TH39595B - สารผสมเพื่อการทำให้หลุดลอกและเพื่อการทำความสะอาดสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์ - Google Patents

สารผสมเพื่อการทำให้หลุดลอกและเพื่อการทำความสะอาดสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์

Info

Publication number
TH39595B
TH39595B TH301004375A TH0301004375A TH39595B TH 39595 B TH39595 B TH 39595B TH 301004375 A TH301004375 A TH 301004375A TH 0301004375 A TH0301004375 A TH 0301004375A TH 39595 B TH39595 B TH 39595B
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
acid
component
glycol
mixture
methyl
Prior art date
Application number
TH301004375A
Other languages
English (en)
Other versions
TH67267A (th
Inventor
อิน คิม นายซัง
ไมเคิล เคน นายฌอน
Original Assignee
นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ
นายรุทร นพคุณ
Filing date
Publication date
Application filed by นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์ นายรุทร นพคุณ, นายรุทร นพคุณ filed Critical นางสาวปรับโยชน์ ศรีกิจจาภรณ์
Publication of TH67267A publication Critical patent/TH67267A/th
Publication of TH39595B publication Critical patent/TH39595B/th

Links

Abstract

DC60 (13/02/47) สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างและวิธีการของการใช้สารผสมเพื่อการทำความ สะอาดสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโครอิเล็กทรอนิกส์ โดยจำเพาะเจาะจง ซับสเทรท ของไมโครอิเล็กทรอนิกส์ของ FPD ซึ่งสารผสมสามารถที่จะทำความสะอาดซับสเทรทดังกล่าวอย่าง สมบูรณ์อย่างเป็นสาระสำคัญ และไม่ทำให้เกิดการกัดกร่อนของโลหะของชิ้นส่วนโลหะของ ซับสเทรทดังกล่าวอย่างเป็นสาระสำคัญ สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้มี (a) อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของการละลายในสารละลายแอคเควียสจากประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 8 (c) สาร ประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์ ไดออล พอลิออล หรืออะลิฟาทิกไกลคอล อีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ซึ่งถ้าจะให้ดีแล้วควรมีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จาก ประมาณ 8 ถึงประมาณ 15 สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้จะมีปริมาณ ของกรดอ่อน ในลักษณะที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมลสมมูลของหมู่กรดต่อหมู่อะมีนมากกว่า .75 และ อาจมีช่วงพิสัยจนกระทั่งถึง และมากกว่าอัตราส่วนที่เท่ากับ 1 ดังตัวอย่างเช่น อัตราส่วนที่เท่ากับ 1.02 หรือมากกว่านั้น พีเอชของสารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้จะเป็นจาก ประมาณพีเอช 4.5 ถึง 9.5 สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างและวิธีการของการใช้สารผสมเพื่อการทำความ สะอาดสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโครอิลเทอนิกส์ โดยจำเพาะเจาะจง ซับสเทรท ของไมโครอิเล็กทรอนิกส์ของ FPD ซึ่งสารผสมสามารถที่จะทำความสะอาดซับสเทรทดังกล่าวอย่าง สมบูรณ์อย่างเป็นสาระสำคัญ และไม่ทำให้เกิดการกัดกร่อนของโลหะของชิ้นส่วนโลหะของ ซับสเทรทดังกล่าวอย่างเป็นสาระสำคัญ สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้มี (a) อะมีนชนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของการละลายในสารละลายแอคเควียสจากประมาณ 1.2 ถึงประมาณ 8 (c) สาร ประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์ ไดออล พอลิออล หรืออะลิฟาทิกไกลคอล อีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ซึ่งถ้าจะให้ดีแล้วควรมีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จาก ประมาณ 8 ถึงประมาณ 15 สารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้จะมีปริมาณ ของกรดอ่อน ในลักษณะที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมลสมมูลของหมู่กรดต่อหมู่อะมีนมากกว่า .75 และ อาจมีช่วงพิสัยจนกระทั่งถึง และมากกว่าอัตราส่วนที่เท่ากับ 1 ดังตัวอย่างเช่น อัตราส่วนที่เท่ากับ 1.02 หรือมากกว่านั้น พีเอชของสารผสมเพื่อการทำความสะอาดที่มีด่างของการประดิษฐ์นี้จะเป็นจาก ประมาณพีเอช 4.5 ถึง 9.5

Claims (6)

ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. สารผสมชนิดนอน-แอคเควียสสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโคร อิเล็กทรอนิกส์ซึ่งประกอบรวมด้วยส่วนประกอบต่อไปนี้ (a) อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของ การละลายในสารละลายแอคเควียสจาก 1.2 ถึง 8 (c) สารประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์, อะลิฟาทิก ไดออล, อะลิฟาทิก พอลิออล หรืออะลิฟาทิกไกลคอลอีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ และส่วนประกอบชนิดกรดอ่อน (b) มีอยู่ในสารผสมในปริมาณที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมล สมมูลของกรด/อะมีนมากกว่า 0.75 และพีเอชของสารผสมเป็นจากพีเอช 4.5 ถึง 9.5 ที่ซึ่ง ส่วนประกอบ (d) คือสารประกอบชนิดอื่นนอกจากส่วนประกอบ (a)-(c) 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยส่วนประกอบ (a) จาก 1% ถึง 50% ส่วนประกอบ (c) จาก 20% ถึง 60% และส่วนประกอบ (d) จาก 20% ถึง 80% ซึ่งอัตราร้อยละเป็น% โดยน้ำหนักโดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของสารผสม 3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกเป็นอะมีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซี)เอธานอล, 2-อะมิโนเอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลเอมิโน) เอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน)เอธิลแอมีน, ไดเอธานอลแอมีน และไตรเอธานอลแอมีน 4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (c) เป็นสารประกอบอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยไอโซโพรพานอล, บิวทานอล, เอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, ไตรเอธิลีนไกลคอล, พอลิเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, ไดโพรพิลีนไกลคอล, ไตรโพรพิลีนไกลคอล, 1,3-โพรเพนไดออล, 2-เมธิล-1,3-โพรเพนไดออล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, เฮกเซนไดออล, กลีเซอรอล, เอธิลีนไกลคอล- มอโนเมธิลอีเธอร์, ไดเอธิลีนไกลคอลมอโนเมธิลอีเธอร์, โพรพิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์ และ 2-(2-บิวทซีเอธอกซี)-เอธานอล 5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ ที่มีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จาก 8 ถึง 15 (Mpa)1/2 6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นสารประกอบอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-เมธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, เตตระไฮโดรไธโอฟีน-1-,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลฟอร์มามีด 7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบ ด้วยซัลโฟเลน และ1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยมอโนเอธานอลแอมีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, ส่วนประกอบ (c) ได้รับการ คัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, กลีเซอรอล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, ไอโซโพรพานอล และ 2-(2-บิวทอกซีเอธอกซี)เอธานอล 8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 1 0. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 1 1. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 1 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกประกอบรวมด้วย มอโนเอธานอลแอมีน, ตัวทำละลายร่วมประกอบรวมด้วย 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, สารประกอบ ของส่วนประกอบ (c) เป็นเอธิลีนไกลคอล และกรดของส่วนประกอบ (b) เป็นกรดอะซีทิก 1 3. กระบวนการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่มีการ ทำให้เกิดการกัดกร่อนของโลหะอย่างมีนัยสำคัญแบบใดแบบหนึ่ง ซึ่งซับสเทรทมีวัสดุพอลิเมอร์ของ สารไวแสง และโลหะ ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยการสัมผัสซับสเทรทด้วยสารผสมชนิด นอกแอคเควียสสำหรับการทำความสะอาดเป็นเวลานานมากเพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเทรท ที่ซึ่งสารผสมเพื่อการทำความสะอาดประกอบรวมด้วย (a) อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของ การละลายในสารละลายแอคเควียสจาก 1.2 ถึง 8 (c) สารประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์, อะลิฟาทิก ไดออล, อะลิฟาทิกพอลิออล หรืออะมิฟาทิกไกลคอลอีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ และส่วนประกอบชนิดกรดอ่อน (b) มีอยู่ในสารผสมเพื่อการทำความสะอาดในปริมาณ ที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมลสมมูลของกรด/อะมีนมากกว่า 0.75 และพีเอชของสารผสมเป็นจาก พีเอช 4.5 ถึง 9.5 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (d) คือสารประกอบชนิดอื่นนอกจากส่วนประกอบ (a)-(c) 1 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งสารผสมเพื่อการทำความสะอาดประกอบรวมด้วย ส่วนประกอบ (a) จาก 1% ถึง 50%, ส่วนประกอบ (c) จาก 20% ถึง 60% และส่วนประกอบ (d) จาก 20% ถึง 80% ซึ่งอัตราร้อยละเป็น%โดยน้ำหนักโดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของสารผสม 1 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก เป็นอะมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจาหมู่ที่ประกอบด้วย 1-อะมิโน-2- โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนแอธอกซี)เอธานอล, 2-อะมิโนเอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน) เอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน)เอธิลแอมีน, ไดเอธานอลแอมีน และไตรเอธานอลแอมีน 1 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (c) เป็นสารประกอบอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยไอโซโพรพานอล, บิวทานอล, เอธิลีน ไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, ไตรเอธิลีนไกลคอล, พอลิเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, ไดโพรพิลีนไกลคอล, ไตรโพรพิลีนไกลคอล, 1,3-โพรเพนไดออล, 2-เมธิล-1,3-โพรเพนไดออล, 2-บิวทิล-1,4-ไดออล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, เฮกเซนไดออล, กลีเซอรอล, เอธิลีนไกลคอล- มอโนเมธิลอีเธอร์, ไดเอธิลีนไกลคอลมอโนเมธิลอีเธอร์, โพรพิลีนไกลคอลไดเมธิลดีเธอร์ และ 2-(2-บิวทซีเอธอกซี)-เอธานอล 1 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นตัวทำละลายร่วม อินทรีย์ที่มีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จากประมาณ 8 ถึงประมาณ 15 (Mpa)1/2 1 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นสารประกอบ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-เมธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-โพร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, เตตระไฮโดรไธโอฟีน-1-,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลฟอร์มามีด 1 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยซัลโฟเลน และ 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกได้รับการคัดเลือก จากหมู่ที่ประกอบด้วยมอโนเอธานอลมีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, ส่วนประกอบ (c) ได้รับ การคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, 2-เมธิล-2,4เพนเทนไดออล, กลีเซอรอล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, ไอโซโพรพานอล และ 2-(2-บิวทอกซีเอธอกซี)เอธานอล 2 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 2
1. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 2
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรด อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 2
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรด อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 2
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกประกอบรวมด้วย มอโนเอธานอลแอมีน, ตัวทำละลายร่วมประกอบรวมด้วย 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, สารประกอบ ของส่วนประกอบ (c) เป็นเอธิลีนไกลคอล และกรดของส่วนประกอบ (b) เป็นกรดอะซีทิก 2
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งซับสเทรทของไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เป็นซับสเทรทสำหรับส่วนแสดงผลแบบแผงแบนราบ 2
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ที่ซึ่งซับสเทรทมีชั้นของอะลูมินัม/นีโอดิเมียม
TH301004375A 2003-11-20 สารผสมเพื่อการทำให้หลุดลอกและเพื่อการทำความสะอาดสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์ TH39595B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH67267A TH67267A (th) 2005-02-11
TH39595B true TH39595B (th) 2014-04-08

