TH25071A - กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา - Google Patents

กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา

Info

Publication number
TH25071A
TH25071A TH9501000234A TH9501000234A TH25071A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A
Authority
TH
Thailand
Prior art keywords
temperature
sensitive
vapor
container
coating
Prior art date
Application number
TH9501000234A
Other languages
English (en)
Other versions
TH9201B (th
Inventor
เพลสเตอร์ นายจอร์จ
เอห์ริช นายฮอร์สท์
Original Assignee
นายดำเนิน การเด่น
นายต่อพงศ์ โทณะวณิก
นายวิรัช ศรีเอนกราธา
นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์
Filing date
Publication date
Application filed by นายดำเนิน การเด่น, นายต่อพงศ์ โทณะวณิก, นายวิรัช ศรีเอนกราธา, นายจักรพรรดิ์ มงคลสิทธิ์ filed Critical นายดำเนิน การเด่น
Publication of TH25071A publication Critical patent/TH25071A/th
Publication of TH9201B publication Critical patent/TH9201B/th

Links

Abstract

การพอกผิวเคลือบด้านในบาง ๆ ภายในภาชนะพลาสติก หรือโลหะด้วยการใช้พลาสมา สามารถดำเนินการให้ลุล่วงด้วยการใช้สารอนินทรีย์เฉื่อยที่ไม่ละลาย เช่น ซิลิกา หรือโลหะออกไซด์ที่ไม่ละลายหรือ ด้วยการใช้ของผสมของสาร เช่น โลหะ โลหะออกไซด์ เกลือโลหะ และคาร์บอน หรืออนุมูลอินทรีย์เพื่อสร้างโครงผลึกยึดหยุ่น หรือด้วยการใช้ชั้นที่แตกต่างกันของโครงผลึกเหล่านั้น วิทยาการนี้เกี่ยวข้องกับ การจัดวางตำแหน่งของภาชนะภายในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยขององค์ประกอบด้านในภาชนะที่กำหนดไว้ก่อน การสร้างไอของวัสดุที่กล่าวแล้ว การสร้างพลาสมาของไอที่กล่าวแล้ว และการพอกผิวเคลือบบางของวัสดุที่กล่าวแล้ว บนบริเวณที่กำหนดไว้ก่อนของผิวด้านในของภาชนะที่กล่าวแล้ว ที่ซึ่งอนุภาคของผิวเคลือบที่กล่าวแล้ว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวที่กล่าวแล้ว เนื่องจากพลังงานความร้อนของอนุภาคเหล่านั้น แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องด้วยการไหลของมวลน้อย ๆ

Claims (3)

