TH48067A - - Google Patents
Info
- Publication number
- TH48067A TH48067A TH1001061A TH0001001061A TH48067A TH 48067 A TH48067 A TH 48067A TH 1001061 A TH1001061 A TH 1001061A TH 0001001061 A TH0001001061 A TH 0001001061A TH 48067 A TH48067 A TH 48067A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- glass substrate
- weight
- acid
- percent
- polishing
- Prior art date
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract 24
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract 23
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract 18
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract 12
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 claims abstract 8
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract 8
- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims abstract 3
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N Na2O Inorganic materials [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 3
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 2
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 claims 2
- 238000003426 chemical strengthening reaction Methods 0.000 claims 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910000287 alkaline earth metal oxide Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 claims 1
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 claims 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 claims 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract 2
Abstract
DC60 (29/09/43) ในวิธีการผลิตซับสเตรทแก้ว สำหรับทำตัวกลางในการบันทึกที่เป็นแม่เหล็ก เพื่อทำ ให้เกิดความหยาบตามที่กำหนดไว้ล่วงหน้า ผิวหลักของซับสเตรทแก้วได้รับการขัดเงาอย่างเที่ยงตรง โดยใช้วัสดุขัดเงา ที่มีเม็ดวัสดุขัดถูอิสระเป็นองค์ประกอบการกระจายความเค้นหลงเหลือสำหรับส่วน หนึ่งของรอยเล็ก ๆ ในการขัดเงา อันเนื่องมาจากเม็ดวัสดุขัดถูอิสระถูกทำให้เกิดขึ้นบนผิวของซับ สเตรทแก้ว กระบวนการที่ทำกับผิว ได้รับการดำเนินกระบวนการอย่างน้อยที่ผิวหลักของซับสเตรท แก้ว โดยการใส่กรดไฮโดรซิลิโคฟลูออริค ส่วนหนึ่งที่มีความเพี้ยนหลงเหลือค่อนข้างสูง ในการ กระจายความเค้นที่หลงเหลือที่ทำให้เกิดขึ้นได้รับการกำหนดให้เป็นส่วนเกาะซับสเตรทแก้วนั้น ได้ รับความร้อนหลังจากการขัดเงาอย่างเที่ยงตรงก่อนการดำเนินกระบวนการกับผิวโดยการใช้กรด ไฮโดรซิลิโคฟลูออริค ในวิธีการผลิตซับสเตรทแก้ว สำหรับทำตัวกลางในการบันทึกที่เป็นแม่เหล็ก เพื่อทำ ให้เกิดความหยาบตามที่กำหนดไว้ล่วงหน้า ผิวหลักของซับสเตรทแก้วได้รับการขัดเงาอย่างเที่ยงตรง โดยใช้วัสดุขัดเงา ที่มีเม็ดวัสดุขัดถูอิสระเป็นองค์ประกอบการกระจายความเค้นหลงเหลือสำหรับส่วน หนึ่งของรอยเล็ก ๆ ในการขัดเงา อันเนื่องมาจากเม็ดวัสดุขัดถูอิสระถูกทำให้เกิดขึ้นบนผิวของซับ สเตรทแก้ว กระบวนการที่ทำกับผิว ได้รับการดำเนินกระบวนการอย่างน้อยที่ผิวหลักของซับสเตรท แก้ว โดยการใส่กรดไฮโดรซิลิโคฟลูออริค ส่วนหนึ่งที่มีความเพี้ยนหลงเหลือค่อนข้างสูง ในการ กระจายความเค้นที่หลงเหลือที่ทำให้เกิดขึ้นได้รับการกำหนดให้เป็นส่วนเกาะซับสเตรทแก้วนั้น ได้ รับความร้อนหลังจากการขัดเงาอย่างเที่ยงตรงก่อนการดำเนินกระบวนการกับผิวโดยการใช้กรด ไฮโดรซิลิโคฟลูออริค
