TH49171A - ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้ - Google Patents
ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้Info
- Publication number
- TH49171A TH49171A TH1003030A TH0001003030A TH49171A TH 49171 A TH49171 A TH 49171A TH 1003030 A TH1003030 A TH 1003030A TH 0001003030 A TH0001003030 A TH 0001003030A TH 49171 A TH49171 A TH 49171A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- polishing
- acid
- substrate
- metal layer
- provides
- Prior art date
Links
Abstract
DC60 (19/09/43) การประดิษฐ์ให้ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้ แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์ อย่าง น้อยหนึ่งชนิด, (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่ง ชนิดที่เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรท อย่างน้อยหนึ่ง ชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟนิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนไตร, ไธออล ไธโอเอสเทอร์, ไธโออี เธอร์, คาร์โบไธโอลิค แอซิด, คาร์โบไธโอนิค แอซิด, ไธโอ คาร์บอกซิลิค แอซิด, ไธโอซาลิไซลิค แอซิด และของผสมของสาร เหล่านั้น และ (iv) แผ่นขัดมันและ/หรือสาร ขัดถู การประดิษฐ์ยังให้วิธีขัดมันซับสเทรทที่ประกอบ รวม ด้วยนำพื้นผิวของซับสเทรทมาสัมผัสกับระบบที่กล่าวไว้ก่อน หน้านี้และขัดมันซับสเทรทอย่าง น้อยส่วนหนึ่งกับที่นั้น อนึ่ง การประดิษฐ์ให้วิธีสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้น หนึ่งชั้น หรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (a) นำชั้นโลหะแรกมาสัมผัส กับระบบ และ (b) ขัด มันชั้นโลหะแรกด้วยระบบจนกระทั่งชั้นโลหะแรกอย่างน้อยส่วน หนึ่งถูก กำจัดออกจากซับสเทรท การประดิษฐ์ให้ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้ แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์ อย่าง น้อยหนึ่งชนิด (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่ง ชนิดที่เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรท อย่างน้อยหนึ่ง ชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟนิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนไตร, ไธออล ไธโอเอสเทอร์, ไธโออี เธอร์, คาร์โบไธโอลิค แอซิด, คาร์โบไธโอนิค แอซิด, ไธโอ คาร์บอกซิลิค แอซิด, ไธโอซาลิไซลิค แอซิด และของผสมของสาร เหล่านั้น และ (iv) แผ่นขัดมันและ/หรือสาร ขัดถู การประดิษฐ์ยังให้วิธีขัดมันซับสเทรทที่ประกอบ รวม ด้วนนำพื้นผิวของซับสเทรทมาสัมผัสกับระบบที่กล่าวไว้ก่อน หน้านี้และขัดมันซับสเทรทอย่าง น้อยส่วนหนึ่งกับที่นั้น อนึ่ง การประดิษฐ์ให้วิธีสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้น หนึ่งชั้น หรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (a) นำชั้นโลหะแรกมาสัมผัส กับระบบ และ (b) ขัด มันชั้นโลหะแรกด้วยระบบจนกระทั่งชั้นโลหะแรกอย่างน้อยส่วน หนึ่งถูก กำจัดออกจากซับสเทรท
Claims (1)
1. ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะ แรกและชั้นที่สองที่ประกอบรวม ด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์อย่างน้อย หนึ่งชนิด, (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่ เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรทอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟ นิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนโตร, ไธออล, ไธโอเอสเทอร์, ไธโออีแท็ก :
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TH49171A true TH49171A (th) | 2002-01-31 |
Family
ID=
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60034474D1 (de) | Poliersystem und verfahren zu seiner verwendung | |
EP2971248B1 (en) | Aqueous cleaning composition for post copper chemical mechanical planarization | |
JP2003507895A5 (th) | ||
DE69906155D1 (de) | Bearbeitungsflüssigkeit und verfahren zur modifikation von struturierten halbleiterscheiben zur herstellung von halbleitern | |
ATE315965T1 (de) | Verahren zur reinigung von metallverunreinigungen eines substrats unter beibehaltung der flachheit des substrats | |
AR022063A1 (es) | Composiciones de limpieza y desinfectantes acidicas para superficies duras | |
ATE320881T1 (de) | Schleifmittel mit einem fenstersystem zum polieren von wafern und verfahren hierfür | |
DE3886345D1 (de) | Entfernung von Rost und Mittel hierfür. | |
JP2007537883A5 (th) | ||
HK1041020B (zh) | 用於清洗半導體裝置中有機殘餘物和等離子體蝕刻殘餘物的組合物 | |
DE60307111D1 (de) | Verfahren zum chemisch mechanisch polieren von materialien mit einer niedrigen dielektrizitätskonstanten | |
ATE244751T1 (de) | Reinigungsnachbehandlung | |
DE69530780D1 (de) | Beschichteter schleifgegenstand und verfahren zu seiner herstellung | |
TW200716286A (en) | Process and composition for conductive material removal by electrochemical mechanical polishing | |
TR25081A (tr) | Madeni malzemelerinin ayni zamanda kaygan olarak taslanmasina ve temizlenmesine ve pasivasyonuna mahsus usuller ve vasitalar | |
WO2007005163A3 (en) | Corrosion-inhibiting composition and method of use | |
TH49171A (th) | ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้ | |
DE502005004672D1 (de) | Vorrichtung und verfahren zum kühlen bandförmiger substrate | |
EP1422216A4 (en) | FLUORINE COMPOUND AND FLUORINATION AGENT CONTAINING THE COMPOUND | |
ATE507932T1 (de) | Verfahren zum satinieren eines harten materials | |
SG142112A1 (en) | Method for manufacturing a magnetic recording medium | |
JPS591686A (ja) | 冷間圧延鋼板用調質液 | |
JP2014124760A (ja) | 電子材料用研磨液 | |
JPH01234583A (ja) | 鋼板の変色防止方法 | |
HUP0004913A2 (hu) | Alkoxilezett alifás aminok, ilyen aminokat tartalmazó tisztítókompozíciók és eljárás mészlerakódás gátlására |