wafer processing method
TW201523696A (zh) 用於增進自固體分離固體層的裂縫起始點或裂縫導引部的生成
JP2011243874A (ja) サファイアウェーハの分割方法
EP1609558A4 (en) METHOD OF MACHINING BY LASER BEAM
TH40096B (th) วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์ และวัตถุที่จะดำเนินกรรมวิธี
US20190080964A1 (en) Method of manufacturing a semiconductor device
CN105023977A (zh) 一种led制程中的背划方法及其形成结构
US9421640B2 (en) Dicing method
CN107546300B (zh) 一种led芯片的切割及劈裂方法
CN117833009A (zh) 一种利用半导体激光器解理芯片的设备解理巴条的工艺
TWI603829B (zh) Sheet metal components seamless cutting, splitting method
TH73580A (th) วิธีดำเนินการกระบวนการด้วยแสงเลเซอร์และชิปสารกึ่งตัวนำ
TH79242A (th) วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์
TH59039B (th) วิธีการดำเนินกรรมวิธีด้วยเลเซอร์