TH7296A - วิธีการทำความสะอาดโดยใช้ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน - Google Patents

วิธีการทำความสะอาดโดยใช้ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน

Info

Publication number
TH7296A
TH7296A TH8901001275A TH8901001275A TH7296A TH 7296 A TH7296 A TH 7296A TH 8901001275 A TH8901001275 A TH 8901001275A TH 8901001275 A TH8901001275 A TH 8901001275A TH 7296 A TH7296 A TH 7296A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
ranges
hydrofluorocarbon
cleaning method
dcheclfg
chaclbfc
Prior art date
Application number
TH8901001275A
Other languages
English (en)
Inventor
แมจิด นายฮิลล์เล
อี. อิบิค นายริชาร์ด
แวน เดอร์ พาย์ นายไมเคิล
ซี. ลี นายชีน
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH7296A publication Critical patent/TH7296A/th

Links

Abstract

วิธีการทำความสะอาดผิวหน้าของซับสเตรทซึ่งประกอบไปด้วยการทำกรรมวิธีผิวหน้าดังกล่าวด้วยตัวทำละลายซึ่งประกอบไป ด้วย สารที่มีสูตร CHaClbfc(CF2)dCHeClFg ที่ซึ่ง a+e อยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 4, b+f เท่ากับ 2,c+G อยู่ใน ช่วงจาก 0 ถึง 3, d คือจาก 1 ถึง 4, a+b+c = 3

Claims (3)

1. วิธีการทำความสะอาดผิวหน้าของซับสเตรทซึ่งประกอบไปด้วยการทำกรรมวิธีผิวหน้าดังกล่าวด้วยตัวทำละลายซึ่งประกอบไป ด้วย สารที่มีสูตร CHaClbfc(CF2)dCHeClFg ที่ซึ่ง a+e อยู่ในช่วงจาก 1 ถึง 4, b+f เท่ากับ 2,c+G อยู่ใน ช่วงจาก 0 ถึง 3, d คือจาก 1 ถึง 4, a+b+c = 3 ซึ่งตัวทำละ ลาย ดังกล่าวเป็นตัวทำละลายสำหรับสิ่งปนเปื้อนบนผิวหน้าดัง กล่าวและ กรรมวิธีดังกล่าวกำจัดสิ่งปนเปื้อนจากผิวหน้าดังกล่าว
2. วิธีการของข้อถือสิทธิ 1 ที่ซึ่ง วิธีการดังกล่าวกำจัด สิ่งปนเปื้อนอินทรีย์จากผิวหน้าดังกล่าว
3. วิธีแท็ก :
TH8901001275A 1989-12-04 วิธีการทำความสะอาดโดยใช้ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน TH7296A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH7296A true TH7296A (th) 1990-02-01

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ATE283119T1 (de) Verfahren zum entfernen von oberflächenverunreinigungen
EP0975731A4 (en) COMPOSITION FOR REMOVING RESIDUES IN THE SEMICONDUCTOR MANUFACTURING BASED ON ETHYLENE DIAMETRA ACID ACID OR ITS AMMONIUM SALT AND METHOD
RU94030473A (ru) Способ очистки эластомерного изделия от остаточных примесей и эластомерное изделие, очищенное данным способом
RU94030729A (ru) Способ очистки для удаления загрязнений с детали и композиция для его осуществления
DE69433069D1 (de) Vorrichtung zur Behandlung von Flüssigkeiten
DE3887477D1 (de) Verfahren zur Obenflächenbehandlung eines Halbleiterplättchens.
ATE180901T1 (de) Gerät und verfahren zum reinigen von fotomasken
EP1126514A3 (en) Etching method
ATE108224T1 (de) Photochemisches verfahren zur substratbehandlung unter verwendung eines dichten fluids.
ATE76596T1 (de) Verfahren zur entfernung von schadstoffen aus verunreinigtem boden und anlage zu dessen durchfuehrung.
KR950021173A (ko) 드라이에칭 장치의 에칭실을 클리닝하는 방법
ATE233431T1 (de) Verfahren und lösung zur reinigung eines substrats von einer metallkontamination
RU92016600A (ru) Частично фторированные алканы третичной структуры и способ очистки твердой поверхности
ATE87338T1 (de) Verfahren und einrichtung zur beseitigung kleiner teilchen von einer oberflaeche.
DE59003243D1 (de) Verfahren zur Reinigung von kontaminierten Böden.
DE59208257D1 (de) Verfahren zur Entfernung olefinischer Verunreinigungen aus 1,1,1,2,3,3,3 -Heptafluorpropan
DE69018159D1 (de) Verfahren zur Abscheidung von Dünnschichten.
TH7296A (th) วิธีการทำความสะอาดโดยใช้ไฮโดรฟลูออโรคาร์บอน
DE69431148D1 (de) Methode zur Analyse von Oberflächen verunreinigungen auf Halbleitersubstraten
DE58907683D1 (de) Verfahren zur Aufbereitung von Rückständen aus der Abgasreinigung.
ES2041344T3 (es) Procedimiento para la limpieza de suelos contaminados con substancias organicas hidrofobas.
ES2022078A4 (es) Procedimiento de reduccion de la contaminacion disuelta de un liquido
DE59304392D1 (de) Verfahren zur Entfernung olefinischer Verunreinigungen aus fluorierten C3-C6-Kohlenwasserstoffen
DE69421249D1 (de) Verfahren zur Entfernung von Sauerstoff-enthaltenden Verunreinigungen aus Organo-Gallium oder -Indium Verbindungen
FR2456711A1 (fr) Procede d'elimination des impuretes d'eaux souterraines ou de surface au moyen d'ozone