TH56580A - สารผสมใช้ล้างฟัน - Google Patents

สารผสมใช้ล้างฟัน

Info

Publication number
TH56580A
TH56580A TH0101004392A TH0101004392A TH56580A TH 56580 A TH56580 A TH 56580A TH 0101004392 A TH0101004392 A TH 0101004392A TH 0101004392 A TH0101004392 A TH 0101004392A TH 56580 A TH56580 A TH 56580A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
zinc
toothpaste
mixture
abrasiveness
method under
Prior art date
Application number
TH0101004392A
Other languages
English (en)
Inventor
ยู นายดาห์เฉิน
Original Assignee
วอร์เนอร์ แลมเบิร์ต คัมปะนี
Filing date
Publication date
Application filed by วอร์เนอร์ แลมเบิร์ต คัมปะนี filed Critical วอร์เนอร์ แลมเบิร์ต คัมปะนี
Publication of TH56580A publication Critical patent/TH56580A/th

Links

Abstract

DC60 (27/11/44) วิธีสำหรับลดสภาพขัดถูได้ของสารผสมใช้ล้างฟันที่มีสารขัดถูรวมถึงการใส่เกลือซิงค์ใน ปริมาณที่จะ ลดสภาพขัดถูเดนทินได้ของสารผสมอย่างน้อย 10% และลดสภาพขัดถูเคลือบฟันได้ ของสารผสมใช้ล้างฟัน อย่างน้อย 10% เข้าไปในสารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว วิธีให้สารผสมใช้ ล้างฟันที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้ว ซึ่ง ให้ ผลในการกำจัดคราบอย่างน้อย 90% เหมือนกับ สารผสม ใช้ล้างฟันเดิม เกลือซิงค์ที่เหมาะสมได้แก่ ตัวอย่างเช่น ซิงค์ ซิเทรท, ซิงค์ คลอไรด์, ซิงค์ แอซิเทท, ซิงค์ ออกไซด์ และซิงค์ ซัลเฟท สารขัดถูที่เหมาะสมได้แก่ ตัวอย่างเช่น ซิลิคา, อะลูมินา และแอลคาไล เมแทล เมทา-ฟอสเฟท วิธีสำหรับลดสภาพขัดถูได้ของสารผสมใช้ล้างฟันที่มีสารขัดถูรวมถึงการใส่เกลือซิงค์ใน ปริมาณที่จะ ลดสภาพขัดถูเดนทินได้ของสารผสมอย่างน้อย 10% และลดสภาพขัดถูเคลือบฟันได้ ของสารผสมใช้ล้างฟัน อย่างน้อย 10% เข้าไปในสารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว วิธีให้สารผสมใช้ ล้างฟันที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้ว ซึ่ง ให้ ผลในการกำจัดคราบอย่างน้อย 90% เหมือนกับ สารผสม ใช้ล้างฟันเดิม เกลือซิงค์ที่เหมาะสมได้แก่ ตัวอย่างเช่น ซิงค์ ซิเทรท, ซิงค์ คลอไรด์, ซิงค์ แอซิเทท, ซิงค์ ออกไซด์ และซิงค์ ซัลเฟท สารขัดถูที่เหมาะสมได้แก่ ตัวอย่างเช่น ซิลิคา, อะลูมินา และแอลคาไล เมแทล เมทา-ฟอสเฟท

Claims (8)

