TH60929B - Methods for Manufacturing Treated Surfaces and Vacuum Plasma Sources - Google Patents
Methods for Manufacturing Treated Surfaces and Vacuum Plasma SourcesInfo
- Publication number
- TH60929B TH60929B TH801005627A TH0801005627A TH60929B TH 60929 B TH60929 B TH 60929B TH 801005627 A TH801005627 A TH 801005627A TH 0801005627 A TH0801005627 A TH 0801005627A TH 60929 B TH60929 B TH 60929B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- anode
- impedance
- solid
- specific
- vacuum
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (03/10/60) เมื่อการรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับสเตรดด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สูญญากาศระหว่างแอโนดและแคโทด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าวโดยการ สร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น ------03/10/2560------(OCR) หน้า 1 ของจำนวน 1 หน้า บทสรุปการประดิษฐ์ เมื่อการรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับเตรดด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สุญญากาศระหว่างแอโนดและแคโทด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าวโดยการ สร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น ------------ เมื่อรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับสเตรตด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สูญญากาศระหว่างแอโนดและแคโนด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซิอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยที่สุดพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าว โดยการสร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น DC60 (03/10/60) when treating the workpiece or substrate surface with the help of plasma discharge. Vacuum between anode and cathode And hence due to the above treatment a solid has occurred. And fall coated on the anode surface Where a solid has a higher specific DC impedance than a specific DC impedance. Of anode material At least part of the anode surface is prevented from falling over the coating by Create a protective plasma right there. ------ 03/10/2017 ------ (OCR) page 1 of number 1 page invention summary. When treating the workpiece or substrate surface with the help of plasma discharge Vacuum between anode and cathode And hence due to the above treatment a solid has occurred. And fall coated on the anode surface Where a solid has a higher specific DC impedance than a specific DC impedance. Of anode material At least part of the anode surface is prevented from falling over the coating by Create protective plasma there. ------------ When treating the workpiece or substrate surface with the help of plasma discharge. Vacuum between anode and canode And hence due to the above treatment a solid has occurred. And fall coated on the anode surface Where a solid has a higher specific DC impedance than a specific deci impedance. Of anode material At the very least, some of the anode surface is prevented from falling over the coating. By creating a protective plasma there
Claims (1)
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH102992A TH102992A (en) | 2010-07-30 |
| TH102992B TH102992B (en) | 2010-07-30 |
| TH60929B true TH60929B (en) | 2018-02-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| MY191327A (en) | Plasma source utilizing a macro-particle reduction coating and method of using a plasma source utilizing a macro-particle reduction coating for deposition of thin film coatings and modification of surfaces | |
| DE60304163D1 (en) | PREPARATION OF COATINGS BY PLASMAPOLYMERIZATION | |
| TW200745362A (en) | Reactive sputtering zinc oxide transparent conductive oxides onto large area substrates | |
| WO2020089180A9 (en) | Coating device, process chamber and method for coating a substrate and substrate coated with at least one material layer | |
| WO2009099661A3 (en) | A protective coating for a plasma processing chamber part and a method of use | |
| SG149811A1 (en) | Plasma-resistant ceramics with controlled electrical resistivity | |
| WO2011031556A3 (en) | Gas distribution showerhead and method of cleaning | |
| WO2010054112A3 (en) | Plasma resistant coatings for plasma chamber components | |
| AU2003238006A1 (en) | Thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor | |
| MY192286A (en) | Hollow cathode plasma source | |
| TW200620420A (en) | Methods of sputtering a protective coating on a semiconductor substrate | |
| EA201170814A1 (en) | DEVICE FOR PROCESSING AND / OR DRAWING COATINGS ON THE SURFACE OF COMPONENTS | |
| MX2010004854A (en) | Method for manufacturing a treated surface and vacuum plasma sources. | |
| MX2018013747A (en) | Corrosion protection coating system. | |
| AR068926A1 (en) | METHODS AND SYSTEMS FOR COATING SUBSTRATES | |
| MY188421A (en) | Polymer coatings and methods for depositing polymer coatings | |
| NZ602102A (en) | Method of manufacturing a medicament dispenser device | |
| TW200702469A (en) | Improved magnetron sputtering system for large-area substrates having removable anodes | |
| PH12013502181A1 (en) | High power impulse magnetron sputtering method providing enhanced ionization of the sputtered particles and apparatus for its implementation | |
| TH60929B (en) | Methods for Manufacturing Treated Surfaces and Vacuum Plasma Sources | |
| TH102992A (en) | Methods for Manufacturing Treated Surfaces and Vacuum Plasma Sources | |
| DK1927275T3 (en) | Printing template for an SMT process and method for its coating | |
| WO2015124736A3 (en) | Method and processing arrangement for machining a metal surface of a substrate or of a metal substrate | |
| TH102992B (en) | Methods for Manufacturing Treated Surfaces and Vacuum Plasma Sources | |
| TW200717639A (en) | Plasma treating apparatus, electrode member for plasma treating apparatus, electrode member manufacturing method and recycling method |