1. กรรมวิธีของการเคลือบผิวภายในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิ ประกอบด้วยาขั้นตอน การกำหนดที่ตั้งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิที่มีผิวภายในในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุไว้ด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว การสร้างไอของวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว การสร้างพลาสมาของไอดังกล่าว และ การพอกผิวเคลือบบางของวัสดุดังกล่าว ของผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว ที่ซึ่งอนุภาคผิวเคลือบดังกล่าว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวดังกล่าว เนื่องจากพลังงานความร้อน ในขณะที่ไม่ทำให้อุณหภูมที่ผิวทั้งหมดสูงขึ้น อันเนื่องจากการไหลของมวลน้อย ๆ 2. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 1 ที่ซึ่งขั้นตอนการสร้างไอดังกล่าว ประกอบขึ้นด้วย การให้ความร้อนกับอุปกรณ์กำเนิดไอจนถึงอุณหภูมิการระเหิดของวัสดุดังกล่าว แต่จำกัดความร้อนของการระเหยให้อยู่ภายในบริเวณของอุปกรณ์กำเนิดไอเพื่อไม่ส่งผลกระทบต่อผิวด้านในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิ 3. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ที่ซึ่งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย ภาชนะพลาสติก 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งภาชนะพลาสติกดังกล่าว ประกอบขั้นด้วยโพลิเอททิลีนเทเรฟธาเลท(polyethylene terephthalate PET) 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนของการสร้างพลาสมาดังกล่าว รวมถึงการใช้สนามแม่เหล็กที่ขั้วไฟฟ้าความถี่สูง รอบ ๆ ภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนของการสร้างพลาสมาดังกล่าว รวมถึงการใช้ ศักย์ไฟฟ้าสูงตกคร่อมไอที่ได้จากอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว 7. กรรมวิธีดังกที่ได้นิยามในข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งขั้นตอนการพอกผิวเคลือบบางดังกล่าวประกอบด้วย การพอกผิวเคลือบบางที่มีความหนาระหว่าง 10-250 นาโนเมตร 8. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 ที่ซึ่งวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว ประกอบด้วย คาร์บอนโลหะและโลหะออกไซด์ ไนไตรด์ซัลไฟด์ ฮาไลด์ของโลหะนั้น ๆ หรือ ของผสมหรือการรวมของวัสดุเหล่านั้น 9. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนของการจ่ายแก๊สเข้าบริเวณปิดสุญญากาศเพิ่มเติม ซึ่งแก๊สไหลเข้าไปในพลาสมา เพื่อทำปฏิกิริยากับไอเพื่อจัดเตรียมองค์ประกอบผิวเคลือบที่แตกต่างจากผิวเคลือบของวัสดุที่ระเหยเป็นไอแล้ว 1 0. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนเริ่มต้อนของการทำความสะอาดและของการกระตุ้นผิวของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิที่ต้องการเคลือบดังกล่าวเพิ่มเติม ก่อนการสร้างไอดังกล่าวและก่อนการพอกผิวเคลือบดังกล่าวบนผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมดังกล่าว 1 1. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 3 และการรวมขั้นตอนการเตรียมสุญญากาศระหว่าง 10-1 มิลลิบาร์ และ 10-5 มิลลิบาร์ภายในบริเวณปิดนั้นเพิ่มเติม 1 2. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 2 ที่ซึ่งภาชนะพลาสติกดังกล่าว รวมถึงภาชนะปากแคบด้วย 1 3. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่งขั้นตอนของการพอกดังกล่าว รวมถึงการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ 1 4. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 ที่ซึ่ขั้นตอนของการพอกดังกล่าว รวมถึงการเคลื่อนย้าย หรือ การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ 1 5. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 14 ที่ซึ่งขั้นตอนของการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิรวมถึงการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์ขึ้นและลง ภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมินั้น 1 6. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 14 ที่ซึ่งขั้นตอนของการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอด้วยช่วงหมุน 30-90 องศาเป็นอย่างน้อย 1 7. กรรมวิธีของข้อถือสิทธิข้อที่ 12 และการรวมขึ้นตอนการหมุนภาชนะเพิ่มเติม เพื่อป้องกันพลังงานความร้อนจากที่แออัดบนผนังในที่นั้น 1 8. อุปกรณ์สำหรับการเคลือบผิวด้านในของภาชนะที่ว่องไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วยห้องสุญญากาศ อุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุไว้ด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อย ตัวกลางสำหรับการสอดและการถอนอุปกรณ์กำเนิดไอออกจากภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมินั้นที่มีผิวด้านใน ตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ ตัวกลางสำหรับการจ่ายพลังงานให้กับอุปกรณ์กำเนิดไอ และ ตัวกลางสำหรับการสร้างพลาสมาของไอดังกล่าว ที่ซึ่งผิวเคลือบบางของวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าว พอกอยู่บนผิวด้านในของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิดังกล่าว เพราะว่าอนุภาคของวัสดุดังกล่าว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวด้านในของบริเวณดังกล่าว แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องจากการไหลของอนุภาคน้อยๆ 1 9. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 และการรวมตัวกลางเพิ่มเติม สำหรับการขนถ่ายภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิไปที่ หรือจากห้องสุญญากาศ 2 0. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 ที่ซึ่งตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ภายในภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ รวมถึงตัวกลางสำหรับการเคลื่อนย้ายอุปกรณ์กำเนิดไอขึ้นและลง และ การหมุนอุปกรณ์กำเนิดไอ 2
1. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย ภาชนะพลาสติก ปากแคบ และวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าวคือ ซิลิกา คาร์บอน โลหะและออกไซด์ ไนไตรด์ ฮาไลด์ของโลหะเหล่านั้น หรือ ของผสมหรือการรวมของวัสดุเหล่านั้น 2
2. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ประกอบด้วย โครงสร้างชนิดเข้า และการรวมตัวกลางต่อไปนี้เพิ่มเติม ตัวกลางสำหรับการจ่ายและการควบคุมการไหลของวัสดุไปที่อุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ตัวกลางสำหรับการควบคุมการไหลของไอ เพื่อไอสามารถไหลอย่างสม่ำเสมอในทุกทิศทางของอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว และ ตัวกลางสำหรับการเตรียมการหล่อเย็นอุปกรณ์กำเนิดไอ เพื่อป้องกันความร้อนของการระเหยจากผิวด้านในดังกล่าว 2
3. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 และการรวมตัวกลางเพิ่มเติมสำหรับการหมุนภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิกันพลังงานความร้อนที่จะแออัดบนผนังของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ
TH9501000234A 1995-02-08 กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา TH9201B (th)

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TH25071A true TH25071A (th) 1997-05-12
TH9201B TH9201B (th) 1999-11-03

Family

ID=

Similar Documents

Publication Publication Date Title
BR9505647A (pt) Processo e aparelho para o revestimento da superficie interna de um recipiente sensivel a temperatura
EP0962260B1 (en) Material evaporation system
US6275649B1 (en) Evaporation apparatus
TWI428460B (zh) 蒸氣放出裝置、有機薄膜蒸鍍裝置及有機薄膜蒸鍍方法
KR200342433Y1 (ko) 고압 분사형 유기물 증착 도가니
EP0714999A1 (en) Method for sublimating a solid material and a device for implementing the method
US20130160712A1 (en) Evaporation cell and vacuum deposition system the same
JP4716277B2 (ja) 薄膜形成方法、蒸着源基板、および蒸着源基板の製造方法
KR960034479A (ko) 산화물박막의 제조방법 및 그것에 사용되는 화학증착장치
TH25071A (th) กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา
TH9201B (th) กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา
JP2719283B2 (ja) 低温用クヌ−ドセンセル
EP1696049B1 (en) Vacuum evaporation apparatus
JP2719282B2 (ja) 低温用クヌ−ドセンセル
JP2005048244A (ja) 有機物薄膜堆積用分子線源
JP4949644B2 (ja) ジョセフソン素子の製造方法
CN115084999A (zh) 腔面镀膜方法及半导体激光器
JP2719281B2 (ja) 低温用クヌ−ドセンセル
JP2005320572A (ja) 有機化合物蒸着装置および有機化合物蒸着方法
JP2004323915A (ja) 蒸着装置における有機材料用蒸発源及びその蒸着装置
JPH03215661A (ja) イオンプレーティング装置
JPS587322Y2 (ja) スパッタリング装置
AKLUFI Method of forming thin films on substrates at low temperatures(Patent)
JPS56130276A (en) Fluororesin coating method
JPH03170660A (ja) 昇華性物質真空蒸着装置