Claims (6)
ข้อถือสิทธฺ์ (ทั้งหมด) ซึ่งจะไม่ปรากฏบนหน้าประกาศโฆษณา : 1. สารผสมชนิดนอน-แอคเควียสสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโคร อิเล็กทรอนิกส์ซึ่งประกอบรวมด้วยส่วนประกอบต่อไปนี้ (a) อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของ การละลายในสารละลายแอคเควียสจาก 1.2 ถึง 8 (c) สารประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์, อะลิฟาทิก ไดออล, อะลิฟาทิก พอลิออล หรืออะลิฟาทิกไกลคอลอีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ และส่วนประกอบชนิดกรดอ่อน (b) มีอยู่ในสารผสมในปริมาณที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมล สมมูลของกรด/อะมีนมากกว่า 0.75 และพีเอชของสารผสมเป็นจากพีเอช 4.5 ถึง 9.5 ที่ซึ่ง ส่วนประกอบ (d) คือสารประกอบชนิดอื่นนอกจากส่วนประกอบ (a)-(c) 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ซึ่งประกอบรวมด้วยส่วนประกอบ (a) จาก 1% ถึง 50% ส่วนประกอบ (c) จาก 20% ถึง 60% และส่วนประกอบ (d) จาก 20% ถึง 80% ซึ่งอัตราร้อยละเป็น% โดยน้ำหนักโดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของสารผสม 3. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกเป็นอะมีน อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนเอธอกซี)เอธานอล, 2-อะมิโนเอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลเอมิโน) เอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน)เอธิลแอมีน, ไดเอธานอลแอมีน และไตรเอธานอลแอมีน 4. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (c) เป็นสารประกอบอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยไอโซโพรพานอล, บิวทานอล, เอธิลีนไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, ไตรเอธิลีนไกลคอล, พอลิเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, ไดโพรพิลีนไกลคอล, ไตรโพรพิลีนไกลคอล, 1,3-โพรเพนไดออล, 2-เมธิล-1,3-โพรเพนไดออล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, เฮกเซนไดออล, กลีเซอรอล, เอธิลีนไกลคอล- มอโนเมธิลอีเธอร์, ไดเอธิลีนไกลคอลมอโนเมธิลอีเธอร์, โพรพิลีนไกลคอลไดเมธิลอีเธอร์ และ 2-(2-บิวทซีเอธอกซี)-เอธานอล 5. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ ที่มีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จาก 8 ถึง 15 (Mpa)1/2 6. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 5 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นสารประกอบอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-เมธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, เตตระไฮโดรไธโอฟีน-1-,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลฟอร์มามีด 7. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 6 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบ ด้วยซัลโฟเลน และ1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยมอโนเอธานอลแอมีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, ส่วนประกอบ (c) ได้รับการ คัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, กลีเซอรอล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, ไอโซโพรพานอล และ 2-(2-บิวทอกซีเอธอกซี)เอธานอล 8. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 9. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อยที่สุด หนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 1 0. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 1 1. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 7 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 1 2. สารผสมตามข้อถือสิทธิข้อ 1 ที่ซึ่งอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกประกอบรวมด้วย มอโนเอธานอลแอมีน, ตัวทำละลายร่วมประกอบรวมด้วย 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, สารประกอบ ของส่วนประกอบ (c) เป็นเอธิลีนไกลคอล และกรดของส่วนประกอบ (b) เป็นกรดอะซีทิก 1 3. กระบวนการสำหรับการทำความสะอาดซับสเทรทของไมโครอิเล็กทรอนิกส์โดยไม่มีการ ทำให้เกิดการกัดกร่อนของโลหะอย่างมีนัยสำคัญแบบใดแบบหนึ่ง ซึ่งซับสเทรทมีวัสดุพอลิเมอร์ของ สารไวแสง และโลหะ ซึ่งกระบวนการประกอบรวมด้วยการสัมผัสซับสเทรทด้วยสารผสมชนิด นอกแอคเควียสสำหรับการทำความสะอาดเป็นเวลานานมากเพียงพอที่จะทำความสะอาดซับสเทรท ที่ซึ่งสารผสมเพื่อการทำความสะอาดประกอบรวมด้วย (a) อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก (b) กรดแก่ปานกลางถึงอ่อนซึ่งมีความแรงที่แสดงออกมาดังที่เป็น "pKa" สำหรับค่าคงที่ของ การละลายในสารละลายแอคเควียสจาก 1.2 ถึง 8 (c) สารประกอบซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยอะลิฟาทิกแอลกอฮอล์, อะลิฟาทิก ไดออล, อะลิฟาทิกพอลิออล หรืออะมิฟาทิกไกลคอลอีเธอร์ และ (d) ตัวทำละลายร่วมอินทรีย์ และส่วนประกอบชนิดกรดอ่อน (b) มีอยู่ในสารผสมเพื่อการทำความสะอาดในปริมาณ ที่ทำให้อัตราส่วนโดยโมลสมมูลของกรด/อะมีนมากกว่า 0.75 และพีเอชของสารผสมเป็นจาก พีเอช 4.5 ถึง 9.5 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (d) คือสารประกอบชนิดอื่นนอกจากส่วนประกอบ (a)-(c) 1 4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งสารผสมเพื่อการทำความสะอาดประกอบรวมด้วย ส่วนประกอบ (a) จาก 1% ถึง 50%, ส่วนประกอบ (c) จาก 20% ถึง 60% และส่วนประกอบ (d) จาก 20% ถึง 80% ซึ่งอัตราร้อยละเป็น%โดยน้ำหนักโดยมีพื้นฐานอยู่บนน้ำหนักทั้งหมดของสารผสม 1 5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิก เป็นอะมีนอย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจาหมู่ที่ประกอบด้วย 1-อะมิโน-2- โพรพานอล, 2-(2-อะมิโนแอธอกซี)เอธานอล, 2-อะมิโนเอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน) เอธานอล, 2-(2-อะมิโนเอธิลอะมิโน)เอธิลแอมีน, ไดเอธานอลแอมีน และไตรเอธานอลแอมีน 1 6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (c) เป็นสารประกอบอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยไอโซโพรพานอล, บิวทานอล, เอธิลีน ไกลคอล, ไดเอธิลีนไกลคอล, ไตรเอธิลีนไกลคอล, พอลิเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, ไดโพรพิลีนไกลคอล, ไตรโพรพิลีนไกลคอล, 1,3-โพรเพนไดออล, 2-เมธิล-1,3-โพรเพนไดออล, 2-บิวทิล-1,4-ไดออล, 2-เมธิล-2,4-เพนเทนไดออล, เฮกเซนไดออล, กลีเซอรอล, เอธิลีนไกลคอล- มอโนเมธิลอีเธอร์, ไดเอธิลีนไกลคอลมอโนเมธิลอีเธอร์, โพรพิลีนไกลคอลไดเมธิลดีเธอร์ และ 2-(2-บิวทซีเอธอกซี)-เอธานอล 1 7. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นตัวทำละลายร่วม อินทรีย์ที่มีพารามิเตอร์ของสภาพละลายได้จากประมาณ 8 ถึงประมาณ 15 (Mpa)1/2 1 8. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 17 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมอินทรีย์เป็นสารประกอบ อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วย 2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-เมธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, 1-เอธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, 1-โพรพิล-2-โพร์โรลิดิโนน, 1-ไฮดรอกซีเอธิล-2- ไพร์โรลิดิโนน, ไดแอลคิลซัลโฟน, ไดเมธิลซัลฟอกไซด์, เตตระไฮโดรไธโอฟีน-1-,1-ไดออกไซด์, ไดเมธิลอะซีทามีด และไดเมธิลฟอร์มามีด 1 9. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 18 ที่ซึ่งตัวทำละลายร่วมได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ ประกอบด้วยซัลโฟเลน และ 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, อะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกได้รับการคัดเลือก จากหมู่ที่ประกอบด้วยมอโนเอธานอลมีนและ 1-อะมิโน-2-โพรพานอล, ส่วนประกอบ (c) ได้รับ การคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยเอธิลีนไกลคอล, โพรพิลีนไกลคอล, 2-เมธิล-2,4เพนเทนไดออล, กลีเซอรอล, 2-บิวทีน-1,4-ไดออล, ไอโซโพรพานอล และ 2-(2-บิวทอกซีเอธอกซี)เอธานอล 2 0. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 2Disclaimer (all) which will not appear on any advertisement page: 1. Non-Acquy-based mixtures for cleaning micro-substrates. It consists of the following components: (a) nucleophilic amines (b) medium to weak strong acids, whose strength is expressed as "pKa" for the nucleophilic amines. Solubility in aqueous solutions from 1.2 to 8 (c) compounds, selected from groups containing aliphatic alcohols, aliphatic diol, aliphatic polycrystals. All or aliphatic glycol ether and (d) organic co-solvents. And the weak acid component (b) is present in the mixtures in molar ratios. The equivalent of acid / amine is greater than 0.75 and the pH of the mixture is from pH 4.5 to 9.5, where component (d) is a compound other than component (a) - (c). Clause 1, which includes components (a) from 1% to 50%, component (c) from 20% to 60%, and component (d) from 20% to 80%, where percentage is% by weight on a basis. 