TH60476A - วิธีการสำหรับการสร้างอุปกรณ์ขัดถูจากการสร้างพันธะกับเรซิน - Google Patents

วิธีการสำหรับการสร้างอุปกรณ์ขัดถูจากการสร้างพันธะกับเรซิน

Info

Publication number
TH60476A
TH60476A TH201004855A TH0201004855A TH60476A TH 60476 A TH60476 A TH 60476A TH 201004855 A TH201004855 A TH 201004855A TH 0201004855 A TH0201004855 A TH 0201004855A TH 60476 A TH60476 A TH 60476A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
abrasive products
phenolic
based resin
abrasive
atmosphere
Prior art date
Application number
TH201004855A
Other languages
English (en)
Inventor
ดับเบิ้ลยู. ไซมอน นายมาร์ก
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์
นางสาวสนธยา สังขพงศ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า, นางดารานีย์ วัจนะวุฒิวงศ์, นางสาวสนธยา สังขพงศ์ filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH60476A publication Critical patent/TH60476A/th

Links

Abstract

DC60 (23/01/46) วิธีการสำหรับการผลิตผลิตภัณฑ์สารขัดถูจากการสร้างพันธะอินทรีย์ประกอบด้วยการรวม- กันของส่วนประกอบที่เป็นเก รนสารขัดถูและส่วนประกอบที่เป็นเรซินที่มีฐานเป็นฟีนอล ส่วน- ประกอบจากการรวมกันถูกหล่อแบบและถูกบ่มทางความร้อนใน บรรยากาศซึ่งประกอบด้วย ความชื้น ในที่ซึ่งบรรยากาศสัมผัสส่วนประกอบจากการหล่อแบบ ด้วยวิธีนั้นซึ่งผลิต ผลิตภัณฑ์สาร- ขัดถูจากการสร้างพันธะอินทรีย์ เกรนสารขัดถู อย่างเลือกได้สามารถถูกรวมเริ่มแรกด้วยสาร- ประกอบออร์กาโน ซิลิคอนเพื่อก่อรูปเกรนสารขัดถูจากการบำบัดด้วยออร์กาโนซิลิคอนและจากนั้น ด้วยส่วนประกอบที่เป็นเรซินที่มีฐานเป็นฟีนอล ในตัวอย่างหนึ่ง เรซินที่มีฐานเป็นฟีนอลถูกบ่ม ทางความร้อนในที่ปรากฏอยู่ของไอน้ำ ผลิตภัณฑ์สารขัดถูที่ถูกผลิตโดยวิธีการของการประดิษฐ์ โดยทั่วไปได้รับการปรับปรุงสมบัติภายใต้ภาวะการ ขัดขณะเปียก ในตัวอย่างหนึ่ง ผลิตภัณฑ์สาร- ขัดถูที่ถูกผลิต โดยวิธีการของการประดิษฐ์ประกอบด้วยแอมโมเนียในปริมาณ น้อยกว่าประมาณ 50 ppm ในอีกตัวอย่างหนึ่ง ล้อสำหรับการขัด ที่เป็นสารขัดถูที่ถูกผลิตโดยวิธีการของการประดิษฐ์มี การคง ความแข็งแรงมากกว่าประมาณ 57 เปอร์เซ็นต์ วิธีการสำหรับการผลิตภัณฑ์สารขัดถูจากการสร้างพันธะอินทรีย์ประกอบด้วยการรวม- กันของส่วนประกอบที่เป็นเก รนสารขัดถูและส่วนประกอบที่เป็นเรซินที่มีฐานเป็นฟีนอล ส่วน- ประกอบจากการรวมกันถูกหล่อแบบและถูกบ่มทางความร้อนใน บรรยากาศซึ่งประกอบด้วย ความชื้น ในที่ซึ่งบรรยากาศสัมผัสส่วนประกอบจากการหล่อแบบ ด้วยวิธีนั้น ซึ่งผลิต ผลิตภัณฑ์สาร- ขัดถูจากการสร้างพันธะอินทรีย์ เกรนสารขัดถู อย่างเลือกได้สามารถถูกรวมเริ่มแรกด้วยสาร- ประกอบออร์กาโน ซิลิคอนเพื่อก่อรูปเกรนสารขัดถูจากการบำบัดด้วยออร์กาโนซิลิคอนและจากนั้น ด้วยส่วนประกอบที่เป็นเรซินที่มีฐานเป็นฟีนอล ในตัวอย่างหนึ่ง เรซินที่มีฐานเป็นฟีนอลถูกบ่ม ทางความร้อนในที่ปรากฏอยู่ของไอน้ำ ผลิตภัณฑ์สารขัดถูที่ถูกผลิตโดยวิธีการของการประดิษฐ์ โดยทั่วไปได้รับการปรับปรุงสมบัติภายใต้ภาวะการ ขัดขณะเปียก ในตัวอย่างหนึ่ง ผลิตภัณฑ์สาร- ขัดถูที่ถูกผลิต โดยวิธีการของการประดิษฐ์ ประกอบด้วยแอมโมเนียมในปริมาณ น้อยกว่าประมาณ 50 ppm ในอีกตัวอย่างหนึ่ง ล้อสำหรับการขัด ที่เป็นสารขัดถูที่ถูผลิตโดยวิธีการของการประดิษฐ์มี การคง ความาแข็งแรงมากกว่าประมาณ 57 เปอร์เซ็นต์

