TH65146B - กระบวนการสำหรับการผลิต zsm-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานในขนาดผลึกที่เล็ก - Google Patents

กระบวนการสำหรับการผลิต zsm-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานในขนาดผลึกที่เล็ก

Info

Publication number
TH65146B
TH65146B TH601003907A TH0601003907A TH65146B TH 65146 B TH65146 B TH 65146B TH 601003907 A TH601003907 A TH 601003907A TH 0601003907 A TH0601003907 A TH 0601003907A TH 65146 B TH65146 B TH 65146B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
crystallization
process according
zsm
zeolite
small crystal
Prior art date
Application number
TH601003907A
Other languages
English (en)
Other versions
TH88093B (th
TH88093A (th
Inventor
จ้าว นายเจียง
หวาง นายเดจู
เหลีย นายซ่งเหนง
เจียง นายซิงหัว
Original Assignee
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางวรนุช เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์ นางวรนุช เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางวรนุช เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์ นางวรนุช เปเรร่า filed Critical นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
Publication of TH88093B publication Critical patent/TH88093B/th
Publication of TH88093A publication Critical patent/TH88093A/th
Publication of TH65146B publication Critical patent/TH65146B/th

Links

Abstract

DC60 (09/11/49) การประดิษฐ์นี้จะเกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิต ZSM-5 ซีโอไลท์ ที่ปราศจากสารประสาน ในขนาดผลึกที่เล็ก การประดิษฐ์จะถูกใช้ตั้งแต่แรกสำหรับแก้ไข ปัญหาในการประยุกต์ใช้ในการปฏิบัติ อย่างเช่น ผงซีโอไลท์ยากที่จะถูกนำกลับคืน และ เฉื่อยอย่างง่ายดาย และรวมตัวกัน , และการเติมของสารประสานในกระบวนการขึ้นรูปทรง จะทำให้เกิดการลดลงของพื้นที่ผิวที่มีประสิทธิภาพ และชักนำการกำจัดเกี่ยวกับ การแพร่กระจาย ปัญหาดังกล่าวจะถูกแก้ไขให้ดีขึ้นในการประดิษฐ์นี้ โดยการใช้ ไดอะโตไมท์ หรือ ซิลิกา แอโรเจล เป็นวัสดุตั้งต้นหลัก , การเติมสารช่วยจัดวางตัวที่เป็น ผลึกต้นกำเนิด , ซิลิกา ซอล และโซเดียม ซิลิเคต สำหรับการนวดเคล้า และการขึ้นรูปทรง , และจากนั้น เปลี่ยนเป็น ZSM-5 ที่ผสมผสานกัน ในขนาดผลึกที่เล็ก โดยการทำให้ตกผลึก ในเฟชไอ-ของแข็ง ที่มีเอมีนชนิดอินทรีย์ และไอน้ำ กระบวนการดังกล่าวสามารถถูกใช้ ในการเตรียมทางอุตสาหกรรมของคะตะลิสต์ชนิด ZSM-5 โมเลคูลาร์ ซีฟ ในขนาดผลึกที่เล็ก

