TH45168A - กระบวนการปรับปรุงเคลือบผิวบนซับสเทรท - Google Patents

กระบวนการปรับปรุงเคลือบผิวบนซับสเทรท

Info

Publication number
TH45168A
TH45168A TH1001999A TH0001001999A TH45168A TH 45168 A TH45168 A TH 45168A TH 1001999 A TH1001999 A TH 1001999A TH 0001001999 A TH0001001999 A TH 0001001999A TH 45168 A TH45168 A TH 45168A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
substrate
self
glass
coated
light reflection
Prior art date
Application number
TH1001999A
Other languages
English (en)
Inventor
เจมส์ เฮิร์สท์ นายไซม่อน
อันเดรียส มาเรีย อัมเมอร์ลาน นายโจฮันเนส
โจเซฟ แม็คเคอร์ดี้ นายริชาร์ด
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH45168A publication Critical patent/TH45168A/th

Links

Abstract

DC60 (23/08/43) กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทเคลือบซึ่งทำความสะอาดได้โดยตนเองและว่องไวใน เชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง ซับสเทรทแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการพอกพูน เคลือบ ผิวชนิดไทเทเนียมออกไซด์บนพื้นผิวของซับสเทรท โดยการสัมผัส ซับสเทรทด้วยของผสมของ ของไหลที่มีแหล่งไทเทเนียม และแหล่ง ออกซีเจน ซับสเทรทอยู่ที่อุณหภูมิอย่างน้อยที่สุด 600 องศาเซลเซียส พื้นผิวที่ผ่านการเคลือบมีความทนทานที่ดี มีความว่องไวเชิง การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงสูง และมีการ สะท้อนของแสงช่วงที่ มองเห็นได้ต่ำ ถ้าจะให้ดีที่สุดแล้ว อุณหภูมิของการพอกพูน อยู่ในช่วงพิสัย 645 องศาเซลเซียส ถึง 720 องศาเซลเซียส ซึ่งให้ความทนทานที่ดี โดยเฉพาะ ถ้าจะให้ดีแล้ว ของผสมของของไหลมีไทเทเนียมคลอไรด์ และเอส เทอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง เอธิลอะซีเทท ที่ได้รับการเปิดเผยนอกจากนี้ เป็นซับสเทรทเคลือบแบบทำ ความสะอาดได้โดยตนเอง โดย เฉพาะอย่างยิ่ง ซับสเทรทแก้วที่ ว่องไวในเชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงสูง และมีการสะท้อนของ แสง ช่วงที่มองเห็นได้ต่ำ และเป็นแก้วเคลือบแบบทำความสะอาด ได้โดยตนเอง กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทเคลือบซึ่งทำความสะอาดได้โดยตนเองและว่องไวใน เชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง โดยเฉพาะ อย่างยิ่ง ซับสเทรทแก้ว ซึ่งประกอบรวมด้วยการพอกพูน เคลือบ ผิวชนิดไทเทเนียมออกไซด์บนพื้นผิวของซับสเทรท โดยการสัมผัส ซับสเทรทด้วยของผสมของ ของไหลที่มีแหล่งไทเทเนียม และแหล่ง ออกซีเจน ซับสเทรทอยู่ที่อุณหภุมิอย่างน้อยที่สุด 600 ํซ พื้นผิวที่ผ่านการเคลือบมีความทนทานที่ดี มีความว่องไวเชิง การเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงสูง และมีการ สะท้อนของแสงช่วงที่ มองเห็นได้ต่ำ ถ้าจะให้ดีที่สุดแล้ว อุณหภูมิของการพอกพูน อยู่ในช่วงพิสัย 645 ํซ ถึง 720 ํซ ซึ่งให้ความทนทานที่ดี โดยเฉพาะ ถ้าจะให้ดีแล้ว ของผสมของของไหลมีไทเทเนียมคลอไรด์ และเอส เทอร์ โดยเฉพาะอย่างยิ่ง เอธิลอะซีเทท ที่ได้รับการเปิดเผยนอกจากนี้ เป็นซับสเทรทเคลือบแบบทำ ความสะอาดได้โดยตนเอง โดย เฉพาะอย่างยิ่ง ซับสเทรทแก้วที่ ว่องไวในเชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงสูง และมีการสะท้อนของ แสง ช่วงที่มองเห็นได้ต่ำ และเป็นแก้วเคลือบแบบทำความสะอาด ได้โดยตนเอง