1.วิธีสำหรับลดสภาพขัดถูได้ของสารผสมใช้ล้างฟันที่มีสารขัดถู โดยวิธีดังกล่าวประกอบ รวมด้วยใส่เกลือซิงค์ในปริมาณที่เพียงพอที่ จะลดสภาพขัดถูเดนทินได้ของสารผสมดังกล่าว อย่าง น้อย 10% และลดสภาพขัดถูเคลือบฟัน ได้ของสารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าวอย่างน้อย 10% เข้าไปใน สารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว เพื่อให้ สารผสมใช้ล้างฟันที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้ว ซึ่ง สารผสมใช้ ล้างฟันที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้นแล้วดังกล่าว ให้ผลในการกำจัดคราบอย่างน้อย 90% เหมือน กับสาร ผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว
2.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งพีเอชคือจาก 3.0 ถึง 5.5
3.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ซึ่งสารขัด ถูดังกล่าวคือเมมเบอร์อย่างน้อย หนึ่งชนิดที่เลือกจากหมู่ ที่ประกอบด้วยซิลิคา,อะลูมินา และแอลคาไล เมแทล เม ทา-ฟอสเฟท
4.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อ 3 ซึ่งมีสารขัดถูดังกล่าวที่ความ เข้มข้นอย่างน้อย 5% โดยน้ำหนัก ของสารผสมใช้ล้างฟันดัง กล่าว
5.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ซึ่งเกลือ ซิงค์ดังกล่าวคือเมมเบอร์อย่างน้อย หนึ่งชนิดที่เลือกจาก หมู่ที่ประกอบด้วยซิงค์ ซิเทรท, ซิงค์ คลอไรด์, ซิงค์ แอซิ เทท,ซิงค์ ออกไซด์ และซิงค์ ซัลเฟท
6.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ซึ่งปริมาณ ดังกล่าวของเกลือซิงค์ดังกล่าวคือ จาก 0.01% โดยน้ำหนัก ถึง 3.0% โดยน้ำหนักของสารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว
7.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ซึ่งลดสภาพ ขัดถูเดนทินได้อย่างน้อย 20%
8.วิธีตามข้อถือสิทธิข้อใดข้อหนึ่งก่อนหน้านี้ ซึ่งสารผสม ใช้ล้างฟันที่ถูกปรับปรุงให้ดีขึ้น ดังกล่าวอย่างน้อยให้ผล ในการกำจัดคราบเหมือนสารผสมใช้ล้างฟันดังกล่าว
TH0101004392A 2001-10-29 สารผสมใช้ล้างฟัน TH56580A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH56580A true TH56580A (th) 2003-05-23

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
MY121165A (en) Polishing composition and method for producing a memory hard disk.
DE69724187D1 (de) Suspension zum chemisch-mechanischen Polieren mit fluorierten Additiven und Verfahren zur Benutzung dieser Suspension
ATE276731T1 (de) Verbesserte zweikomponente orale zusammensetzungen die zinn-derivate enthalten
CA2447841A1 (en) Silica abrasive containing oral care compositions
AU8733491A (en) Mouthwash
JPS5550097A (en) Free flowing cleanser composition for polishing
ATE147423T1 (de) Verfahren und zusammensetzung zum polieren von metalloberflächen
MY124691A (en) Method of polishing a silicon wafer using a polishing composition and a surface treating composition
JPH0350838B2 (th)
ATE259869T1 (de) Aufschlämmungszusammensetzung und verfahren zum chemisch-mechanischen polieren
JPH01219171A (ja) 金属加工部材の研削、洗浄および不動態化の方法および配合物
ATE258576T1 (de) Zusammensetzung und verfahren zum egalisieren von oberflächen
MY162102A (en) Alkyl sulphate free and orthophosphate free dentifrice composition comprising a fluoride source and a silica dental abrasive
US6471948B1 (en) Toothpaste compositions containing cetylpyridinium chloride
RU2008116261A (ru) Композиция для чистки зубов
CO5290260A1 (es) Composiciones dentrificas que tienen una abrasion reducida
EP0102986B1 (en) A non-abrasive metal cleaning agent
US4576730A (en) Method and composition for cleaning and protecting metal
JPS59216813A (ja) 歯磨組成物
JPH10102091A (ja) 洗浄剤組成物
JPS62235399A (ja) 洗浄剤
US6200942B1 (en) Cleaning composition
Majeti et al. Oral compositions
JP2695448B2 (ja) 液体洗浄剤組成物
JPS6379983A (ja) 鉄系金属の化学溶解処理液