Claims (1)

1. วิธีการสำหรับการผลิต ผลิตภัณฑ์สารขัดถูจากการสร้างพันธะอินทรีย์ ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ a) การรวมกันของส่วนประกอบที่เป็นเกรนสารขัดถู และส่วน ประกอบ ที่เป็นฟีโนลิคเรซิน b) การหล่อแบบส่วนประกอบจากการรวมกัน c) การบ่มความร้อนของส่วนประกอบที่เป็นฟีโนลิคเรซินเป็นระยะเวลา ทั้งสินระหว่างที่ส่วนประกอบที่เป็นฟีโนลิคเรซินพอลิเมอไรซ์ในบรรยากาศที่ประกอบด้วย ความชื้น ในที่ซึ่ง บรรยากาศมีความชื้นสัมพัทธ์ ซึ่งเกินกว่าความชื้นสัมพัทธ์ปกติที่อุณหภูมิ ที่กำหนดให้ในทแท็ก :
TH201004855A 2002-12-26 วิธีการสำหรับการสร้างอุปกรณ์ขัดถูจากการสร้างพันธะกับเรซิน TH60476A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH60476A true TH60476A (th) 2004-01-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
SE0401975D0 (sv) Method for making resin bonded abrasive tools
TWI266376B (en) Semiconductor device and its production method
KR20120016272A (ko) 광을 추출하는 거친 구조를 갖는 엘이디 장치 및 그 제조방법
TW200631095A (en) A method of manufacturing a semiconductor device
US7947530B2 (en) Method of manufacturing wafer level package including coating and removing resin over the dicing lines
JP2015501544A (ja) 材料層の処理及び直接接合の方法
TW200644189A (en) Process for the preparation of semiconductor device
TW200603420A (en) Resin sheet for sealing semiconductor and manufacturing method of semiconductor drvice using the same
JP5604008B2 (ja) シリコーン箔の製造方法
WO2005031807A3 (en) Wafer-level moat structures
CN111508908A (zh) 极薄封装
TH60476A (th) วิธีการสำหรับการสร้างอุปกรณ์ขัดถูจากการสร้างพันธะกับเรซิน
PH12021552721A1 (en) Adhesive film and method for manufacturing electronic device
US9601414B2 (en) Method for preventing die pad delamination
TW200611951A (en) Cohesive tape for dicing/die bonding
SG134268A1 (en) Thermally enhanced semiconductor package and method of producing the same
ATE280648T1 (de) Verfahren und einrichtung zur herstellung von verbundwerkstoffen mit einem kern aus metallschaum
JP5657033B2 (ja) ガラスと樹脂の接合方法及びこの方法によって得られる複合体
TW200616175A (en) Semiconductor chip resin encapsulation method
CN103467744A (zh) 一种乙烯基硅油的制备方法
CN207310362U (zh) 一种金属外壳温度传感器灌封用硅胶治具
JP2005330300A (ja) 熱硬化性樹脂組成物、フィルム状接着剤及び半導体パッケージ
WO2006079104A3 (en) Encapsulation of circuit components to reduce thermal cycling stress
JPH043438A (ja) 高耐熱性樹脂封止型半導体装置
CN101271851A (zh) 降低封装翘曲度的热处理方法