Claims (7)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :------03/10/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า ข้อถือสิทธิ 1. กระบวนการสำหรับการผลิต ZSM-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานที่ถูกตกผลึก และ ถูกขึ้นรูปทรงอย่างเป็นเนื้อเดียวกันซึ่งประกอบด้วย การผสมโดยวิธีที่เกิดขึ้นเพียงครั้งเดียวของไดอะโตไมท์ หรือ คาร์บอน ไวท์ในฐานะที่เป็น แหล่งของซิลิกา, ออกไซด์ของอะลูมินัม, เกลืออะลูมินัม หรือ อะลูมิเนตเป็นแหล่งของอะลูมินัม, สาร ช่วยจัดวางตัวที่เป็นผลึกต้นกำเนิด และสารช่วยการอัดรีดพร้อมกับซิลิกา ซอล หรือ วอเตอร์ กลาสใน จำนวนที่ต้องการสำหรับการนวดเคล้า และการขึ้นรูปทรงเพื่อให้ได้รับของผสมพรีเคอเซอร์ที่มี อัตราส่วนนํ้าหนักเป็น X Na2O:Y Al2O3:100 SiO2 ในที่ซึ่ง X คือ จาก 0 ถึง 16 และ Y คือ จาก 0 ถึง 6 จากนั้นเปลี่ยนไปเป็นซีโอไลท์ที่ถูกขึ้นรูปทรงชนิด ZSM-5 ที่ปราศจากสารประสานในขนาด ผลึกที่น้อยกว่า 1 ไมโครเมตรโดยการทำให้ตกผลึกในเฟสไอ-ของแข็งที่มีเอมีนชนิดอินทรีย์ และไอ นํ้า ซึ่งการทำให้ตกผลึกถูกดำเนินการที่ 120-200ํซ เป็นเวลา 48-240 ชั่วโมง ซึ่งสารช่วยจัดวางตัวที่ เป็นผลึกต้นกำเนิดดังกล่าวถูกได้รับมาโดยการเร่งอายุของผสมที่มีอัตราส่วนเชิงโมลเป็น (TPA)2O:2- 10 SiO2:60-150 H2O ที่ 50-100ํซ เป็นเวลา 12-240 ชั่วโมง ซึ่ง TPA จะแสดงถึงเตตราโพรพิล- แอมโมเนียม ซึ่งเอมีนชนิดอินทรีย์ถูกเลือกอย่างน้อยหนึ่งชนิดจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเอทธิลเอมีน, n- โพรพิลเอมีน, n-บิวทิลเอมีน, เอทธิลีนไดเอมีน, ไตรเอทธิลเอมีน และเฮกเซนไดเอมีน และ ซึ่งสารช่วยการอัดรีด คือ อย่างน้อยหนึ่งชนิดที่ถูกเลือกจากกลุ่มที่ประกอบด้วยผงเซสบาเนีย, สตาร์ช, แอคติเวเทด คาร์บอน, โพลีเอทธิลีน ไกลคอล, โพลีอะคริลาไมด์ และโพลีไวนิล แอลกอฮอล์ และอยู่ในจำนวนเป็น 0.1-4%โดยน้ำหนักของของผสมพรีเคอเซอร์ 2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่าสารช่วยจัดวางตัวที่เป็น ผลึกต้นกำเนิดถูกเติมในจำนวนเป็น 1.0-50%โดยน้ำหนักของของผสมพรีเคอเซอร์ 3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่าการทำให้ตกผลึกในเฟส ไอ-ของแข็งถูกดำเนินการที่ 140-180ํซ 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่าการทำให้ตกผลึกในเฟส ไอ-ของแข็งจะใช้เวลา 72-180 ชั่วโมง ------------
1. กระบวนการสำหรับการผลิต ZSM-5 ซีโอไลท์ ที่ปราศจากสารประสาน ในขนาดผลึกที่เล็ก ซึ่งประกอบด้วยการใช้ไดอะโตไมท์ หรือ คาร์บอน ไวท์ เป็นแหล่งของ ซิลิกา , และออกไซด์ของอะลูมิเนียม , เกลืออะลูมิเนียม หรือ อะลูมิเนต เป็นแหล่งของ อะลูมินัม , การเติมสารช่วยจัดวางตัวที่เป็นผลึกต้นกำเนิด , สารช่วยการอัดรีด พร้อมกับ ซิลิกา ซอล หรือ วอเตอร์ กลาส ในจำนวนที่ต้องการ สำหรับการนวดเคล้า และการขึ้นรูปทรง เพื่อให้ได้รับของผสมพรีเคอเซอร์ ที่มีอัตราส่วนน้ำหนักเป็น X Na2O:Y AI2O3:100 SiO2 ในที่ซึ่ง X คือ จาก 0 ถึง 16 , และ Y คือ จาก 0 ถึง 6 , จากนั้น เปลี่ยนไปเป็นซีโอไลท์ที่ถูก ขึ้นรูปทรงชนิด ZSM-5 ที่ปราศจากสารประสาน ในขนาดผลึกที่เล็ก โดยการทำให้ตกผลึก ในเฟสไอ-ของแข็ง ที่มีเอมีนชนิดอินทรีย์ และไอน้ำ ซึ่งการทำให้ตกผลึกจะถูกดำเนินการที่ 120-200 ํซ เป็นเวลา 48-240 ชั่วโมง ซึ่งสารช่วยจัดวางตัวที่เป็นผลึกต้นกำเนิดดังกล่าว จะได้รับมาโดยการเร่งอายุของผสมที่มีอัตราส่วนเชิงโมลเป็น (TPA)2O:2-10 SiO2:60-150 H2O ที่ 50-100 ํซ เป็นเวลา 12-240 ชั่วโมง ซึ่ง TPA จะแสดงถึงเตตราโพรพิลแอมโมเนียม
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า สารช่วยจัดวางตัวที่เป็นผลึกต้นกำเนิด จะถูกเติมในจำนวนเป็น 1.0-50%โดยน้ำหนักของ ของผสมพรีเคอเซอร์
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า เอมีนชนิดอินทรีย์ จะเลือกได้อย่างน้อยหนึ่งชนิดจากกลุ่มที่ประกอบด้วยเอทธิลเอมีน , n-โพรพิลเอมีน , n-บิวทิลเอมีน , เอทธิลีนไดเอมีน , ไตรเอทธิลเอมีน และเฮกเซนไดเอมีน
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า การทำให้ตกผลึกในเฟสไอ-ของแข็ง จะถูกดำเนินการที่ 140-180 ํซ
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า การทำให้ตกผลึกในเฟสไอ-ของแข็ง จะใช้เวลา 72-180 ชั่วโมง
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า ZSM-5 ซีโอไลท์ในขนาดผลึกที่เล็ก จะมีขนาดอนุภาคเป็นน้อยกว่า 1 ไมโครเมตร
7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ถูกกำหนดลักษณะเฉพาะที่ว่า สารช่วยการอัดรีด คือ อย่างน้อยหนึ่งชนิด ที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยผงเซสบาเนีย , สตาร์ช , แอคติเวเทด คาร์บอน , โพลีเอทธิลีน ไกลคอล , โพลีอะคริลาไมด์ และ โพลีไวนิล แอลกอฮอล์, และจะมีอยู่ในจำนวนเป็น 0.1-4% โดยน้ำหนักของ ของผสมพรีเคอเซอร์
TH601003907A 2006-08-15 กระบวนการสำหรับการผลิต zsm-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานในขนาดผลึกที่เล็ก TH65146B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH88093B TH88093B (th) 2008-01-10
TH88093A TH88093A (th) 2008-01-10
TH65146B true TH65146B (th) 2018-09-26