Claims (9)
1. วิธีการผลิตซับสเตรทแก้ว สำหรับทำตัวกลางในการบันทึกที่เป็นแม่เหล็ก เพื่อทำให้เกิดความหยาบตามที่กำหนดไว้ล่วงหน้า ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ การขัดเงาอย่างเที่ยงตรงให้แก่ผิวหลักหนึ่งผิวของซับสเตรทแก้ว โดยการใช้วัสดุขัด เงาที่มีเม็ดวัสดุขัดถูอิสระเป็นองค์ประกอบ การทำให้เกิดการกระจายความเค้นหลงเหลือสำหรับส่วนหนึ่งของรอยเล็ก ๆ ในการ ขัดเงา อันเนื่องมาจากเม็ดวัสดุขัดถูอิสระบนผิวของซับสเตรทแก้ว การดำเนินกระบวนการให้แก่ผิวอย่างน้อยที่ผิวหลัก ของซับสเตรทแก้วโดยการใช้ กรดไฮโดรซิลิโคฟลูออริค และ การกำหนดให้ส่วนหนึ่งที่มีความเพี้ยนหลงเหลือค่อนข้างสูงในการกระจายความแค้น หลงเหลือที่ทำให้เกิดขึ้นนั้นเป็นส่วนเกาะ ซับสเตรทแก้วนั้น ได้รับความร้อนหลังจากการขัดเงาอย่างเที่ยงตรงก่อนการดำเนิน กระบวนการกับผิวโดยการใช้กรดไฮโดรซิลิโคฟลูออริค
2. วิธีการผลิตซับสเตรทแก้ว สำหรับทำตัวกลางในการบันทึกที่เป็นแม่เหล็ก เพื่อทำให้เกิดความหยาบตามที่กำหนดไว้ล่วงหน้า ซึ่งประกอบด้วยขั้นตอนของ การขัดเงาอย่างเที่ยงตรงให้แก่ผิวหลักหนึ่งผิวของซับสเตรทนแก้วโดยการใช้วัสดุขัด เงาที่มีเม็ดวัสดุขัดถูอิสระเป็นองค์ประกอบ การทำให้เกิดการกระจายความเค้นหลงเหลือสำหรับส่วนหนึ่งของรอยเล็ก ๆ ในการ ขัดเงาอันเนื่องมาจากเม็ดวัสดุขัดถูอิสระบนผิวของซับสเตรทแก้ว การดำเนินกระบวนการทำให้แข็งแรงโดยทางเคมีแก่ผิวอย่างน้อยที่ผิวหลัก ของซับส เตรทแก้ว และ การกำหนดให้ส่วนหนึ่งที่มีความเพี้ยนหลงเหลือค่อนข้างสูงในการกระจายความเค้น หลงเหลือที่กำหนดให้เกิดขึ้นนั้นเป็นส่วนเกาะ ซับสเตรทแก้วได้รับความร้อน โดยการจุ่มซับสเตรทแล้วลงไปในตัวทำละลายที่ได้ รับความร้อนแล้ว หลังจากการขัดเงาอย่างเที่ยงตรง ก่อนการดำเนินกระบวนการ ทางเคมีให้แก่ผิวหลัก
3. วิธีการดังที่ถือสิธิไว้ในข้อถือสิทธิที่ 2 ซึ่ง การดำเนินกระบวนการทางเคมีให้แก่ผิวประกอบด้วยอย่างใดอย่างหนึ่งของกระบวน การกัดผิวโดยใช้สารละลายที่ประกอบด้วยกรดไฮโดรฟลูออริค, สารละลายที่ประกอบด้วยกรดไฮโดร ซิลิโคฟลูออริค และสารละลายต่าง
4. วิธีการถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อหนึ่งข้อใดของข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 ซึ่ง อุณหภูมิของการให้ความร้อน ในขั้นตอนของกระบวนการให้ความร้อนตกอยู่ในช่วง ระหว่าง 30 องศาเซลเซียสถึง 180 องศาเซลเซียส
5. วิธีการดังที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อหนึ่งข้อใดของข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 ซึ่ง กระบวนการให้ความร้อน ได้รับการดำเนินการโดยการใช้สารละลายอย่างน้อยหนึ่ง ชนิดที่เลือกได้จากกลุ่มที่ประกอบด้วยน้ำร้อน, กรดกำมะถันที่ได้รับความร้อน, กลีเซอรีนที่ได้รับ ความร้อน และกรดฟอสฟอริคที่ได้รับความร้อน
6. วิธีการดังถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อหนึ่งข้อใดของข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2 ซึ่ง ออกไซด์ และ ปริมาณของอัลคาไลน์เอิร์ธออกไซด์ไม่เกินกว่า 3 โมลเปอร์เซ็นต์
7. วิธีการดังที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิที่ 6 ซึ่ง แก้วนั้นประกอบด้วย SiO2 ระหว่าง 58 ถึง 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, Al2O3 ระหว่าง 5 ถึง 23 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, LiO, ระหว่าง 3 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ Na2O ระหว่าง 4 ถึง 13 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนักในฐานะองค์ประกอบหลัก
