TH49171A - ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้ - Google Patents

ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้

Info

Publication number
TH49171A
TH49171A TH1003030A TH0001003030A TH49171A TH 49171 A TH49171 A TH 49171A TH 1003030 A TH1003030 A TH 1003030A TH 0001003030 A TH0001003030 A TH 0001003030A TH 49171 A TH49171 A TH 49171A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
polishing
acid
substrate
metal layer
provides
Prior art date
Application number
TH1003030A
Other languages
English (en)
Inventor
หวัง นายชูหมิน
บรูชิค คูฟแมน นายวีลัสต้า
เค. กรัมบินี นายสตีเว่น
ซู นายเรนจี
เค. เชอเรี่ยน นายไอเซ็ค
Original Assignee
นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
นายธเนศ เปเรร่า
Filing date
Publication date
Application filed by นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า, นายธเนศ เปเรร่า filed Critical นายโรจน์วิทย์ เปเรร่า
Publication of TH49171A publication Critical patent/TH49171A/th

Links

Abstract

DC60 (19/09/43) การประดิษฐ์ให้ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้ แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์ อย่าง น้อยหนึ่งชนิด, (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่ง ชนิดที่เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรท อย่างน้อยหนึ่ง ชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟนิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนไตร, ไธออล ไธโอเอสเทอร์, ไธโออี เธอร์, คาร์โบไธโอลิค แอซิด, คาร์โบไธโอนิค แอซิด, ไธโอ คาร์บอกซิลิค แอซิด, ไธโอซาลิไซลิค แอซิด และของผสมของสาร เหล่านั้น และ (iv) แผ่นขัดมันและ/หรือสาร ขัดถู การประดิษฐ์ยังให้วิธีขัดมันซับสเทรทที่ประกอบ รวม ด้วยนำพื้นผิวของซับสเทรทมาสัมผัสกับระบบที่กล่าวไว้ก่อน หน้านี้และขัดมันซับสเทรทอย่าง น้อยส่วนหนึ่งกับที่นั้น อนึ่ง การประดิษฐ์ให้วิธีสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้น หนึ่งชั้น หรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (a) นำชั้นโลหะแรกมาสัมผัส กับระบบ และ (b) ขัด มันชั้นโลหะแรกด้วยระบบจนกระทั่งชั้นโลหะแรกอย่างน้อยส่วน หนึ่งถูก กำจัดออกจากซับสเทรท การประดิษฐ์ให้ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้ แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์ อย่าง น้อยหนึ่งชนิด (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่ง ชนิดที่เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรท อย่างน้อยหนึ่ง ชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟนิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนไตร, ไธออล ไธโอเอสเทอร์, ไธโออี เธอร์, คาร์โบไธโอลิค แอซิด, คาร์โบไธโอนิค แอซิด, ไธโอ คาร์บอกซิลิค แอซิด, ไธโอซาลิไซลิค แอซิด และของผสมของสาร เหล่านั้น และ (iv) แผ่นขัดมันและ/หรือสาร ขัดถู การประดิษฐ์ยังให้วิธีขัดมันซับสเทรทที่ประกอบ รวม ด้วนนำพื้นผิวของซับสเทรทมาสัมผัสกับระบบที่กล่าวไว้ก่อน หน้านี้และขัดมันซับสเทรทอย่าง น้อยส่วนหนึ่งกับที่นั้น อนึ่ง การประดิษฐ์ให้วิธีสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้น หนึ่งชั้น หรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะแรกและชั้นที่สองที่ ประกอบรวมด้วย (a) นำชั้นโลหะแรกมาสัมผัส กับระบบ และ (b) ขัด มันชั้นโลหะแรกด้วยระบบจนกระทั่งชั้นโลหะแรกอย่างน้อยส่วน หนึ่งถูก กำจัดออกจากซับสเทรท

Claims (1)

1. ระบบสำหรับขัดมันซับสเทรทแบบหลายชั้นที่มีหนึ่งชั้นหรือมากกว่าที่ได้แก่ชั้นโลหะ แรกและชั้นที่สองที่ประกอบรวม ด้วย (i) แคริเออร์ชนิดเหลว, (ii) ตัวออกซิไดซ์อย่างน้อย หนึ่งชนิด, (iii) สารเติมแต่งขัดมันอย่างน้อยหนึ่งชนิดที่ เพิ่มอัตราที่ซึ่งระบบขัดมันซับสเทรทอย่างน้อยหนึ่งชั้น ซึ่งเลือกสารเติมแต่งขัดมันจากหมู่ที่ประกอบด้วยไพ โรฟอสเฟท, คอนเดนเซด ฟอสเฟท, ฟอสโฟ นิค แอซิด และเกลือของ สารเหล่านั้น, แอมีน, อะมิโน แอลกอฮอล์, เอไมด์, อิมีน, อิ มิโน แอซิด, ไนไทรล์, ไนโตร, ไธออล, ไธโอเอสเทอร์, ไธโออีแท็ก :
TH1003030A 2000-08-11 ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้ TH49171A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH49171A true TH49171A (th) 2002-01-31

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE60034474D1 (de) Poliersystem und verfahren zu seiner verwendung
EP2971248B1 (en) Aqueous cleaning composition for post copper chemical mechanical planarization
JP2003507895A5 (th)
DE69906155D1 (de) Bearbeitungsflüssigkeit und verfahren zur modifikation von struturierten halbleiterscheiben zur herstellung von halbleitern
ATE315965T1 (de) Verahren zur reinigung von metallverunreinigungen eines substrats unter beibehaltung der flachheit des substrats
AR022063A1 (es) Composiciones de limpieza y desinfectantes acidicas para superficies duras
ATE320881T1 (de) Schleifmittel mit einem fenstersystem zum polieren von wafern und verfahren hierfür
DE3886345D1 (de) Entfernung von Rost und Mittel hierfür.
JP2007537883A5 (th)
HK1041020B (zh) 用於清洗半導體裝置中有機殘餘物和等離子體蝕刻殘餘物的組合物
DE60307111D1 (de) Verfahren zum chemisch mechanisch polieren von materialien mit einer niedrigen dielektrizitätskonstanten
ATE244751T1 (de) Reinigungsnachbehandlung
DE69530780D1 (de) Beschichteter schleifgegenstand und verfahren zu seiner herstellung
TW200716286A (en) Process and composition for conductive material removal by electrochemical mechanical polishing
TR25081A (tr) Madeni malzemelerinin ayni zamanda kaygan olarak taslanmasina ve temizlenmesine ve pasivasyonuna mahsus usuller ve vasitalar
WO2007005163A3 (en) Corrosion-inhibiting composition and method of use
TH49171A (th) ระบบขัดมันและวิธีในการใช้ระบบนี้
DE502005004672D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum kühlen bandförmiger substrate
EP1422216A4 (en) FLUORINE COMPOUND AND FLUORINATION AGENT CONTAINING THE COMPOUND
ATE507932T1 (de) Verfahren zum satinieren eines harten materials
SG142112A1 (en) Method for manufacturing a magnetic recording medium
JPS591686A (ja) 冷間圧延鋼板用調質液
JP2014124760A (ja) 電子材料用研磨液
JPH01234583A (ja) 鋼板の変色防止方法
HUP0004913A2 (hu) Alkoxilezett alifás aminok, ilyen aminokat tartalmazó tisztítókompozíciók és eljárás mészlerakódás gátlására