3. Mixture according to claim 1, where the nucleophilic amine component is an amine. At least one species, which was selected from a group containing 1- amino-2-propanol, 2- (2-aminoethoxy) ethanol, 2- aminoethanol, 2- (2- aminoethoxyethanol). Aminoethyl amino) ethanol, 2- (2-aminoethyl amino) ethylamine, diethanolamine And triethanolamine 4. Mixture according to claim 1 where component (c) is the least compound. One type which was selected from a group containing isopropanol, butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol. , Polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,3-propanediol, 2 - Methyl-1,3-Propendiol, 2-Butene-1,4-Diol, 2-Methyl-2,4-Pentendiol, Hexendiol, Glycerol, Ethylene Glycol-Monomethyl Ether, Diethylene Glycol Anomethyl Ether, Propylene Glycol dimethyl ether and 2- (2-butceethoxy)-ethanol 5. Mixture according to claim 1, where the organic co-solvent is Organic co-solvent With solubility parameters from 8 to 15 (Mpa) 1/2 6. Mixture according to claim 5, where the organic co-solvent is at least a compound. One of the most 2-pyrolidinone, 1-methyl-2-pyrolidinone, 1-ethyl-2-pyrolidinone, 1-propyl-2-pyrolidone Lidinone, 1-hydroxyethyl-2-pyrrolidenone, dalkylsulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydroethophene -1-, 1- dioxide, dimethylacetamate And dimethylformate 7. Mixture according to claim 6, where the co-solvent is selected from the sulfolane and 1-methyl-2-pi group. The nucleophilic amines were selected from among the Contains monoethanolamine and 1-amino-2-propanol, component (c) was selected from a group containing ethylene glycol, propylene glycol, 2-methyl-2, 4-pentendiol, glycerol, 2-butene-1, 4-diol, isopropanol and 2- (2-butoxyethox) C) ethanol 8. Mixture according to claim 1, where the acidic component (b) is the least acidic. One with a pKa value of 2 to 5. 9. Mixture according to claim 7, where the acid-type (b) component is least acidic. One, with a pKa value of 2 to 5 1 0. Mixture according to claim 1, where component (b) contains at least acids. One of the most selective types was selected from a group containing acetic acid, propanoic acid, malonic acid, phenylacetic acid. And hypophosphorous acid 1 1. Mixture according to claim 7, where component (b) contains at least the acid. One of the most selective types was selected from a group containing acetic acid, propanoic acid, malonic acid, phenylacetic acid. And hypophosphorous acid 1. 2. Mixture according to claim 1, where nucleophilic amines include Monoethanolamine, co-solvent is included. 1-methyl-2-pyrolidinone, the constituent compound (c) is ethylene glycol. And the acid of its component (b) is acetic acid 1 3. A process for cleaning microelectronic substrates without the Causing significant metal corrosion The substrates contain photosensitive polymer materials and metals, the process of which is combined by touching the substrates with a type of compound. Outside of the actuation for a long cleaning time, enough to clean the substrate. Where the cleaning compound contains (a) nucleophilic amines (b) medium to weak strong acids, whose strength is expressed as "pKa" for the "pKa" constant. Solubility in aqueous solutions from 1.2 to 8 (c) compounds, selected from groups containing aliphatic alcohols, aliphatic diol, aliphatic polycrystals. All Or amiphatic glycol ether and (d) organic co-solvent And a weak acid component (b) is contained in cleaning mixtures in large quantities The mole equivalent ratio of acid / amine was greater than 0.75 and pH of the mixture was from pH 4.5 to 9.5, where component (d) was a compound other than component (a) - (c) 1. 