Claims (1)

1. กระบวนการสำหรับการผลิตซับสเทรทเคลือบที่ว่องไวในเชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสง ซึ่ง ประกอบรวมด้วยการพอกพูนเคลือบ ผิวชนิดไทเทเนียมออกไซด์บนพื้นผิวของซับสเทรท โดยการ สัมผัส พื้นผิวของซับสเทรทด้วยของผสมของของไหลที่มีแหล่งไทเทเนียม และแหล่งออกซีเจน ซับสเทรทดังกล่าวอยู่ที่อุณหภูมิอย่างน้อย ที่สุด 600 ํซ ซึ่งพื้นผิวที่ผ่านการเคลือบของซับสเทรทมี ความว่องไวในเชิงการเร่งปฏิกิริยาด้วยแสงมากกว่า 5 x 10-3 เซนติเมตร -1 นาที -1 และมีการสะท้อนของ แสงช่วงที่มองเห็น ได้ที่วัดบนด้านที่ผ่านการเคลืแท็ก :
TH1001999A 2000-06-05 กระบวนการปรับปรุงเคลือบผิวบนซับสเทรท TH45168A (th)

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TH45168A true TH45168A (th) 2001-05-10

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TR200103541T2 (tr) Alt tabakalar üzerinde fotokatalitik kaplamalar üretilmesine mahsus yöntem
PL360573A1 (en) Substrate with photocatalytic coating
BR0309951A (pt) Substrato de vidro revestido e artigo de vidro revestido
JP2017125876A (ja) 防汚層付きガラス基体およびディスプレイ用前面板
CA2480736A1 (en) Method for preparing mesoporous tio2 thin films with high photocatalytic and antibacterial activities
CN103582617A (zh) 用于涂布易清洁涂层的基底元件
BR8700383A (pt) Processo para a producao de um substrato de vidro revestido com prata,curvado e/ou enrijecido e substrato de vidro revestido
AR032859A1 (es) Recubrimiento hidrofilo fotoinducido y metodo de hacerlo
DE59501284D1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Gradientenschicht
RU2241688C2 (ru) Субстрат с покрытием с высокой отражательной способностью
KR890008343A (ko) 피복제품 및 이의 생산 방법
EP1040963A2 (en) Hydrophilic mirror and method of producing the same
AR009058A1 (es) Un proceso para aplicar recubrimientos de oxido de indio sobre vidrios planos y los vidrios recubiertos asi obtenidos
TWI372140B (en) Method of producing transparent titanium oxide coatings having a rutile structure
FI97220B (fi) Pinnoitetut lasituotteet
US6312831B1 (en) Highly reflective, durable titanium/tin oxide films
PL1912912T3 (pl) Sposób termicznego odpuszczania powlekanego wyrobu przezroczystego przewodzącą tlenku (TCO) z użyciem płomienia (płomieni) w piecu do odpuszczania w sąsiedztwie TCO dla wypalenia tlenu oraz produkt wytworzony tym sposobem
ATE516252T1 (de) Herstellungsverfahren für eine mit einem titanoxiddünnfilm beschichtete glasscheibe
TH45168A (th) กระบวนการปรับปรุงเคลือบผิวบนซับสเทรท
KR930017058A (ko) 전도막 및 저반사 전도막, 그리고 그들의 생성공정
ITTO940110A1 (it) Vetro rivestito e procedimento per la sua fabbricazione
JPH1185396A (ja) タッチパネルの基板用低反射ガラス
JPH11171544A5 (th)
JP2006342055A (ja) 酸化チタン薄膜被覆ガラス板の製造方法、その方法で製造されたガラス板及びその用途
IL113470A (en) Glazed board and method of manufacture