TH102992B - วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศ - Google Patents
วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาและแหล่งกำเนิดพลาสมาสุญญากาศInfo
- Publication number
- TH102992B TH102992B TH801005627A TH0801005627A TH102992B TH 102992 B TH102992 B TH 102992B TH 801005627 A TH801005627 A TH 801005627A TH 0801005627 A TH0801005627 A TH 0801005627A TH 102992 B TH102992 B TH 102992B
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- methods
- treated surfaces
- plasma sources
- vacuum plasma
- anode
- Prior art date
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract 2
- 239000010405 anode material Substances 0.000 abstract 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 abstract 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 abstract 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract 1
Abstract
เมื่อรักษาพื้นผิวชิ้นงานหรือซับสเตรตด้วยการช่วยเหลือของพลาสมาดิสชาร์จ สูญญากาศระหว่างแอโนดและแคโนด และด้วยเหตุนั้นเนื่องจากการรักษาดังกล่าวมีของแข็งเกิดขึ้น และตกเคลือบบนพื้นผิวแอโนด ซึ่งของแข็งมีดีซีอิมพิแดนซ์จำเพาะสูงกว่าดีซิอิมพิแดนซ์จำเพาะ ของวัสดุของแอโนด อย่างน้อยที่สุดพื้นผิวแอโนดบางส่วนถูกป้องกันจากการตกเคลือบดังกล่าว โดยการสร้างพลาสมาป้องกันตรงนั้น
Claims (1)
1. วิธีการสำหรับการผลิตพื้นผิวที่ถูกรักษาประกอบด้วย
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH102992A TH102992A (th) | 2010-07-30 |
| TH102992B true TH102992B (th) | 2010-07-30 |
| TH60929B TH60929B (th) | 2018-02-22 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO2011031556A3 (en) | Gas distribution showerhead and method of cleaning | |
| EA201791237A1 (ru) | Плазменный источник с применением уменьшающего образование макрочастиц покрытия и способ использования плазменного источника с применением уменьшающего образование макрочастиц покрытия для осаждения тонкопленочных покрытий и модификации поверхностей | |
| WO2011100109A3 (en) | Gas distribution showerhead with coating material for semiconductor processing | |
| WO2009099661A3 (en) | A protective coating for a plasma processing chamber part and a method of use | |
| BR112019007670A2 (pt) | método para revestimento de pelo menos uma superfície de um substrato sólido, substrato, peça e uso da camada obtenível pelo método | |
| DE60304163D1 (de) | Herstellung von beschichtungen durch plasmapolymerisation | |
| WO2010132716A3 (en) | Anodized showerhead | |
| WO2010054112A3 (en) | Plasma resistant coatings for plasma chamber components | |
| AU2003238006A1 (en) | Thermal sprayed yttria-containing coating for plasma reactor | |
| MX2013012735A (es) | Metodo para incrementar las propiedades adhesivas de compuestos adhesivos sensibles a la presion, sobre sustratos por medio de tratamiento con plasma. | |
| TW200706690A (en) | Process kit design to reduce particle generation | |
| SG165295A1 (en) | Electron beam vapor deposition apparatus for depositing multi-layer coating | |
| TW200620420A (en) | Methods of sputtering a protective coating on a semiconductor substrate | |
| WO2020089180A9 (de) | Beschichtungsvorrichtung, prozesskammer, sowie verfahren zum beschichten eines substrats und substrat beschichtet mit zumindest einer materialschicht | |
| TW200745362A (en) | Reactive sputtering zinc oxide transparent conductive oxides onto large area substrates | |
| WO2007133413A3 (en) | Photoresist stripping chamber and methods of etching photoresist on substrates | |
| AU2003276623A8 (en) | Manufacturing process of detachable substrates | |
| EA201101662A1 (ru) | Устройство для нанесения покрытий и способ нанесения покрытий | |
| NZ602102A (en) | Method of manufacturing a medicament dispenser device | |
| MX2010004854A (es) | Metodo para fabricar una superficie tratada y fuentes de plasma de vacio. | |
| MY188421A (en) | Polymer coatings and methods for depositing polymer coatings | |
| RU2013105476A (ru) | Антибактериальное медицинское изделие и способ его изготовления | |
| WO2012154454A3 (en) | Mitigation of silicide formation on wafer bevel | |
| PH12013502181A1 (en) | High power impulse magnetron sputtering method providing enhanced ionization of the sputtered particles and apparatus for its implementation | |
| TW200716777A (en) | Real-time monitoring and controlling sputter target erosion |