TH60288A - การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า - Google Patents

การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า

Info

Publication number
TH60288A
TH60288A TH201001773A TH0201001773A TH60288A TH 60288 A TH60288 A TH 60288A TH 201001773 A TH201001773 A TH 201001773A TH 0201001773 A TH0201001773 A TH 0201001773A TH 60288 A TH60288 A TH 60288A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
acid
solution
emulsion
sulfonic acid
group
Prior art date
Application number
TH201001773A
Other languages
English (en)
Other versions
TH25358B (th
Inventor
สตัมพ์ ดร.ลุทซ์
เซซก้า นางเรกินา
Original Assignee
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายบุญมา เตชะวณิช
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
Filing date
Publication date
Application filed by นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายบุญมา เตชะวณิช, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก filed Critical นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Publication of TH60288A publication Critical patent/TH60288A/th
Publication of TH25358B publication Critical patent/TH25358B/th

Links

Abstract

DC60 (19/07/45) การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการสำหรับการฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบน พื้นผิวซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้าซึ่ง ประกอบรวมด้วยการนำพื้นผิวซับสเทรทนี้สัมผัสกับพอลิเมอร์ ที่ ละลายน้ำได้ การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละ ลายเปอร์แมงกาเนท การปฏิบัติกับพื้นผิว ซับสเทรทนี้ด้วยสารละลาย แอคเควียสชนิดกรดหรือไมโครอิมัลชันชนิดกรดของเบสที่เป็นแอค เควียส ซึ่งมีสารประกอบไธโอฟีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่คัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก กรดอีเธนซัลโฟนิก และกรดอีเธน ไดซัลโฟนิก การฉาบโลหะพื้นผิวซับสเทรทนี้ใน เชิงใช้อิเล็กโทรไลท์ การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับวิธีการสำหรับการฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบน พื้นผิวซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้าซึ่ง ประกอบรวมด้วยการนำพื้นผิวซับสเทรทนี้สัมผัสกับพอลิเมอร์ ที่ ละลายน้ำได้ การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละ ลายเปอร์แมงกาเนท การปฏิบัติกับพื้นผิว ซับสเทรทนี้ด้วยสารละลาย แอคเควียสชนิดกรดหรือไมโครอิมัลชันชนิดกรดของเบสที่เป็นแอค เควียส ซึ่งมีสารประกอบไธโอฟีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดและ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่ง ชนิดที่คัดเลือกจาก กลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก กรดอีเธนซัลโฟนิก และกรดอีเธน ไดซัลโฟนิก การฉาบโลหะพื้นผิวซับสเทรทนี้ใน เชิงใช้อิเล็กโทรไลท์

Claims (5)

1. วิธีการสำหรับการฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนพื้นผิวซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า ซึ่งประกอบรวมอย่างเป็นลำดับด้วย a. การนำพื้นผิวซับสเทรทนี้ไปสัมผัสกับพอลิเมอร์ชนิดละลาย น้ำได้ b. การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละลายเปอร์แมง กาเนท c. การปฏิบัติกับพื้นผิวซับสเทรทนี้ด้วยสารละลายแอคเควียส ชนิดกรดหรือไมโครอิมัลชัน ชนิดกรดของเบสที่เป็นแอคเควียส ซึ่งมีสารประกอบไธโอฟีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิด และกรดแอล เคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดที่คัดเลือกจากกลุ่ม ซึ่งประกอบรวม ด้วยกรดมีเธนซัลโฟนิก กรดอีเธนซัลโฟนิกและ กรดอีเธนไดซัลโฟนิก d. การฉาบโลหะบนพื้นผิวซับสเทรทนี้โดยใช้อิเล็กโทรไลท์ 2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งสารละลายเปอร์แมง กาเนทนี้เป็นกรด 3. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 และ 2 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่ง สารละลายเปอร์แมงกาเนทได้รับการ ปรับค่าพีเอชให้อยู่ใน ช่วงพิสัยจาก 2.5 ถึง 7 4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 2 และ 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่ง สารละลายเปอร์แมงกาเนทได้รับการ ปรับให้ค่าพีเอชให้อยู่ใน ช่วงพิสัยจาก 3.5 ถึง 5 5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายเปอร์แมงกาเนทนี้ประกอบ รวมด้วยสาร ประกอบบัฟเฟอร์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดสำหรับการปรับค่าพี เอช ซึ่งจะคัดเลือก สารประกอบบัฟเฟอร์ดังกล่าวจากกลุ่มซึ่ง ประกอบรวมด้วยกรดฟอสฟอริก ไดไฮโดรเจนฟอสเฟท และ ไฮโดรเจนฟอสเฟท 6. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 และ 5 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายเปอร์แมงกาเนทนี้ประกอบ รวมด้วยสาร ประกอบบัฟเฟอร์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดสำหรับการปรับค่าพี เอช ซึ่งจะคัดเลือก สารประกอบบัฟเฟอร์ดังกล่าวจากกลุ่มซึ่ง ประกอบรวมด้วยกรดบอริกและบอเรท 7. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 6 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งกรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดนี้คือกรด มีเธนซัลโฟนิก 8. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 7 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งจากการปรับความเข้มข้นของ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดนี้ ค่าพีเอชของสารละลายหรือไมโครอิมัลชัน จะอยู่ใน ช่วงพิสัย 0 ถึง 3 9. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 8 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งจากการปรับความเข้มข้นของ กรดแอลเคนซัลโฟนิกอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดนี้ ค่าพีเอชของสารละลายหรือไมโครอิมัลชัน จะอยู่ใน ช่วงพิสัย 1.5 ถึง 2.1 1 0. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 9 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งจะคัดเลือกสารประกอบไธโอฟินอย่าง น้อยที่สุดหนึ่งชนิด จากกลุ่มนี้ซึ่งประกอบรวมด้วยไธโอฟีนที่แทนที่ด้วยหมู่เฮ เทอโรในตำแหน่ง 3 และไธโอฟีนที่แทนที่ด้วยหมู่ไดเฮเทอโรใน ตำแหน่ง 3,4 1
1. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 10 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งจะคัดเลือกสารประกอบไธโอฟีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้ จากกลุ่มซึ่งประกอบรวมด้วย 3,4-เอธิลีนไดออก ซิไธโอฟิน 3-เมธอกซีไธโอฟีน 3-เมธิล-4-เมธอกซีไธโอฟีนและ อนุพันธ์ของสารนั้น 1
2. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 11 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายดังกล่าวหรือไมโครอิมัลชัน ดังกล่าวมีเซอร์แฟก เทนท์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดต่อไปอีก 1
3. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 12 ที่ซึ่งจะคัดเลือกเซอร์แ ฟกเทนท์อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดนี้จาก กลุ่มซึ่งประกอบรวม ด้วยเซอร์แฟกเทนท์ชนิดอีธอกซีเลท 1
4. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 13 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่ ซึ่งสารละลายดังกล่าวหรือไมโครอิมัลชัน ดังกล่าวจะมีมากกว่า นี้อีกด้วยเกลืออย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดของกรดแอลเคนซัลโฟ นิกอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดนี้ 1
5. วิธีการตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 14 ข้อใดข้อหนึ่งที่ ซึ่งพื้นผิวซับสเทรทนี้ได้รับการชุบด้วย ทองแดงในเชิงใช้อิ เล็กโทรไลท์ในวิธีการขั้นตอน d
TH201001773A 2002-05-16 การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า TH25358B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH60288A true TH60288A (th) 2004-01-09
TH25358B TH25358B (th) 2009-01-28

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY126221A (en) Direct electrolytic metallization of non-conducting substrates.
ES2421189T3 (es) Proceso para galvanizado electrolítico de cobre.
AU2003237637A1 (en) Pyrophosphoric acid bath for use in copper-tin alloy plating
WO2007118875A3 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
TW200502437A (en) Solution for etching copper surfaces and method of depositing metal on copper surfaces
DE59904390D1 (de) Wässriges alkalisches cyanidfreies bad zur galvanischen abscheidung von zink- oder zinklegierungsüberzügen
WO2000041518A3 (en) Electrodeposition chemistry for filling of apertures with reflective metal
JP5854727B2 (ja) シアン化物を含まない銀電気めっき液
DE50013788D1 (de) Verfahren zur elektrochemischen herstellung eines alkalimetalls aus wässriger lösung
BR0007123A (pt) Método para remoção de um revestimento aluminìdeo de um substrato
WO2002006884A3 (en) Fast-switching reversible electrochemical mirror (rem)
WO2010001054A3 (fr) Procede de preparation d'un film isolant electrique et application pour la metallisation de vias traversants
WO2007034117A3 (fr) Procede d'electrodeposition destine au revetement d'une surface d'un substrat par un metal
BRPI0508287A (pt) banho e método de eletrogalvanização de ferro-fosforoso
TW200702498A (en) Method for electrodeposition of bronzes
JP4588185B2 (ja) アルカンスルホン酸塩電解質から銅の電気めっき
WO2007118810A3 (de) Vorrichtung und verfahren zur galvanischen beschichtung
DE50212422D1 (de) Apatitbeschichteter metallischer Werkstoff, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Verwendung
AR027804A1 (es) Procedimiento para la preparacion de peroxodisulfato de metal alcalino y de amonio
TH60288A (th) การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า
TH25358B (th) การฉาบโลหะแบบใช้อิเล็กโทรไลท์โดยตรงบนซับสเทรทที่ไม่นำไฟฟ้า
WO2004072191A3 (en) Electrodepositable coating compositions and processes related thereto
WO2002029875A3 (en) Plating system with remote secondary anode for semiconductor manufacturing
BR9913848A (pt) Método para aperfeiçoar a macroforça de arremesso para banhos de eletrogalvanização de nìquel e cloreto de zinco
TW200501487A (en) Methods for applying electrodes or electrolytes to a substrate