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7601330B2 (en) Process for producing binder-free ZSM-5 zeolite in small crystal size
CN103601211B (zh) 一种合成分子筛ssz-13的方法
CN103025658A (zh) 沸石的制造方法
KR20090097932A (ko) 분자체 ssz-13의 제조방법
CN110291041B (zh) 使用苄基类结构导向剂制备沸石的方法及其制备的沸石
JP5528455B2 (ja) Ssz−74の製造方法
JP2017518251A (ja) Cha型ゼオライト材料、並びに、シクロアルキル−及びテトラアルキルアンモニウム化合物を使用するそれらの製造方法
JP2019519461A5 (th)
JP7164601B2 (ja) 修飾反応組成物を用いるssz-39の合成方法
CN107635921A (zh) 具有aei沸石结构体的含铜的硅铝酸盐材料的直接合成方法,以及其在催化中的应用
JP6734692B2 (ja) Mse型ゼオライトの製造方法
JP2020527526A (ja) モルホリニウムベースの第4級アンモニウムカチオン、およびそれとともに作製されるaei型ゼオライト
RU2019127289A (ru) Модифицированное магнием молекулярное сито типа y, его получение и содержащий его катализатор
CN102515198B (zh) 一种整体型杂原子取代多级孔道分子筛及其合成方法
JP6878821B2 (ja) Kfi型ゼオライト及びその製造方法
JP2015509478A (ja) モレキュラーシーブssz−23の調製
JP2009513475A (ja) Ifr構造を有するオール−シリカゼオライトの製造法
EP3265425B1 (en) HIGH MESO-SURFACE AREA, LOW Si/Al RATIO PENTASIL ZEOLITE
JPH0357050B2 (th)
TH65146B (th) กระบวนการสำหรับการผลิต zsm-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานในขนาดผลึกที่เล็ก
TH88093A (th) กระบวนการสำหรับการผลิต zsm-5 ซีโอไลท์ที่ปราศจากสารประสานในขนาดผลึกที่เล็ก
JPH0154285B2 (th)
JP2010090025A (ja) Mtw構造型のゼオライトの調製方法
JP6713821B2 (ja) Cs含有CHA型ゼオライトの製造方法
WO2015063800A4 (en) Chiral siliceous composition useful as chiral heterogeneous catalyst and a process for the preparation thereof