TH60929B - วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ - Google Patents

วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ

Info

Publication number
TH60929B
TH60929B TH801005627A TH0801005627A TH60929B TH 60929 B TH60929 B TH 60929B TH 801005627 A TH801005627 A TH 801005627A TH 0801005627 A TH0801005627 A TH 0801005627A TH 60929 B TH60929 B TH 60929B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
anode
impedance
solid
specific
vacuum
Prior art date
Application number
TH801005627A
Other languages
English (en)
Other versions
TH102992A (th
TH102992B (th
Inventor
เจอร์เกน
เดนิส
แรมม์
คูราโพว
บีโน
วิดริด
Original Assignee
นางสาวเอกดรุณ ศรีสนิท
นายเอนก ศรีสนิท
นายเอนก ศรีสนิท นางสาวเอกดรุณ ศรีสนิท
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวเอกดรุณ ศรีสนิท, นายเอนก ศรีสนิท, นายเอนก ศรีสนิท นางสาวเอกดรุณ ศรีสนิท filed Critical นางสาวเอกดรุณ ศรีสนิท
Publication of TH102992A publication Critical patent/TH102992A/th
Publication of TH102992B publication Critical patent/TH102992B/th
Publication of TH60929B publication Critical patent/TH60929B/th

Links

Abstract

DC60 (03/10/60) เมื่อการรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับสเตรดด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สูญญากาศระหว่างแอโนดและแคโทด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าวโดยการ สร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น ------03/10/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ เมื่อการรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับเตรดด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สุญญากาศระหว่างแอโนดและแคโทด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าวโดยการ สร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น ------------ เมื่อรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับสเตรตด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สูญญากาศระหว่างแอโนดและแคโนด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซิอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยที่สุดพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าว โดยการสร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น

Claims (1)

1. ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา :
TH801005627A 2008-10-30 วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ TH60929B (th)

Publications (3)

Publication Number Publication Date
TH102992A TH102992A (th) 2010-07-30
TH102992B TH102992B (th) 2010-07-30
TH60929B true TH60929B (th) 2018-02-22

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY191327A (en) Plasma source utilizing a macro-particle reduction coating and method of using a plasma source utilizing a macro-particle reduction coating for deposition of thin film coatings and modification of surfaces
DE60304163D1 (de) Herstellung von beschichtungen durch plasmapolymerisation
TW200745362A (en) Reactive sputtering zinc oxide transparent conductive oxides onto large area substrates
WO2020089180A9 (de) Beschichtungsvorrichtung, prozesskammer, sowie verfahren zum beschichten eines substrats und substrat beschichtet mit zumindest einer materialschicht
WO2009099661A3 (en) A protective coating for a plasma processing chamber part and a method of use
SG149811A1 (en) Plasma-resistant ceramics with controlled electrical resistivity
WO2011031556A3 (en) Gas distribution showerhead and method of cleaning
WO2010054112A3 (en) Plasma resistant coatings for plasma chamber components
AU2003238006A1 (en) Thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor
MY192286A (en) Hollow cathode plasma source
TW200620420A (en) Methods of sputtering a protective coating on a semiconductor substrate
EA201170814A1 (ru) Устройство для обработки и/или нанесения покрытия на поверхности компонентов подложки
MX2010004854A (es) Metodo para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacio.
MX2018013747A (es) Revestimiento de control de la corrosion.
AR068926A1 (es) Metodos y sistemas para recubrir sustratos
MY188421A (en) Polymer coatings and methods for depositing polymer coatings
NZ602102A (en) Method of manufacturing a medicament dispenser device
TW200702469A (en) Improved magnetron sputtering system for large-area substrates having removable anodes
PH12013502181A1 (en) High power impulse magnetron sputtering method providing enhanced ionization of the sputtered particles and apparatus for its implementation
TH60929B (th) วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ
TH102992A (th) วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ
DK1927275T3 (da) Trykskabelon til en SMT-proces og fremgangsmåde til dens belægning
WO2015124736A3 (de) Verfahren und prozessieranordnung zum bearbeiten einer metalloberfläche eines substrats oder eines metallsubstrats
TH102992B (th) วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ
TW200717639A (en) Plasma treating apparatus, electrode member for plasma treating apparatus, electrode member manufacturing method and recycling method