TH25071A - กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา - Google Patents
กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมาInfo
- Publication number
- TH25071A TH25071A TH9501000234A TH9501000234A TH25071A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 9501000234 A TH9501000234 A TH 9501000234A TH 25071 A TH25071 A TH 25071A
- Authority
- TH
- Thailand
- Prior art keywords
- temperature
- sensitive
- vapor
- container
- coating
- Prior art date
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims 24
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims abstract 12
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract 10
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims abstract 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract 5
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims abstract 5
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims abstract 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract 2
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 claims abstract 2
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 claims abstract 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 claims 4
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 claims 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 claims 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 claims 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 230000004913 activation Effects 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 claims 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 claims 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 claims 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims 1
- 238000000859 sublimation Methods 0.000 claims 1
- 230000008022 sublimation Effects 0.000 claims 1
- 230000008719 thickening Effects 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 abstract 1
Abstract
การพอกผิวเคลือบด้านในบาง ๆ ภายในภาชนะพลาสติก หรือโลหะด้วยการใช้พลาสมา สามารถดำเนินการให้ลุล่วงด้วยการใช้สารอนินทรีย์เฉื่อยที่ไม่ละลาย เช่น ซิลิกา หรือโลหะออกไซด์ที่ไม่ละลายหรือ ด้วยการใช้ของผสมของสาร เช่น โลหะ โลหะออกไซด์ เกลือโลหะ และคาร์บอน หรืออนุมูลอินทรีย์เพื่อสร้างโครงผลึกยึดหยุ่น หรือด้วยการใช้ชั้นที่แตกต่างกันของโครงผลึกเหล่านั้น วิทยาการนี้เกี่ยวข้องกับ การจัดวางตำแหน่งของภาชนะภายในบริเวณปิดสุญญากาศ การวางอุปกรณ์กำเนิดไอ ซึ่งบรรจุด้วยวัสดุอนินทรีย์เฉื่อยขององค์ประกอบด้านในภาชนะที่กำหนดไว้ก่อน การสร้างไอของวัสดุที่กล่าวแล้ว การสร้างพลาสมาของไอที่กล่าวแล้ว และการพอกผิวเคลือบบางของวัสดุที่กล่าวแล้ว บนบริเวณที่กำหนดไว้ก่อนของผิวด้านในของภาชนะที่กล่าวแล้ว ที่ซึ่งอนุภาคของผิวเคลือบที่กล่าวแล้ว ซึ่งมีอุณหภูมิสูง สามารถซึมเข้าไปในผิวที่กล่าวแล้ว เนื่องจากพลังงานความร้อนของอนุภาคเหล่านั้น แต่ไม่ทำให้อุณหภูมิที่ผิวทั้งหมดเพิ่มสูงขึ้น เนื่องด้วยการไหลของมวลน้อย ๆ
Claims (3)
1. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิประกอบด้วย ภาชนะพลาสติก ปากแคบ และวัสดุอนินทรีย์ดังกล่าวคือ ซิลิกา คาร์บอน โลหะและออกไซด์ ไนไตรด์ ฮาไลด์ของโลหะเหล่านั้น หรือ ของผสมหรือการรวมของวัสดุเหล่านั้น 2
2. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 20 ที่ซึ่งอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ประกอบด้วย โครงสร้างชนิดเข้า และการรวมตัวกลางต่อไปนี้เพิ่มเติม ตัวกลางสำหรับการจ่ายและการควบคุมการไหลของวัสดุไปที่อุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว ตัวกลางสำหรับการควบคุมการไหลของไอ เพื่อไอสามารถไหลอย่างสม่ำเสมอในทุกทิศทางของอุปกรณ์กำเนิดไอดังกล่าว และ ตัวกลางสำหรับการเตรียมการหล่อเย็นอุปกรณ์กำเนิดไอ เพื่อป้องกันความร้อนของการระเหยจากผิวด้านในดังกล่าว 2
3. อุปกรณ์ของข้อถือสิทธิข้อที่ 18 และการรวมตัวกลางเพิ่มเติมสำหรับการหมุนภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิกันพลังงานความร้อนที่จะแออัดบนผนังของภาชนะที่ไวต่ออุณหภูมิ
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| TH25071A true TH25071A (th) | 1997-05-12 |
| TH9201B TH9201B (th) | 1999-11-03 |
Family
ID=
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| BR9505647A (pt) | Processo e aparelho para o revestimento da superficie interna de um recipiente sensivel a temperatura | |
| EP0962260B1 (en) | Material evaporation system | |
| US6275649B1 (en) | Evaporation apparatus | |
| TWI428460B (zh) | 蒸氣放出裝置、有機薄膜蒸鍍裝置及有機薄膜蒸鍍方法 | |
| KR200342433Y1 (ko) | 고압 분사형 유기물 증착 도가니 | |
| EP0714999A1 (en) | Method for sublimating a solid material and a device for implementing the method | |
| US20130160712A1 (en) | Evaporation cell and vacuum deposition system the same | |
| JP4716277B2 (ja) | 薄膜形成方法、蒸着源基板、および蒸着源基板の製造方法 | |
| KR960034479A (ko) | 산화물박막의 제조방법 및 그것에 사용되는 화학증착장치 | |
| TH25071A (th) | กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา | |
| TH9201B (th) | กรรมวิธีและอุปกรณ์สำหรับการเคลือบภาชนะกลวง โดยวิธีการพอกสารอนินทรีย์ด้วยการใช้พลาสมา | |
| JP2719283B2 (ja) | 低温用クヌ−ドセンセル | |
| EP1696049B1 (en) | Vacuum evaporation apparatus | |
| JP2719282B2 (ja) | 低温用クヌ−ドセンセル | |
| JP2005048244A (ja) | 有機物薄膜堆積用分子線源 | |
| JP4949644B2 (ja) | ジョセフソン素子の製造方法 | |
| CN115084999A (zh) | 腔面镀膜方法及半导体激光器 | |
| JP2719281B2 (ja) | 低温用クヌ−ドセンセル | |
| JP2005320572A (ja) | 有機化合物蒸着装置および有機化合物蒸着方法 | |
| JP2004323915A (ja) | 蒸着装置における有機材料用蒸発源及びその蒸着装置 | |
| JPH03215661A (ja) | イオンプレーティング装置 | |
| JPS587322Y2 (ja) | スパッタリング装置 | |
| AKLUFI | Method of forming thin films on substrates at low temperatures(Patent) | |
| JPS56130276A (en) | Fluororesin coating method | |
| JPH03170660A (ja) | 昇華性物質真空蒸着装置 |