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US9243218B2 (en) Dynamic multipurpose composition for the removal of photoresists and method for its use
CA2452053A1 (en) Stripping and cleaning compositions for microelectronics
US6060439A (en) Cleaning compositions and methods for cleaning resin and polymeric materials used in manufacture
CA2063704C (en) Method of activating acidified nmp to provide an effective paint remover composition
US11353794B2 (en) Photoresist stripper
US6656894B2 (en) Method for cleaning etcher parts
EP0304451A1 (en) Paint removing compositions
CN110244526A (zh) 光致抗蚀剂剥离剂
PH12018000465A1 (en) Photoresist stripper
CN103849480A (zh) 玻璃清洗剂及其制备方法
IL263891B2 (en) A product that removes radiation-resistant material
CN116042325A (zh) 一种除胶剂及其制备方法
EP2352812B1 (en) Gluconic acid containing photoresist cleaning composition for multi-metal device processing
US10040741B2 (en) Method for manufacturing high purity glycol based compound
KR102218359B1 (ko) 희석식 수용성 땜납용 플럭스 세정제 조성물
TH39595B (th) สารผสมเพื่อการทำให้หลุดลอกและเพื่อการทำความสะอาดสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์
TH67267A (th) สารผสมเพื่อการทำให้หลุดลอกและเพื่อการทำความสะอาดสำหรับไมโครอิเล็กทรอนิกส์
CN109143800A (zh) 一种通用型光刻胶剥离液及其应用
JP4576927B2 (ja) 洗浄用組成物及び洗浄方法
KR102863596B1 (ko) 재생 가능한 공비혼합 세정 조성물 및 이를 이용한 세정 방법
WO2024250131A1 (en) Compositions containing n-substituted piperazines for electronic manufacturing applications
KR20100040039A (ko) 점착성분 제거용 조성물 및 이를 이용한 평판표시장치의 세정방법
CN110869347B (zh) 从回收抗蚀剂剥离剂回收二甲基亚砜的方法
KR101880300B1 (ko) 평판 디스플레이 제조에 필요한 세정액 조성물 및 이를 이용한 세정방법
CN115338562A (zh) 一种水基助焊剂