TH63569A - การชุบเงินแบบแช่ - Google Patents
การชุบเงินแบบแช่Info
- Publication number
- TH63569A TH63569A TH201003486A TH0201003486A TH63569A TH 63569 A TH63569 A TH 63569A TH 201003486 A TH201003486 A TH 201003486A TH 0201003486 A TH0201003486 A TH 0201003486A TH 63569 A TH63569 A TH 63569A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- silver
- plated
- rate
- under
- plating
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (16/10/45) ปัญหาในการก่อรูปชั้นที่สามารถบัดกรีและที่สามารถยึดเหนี่ยวบนแผงวงจรพิมพ์คือพื้นผิว หมองหลังจากการเก็บแผงก่อน การดำเนินการต่อไปอีก (การติดของส่วนประกอบเชิงไฟฟ้า) ดัง นั้น จึงมีผลกระทบต่อสภาพบัดกรีและสภาพยึดเหนี่ยว เพื่อที่ จะแก้ไขปัญหานี้ในขั้นตอนของวิธีการ ขั้นตอนแรกได้มีการแนะ นำให้พอกพูนโลหะชนิดที่หนึ่งซึ่งมีตระกูลมากกว่าทองแดงแก่ แผงวงจรพิมพ์ และชุบเงินในขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนที่สอง โดยมีเงื่อนไขว่าโลหะชนิดที่หนึ่งได้ รับการพอกพูนที่อัตรา ซึ่งเป็นอย่างมากที่สุดครึ่งหนึ่งของอัตราของการชุบเงินใน ขั้นตอนของวิธีการ ขั้นตอนที่สองเมื่อโลหะชนิดที่หนึ่งเป็น เงิน ปัญหาในการก่อรูปชั้นที่สามารถบัดกรีและที่สามารถยึดเหนี่ยวบนแผงวงจรพิมพ์คือพื้นผิว หมองหลังจากการเก็บแผงก่อน การดำเนินการต่อไปอีก (การติดของส่วนประกอบเชิงไฟฟ้า) ดัง นั้น จึงมีผลกระทบต่อสภาพบัดกรีและสภาพยึดเหนี่ยว เพื่อที่ จะแก้ไขปัญหานี้ในขั้นตอนของวิธีการ ขั้นตอนแรกได้มีการแนะ นำให้พอกพูนโลหะชนิดที่หนึ่งซึ่งมีตระกูลมากกว่าทองแดงแก่ แผงวงจรพิมพ์ และชุบเงินในขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนที่สอง โดยมีเงื่อนไขว่าโลหะชนิดที่หนึ่งได้ รับการพอกพูนที่อัตรา ซึ่งเป็นอย่างมากที่สุดครึ่งหนึ่งของอัตราของการชุบเงินใน ขั้นตอนของวิธีการ ขั้นตอนที่สองเมื่อโลหะชนิดที่หนึ่งเป็น เงิน
Claims (19)
1. วิธีการของการชุบเงินบนซับสเทรทโดยปฏิกิริยาการชุบแบบดิสเพลสเมนท์ที่ได้รับการ จัดเตรียมพร้อมด้วยมีพื้นผิว ทองแดงซึ่งประกอบรวมด้วย a) การพอกพูนโลหะชนิดที่หนึ่งซึ่งมีตระกูลมากกว่าทองแดงบน ซับสเทรทในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนแรก และ b) การชุบเงินบนซับสเทรทดังกล่าวในขั้นตอนของวิธีการขั้น ตอนที่สอง โดยมีเงื่อนไขว่า โลหะชนิดที่หนึ่งได้รับการพอก พูนที่อัตราซึ่งมีอย่างมากที่สุดครึ่งหนึ่งของอัตราของการ ชุบเงินใน ขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนที่สองเมื่อโลหะชนิดที่ หนึ่งเป็นเงิน
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งโลหะชนิดที่หนึ่ง เป็นแพลเลเดียม หรือทอง
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่ซึ่งแพลเลเดียมได้รับการ ชุบจากสารละลายที่เป็นกรด
4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 2 และข้อ 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งแพลเลเดียมได้รับการชุบจาก สารละลายที่มีกรดซัลฟิวริก
5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งโลหะชนิดหนึ่งเป็น เงินและอัตราของการพอกพูนเงินจาก อ่างสำหรับการพอกพูนเงินใน ขั้นตอนของวิธีการตอนแรกได้รับการคุมค่าโดยการปรับพารา มิเตอร์ สำหรับการพอกพูนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งพารามิเตอร์ และ/หรือโดยการปรับสารผสมของอ่างเงิน
6. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งอัตราของการพอกพูน เงินในขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนแรก ได้รับการคุมค่าโดยการ ปรับอุณหภูมิของการดำเนินการ
7. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 5 และข้อ 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งอัตราของการพอกพูนเงินในขั้นตอน ของวิธีการขั้นตอนแรก ได้รับการคุมค่าโดยการใช้ตัวกระทำให้เป็นเชิงซ้อนกับ Cu (I) ในอ่างเงิน
8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งเงินได้รับการชุบในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สองด้วย อ่างเพื่อการชุบที่มีสารเชิงซ้อนของซิลเวอร์แฮไลด์อย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด
9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 8 ที่ซึ่งสารเชิงซ้อนของซิล เวอร์แฮไลด์เป็นสารเชิงซ้อนของ ซิลเวอร์โบรไมด์
10. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งเงินได้รับการชุบในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สองด้วย อ่างที่มีพีเอชในช่วงพิสัยจาก 4 ถึง 6
11. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งเงินได้รับการชุบในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สองด้วย อ่างเพื่อการชุบซึ่งอย่างเพิ่มเติมมามีตัวกระทำให้เป็นเชิง ซ้อนกับ Cu(I) อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
12. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 11 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เป็น เชิงซ้อนกับ Cu(I) อย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดได้รับการคัด เลือกจากหมู่ที่ประกอบรวมด้วย
13. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้,อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งเงินได้รับการชุบในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สองด้วย อ่างเพื่อการชุบซึ่งอย่างเพิ่มเติมมามีตัวกระทำให้เป็นเชิง ซ้อนกับ Cu(II) อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด
14. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งตัวกระทำให้เป็น เชิงซ้อนกับ Cu(II) อย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดได้รับการคัด เลือกจากหมู่ที่ประกอบรวมด้วยเอธิลีนไดแอมีน กรดอะ ลานีนไดอะซีทิก กรดอะมิโนไตรเมธิลีนฟอสโฟนิก กรดไดเอธิลีน ไตรแอมีนเพนทาเมธิลีนฟอสโฟนิก และ กรด 1-ไฮดรอกซีเอธิ ลีน-1,1-ไดฟอสโฟนิก
15. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งเงินได้รับการชุบในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สองด้วย อ่างเพื่อการชุบซึ่งอย่างเพิ่มเติมมามีตัวกระทำให้ว่องไว ที่พื้นผิวอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิด
16. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งซับสเทรทได้รับการทำความสะอาด และ/หรือได้รับการกัดขึ้น รอยก่อนการดำเนินการขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนแรก
17. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 16 ที่ซึ่งสำหรับการทำความ สะอาดและ/หรือการกัดขึ้นรอย ซับสเทรทได้รับการทำให้สัมผัส กับสารละลายที่เป็นกรดซึ่งมีสารประกอบเพอร์ออกโซอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดที่ได้รับการคัดเลือกจากหมู่ซึ่งประกอบรวม ด้วยแอลคาไลเพอร์ออกโซไดซัลเฟท แอลคาไลคาโรเอท และไฮโดรเจน เพอร์ออกไซด์ ก่อนการดำเนินการขั้นตอนของวิธีการขั้นตอนแรก
18. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งวิธีการได้รับการดำเนินการดังที่เป็น วิธีการที่ทำให้ ได้รับการลำเลียงในแนวระดับ
19. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อก่อนหน้านี้ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งซับสเทรทเป็นวัสดุแผงวงจรพิมพ์ และที่ซึ่งในขั้นตอนของ วิธีการขั้นตอนที่สอง เงินได้รับการชุบสำหรับการดำเนินการ ที่ตามมา ภายหลังของกระบวนการของการบัดกรี กระบวนการของการ ยึดเหนี่ยว สำหรับเทคโนโลยี การประกอบเข้าพอดีแบบอัด และ/หรือสำหรับการทำหน้าที่สัมผัสทางไฟฟ้า
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH63569A true TH63569A (th) | 2004-08-27 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5402939B2 (ja) | 銅の表面処理方法及び銅 | |
| EP1354982B1 (en) | Method for enhancing the solderability of a surface | |
| JP4973231B2 (ja) | 銅のエッチング処理方法およびこの方法を用いてなる配線基板と半導体パッケージ | |
| JP2011058090A (ja) | 無電解ニッケル−パラジウム−金めっき方法、めっき処理物、プリント配線板、インターポーザ、および半導体装置 | |
| KR102230083B1 (ko) | 피막 형성 방법 | |
| JP2004510885A (ja) | 金属表面上へ銀を無電解めっきするための浴と方法 | |
| CN103384448A (zh) | 印刷电路板及表面处理方法 | |
| US8192636B2 (en) | Composition and method for improved adhesion of polymeric materials to copper alloy surfaces | |
| JP3314967B2 (ja) | 置換めっき浴の寿命を延長させる方法 | |
| JP4194556B2 (ja) | 銀の浸漬めっき | |
| CN114096070A (zh) | Pcb板电镀蚀刻液及其蚀刻工艺 | |
| JP6264900B2 (ja) | レジストパターンの製造方法、配線パターンの製造方法及び配線基板 | |
| KR101184875B1 (ko) | 전기 접속단자 구조체 및 이의 제조방법 | |
| KR20020042524A (ko) | 회로 캐리어상 땜납가능한 표면 및 기능성 표면의 생산방법 | |
| JPH0828561B2 (ja) | プリント配線板の製造法 | |
| JPH03170680A (ja) | 非導電性支持体を直接金属被覆する方法 | |
| CN108754466B (zh) | 一种铜基表面的防鼠咬沉锡液、其化学沉锡方法及其防鼠咬铜基板 | |
| KR101049236B1 (ko) | 팔라듐을 이용한 무전해 도금방법 | |
| JP4616886B2 (ja) | アンチモン化合物を含有する基板にスズおよびスズ合金をコーティングするための方法 | |
| US4781788A (en) | Process for preparing printed circuit boards | |
| JP2002285377A5 (th) | ||
| JP2020105543A (ja) | 置換金めっき液および置換金めっき方法 | |
| IE49971B1 (en) | Manufacture of printed circuits | |
| KR100648970B1 (ko) | 인쇄회로기판 및 그 제조방법 | |
| CN117119677A (zh) | 线路板、背光模组、显示面板、电子设备及加工方法 |