4.Process according to claim 13, where cleaning mixtures are made up of components (a) from 1% to 50%, component (c) from 20% to 60%, and component (d) from 20% to 80% where the percentage is% by weight, based on the total weight of the mixture 1 5. Process of claim 13 where nucleophilic amine components It is at least one type of amine which has been selected from a group containing 1-amino-2-propanol, 2- (2-aminoathoxy) ethanol. , 2- Aminoethanol, 2- (2-Aminoethylamino) Ethanol, 2- (2-Aminoethylamino) Ethanol L-amine, diethanolamine And triethanolamine 1 6. Process according to claim 13 where component (c) is at least a compound. One of the most selective types was selected from a group containing isopropanol, butanol, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol. L, polyethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol, tripropylene glycol, 1,3-propanediol, 2-methyl-1,3-propanediol, 2-butyl-1,4-diol, 2-methyl-2,4-pentendiol , Hexendiall, glycerol, ethylene glycol-monomethyl ether, diethylene glycol anomethyl ether, propylene And 2- (2-butcethoxy)-ethanol 1 7. Process according to claim 13 where the organic co-solvent is Co-solvent Organic with solubility parameters from approx. 8 to approx. 15 (Mpa) 1/2 1 8. Process according to claim 17, where the cofactor is a compound. At least one species, which was selected from a group containing 2-pyrolidinone, 1-methyl-2-pyrolidinone, 1-ethyl-2-pyrolidinone, 1-propyl-2-porro Lidinone, 1-hydroxyethyl-2-pyrrolidenone, dalkylsulfone, dimethyl sulfoxide, tetrahydroethophene -1-, 1- dioxide, dimethylacetamate And Dimethylformate 1 9. Process according to claim 18, where co-solvent is selected from the Contains sulfolane and 1-methyl-2-pyrolidinone, nucleophilic amines are selected. From a group containing monoethanolamine and 1-amino-2-propanol, component (c) was selected from a group containing ethylene glycol, propylene glycol, 2-methyl-2, 4 pentendiol, glycerol, 2-butene-1, 4-diol, isopropanol, and 2- (2-butoxyethoxy ) Ethanol 2 0. Process according to claim 13, where the acidic component (b) is the least acidic. One of the most common with a pKa value of 2 to 5
1. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ที่ซึ่งส่วนประกอบชนิดกรด (b) เป็นกรดอย่างน้อย ที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งมีค่า pKa จาก 2 ถึง 5 21. Process according to claim 19, where the acidic component (b) is at least acidic. One of the most common with a pKa value of 2 to 5
2. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรด อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 22. Process according to claim 13, where components (b) are composed of acids. At least one was selected from a group containing acetic acid, propanoic acid, malonic acid, phenylacetic acid. And hypophosphorous acid 2
3. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 19 ที่ซึ่งส่วนประกอบ (b) ประกอบรวมด้วยกรด อย่างน้อยที่สุดหนึ่งชนิดซึ่งได้รับการคัดเลือกจากหมู่ที่ประกอบด้วยกรดอะซีทิก, กรดโพรพาโนอิก, กรดมาโลนิก, กรดฟีนิลอะซีทิก และกรดไฮโพฟอสฟอรัส 23. Process according to claim 19, where components (b) are composed of acids. At least one type was selected from a group containing acetic acid, propanoic acid, malonic acid, phenylacetic acid. And hypophosphorous acid 2
4. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งอะมีนชนิดนิวคลีโอฟิลิกประกอบรวมด้วย มอโนเอธานอลแอมีน, ตัวทำละลายร่วมประกอบรวมด้วย 1-เมธิล-2-ไพร์โรลิดิโนน, สารประกอบ ของส่วนประกอบ (c) เป็นเอธิลีนไกลคอล และกรดของส่วนประกอบ (b) เป็นกรดอะซีทิก 24. Process according to claim 13, where nucleophilic amines include: Monoethanolamine, co-solvent is included. 1-methyl-2-pyrolidinone, the constituent compound (c) is ethylene glycol. And the acid of the component (b) is acetic acid 2.
5. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 13 ที่ซึ่งซับสเทรทของไมโครอิเล็กทรอนิกส์ เป็นซับสเทรทสำหรับส่วนแสดงผลแบบแผงแบนราบ 25. Process according to claim 13, where microelectronics substrates It is a substrate for the flat panel display 2.
6. กระบวนการตามข้อถือสิทธิข้อ 25 ที่ซึ่งซับสเทรทมีชั้นของอะลูมินัม/นีโอดิเมียม6. Process according to claim 25, where substrates have layers of aluminum / neodymium.