8. วิธีการดังที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิที่ 7 ซึ่ง แก้วนั้นประกอบด้วย SiO2 ระหว่าง 62 ถึง 75 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, Al2O3 ระหว่าง 5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, LiO2 ระหว่าง 4 ถึง 10 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก, Na2O ระหว่าง 4 ถึง 12 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก และ ZrO2 ระหว่าง 5.5 ถึง 15 เปอร์เซ็นต์โดยน้ำหนัก ในฐานะองค์ประกอบ หลัก และ อัตราส่วนโดยน้ำหนักของ Na2O/ZrO2 ตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 0.5 ถึง 2.0 ในขณะ ที่อัตราส่วนโดยน้ำหนัก Al2O3/ZrO2 ตกอยู่ภายในช่วงระหว่าง 0.4 ถึง 2.5
9. วิธีการดังที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อหนึ่งข้อใดของข้อถือสิทธิ ที่ 1, 2, 3, 4, 5, 6 หรือ 7 ซึ่ง กระบวนการทำให้แข็งแรงทางเคมี ได้รับการดำเนินการหลังจากการดำเนินกระบวน การที่ใช้กรดไฮโดรซิลิโคฟลูออริค 1
0. วิธีการผลิตตัวกลางในการบันทึกที่เป็นแม่เหล็ก ซึ่ง มีการทำชั้นแม่เหล็กอย่างน้อยหนึ่งชั้นบนผิวหลักของซับสเตรทแก้วที่ผลิตขึ้นโดยวิธี การที่ถือสิทธิไว้ในข้อถือสิทธิข้อหนึ่งข้อใดของข้อถือสิทธิที่ 1 หรือ 2
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH48067A true TH48067A (th) | 2001-11-05 |
| TH40872B TH40872B (th) | 2014-07-15 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3589598B1 (en) | Asymmetric stress profiles for low warp and high damage resistance glass articles | |
| CN113825732B (zh) | 在高温下用高浓度碱性氢氧化物减小纹理化玻璃、玻璃陶瓷以及陶瓷制品的厚度的方法 | |
| JP5326941B2 (ja) | ガラス表面の微細加工方法 | |
| GB2171990A (en) | Method of strengthening glass article formed of float glass by ion exchange and strengthened glass article | |
| ATE402912T1 (de) | Glaskörper mit poröser beschichtung | |
| TWI894148B (zh) | 玻璃基板及改良玻璃基板的方法 | |
| ATE271525T1 (de) | Verfahren zur herstellung von aus silika bestehenden oder von auf silika basierenden dicken glasartigen filmen nach dem sol-gel verfahren und so hergestellte dicke filme | |
| SE457179B (sv) | Foerfarande foer framstaellning av en avsmalnande oeppning i en passiverande glasbelaeggning anordnad oever ytan paa en halvledarstomme | |
| JPS6045137B2 (ja) | 多孔性非反射層を有する耐久ガラスの製造方法 | |
| JPS63256460A (ja) | サ−マルヘツド用基板およびその製造方法 | |
| JPH07169048A (ja) | 磁性記憶装置のディスク用基体およびその製造方法 | |
| JPH0151458B2 (th) | ||
| US3982917A (en) | Method of increasing the strength of silicate glass laser rods | |
| KR101052879B1 (ko) | 칠보공예 시계 다이얼의 제조방법 | |
| CN107000117B (zh) | 破裂风险减小的微型电子元件及其生产方法 | |
| TH48067A (th) | ||
| JP4540361B2 (ja) | 凹凸のある表面を有するガラス基材の製造方法 | |
| JPH0118496B2 (th) | ||
| JP2001261355A (ja) | ガラス基板端面の強度向上方法およびフラットパネルディスプレイ用ガラス基板 | |
| KR20190111252A (ko) | 굽힘 특성이 강화된 강화 글라스 제조방법 | |
| CN108695231A (zh) | 超厚soi硅片氧化层的制备方法 | |
| JP2008260639A (ja) | 貼合基材の貼合方法およびこれを用いた薄型水晶基板の製造方法 | |
| CN113955950A (zh) | 锂铝硅玻璃的强化方法 | |
| CN111619116A (zh) | 一种光敏树脂表面改性处理方法 | |
| JPH0415178B2 (th) |