TH56907A - กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหย - Google Patents
กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยInfo
- Publication number
- TH56907A TH56907A TH0101004661A TH0101004661A TH56907A TH 56907 A TH56907 A TH 56907A TH 0101004661 A TH0101004661 A TH 0101004661A TH 0101004661 A TH0101004661 A TH 0101004661A TH 56907 A TH56907 A TH 56907A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- target
- vapor deposition
- physical vapor
- evaporation source
- producing
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับ การตกเคลือบโดยใช้ไอทางกายภาพ แหล่งกำเนิดการระเหยนี้จะประกอบรวมด้วยเป้าเพื่อการฉาบ ด้วยโลหะจริงที่มีส่วนประกอบอะลูมิเนียมและส่วนประกอบต่อไปหนึ่งส่วนประกอบหรือ มากกว่า รวมทั้งแผ่นรองหลังที่ทำขึ้นมาจากวัสดุซึ่งมีสภาพนำความร้อนที่ดีกว่าเป้านี้ ตามการประดิษฐ์นี้จะกดแผ่นรองหลังที่ทำขึ้นมาจากวัสดุตั้งต้นชนิดผงพร้อมด้วย ส่วนประกอบชนิดผงของเป้าเพื่อการฉาบด้วยโลหะ ให้เป็นส่วนที่เป็นผงแบบประกบและจากนั้นจึง ขึ้นรูป การประดิษฐ์นี้เกี่ยวข้องกับกระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับ การตกเคลือบโดยใช้ไอทางกายภาพ แหล่งกำเนิดการระเหยนี้จะประกอบรวมด้วยเป้าเพื่อการฉาบ ด้วยโลหะจริงที่มีส่วนประกอบอะลูมิเนียมและส่วนประกอบต่อไปหนึ่งส่วนประกอบหรือ มากกว่า รวมทั้งแผ่นรองหลังที่ทำขึ้นมาจากวัสดุซึ่งมีสภาพนำความร้อนที่ดีกว่าเป้านี้ ตามการประดิษฐ์นี้จะกดแผ่นรองหลังที่ทำขึ้นมาจากวัสดุตั้งต้นชนิดผงพร้อมด้วย ส่วนประกอบชนิดผงของเป้าเพื่อการฉาบด้วยโลหะ ให้เป็นส่วนที่เป็นผงแบบประกบและจากนั้นจึง ขึ้นรูป
Claims (8)
1. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพที่ประกอบด้วยเป้าซึ่งโดยเพิ่มเติมขึ้นมาจากส่วนประกอบต่อไปหนึ่งส่วนประกอบหรือ มากกว่าแล้วจะรวมถึงส่วนประกอบอะลูมิเนียม และแผ่นรองหลังอีกด้วยที่เชื่อมต่อกับเป้าและทำมา จากวัสดุที่มีสภาพนำความร้อนที่ดีกว่าเป้านั้น โดยเป้าได้รับการผลิตขึ้นมาโดยการกดเย็นของผสม ของส่วนประกอบเฉพาะรายที่เป็นผง และโดยการขึ้นรูปในลำดับต่อมาที่อุณหภูมิต่ำกว่า จุดหลอมเหลวของส่วนประกอบเฉพาะรายนั้นโดยให้มีการไหลจนกระทั้งได้มาซึ่งความหนาแน่นที่ ค่าอย่างน้อยที่สุดเป็น 98% ของความหนาแน่นทางทฤษฎี ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่า แผ่นรองหลังได้รับการขึ้นรูปแบบกดขึ้นมาในทำนองเดียวกันจากวัตถุดิบที่เป็นผงอย่างต่อ กันกับส่วนประกอบของเป้าในส่วนที่เป็นผงที่ทำเป็นชั้นไว้เหนือกันและกันและได้รับการขึ้นรูปใน ลำดับต่อมา
2. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าเป้าประกอบด้วยอะลูมิเนียมอย่างน้อยที่สุด 15 เปอร์เซ็นต์โดยอะตอม
3. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 2 ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่เป้าประกอบด้วยไทเทเนียม 85 เปอร์เซ็นต์โดย อะตอม โดยเป็นส่วนประกอบทุติยภูมิ
4. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 3 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าได้ใช้อะลูมิเนียมเป็นวัสดุ สำหรับแผ่นรองหน้า
5. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าได้ทำการขึ้นรูปให้เป็นผล โดยการทุบขึ้นรูปโดยการใช้เครื่องกดแบบทุบขึ้นรูป
6. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าได้ทำการขึ้นรูปให้เป็นผลโดยการทุบขึ้นรูป โดยการใช้เครื่องกดแบบทุบขึ้นรูปที่อุณหภูมิระหว่าง 400 องศาเซลเซียส และ 450 องศาเซลเซียส
7. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตำเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ถึง 4 ข้อใดข้อหนึ่ง ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าได้ทำการขึ้นรูปให้เป็นผล โดยการขึ้นรูปแบบอัดรีด
8. กระบวนการสำหรับการผลิตแหล่งกำเนิดการระเหยสำหรับการตกเคลือบโดยใช้ไอทาง กายภาพตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ที่มีลักษณะเฉพาะตรงที่ว่าได้ทำการขึ้นรูปให้เป็นผลโดยการขึ้นรูปแบบ อัดรีดที่อุณหภูมิระหว่าง 400 องศาเซลเซียส และ 450 องศาเซลเซียส
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH56907A true TH56907A (th) | 2003-06-20 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016003392A (ja) | 傾斜機能金属セラミック複合材料、及びその製造方法 | |
| Ranjan et al. | Plasma sprayed copper coatings for improved surface and mechanical properties | |
| US11649541B2 (en) | PVD coatings with a HEA ceramic matrix with controlled precipitate structure | |
| EP1927674A2 (en) | Evaporation source and vacuum evaporator using the same | |
| WO2001092594A3 (en) | Fiber-metal-matrix composite for physical vapor deposition target backing plates | |
| PL355115A1 (en) | Method for producing an evaporation source | |
| JP7116131B2 (ja) | コーティング源 | |
| EP1096037A3 (en) | A composite ingot for producing a gradient coating by evaporation | |
| KR910016950A (ko) | 복합화 재료의 제조방법 및 수열재료(受熱材料)와 수열재료의 제조방법 | |
| CN109968760A (zh) | 防扩散剂涂覆的贵重产品 | |
| JPS57188680A (en) | Target for sputtering and production thereof | |
| JP5154869B2 (ja) | 溶射層形成高耐食耐摩耗部材及びそれを形成する溶射層形成用粉末 | |
| CN107002215B (zh) | 喷镀用粉末、喷镀皮膜、皮膜和熔融金属浴中辊 | |
| JP2019510185A5 (th) | ||
| JP6722089B2 (ja) | アルミニウム−黒鉛−炭化物複合体を製造する方法 | |
| WO2004015169A3 (fr) | Procede de revetement de la surface d'un materiau metallique, dispositif pour sa mise en oeuvre et produit ainsi obtenu | |
| RU143793U1 (ru) | Мишень для магнетронного напыления металлических сплавов | |
| RU2005140287A (ru) | Лист твердого металлического припоя и способ его изготовления | |
| EP1422258A4 (en) | Polytetrafluoroethylene fine powder, polytetrafluoroethylene formed article prepared from the same and method for preparation of the same | |
| JPS6270564A (ja) | 金型における表面処理 | |
| Aleksandrov et al. | The studying of the nickel-antimony alloys for the antimony evaporators for the photocathodes manufacturing. | |
| RU2002103559A (ru) | Композиционная заготовка для горячей деформации | |
| RU2003138023A (ru) | Мишень для ионно-плазменного нанесения пленочных покрытий сложного состава и способ ее изготовления | |
| Inoue | Development of bulk metallic glass using powder metallurgy | |
| KR940014895A (ko) | 내열성이 우수한 알루미늄-티타늄 합금도금강판 및 그 제조방법 |